PL3080B1 - Sposób otrzymywania nieporowatych osadów cynowych. - Google Patents
Sposób otrzymywania nieporowatych osadów cynowych. Download PDFInfo
- Publication number
- PL3080B1 PL3080B1 PL3080A PL308020A PL3080B1 PL 3080 B1 PL3080 B1 PL 3080B1 PL 3080 A PL3080 A PL 3080A PL 308020 A PL308020 A PL 308020A PL 3080 B1 PL3080 B1 PL 3080B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- tin
- deposits
- obtaining non
- tin deposits
- porous tin
- Prior art date
Links
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 1
- 229940071182 stannate Drugs 0.000 claims 1
- 125000005402 stannate group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N potassium cyanide Chemical compound [K+].N#[C-] NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 201000002481 Myositis Diseases 0.000 description 1
- CQMUOFGWJSNFPX-UHFFFAOYSA-N [O].[Sn].[Sn] Chemical compound [O].[Sn].[Sn] CQMUOFGWJSNFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 1
- -1 cinnamate ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000005518 electrochemistry Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 208000024891 symptom Diseases 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001432 tin ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J tin(4+);tetrahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Sn+4] CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
Znana jest znaczna ilosc alkalicznych elektrolitów do wydzielania cyny, w których metal ten sluzy jako anjon. Wogóle otrzy- mjuje sie je przez stracanie roztworu chlor¬ ku cynafwego alkaljami i rozpuszczanie stra¬ conego wodorotlenku cynawego w nadmia¬ rze alkaljil (Langfoefoi, Haindbuch, wydanie V, str. 406 ii dalsze).Wszystkie te kapiele maja jednak te wspólne cechy, ze wykazuja sklonnosc do tworzenia) gabki, oraz ze z biegiem czasu, ilosc metalu w kapieli zmniejsza sie (Pfan- hauser, Metallniederschlage 1910, str. 605).Powstawianie gabki cynowej, oprócz u- warunkowanej1 tern1 straty cyny, powoduje jeszcze te nieprzyjemna okolicznosc, ze osad cynowy pokrywal podlegajaca cyno¬ waniu powierzchnie nie calkowicie, pozo¬ stawajac pory. Daje to powód Langbein'o- wi do twierdzenia, ze galwaniczne cyno¬ wanie ustepuje pod wzgledem trwalosci cy¬ nowaniu w ogniowej kapieli cynowej, bez wzgledu na to, ze pierwszym sposobem mozna otrzymac warstwy tak grube, ze no¬ zem daje sie sciac z nich dosc duzy wiór.Przyczyna tej mniejszej trwalosci jest mniejsza gestosc galwanicznych osadów w porównaniu z warstwa, otrzymana w ka^ pieli ogniowej (Langbein, str. 408). Mniej¬ sza gestosc czyli, scislej biorac, porowa¬ tosc cynowych osadów galwanicznych przeszkadzala stosowaniu ich w technice.Dotychczas, jak sie zdaje, niema sposobu otrzymywania gestych osadów cynowych, gdyz jeszcze w marcu 1916 r. zaklady Langbeln-Pfanhauser w Lipsku odradzalystosowanie galwanicznego cynowania do naczyn kuchennych (Metali, rok 1916, str. 81).Jasnem jest, ze w kapielach Kleinera, Maistrasse'a, Fearn'a, Birghan'a, Beubeck'a i innych nie mozna otrzymac czystych i ge¬ stych osadów^. Sklad tych kapieli umozli¬ wia obecnosc jonów cynowego i cynawego cyniamu obok jonów alkalji; na1 katodzie przy zamknieciu pradu moga zachodzic wszelkie mozliwe reakcje, mianowicie pier¬ wotne i wtórne wydzielanie cyny, wreszcie 4 tez-.czysto chemiczne. Zamiast wiec wy- .'V'- i? dzfólatoiC ™*alu otrzymuje sie szereg po¬ mieszanych miiediy soba procesów wydzie¬ lania, tak ze nie mozna nawet sie spodzie¬ wac prawidlowosci w osadzaniu metalu, juz nie mówiac o tern, ze jednoczesnie wy¬ dziela sie obficie wodór.W dodatku anodowe rozpuszczanie sie cynowej anody nie odbywa sie bez prze¬ szkód Podlug Foerster'a (Elektrochemie wasseriger Losungen, 2 wydanie, str. 359) na rozpuszczalnosc anody wplywa ta oko¬ licznosc, ze z pierwotnie powstajacego na anodzie tlenku cynawego tworzy sie nastep¬ nie tlenek cynawo-cynowy, bard'zo trudno rozpuszczalny w alkaljach, pokrywajac a- node trwala warstwa. Tworzenie sie szaro- czarnej powloki na1 anodzie, ogólnie uzywa!- nych alkalicznych cynowych kapieli, jest objawem zwyklym. Reasumujac powyzej powiedziane, mozna twierdzic, ze wszystkie znane dotychczas kapiele cynowe maja te wade, ze nie daja gestych osadów cyny o- raz, ze wskutek wadliwej anodowej rozpu¬ szczalnosci anod, podlegaja ciaglej zmianie.Dla katodowej i anodowej wydajnosci znaleziono nastepujace wartosci: Katodowa wydajnosc 50% na Sn ainodowal wydajnosc 25% na Sn A wiec, z jednej strony wystepuje obok wydzielania sie cyny takze znaczne tworze¬ nie sie wodoru, co równiez przeszkadza do* bremu pokrywaniu metalowej powierzchni; z drugiej strony musi odbywac sie stale zmniejszanie sie ilosci cyny z kapieli, po¬ niewaz anodowe rozpuszczanie sie nie idzie w parze z katodowem.Zostalo stwierdzone, ze anodowa wy¬ dajnosc staje sie równa katodowej przy za¬ stosowaniu elektrolitu, zawierajacego obok OH-jonów tylko jony cyniami, to jest przy wylaczeniu calkowitem grup kwasowych.Np., wynosi ona prawie 67% w kapieli, w której stosunek Sn do Na równa sie 11:1 przy gestosci pradu 54 A na m2. Jesli zamieni sile stosunek nstf korzysc wolnej al¬ kalji, np., w stosunku Sn:Na = 3:1, to mozna doprowadzi- gestosc pradu do 90 A na m2, przyczem nie zmniejszaja sie wydajnosc katodowa i anodowa. W roz¬ tworach, wolnych od grup kwasowych, two¬ rzenie sie gabki nie wystepuje; osady sa zu¬ pelnie geste i pod mikroskopem nie mozna dojrzec zadnych golych miejsc niepokry- tych.Przy stosowaniu elektrolitu, zawieraja¬ cego calkowicie lub czesciowo potas, nawet przy gestosci pradu 100 amperów, wydaj¬ nosc anodowa i katodowa przekracza 90% teoretycznej. Biorac pod uwage, iz zwykla dla alkalicznych kapieli cynowych gestosc pradu dochodzi zaledwie do 25 amperów, powyzsze uznac nalezy za znaczny postep techniczny.Fakt ten, zdumiewajacy sam przez sie, znalazl jednak atialogje w odkryciu Co¬ hena, a miiainowilcile, ze przy anodowem rozpuszczaniu sie zlota1, anodowa wydaj¬ nosc silnie obniza sie, jak tylko do roztwo¬ ru cyjanku potasu dodlac jonów Na, gdyz katjon Na wywoluje passywnosc wskutek tworzenia] sile powloki cyjanku podwójnego sodu i zlota. Podobnie rzecz sie ma i z cyna. Jeszcze przedtem badacze zauwa¬ zyli, ze dodanie cyjanku potasu do'alkalicz¬ nych kapieli cynowych wplywa dodatnio na dzialanie anodowe. Langjbein nie uznawal — 2 —nigdy tego dzialania, gdyz nic mógl zrozu¬ miec wplywu grupy cyjanowej na cyne.Z powyzej wyluszczonego punktu widze¬ nia wplyw ten staje sie zrozumialym.Szczególnie dodatnie rezultaty otrzy¬ muja sie przy uzyciu nastepujacej kapieli cynowej: 30 g cyniami potasowego 5 g wodorotlenku potasu 1 1 wody.Wydajnosc pradu przy gestosci pradu 100 A na m? wynosi: katodowa 87% nai Sn anodbwia 89% nai Sn Z tego wynika, ze wspomniana przez Foerster'ai powloka juz nie wystepuje. Re¬ zultat wydajnosci jest wziety z doswiad¬ czenia, trwajacego 14 godzin (Schlotter, Galvanostegie I, sir. 179). Efekt technicz¬ ny tego sppsobu polega nfietylko na moz¬ nosci utrzymywania kapieli w statnie nie¬ zmiennym przez czas dluzszy, wskutek równomiernej wydajnosci katodowej i a- nodowej, lecz takze i na moznosci stoso¬ wania przy kapielach alkalicznych pradu o gestosci wyzszej, od zwykle dotychczas stosowanej. PL
Claims (2)
- Zastrzezenia patentowe. 1. Sposób przygotowania osadów cy¬ nowych wolnych od por, znamienny tern, ze zastosowane sa alkaliczne roztwory cyniami, wolne od grup kwasowych.
- 2. Wykonanie sposobu wedlug zastrz. 1, znamienne tern, ze roztwory cynianu za¬ wieraja wylacznie lub tez przewaznie wo¬ dorotlenek poiaisu. Max Schlotter. Zastepca: S. Pawlikowski, rzecznik patentowy. Druk L. Boguslawskiego, Warszawa. PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL3080B1 true PL3080B1 (pl) | 1925-11-30 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100227556B1 (ko) | 전해 전극 | |
| US2872405A (en) | Lead dioxide electrode | |
| TWI507571B (zh) | 藉由電鑄法但不使用有毒金屬或類金屬而獲致黃金合金沉積的方法 | |
| US2027358A (en) | Electrodeposition of metals of the platinum group | |
| US3500537A (en) | Method of making palladium coated electrical contacts | |
| US2750333A (en) | Electrodeposition of antimony and antimony alloys | |
| PL3080B1 (pl) | Sposób otrzymywania nieporowatych osadów cynowych. | |
| US2198365A (en) | Electroplating | |
| Melo et al. | Characterisation of electrodeposited and heat-treated Ni− Mo− P coatings | |
| JP4643690B2 (ja) | 電気めっき用ニッケルめっき浴 | |
| JP2009062577A (ja) | ニッケルめっき浴 | |
| JP2024519368A (ja) | スルホン酸塩電気めっき浴、電解堆積によって金属を精製するための方法及び電解精製において金属のモルフォロジーを制御するための方法 | |
| US3206382A (en) | Electrodeposition of platinum or palladium | |
| SE502520C2 (sv) | Bad, sätt och användning vid elektroplätering med tenn- vismutlegeringar | |
| US3829366A (en) | Treatment of titanium cathode surfaces | |
| US3418220A (en) | Electrodeposition of chromium and duplex micro-crack chromium coatings | |
| US2577365A (en) | Rhodium plating | |
| EP4499904A1 (en) | High efficiency platinum electroplating solutions | |
| USRE16598E (en) | Electrodeposition of chromium | |
| JPH0156157B2 (pl) | ||
| Das et al. | Electrowinning of cobalt from a sulphate bath containing H3BO3 and NaF | |
| US2866740A (en) | Electrodeposition of rhodium | |
| US2421265A (en) | Rapid zinc depositing bath | |
| US1901531A (en) | Electrodeposition of platinum | |
| ES2992438T3 (es) | Dispositivo de tratamiento electrolítico para preparar partes de plástico a metalizar y un método para atacarquímicamente partes de plástico |