PL38571B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL38571B1
PL38571B1 PL38571A PL3857155A PL38571B1 PL 38571 B1 PL38571 B1 PL 38571B1 PL 38571 A PL38571 A PL 38571A PL 3857155 A PL3857155 A PL 3857155A PL 38571 B1 PL38571 B1 PL 38571B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
plate
needle
unevenness
points
image
Prior art date
Application number
PL38571A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL38571B1 publication Critical patent/PL38571B1/pl

Links

Description

Opublikowano dnia 1-morca iW"f.POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 38571 KI. 42 k, 46/07 Stefan Górecki Jelenia Góra, Polska Sposób badania nierównosci obrabianych powierzchni czesci maszyn Patent trwa od dnia 27 stycznia 1955 r.Dotychczasowe badania nierównosci po¬ wierzchni obrabianych polegaly na stosowaniu sposobów mechanicznych, optycznych, mecha- niczno-optycznych, elektrycznych itp. Sposób wedlug wynalazku wykorzystuje zjawiska ela- stooptyczne do celów badania gladkosci i po¬ miaru nierównosci powierzchni czesci maszyn.Istota badania polega na przepuszczaniu stru¬ mienia swiatla spolaryzowanego przez przezro¬ czysta plytke elastyczna, wykazujaca dwój- lomnosc wymuszona pod wplywem obciazenia sila proporcjonalna do wysokosci profilu po¬ wierzchni badanej. Stan obciazenia o&iaga sie za pomoca igly której jeden koniec przesuwa sie po profilu powierzchni badanej, drugi na¬ tomiast powoduje giecie plytki o zmiennym przekroju sila skupiona. W wyniku takiego dzialania sily skupionej na plytke pomiarowa, powstaje w niej stan napiecia. Plytka uzyta do pomiarów jest plytka przezroczysta, ela¬ styczna, izotropowa mechanicznie i optycznie, wykazujaca pod wplywem naprezen oraz zwia¬ zanych z nimi odksztalcen anizotropowe wlas¬ nosci optyczne. Ta anizotropia optyczna plytki znajduje swój wyraz w jej dwójlomnosci wy¬ muszonej, poniewaz zwiazana jest ona iloscio¬ wo z polem naprezen, lub odksztalcen w spo¬ sób jednoznacznie okreslony. Plytka, wykazujac dwójlomnosc wymuszona bedzie zachowywac sie, tak jak gdyby skladala sie z elementarnych krysztalów o osiach optycznych pokrywajacych sie w kazdym jej punkcie z jednym z kierun¬ ków naprezen glównych. Jesli omawiana plyt¬ ke umiesci sie w osi optycznej pciaryskopu elastooptycznego i skieruje sie na nia równo¬ legla wiazke swiatla spolaryzowanego, wtedy uklad optyczny polaryskopu spowoduje odtwo¬ rzenie obrazu plytki na ekranie. W ogólnym przypadku otrzyma sie obraz plytki "pokryty dwoma ukladami ciemnych punktów. Jeden uklad punktów wskaze miejsce, w których je¬ den z kierunków naprezen glównych pokrywa sie z kierunkiem osi polaryzacji (lub jest do niego prostopadly), drugi zas uklad punktów wskaze miejsca, w których róznice naprezen glównych osiagaja pewna jednoznacznie okres¬ lona wartosc. Punkty obu ukradów polacza sie w odpowiednie krzywe. Krzywe utworzone przez punkty pierwszego ukladu beda wiec izoklina- mi, to znaczy krzywymi stanowiacymi miejscegeometryczne ptmktów, w których jeden z kie¬ runków naprezen glównych wpada w plaszczy¬ zne drgan swiatla spolaryzowanego liniowo lub kolowo przez- polaryzator. Krzywe utworzone przez punkty drugiego ukladu beda natomiast izochromami, to znaczy krzywymi stanowia¬ cymi miejsce geometryczne punktów, w których róznica naprezen glównych ma wartosc stala, jednoznacznie okreslona dla izochromy danego rzedu. Poniewaz jednoczesna obecnosc dwóch rodzai wspomnianych przecinajacych sie krzy¬ wych na obrazie plytki zmniejsza znacznie przejrzystosc obrazu lub utrudnia wykonywa¬ nie dokladnych pomiarów, przeto stosujac jed¬ na ze znanych metod usuwa sie jeden rodzaj krzywych, tak ze na ekranie otrzymuje sie wylacznie obraz samych izoklin albo obraz sa¬ mych izochrom. Obserwujac na przyklad obraz samych izochrom stwierdza sie zmienny ich przebieg wraz ze zmiana obciazenia plytki po¬ miarowej, uwarunkowany w danym przypadku zmiana wysokosci profilu chropowatosci po¬ wierzchni badanej.Mozna wiec na zasadzie badan znalezc za¬ leznosc miedzy ukladem wspomnianych izo¬ chrom a wysokoscia profilu nierównosci, tak iz przebieg ich mozna uwazac za miare glad¬ kosci powierzchni obrabianej.Rysunek przedstawia urzadzenie, sluzace do badania zjawisk dwójlomnosci wymuszonej w swietle spolaryzowanym, to znaczy polarys- kop elastooptyczny skladajacy sie: a) z zespolu wytwarzajacego odpowiednia wiazke swiatla spolaryzowanego (zródlo swiatla jednobarwnego ¦1; szklo mleczne lub matowe 2; filtr polary¬ zacyjny (polaroid) przeksztalcajacy swiatlo na¬ turalne w wiazke swiatla spolaryzowanego li¬ niowo lub. kolowo 3, cwiercfalówka polaryza- tora 4); b) z przestrzeni pomiarowej, w której umieszcza sie plytke pomiarowa wykazujaca dwójlomnosc wymuszona pod wplywem obcia¬ zenia sila gnaca 14, w wyniku wzglednego ru¬ chu igly pomiarowej 10 i profilu badanego 9; c) z zespolu analizujacego swiatlo, wychodzace z plytki* pomiarowej (cwiercfalówka analizato¬ ra 6 i sam analizator 7).Obserwacji obrazu rozkladu naprezen na plytce dokonuje sie bezposrednio, patrzac od strony analizatora 6—7 w kierunku zródla swiatla 1. Mozna takze w osi optycznej pola- ryskopu umiescic kamere fotograficzna 8 i do¬ konywac zdjec .obrazów naprezen ksztaltuja¬ cych sie na plytce 5, to znaczy izochrom 12 wzgledem linii siatki 13. Polozenie izochrom 12 wzgledem linii siatki 13 pozwala na posrednie okreslenie wysokosci mierzonego profilu nierów¬ nosci w wyniku uprzedniego- -wycechowania - plytki pomiarowej. W celu uniemozliwienia giecia plytki w plaszczyznie do niej prosto¬ padlej, koniec plytki 5 umieszcza sie w prowa¬ dzeniu 11.Ta uwagi na cechy charakterystyczne oma¬ wianego sposobu mozna go okreslic jako bada¬ nie i pomiar nierównosci powierzchni czesci maszyn „m etoda elastooptyczn a". PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób badania nierównosci obrabianych po¬ wierzchni czesci maszyn, w którym igla i profil nierównosci czesci badanej znajduja sie w ruchu wzglednym i w którym skla¬ dowa pionowa przemieszczen igly przenosi sie na polaczona z nia elastyczna pytke, znamienny tym, ze na plytke (5) kieruje sie strumien swiatla spolaryzowanego.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytka (5), na która przenosza sie ruchy igly (10) jest plytka przezroczysta, wykazu¬ jaca pod wplywem odksztalcen anizotropo¬ we wlasnosci optyczne. Stefan GóreckiDo opisu patentowego nr 38571 PL
PL38571A 1955-01-27 PL38571B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL38571B1 true PL38571B1 (pl) 1955-06-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6188482B1 (en) Apparatus for electronic speckle pattern interferometry
US8873068B2 (en) Low coherence interferometric system for phase stepping shearography combined with 3D profilometry
Patterson et al. Simultaneous observation of phase-stepped images for automated photoelasticity
EP0319923B1 (en) Apparatus and method for electronic analysis of test objects
WO1989011629A1 (en) Compact portable diffraction moire interferometer
US11598627B2 (en) Methods, systems and apparatus of interferometry for imaging and sensing
US5011280A (en) Method of measuring displacement between points on a test object
US3523736A (en) Method of and means for surface measurement
Denby et al. Plane-surface strain examination by speckle-pattern interferometry using electronic processing
US20160021305A1 (en) Method and apparatus for measuring optical systems and surfaces with optical ray metrology
PL38571B1 (pl)
JP2003139515A (ja) スペックルを利用した変形量の絶対値計測方法
CN216559446U (zh) 一种玻璃边缘应力检测仪
Bulhak et al. Grating shearography
Kihara A measurement method of scattered light photoelasticity using unpolarized light
US3383980A (en) Optical apparatus for measuring material damping, dynamic young's modulus and creep by photographic means
US20200182607A1 (en) Dual-sensor arrangment for inspecting slab of material
JP2003035526A (ja) 透過型ゾーンプレート、反射型ゾーンプレート、形状測定方法、干渉測定装置、及び投影光学系の製造方法
Foster Accurate measurement of Poisson's ratio in small samples: An optical-interference method for measuring Poisson's ratio in small samples is described together with an assessment of accuracy
US11629951B2 (en) Determining geometric characteristics of reflective surfaces and transparent materials
Theocaris Diffused light interferometry for measurement of isopachics
US20070154062A1 (en) Apparatus and method for optically surveying and/or examining a welding componentry
RU2609443C1 (ru) Система контроля угловых деформаций крупногабаритных платформ
SU1582005A1 (ru) Способ определени распределени крутизны неровностей плоского шероховатого объекта
US3031914A (en) Parallel testing interferometer