PL3722B1 - Sposób osadzania zwiazków chemicznych na ciele zarzacem sie i sposób wydzielania tych zwiazków. - Google Patents

Sposób osadzania zwiazków chemicznych na ciele zarzacem sie i sposób wydzielania tych zwiazków. Download PDF

Info

Publication number
PL3722B1
PL3722B1 PL3722A PL372224A PL3722B1 PL 3722 B1 PL3722 B1 PL 3722B1 PL 3722 A PL3722 A PL 3722A PL 372224 A PL372224 A PL 372224A PL 3722 B1 PL3722 B1 PL 3722B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
chemical compounds
deposited
compounds
vessel
gas
Prior art date
Application number
PL3722A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL3722B1 publication Critical patent/PL3722B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo: 11 pazdziernika 1923 rTfNiderlandy).Wynalazek dotyczy sposobu osadzania zwiazków chemicznych na ciele zarzacem sie i wydzielania tych zwiazków.Postepujac wedlug wynalazku, rozrza- rza sie cialo zarzace sie w atmosferze skla¬ dajacej sie: z jednej lub kilku lotnych chlo* rowco-pochodnych dodatniej czescia skla¬ dowej zwiazków chemicznych, majacych byc osaidzanemi, z gazów lub par, skla¬ dajjajcych sie z ujemnych czesci skladowych zwiazków chemicznych lub zawierajacych te ujemne czesci skladowe, a w danym ra¬ zie z gazu redukujacego lub pary reduku¬ jacej, albo w atmosferze, skladajacej sie z jednego lub kilku lotnych zwiazków che¬ micznych wspomnianych chlorowcopochod¬ nych z materjalni, zawiterajacemi ujemne czesci skladowe, a w danym razie z gazu re¬ dukujacego lub pary redukujacej. Dalej zwiazki chemiczne, majace byc osadzane- mi, przy temperaturze reakcyjnej winny miec szybkosc wytwarzania wieksza od szybkosci wyparowania z ciala zarzacego sie.Celem wykonania tego sposobu mozna, np. prad gazu, skladajacego sie z miesza¬ niny gazu redukujacego i gazu, skladajace¬ go sie z ujemnej czesci skladowej zwiaz¬ ku chemicznego, majacego byc osadzonym, prowadzic ponad lotna chlorowcopochodna dodatniej czesci skladowej zwiazku che¬ micznego przy temperaturze, przy której chlorowcopochodna ma znaczne cisnienie pary, i potem prad gazu, zawierajacegotakze te chiortyy^tjopochocliia, przepuscic ponad zarzacym ^ie drutem metalowym.Jesli tejpperatura drutu metalowego jest dosyc wysoka, to chlorowcopochodna ulega przemianie i dodatnia czesc skladowa chlo* rowcopochodnej laczy sie z gazem, okla¬ dajacym sie z ujemnej czesci skladowej zwiazku, majacego byc osadzonym, pod¬ czas gdy chlorowiec reaguje z gazem redu¬ kujacym, w dlanym razie obecnym. Ponie¬ waz reakcja te moga nlfeó niiejdce tylko przy wysokiej temperaiurze, odbywaja sie one szczególnie na powierzchni ciala zarza¬ cego sie, i cialo zarzace sie vrlet W ten Spo¬ sób powleka sie watstwa pozadahego zwiazku chemicznego.Mozna zamiast gazu lub pary, sklada¬ jacej sie z Ujemnej czesci skladowej ma¬ jacego byc utworzonym zwiazku chemicz¬ nego, uzyc zwiazku, zawierajacego te u)fcfti- na czesc skladowa. Chce sie np. osadzic fosforek na ciele zarzacem sie, mozna uzyc w tym celu pieciochlorku fosforu.Zamiast rozgi-zewac cialo zarzace sie w atmosferze, skladajacej sie z mieszaniny jednej lulb kilku lotnych chlorowcopochod¬ nych, z jednego lub kilku gazów lub par, zawierajacych ujemne czesci skladowa ma¬ jacych byc utworzonemi zwiazków che¬ micznych, i w danym razie z gazu reduku- jacfctgo, mozna, jako ptrodtakt wyjsciowy, uzyc srodowisk*, skladujacego sie z jedne¬ go lub kilku zwiazków chemicznych, lot¬ nych chlorowcopochodnych z materialami, zawierajacemi ujemne czesci skladowe zwiazków chemicznych, majacych byc utworzonemi, jako tez znów w danym ra¬ zie z gazu redukujacego lub pary eduku¬ jacej.Nic zawsze potrzeb* ozyc gazu reduku¬ jacego, Wypadek ten ma miejsice przy lych chlorowcopochodnych, które utegaja tlysócjacji it& pod wpfywem temperatury zafrzaicego sie ciala. Wiele chl^rowoopoc-Wd- tfyth pótrztebttje fedtóak do reagowania tfcetfioSci gtóia Ye&akuiaeego. Mofce **#- me± tfijecutfejacfc *ryp*&tk, te ttHaktt^l, zawierajacy ujemna czesc skladowa, ma wfesciwosci redukujace, i uzycie wiec gazu redukujacego staje sie niepotrzebne. Wy¬ padek ten ma, np. miejsce, o ile przy wy- twarzstfiAu karbidu uzywa sie, jako mate- rjalu zawierajacego wegM weglowodoru.Wodór weglowodoru dziala wtedy redu- kujaco i powoduje przemiane chlorowco¬ pochodnej na weglik.Bardzo dobre wyniki osiaga sie dzieki tetnu, le uzywa sie podlug wynalazku, jako gazu redukujacego, wodoru, mozna jednak¬ ze takze pracowac zapomoca innych srod¬ ków redukujacych, jalktip. par metali alka¬ licznych, Mfetale alkaliczne sa jednak wskutek swego niskiego cisnienia pary przy niskich temperaturach nie we wszyst¬ kich wypadkach uzywalne.Podlug sposobu tu opisanego moze kaz¬ dy zwiazek chemiczny ibyc osadzany na zarzacem sie ciele, jesli tylko jego dodat¬ nia czesc skladowa ma lotna chlorowco¬ pochodna i zwiazki chemiczne, majace byc osadzonemi, maja przy temperaturze re¬ akcji szybkosc wytwarzania wieksza od szybkosci wyparowania z zarzacego sie ciag¬ la. Mozna w ten sposób osadzac, np. azot¬ ki, fosforki, wegliki, borki, tlenki na ciele zarzacem sie, lecz mozna podac jeszcze wiele innych przykladów zwiazków, które, jak krzemki, selenlri i t d. równtei zapo¬ moca sposobu (wedlug niniejszego wyna¬ lazku moga byc osadzane na zarzacem sie ciele.Celowo dobiera sie t&ce sie osadzic w zarze zwiazki dheifticfr- ne, cialo wyciagniete W postaci drutów, talm, pretów i t. d. Sposób ten nadaje sie zwlaszcza przy osadzaniu zwiazków che^ Ciala zfttfawe, ma których osadzone sa rwiaztó chemiczne zapomoca sposobu w- Tiifcjszego wynalazku, moga znalezc zasto¬ sowanie, iako druty zarowe np. jako ka- toidly tatowe dla Urzadzen termicafitych, jak prostowniki, fary Roentgena, lampy odbie- *fcjape, kflftpy wysylajaca i wzmacniacze - 2 —dla telegrafji lub telefonii i dla celów po¬ dobnych.Sposób wedlug wynalazku obszernie ob¬ jasniony jest na rysunkach, przedstawiaja¬ cych schematycznie przyrzady zdatne do wykonywania sposobu.Fig, 1 przedstawia przekrój podluzny przez przyrzad, zapomoca którego metoda niniejsza moze byc wykonywana w wypad¬ kach, w których powstaje tylko jeden lot¬ ny zwiazek/ Fig, 2 przedstawila przekrój perspekty¬ wiczny przyrzadu, mogacego "byc uzywa¬ nym w wypadkach, w których powstaja dwa zwiazki lotne.Fig, 3 przedstawia widok perspekty¬ wiczny przyrzadu dla tych wypadków, gdzie uzywanie gazu redukujacego jest zbedne.Przyrzad podlug fig, 1 nadaje sie bar¬ dzo np. do wytwarzania azotków. W wy¬ padku tym prowadzi sie przez rure / mie¬ szanine azotu i wodoru. Zawartosc azotu moze np, wahac sie pomiedzy 30% i SOP/oi chociaz reakcja pozadana odbywa sie takze juz, choc z mniejsza szybkoscia, jesli za¬ wartosc azotu jest daleko mniejsza, np. 1%, Mieszanina gazów plynnie przez naczy¬ nie 2, gdzie sie bardzo ochladza dzieki te¬ mu, ze jest otoczona naczyniem 3, napel- nionem powietrzem plynnem. Mieszanina uwolniona w ten sposób od pary wodnej i innych zanieczyszczen plynie teraz przez rure 4 do naczynia 5, w którem znajduje sie materjal 6.Jesli sie chce osadzic azotek cyrkono¬ wy, bierze sie jako materjal wyjsciowy chlorek cyriconowy, i naczynie 5 winno byc utrzymane w takiej temperaturze, zeby chlorek wyparowal w wystarczajajcej ilo- Hcl, Z naczynia 5 plynie mieszanina gazów, zawierajaca pare chlorku cyrkonowego, przez rure 7 do naczynia 8, wewnatrz któ* Tegorura 7 zaopatrzona jest w pewna ilosc ' dziur, tak ze mieszanina plynie z rury 7 ponad cialem zarzapem sie, np; drutem 12% do odpowiednich otworów w rurze 13.Rura 7, jak równiez naczynie 8, winny byc utrzymane w takiej temperaturze, zeby chlorek cyrkonowy pozostal w stanie pary.Naczynia 5 i 8i rwa 7 moga* np, byc oigirze- wane do temperatury w przyblizeniu 150°^300Q C.Naczynie 8 zamyka sie u góry szczelnie od powietrza korkiem 9, np. ze szkla, w którem wtopione sa druty, doprowadza¬ jace prad 1Q i U. Drut 12 jest np. zapo¬ moca malych srubek polaczony z drutami 10 i //, moze wiec elektrycznie byc dopro¬ wadzony do odpowiedniej temperatury.Celowo temperatura ta wynosic moze okolo 1800° G, Juz przy 1000° C tworzy sie jednak na dructe warstwa azotku cyr¬ konowego, chociaz daleko wolniej, niz przy wyzszej temperaturze.W ogólnosci znaleziono, ze szybkosc reakcji podnosi sie wraz z rosnaca tempe¬ ratura. Za wysoko nie winno sie jej podno¬ sic, gdyz osadzanie azotku na drucie od¬ bywa sie wtedy tak szybko, ze nie otrzy¬ muje sie warstwy dobrze zlaczonej. W ogól¬ nosci nie jest pózadanem, aby temperatura pódhosila sie ponad 3000°C, Rodzaj materjalu, z którego wytwarza sie drut 12, zalezy, oprócz od pózniejszego przeznaczenia drutu przyrzadzonego, od temperatury, która chce sie podtrzymywac dla reakcji. Jesli reakcja odbywac sie ma ponizej 1000° C, moze np, byc uzyty nikiel.Korzystniej jest uzyc np. wolframu, mo¬ libdenu lub platyny.W naczyniu 8 laczy sie, wskutek panu¬ jacej wpofoliziu drutu 12 wysokiej1 tempe¬ ratury, wodór mieszaniny gazów z chlorem chlorku cyrkonowego na kwas solny, pod¬ czas gdy obecny azot laczy sie z cyrkonem ha azotek cyrkonowy, osadzajacy sie na drucie. Mieszanina gazów, zanieczyszczona kwasem solnym, plynie przez rure 13 do naczynia 14, gldzie ochladza sAeJb&rtlzo dzie¬ ki temu, ze naczynie 14 otoczone jest na¬ czyniem; 15, zawierajacem powietrze plyn- — 3 —ne. Chlorek cyrkonowy nie przemieniony i kwas solny pozostaja w naczyniu 14\ pod¬ czas gdy azot. pozostaly i wodór opuszczaja przyrzad rura 16. Chlorek cyrkonowy, na¬ gromadzony w naczyniu 14, moze, po uwol¬ nieniu go od kwaisu solnego, byc zuzyty nai nowo.Reakcje tak dlugo sie powtarza, az osad na drucie 12 ma pozadana grubosc, co latwo stwierdzic mozna, mierzac np. zmia¬ ne oporu drutu 12.Poniewaz azotek cyrkonowy jest do¬ brym przewodnikiem elektrycznosci mozna dopuscic, aby osad wrósl do bardzo grubej warstwy.W ogólnosci dopuszcza sie w wypad¬ kach, gdzie zwiazek, majacy byc osadzo¬ ny, jest dobrym przewodnikiem elektrycz¬ nosci, wzrost osadu na ciele zarzajcem sie do bardzo grubej warstwy.Przez usuniecie warstwy z ciala, na któ- rem zwiazek chemiczny zostal osaid'zony, mozna otrzymac zwiazek w czystej formie, i niniejszy sposób przedstawia metode wy¬ twarzania rozmaitych zwiazków chemicz¬ nych.W podobny sposób, jak azotkiem cyr¬ konowym, moze cialo zarowe byc powle¬ czone warstwa azotku tytanowego.Jakoi zwia|zku dysocjujacego uzywa sie w tym wypadku chlorku tytanowego (TiCIJ, wrzacego juz przy mntej wiecej 140°C, tak ze cisnienie pary przy tempe¬ raturze pokojowej jest dosyc wysokie, aby spowodowac reakcje, wdbec czego zbed- nem jest ogrzewanie naczyn 5 i 8. Drut 12 winien byc ogrzany do temperatury wa¬ hajacej sie pomiedzy 1000° i 2000° C. 77C/4 redukuje sie zapoirioca wodom na TiCl3l malo lotny i osadzajacy sie nai scia¬ nie naczynia 8.W podobny sposób udaje sie osadzac podlug niniejszego sposoby azotek niobo- wy, azotek wanadynowy lub azotek borowy na ciele zarowem dzieki temu, ze prze¬ puszcza sie mieszanine azotu i wodoru nad chlorkiem niobowym (NbCl^J przy tempe- ratuirze mniej wiecej 200° C lub naid oksy- chlorkiem wanadynowym (VOCls) przy temperaturze pokojowej, lub nad bromkiem borowym, lekko chlodzonym, i prowadzi mieszanine gazów, tak powstala, ponad za- rzacem sie cialem. Temperatury wspomnia¬ ne w obrebie pewnych granic oznaczone sa dlatego, ze chlorowcopochodna metalowa winna miec dostateczne cisnienie pary.Podczas gdy w powyzszych przykla¬ dach ujemna czesc skladowa zwiazku me¬ talowego, majacego byc osadzonym, obecna jest jako taka w mieszaninie gazów, która sie prowadzi ponad cialem zarzacem sie, w nastepnych beda opisane niektóre przy¬ klady sposobu, w którym w mieszaninie ga¬ zów, uprzednio wspomnianej, 'jest gaz lub para, zawierajaca ujemna czesc skladowa.Jesli sie chce np. osadzic fosforek cyr¬ konowy na ciele zarzadem sie, mozna uizyc przyrzadu, przedstawionego na fig. 2. Przy¬ rzad ten odmienny jest od przyrzadu, przedstawionego na fig. 1 o tyle, ze prze¬ widziane sa dwa naczyna 5' i 5", dwie ru¬ ry 4' i 4" i dwie rury T i 7". Podcza® kiedy wprowadza sie do naczynia 5' chlorek cyr¬ konowy, naczynie 5" zawiera trójchlorek fosforu. Prad wodoru prowadzi sie przez rure /' i doprowadza sie naczynie z chlor¬ kiem cyrkonowym do mniej wiecej 230° C, naczynie zas z trójchlorkiem fosforu pozo¬ staje w temperaturze pokojowej; przez ru¬ re 7' plynie mieszanina chlorku cyrkonowe¬ go i wodoru, przez rure 7" mieszanina trój¬ chlorku fosforu i wodoru do naczynia 8', a wiec i przez nitke zarowa 12'. Tak chlorek cyrkonowy, jak trójchlorek fosforu prze¬ mieniaja sie pod wplywam wysoikiej tempe¬ ratury drutu zarzacego sie przez wodór, a na powierzchni nitki zarowej osadza sie fosforek cyrkonowy. Wodór laczy sie znów z uwalniajacym sie chlorem na gazowy chlorowodór.Mozna jednak takze do osadzania fo¬ sforku cyrkonowego na nitce zarowej uzyc przyrzadu podlug fig. 1. W tym wypadku wprowadza sie do naczynia 5 zwiazek che- — 4 —miczny chlorku cyrkonowego, np, piecio- chlorku fosforowego 2 ZrC/4PC/5, zwiazek, który rozgrzany do mniej wiecej 230° C, Wyparowuje dostatecznie i zabierany jest przez wodór plynacy przez 1 i 4 do naczy¬ nia & gdzie odbywa sie przemiana^ Osadza sie wtedy znów fosforek cyrkonowy na za¬ rzacym sie drucie, podczas gdy tworzy sie poza tern gazowy chlorowodór.Zanieczyszczenia utworzonego fosforku cyrkonowego przez fosfor-pierwiastek nie nailezy sie obawiac przy opisamym sposo¬ bie, gdyz zanieczyszczenie, gdyby sie two¬ rzylo, natychmiast wyparowaloby wskutek wysokiej temperatury nitki zarowej. Zalez¬ nie od stosunków temperatury nitki zaro¬ wej i skladu atmosfery gazowej powstaja gladkie zlaczone blony z fosforku cyrkonom wego lufo nieregularnie rozdzielone kry¬ sztaly.W podobny sposób, jak fosforek cyrko¬ nowy, mozna osadzac zapomoca niniejszej itietody weglik tantalowy na ciele zarza- cem sie. W wypadku weglika tantalowego ogrzewa sile w naczyniu 5' przyrzadu po¬ dlug fig. 2 pieciochlorek tantalowy do mniej- wiecej 200° C, podczas gdy dlo naczynia 5" wprowadza sie szesciochloroetan. Ponie¬ waz cisnienie pary ostatniego jest juz znaczne takze przy temperaturze pokojo¬ wej, nie potrzeba ogrzewac naczynia 5".Temperatury, przy których pieciochlorek tantalowy i szesciochloroetan wyparowuja, sa tak dobrane, ze w naczyniu 8' pieciochlo¬ rek tantalowy w stosunku do szesciochlo- roetanu znajduje sie w nadmiarze. Nadmia¬ ry te szczególnie sa pozaddne w celu zapo- biezenia zanieczyszczeniu weglika tantalo¬ wego przez wegiel.Mozna jako produktów wyjsciowych za¬ miast lotnych zwiazków weglowodorowych, jak szesciochloroetan, uzyc takze gazo¬ wych, np. tlenku wegla. Mozna w tym wy¬ padku uzyc przyrzadu podlug fig. 1, wpro¬ wadzajac wtedy do naczynia 5 pieciochlo¬ rek tantalowy i przeprowadzajac przez rure 1 mieszanine wodoru i tlenku wegla. Pod¬ czas gdy przy stosowaniu szesciochloroeta- nu czesto utworzony weglik tahlailowy co¬ kolwiek jest zanieczyszczony przez wegiel, przy uzyciu tlenku wegla mozna otrzymac weglik tantalowy, calkowicie wolny od we¬ gla Weglik tantalowy tworzy na drucie za¬ rowym, zaleznie od stosunków temperatury drutu zarowego i skladu atmosfery gazo¬ wej, blony zlaczone lub pojedyncze kry¬ sztaly. -*dl :~^ Jako przyklad osadzania tlenku na cie¬ le zatrzajcem sie, wspomniec nalezy o tlenku cynowym. Mozna go osadzic przez uzywanie przyrzadu, przedstawionego na fig. 1, wpro¬ wadzajac wtedy prad powietrza przez chlo¬ rek cynowy, wprowadzony do naczynia 5; uzycie w tym wypadku gazu redukujacego jest zbyteczne. Drut zarowy 12, dla któ¬ rego bierze sie w tym wypadku celowo pla¬ tyne, rozgrzewa sie wtedy w atmosferze, zawierajacej chlorek cynowy i tlen, az do mniej wiecej 1000° C i powleka sie on przy- tem warstwa tlenku cynowego. Poniewaz chlorek cynowy /w temperaturze pokojo¬ wej ma dostatecznie wysokie cisnienie pa¬ ry, staje sie zbytecznem ogrzewanie naczy¬ nia 5.W koncu wspomniec nalezy, jako o dru< gim przykladzie o zwiazku chemicznym, do osadzenia którego zbedna jest obecnosc ga¬ zu redukujacego, o wegliku molibdenu. Do osadzania tego zwiazku na ciele zarzacem sie mozna uzyc przyrzadu, przedstawione¬ go na fig. 3. W naczynie 17 wprowadza sie pieciochlorek molibdenowy i ogrzewa do mniej wiecej 250° C. W naczynie 18 wpro¬ wadza sie czterochlorek wegla, którego ci¬ snienie pary przy temperaturze pokojowej juz stosunkowo jest wysokie, tak ze poleca sie naczynie 18 cokolwiek chlodzic. Miesza¬ nina pieciochlorku molibdenowego i cztero¬ chlorku wegla plynie teraz dziurami w ru¬ rze 19 do naczynia 20, gdzie pod wlywem wysokiej temperatury drutu zarowego 21 obydwa zwiazki dysocjuja sie spontanicz¬ nie i w ten sposób bez gazu redukujacego — 5osadza sie weglik molibdenowy na drucie.Zamiast uzywac przyrzadu przedstawione¬ go na fig, 3, mozna naturalnie weglik mo¬ libdenowy osadzic na ciele zarzacem sie takze zapomoca przyrzadu przedstawionego na fig. 2. Przepuszcza sie wtedy przez rure T gaz pomocniczy (wodór, argon), który w tym wypadku wylacznie ma jako cel wpro¬ wadzic pary lotnych zwiazków, znajduja¬ cych sie W naczyniach 5' i 5" do naczy¬ nia 8'.Nalezy zwrócic uwage na to, ze weglik molibdenowy, osadzony na drucie zaro¬ wym, moze byc zmieszany z molibdenem lub weglem, zaleznie od tego, czy stezenie pieciochlorku molibdenowego lub cztero¬ chlorku wegla w atmosferze gazowej, obec¬ nej w naczyniu 20, jest za duze.Cisnienie pary pieciochlorku molibde¬ nowego w stosunku do czterochlorku wegla winno w tym celu tak byc regulowane, ze¬ by weglik molibdenowy powstawal w czy¬ stej formie. W wielu wypadkach natomiast nie potrzeba bedzie regulowac cisnienia pa¬ ry lotnych zwiazków. Bedzie to mianowicie mialo miejsce w tym wypadku, gdy te dwa zwiazki, kazdy oddzielnie, nie moga byc rozlozone, ani przez termiczna dysocjacje, ani przez redukcje pod wplywem tempera¬ tury ciala zarowego lub, o ile skladniki zwiazków tych sa bardzo lotne, jak np. fo¬ sfor, które i tak przy ewentuailnem wytwa¬ rzaniu sie natychmiast znów ulatniaja sie.Mozna takze mieszaniny zwiazków che¬ micznych lub zwiazki chemiczne, które u- wazac mozna, jako zlozone z dwóch lub wiecej zwiazków, osadzic na ciele zarzacem sie. Mozna wtedy np. jako produkty wyj¬ sciowe uwazac kilka chlorowcopochodnych i kilka materjalów, zawierajacych pozada¬ ne ujemne czesci skladowe i wszystkie te chlorowcopochodne i inne zwiazki ogrzac do temperatury, w której ich cisnienie pary jest znaczne. Mozna1 w takim wypadku uzyc równiez zwiazków, zawierajacych wiecej, niz jedna ujemna czesc skladowa. ]kk np, cyjanu. Za posrednictwem tych czesci skladowych mozna wtedy mieszanine weglików i azotków lub wegloazotków osa¬ dzic na ciele zarzacem sie. W zaleznosci od wlasciwosci dodatnich i ujemnych czesci skladowych mozna w tym celu uzyc przy¬ rzadów, przedstawionych na fig, 1, 2 lub 3 lub takich, w których przewidzianych jest jeszcze wiecej naczyn w rodzaju 5,5', 5" lub 17 i 18. PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia patentowe. 1, Sposób osadzania zwiazków chemicz¬ nych na ciele zarzacem sie, znamienny tern, ze rozgrzewa sie cialo zarzace sie w atmo¬ sferze skladajacej sie: 1, z jednego lub kilku lotnych chlorow¬ copochodnych dodatniej czesci skladowej zwiazku lub zwiazków chemicznych, maja¬ cych byc osadzonemi, 2, a. z gazu lub pary lub kilku gazów lub par, skladajacych sie z ujemnych czesci skladowych zwiazków chemicznych, lub b. z gazu lub pary lub kilku gazów lub par, zawierajacych te ujemne czesci skla¬ dowe, 3, w danym razie z gazu lub pary redu¬ kujacej lub z atmosfery skladajacej sie z jednego lub kilku lotnych zwiazków che¬ micznych substancyj wspomnianych pod 1 i 2b i w danym razie z gazu lub pary redu¬ kujacej, przyczem zwiazki chemiczne, ma¬ jace byc osadzanemi, maja przy temperatu¬ rze reakcji szybkosc wytwarzania wieksza od szybkosci wyparowywania z ciala za¬ rzacego sie. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tem, ze zwiazki chemiczne, które osadza sie na cialach zarzacych sie, sa zwiazkami metalowemi. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 lub 2, zna¬ mienny tem, ze jako gazu redukujacego uzywa sie wodoru, 4. Sposób wedlug zastrz, 1, 2 lub 3, znamienny tem, ze zwiazki chemiczne, ma¬ jace byc osadzanemi, skladaja sie z jedne¬ go lub kilku azotków, weglików, foiforków, borków lub ich tlenków lub mieszanin, 1 — 6 —5. Ciala formy wdluz wyicia|gnietej( zna¬ mienne tern, ze na nich osadzone sa jeden lub kilka zwiazków chemicznych zapomoca sposobu wedlug zastrz, 1, 2, 3 lub 4. 6. Katoda zarowa, znamienna tern, ze na niej osadzonych jest jeden lub kilka zwiazków chemicznych zapomoca sposobu wedlug zastrzezen 1, 2, 3 lub 4. 1. Sposób wytwarzania zwiazków che¬ micznych, znamienny tern, ze zwiazki che¬ miczne, osadzane zapomoca sposobu we¬ dlug zastrz. 1, 2, 3 lub 4 na cfele zarzacem sie, usuwa sie z tego ciala, N. V. Philips' Gloeilampen- fabrieken. Zastepca: M. Zoch, rzecznik patentowyDo opisiT patentowego Nr 372 2. Ark.
  2. 2. KJ7 FS.
  3. 3 Druk L, Boguslawskiego, Warszawa. PL
PL3722A 1924-08-20 Sposób osadzania zwiazków chemicznych na ciele zarzacem sie i sposób wydzielania tych zwiazków. PL3722B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL3722B1 true PL3722B1 (pl) 1926-02-27

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2441603A (en) Electrical translating materials and method of making them
DE102017100725A1 (de) CVD-Reaktor und Verfahren zum Reinigen eines CVD-Reaktors
DE4041902C2 (pl)
Törndahl et al. Growth of copper (I) nitride by ALD using copper (II) hexafluoroacetylacetonate, water, and ammonia as precursors
Newkirk et al. The Preparation of High Tc Nb3Ge Superconductors by Chemical Vapor Deposition
JP4054148B2 (ja) 耐食性部材の製造方法及び耐食性部材
PL3722B1 (pl) Sposób osadzania zwiazków chemicznych na ciele zarzacem sie i sposób wydzielania tych zwiazków.
US2901381A (en) Method of making electrical resistors
Rahman et al. Improved synthesis of WS2 nanotubes with relatively small diameters by tuning sulfurization timing and reaction temperature
Tran et al. Gold CVD using trifluorophosphine gold (I) chloride precursor and its toluene solutions
DE2160670C3 (de) Verfahren zur Herstellung von zylindrischen Körpern aus Halbleitermaterial
JP2025051643A (ja) 化学気相合成法を用いた無機粉末の製造方法及び製造装置
US20080024061A1 (en) Incandescent lamp having a carbide containing luminous element
DE1198787B (de) Verfahren zur Gewinnung von reinstem Silicium, Siliciumkarbid oder Germanium aus ihren gasfoermigen Verbindungen
KR20120066174A (ko) 내식 피막이 형성된 고진공용 열선 및 이의 제조방법
US3703405A (en) Vapor deposition of rhenium and rhenium-tungsten alloy coatings
US4054686A (en) Method for preparing high transition temperature Nb3 Ge superconductors
US3525637A (en) Method of producing layers from the intermetallic superconducting compound niobium-tin (nb3sn)
DE19649684C1 (de) Verfahren zum Erzeugen einer Titanmonophosphidschicht und ihre Verwendung
Brodie A new model for the mechanism of operation of scandate and refractory oxide cathodes
DE1667761B2 (de) Verfahren zur herstellung von graphit extrem hoher reinheit
JP2013155050A (ja) 被覆金属加工体及びその製造方法
DE414255C (de) Verfahren zum Niederschlagen chemischer Verbindungen auf einem gluehenden Koerper
DE1468116A1 (de) Verfahren zur Herstellung von halogenierten organischen Verbindungen
Harks et al. Metallic Tungsten Nanostructures and Highly Nanostructured Thin Films by Deposition of Tungsten Oxide and Subsequent Reduction in a Single Hot‐Wire CVD Process