PL28016B1 - sluzacych do fotomechanicznego wytwarzania form drukarskich, swiatloczula warstwa koloidalna, oraz urzadzenie do wykonywania tego sposobu. - Google Patents

Description

Wynalazek niniejszy dotyczy sposobu równomiernego powlekania swiatloczula warstwa koloidalna podkladów drukar¬ skich (walców i plyt), sluzacych do foto¬ mechanicznego wytwarzania form drukar¬ skich. Osiagniecie tej calkowitej równo¬ miernosci warstwy powlekajacej i calkowi¬ tej nieobecnosci pecherzyków w warstwie swiatloczulej sprawia bardzo duze trudno¬ sci, gdyz nawet przy bardzo dokladnym powlekaniu istnieje jeszcze zawsze niebez¬ pieczenstwo tworzenia sie pasm (smugi wzglednie pecherzyków, Przy wytwarzaniu calkowicie równo¬ miernej warstwy powlekajacej na podkla¬ dach drukarskich szczególnie wazna jest ta okolicznosc, aby przed naprowadzaniem warstwy swiatloczulej i podczas naprowa¬ dzania jej podklad drukarski, np. walec metalowy, posiadal dokladnie zadana tem¬ perature, aby lepkosc substancji swiatlo* czulej przy naprowadzaniu jej nie ulegala zadnej zmianie, która by mogla spowodo¬ wac nierównomiernosc warstwy powlekaja¬ cej. W tym celu wedlugj wynalazku zapew- nia sie, ze walec lub podobny narzad przed naprowadzeniem koloidalnej warstwy swia¬ tloczulej zostaje doprowadzony do tej sa-mej terripctatufy, jaka posiada sama swia¬ tloczula substancja podczas naprowadza¬ nia, lub do temperatury wyzszej. Mozna to osiagnac w najrozmaitszy sposób, korzyst¬ nie tak, ze walec niepowleczony lub podob¬ ny narzad zanurza sie do cieczy ogrzanej* np. do wody, i obraca w tej cieczy dotad, az walec przyjmie temperature cieczy. Na¬ stepnie wyjmuje sie walec z cieczy, po czym po uprzednim suszeniu go przy nie¬ zmiennej temperaturze mozna go zaopa¬ trzyc w swiatloczula warstwe koloidalna.Zamiast podgrzewania walca lub podobne¬ go narzadu do zadanej temperatury w po¬ dany wyzej sposób, tj; za pomoca wody lub innej cieczy, mozna to osiagnac takze i w inny sposób, np. przez wstawienie walca do zbiornika, zaopatrzonego w ogrzewanie po¬ wietrzne. Pierwszy z tych sposobów ogrze¬ wania jest jednak korzystniejszy, gdyz u- mozliwia szybsze i pewniejsze doprowa¬ dzanie walca do temperatury zadanej.Jesli chodzi o powlekanie walca, pod¬ grzanego w podany wyzej sposób, to moz¬ na to uskuteczniac przez zanurzanie tego walca w zbiorniku, wypelnionym swiatlo¬ czula substancja koloidalna, i obracanie walca podczas jego zanurzenia w tej sub¬ stancji. Mozna przy tym postepowac np. tak, ze substancja koloidalna umieszcza sie w zbiorniku, a walec zanurza sie do tego zbiornika od góry w polozeniu poziomym.Wi celu calkowitego zapewnienia równo¬ miernosci powlekania mozna przy tym po¬ stepowac w ten sposób, ze otwarty od góry zbiornik w postaci podluznej miski ze swiatloczula substancja koloidalna wstawia sie w otwarty od góry odpowiednio u- ksztaltowany drugi zbiornik, wypelniony woda lub inna odpowiednia ciecza i zaopa¬ trzony w otwór wlewowy i wylewowy do tej cieczy. Przez ustalenie odpowiedniej temperatury wody w zbiorniku wewnetrz¬ nym mozna zapewnic utrzymywanie zada¬ nej temperatury substancji koloidalnej podczas powlekania. Mozna to osiagnac al¬ bo przez ogrzewanie zbiornika wewnetrz¬ nego od zewnatrz, albo przez przepuszcza¬ nie przez zewnetrzny zbiornik wody lub innej cieczy o zadanej, z góry okreslonej temperaturze.Aby substancje koloidalna, znajdujaca sie w zbiorniku wewnetrznym, doprowa¬ dzac do stykania sie z walcem wzdluz jego tworzacej, urzadzenie mozna korzystnie wykonac tak, by lozyska i narzady nape¬ dowe walca powlekanego znajdowaly sie w polozeniu niezmiennym i na niezmien¬ nej wysokosci wzgledem zbiornika ze¬ wnetrznego. Miska lub podobny zbiornik, wypelniony swiatloczula substancja koloi¬ dalna, zostaje wstawiony w niewypelniony jeszcze woda lub czesciowo tylko wypel¬ niony woda zbiornik zewnetrzny tak, ze mi¬ ska ta jeszcze nie styka sie z walcem. Na¬ stepnie przez wlewanie wody lub podobnej cieczy do zbiornika zewnetrznego podnosi sie powoli miske, wypelniona substancja swiatloczula, tak dlugo, az wprawiony w obrót walec zanurzy sie w tej substancji.Szybkosc obrotowa walca podczas zanu¬ rzania sie w substancji swiatloczulej jest przy tym dobrana tak, aby mozna bylo o- siagnac mozliwie równomierne powlekanie.Jak sie okazalo, do osiagniecia tego celu szybkosc obrotowa nie powinna byc zbyt duza. Odpowiednia szybkosc nalezy usta¬ lic kazdorazowo za pomoca doswiadczen stosownie do lepkosci substancji koloidal¬ nej. Gdy walec obraca sie juz w substancji swiatloczulej przez czas dostatecznie dlugi do osiagniecia zadanej grubosci warstwy, wode ze zbiornika zewnetrznego spuszcza sie z powrotem do tego stopnia, ze miska, wypelniona substancja swiatloczula, opada i substancja ta przestaje stykac sie z po¬ wierzchnia walca.Zamiast postepowac w sposób wyzej o- pisany mozna takze wykonywac sposób wedlug wynalazku tak, ze walec z jego lo¬ zyskami, a w danym razie takze i narzada¬ mi napedowymi, opuszcza sie i podnosi i w — 2 —ten sposób zanurza sie go w substancji swiatloczulej i z powrotem wyjmuje sie z tej substancji.Mozna równiez postepowac w ten spo¬ sób, ze swiatloczula substancje koloidalna naprowadza sie od góry na osadzony po¬ ziomo walec obracajacy sie w mysl poprze¬ dnich rozwazan tak dlugo, az osiagnie siel równomierna warstwe, przy czym znowu trzeba zapewnic jednakowa temperature' walca i substancji swiatloczulej.Suszenie walca powleczonego mozna równiez uskuteczniac w odpowiednio ogrza¬ nym zbiorniku lub tez za pomoca dmuchaw¬ ki z goracym powietrzem, przy czym wa¬ lec obraca sie dalej. Wazna jest przy tym ta okolicznosc, by podczas suszenia zacho¬ wana zostala osiagnieta poprzednio równo¬ miernosc warstwy. W tym celu mozna tak¬ ze walec uprzednio lub pózniej powoli pod¬ grzewac od wewnatrz. Postepuje sie przy tym celowo w ten sposób, ze ogrzewanie zaczyna sie juz podczas wyjmowania wal¬ ca z substancji koloidalnej i poteguje sie w miare oddalania tego walca.Zamiast dokladnie poziomego osadzenia walca obracajacego sie przy powlekaniu mozna takze ustawic os walca nieco pochy¬ lo. Oddzialywa to mianowicie na czas od¬ dzielania sie substancji swiatloczulej od walca. Zarówno wtedy, gdy walec przy od¬ dzielaniu zostaje podniesiony, jak i wtedy, gdy oddzielanie uskutecznia sie przez opu¬ szczanie miski z substancja swiatloczula, substancja ta i walec stykaja sie w koncu tylko jeszcze w jednym miejscu wzglednie na waskiej ostrej krawedzi, tak ze ostatecz¬ nie oddzielenie substancji i walca zachodzi jedynie w miejscu o bardzo malej po¬ wierzchni. W sposobie wedlug wynalazku nie jest rzecza konieczna, aby os walca po¬ siadala powyzsze ukosne polozenie stale, to jest takze i podczas samego wlasciwego przebiegu powlekania, lecz wystarcza, gdy przyjmuje ona to polozenie tylko podczas przebiegu oddzielania substancji swiatlo¬ czulej od walca. Mozna zatem postepowac w ten sposób, ze podczas wlasciwego prze¬ biegu powlekania walec lezy poziomo, przy czym jego os ustawia sie nieco ukosnie tyl¬ ko podczas przebiegu oddzielania.Stopien nachylenia osi walca zalezy od lepkosci stosowanej substancji koloidalnej; zwykle wystarcza pochylenie osi cylindra wynoszace okolo 3° wzgledem plaszczyzny poziomej. Równiez i szybkosc obrotowa walca, która ma sie utrzymywac podczas wlasciwego przebiegu powlekania, a takze podczas przebiegu oddzielania od siebie walca i substancji swiatloczulej, jest zalez¬ na zasadniczo od stosowanej substancji ko¬ loidalnej. Sposób oddzielania od siebie substancji i walca moze byc w tym przy¬ padku dowolny; mozna np. po prostu wyle¬ wac powoli substancje koloidalna z naczy¬ nia sluzacego do powlekania lub tez powoli mechanicznie opuszczac cale naczynie slu¬ zace do powlekania wraz ze znajdujaca sie w nim substancja.Jak juz wspomniano przy osiaganiu cal¬ kowicie równomiernej warstwy wazna jest ta okolicznosc, aby podczas powlekania walec byl obracany nadzwyczaj powoli.Przy zastosowaniu wyzej wspomnianej od¬ miany sposobu, wedlug której walec przyj¬ muje polozenie ukosne, wchodzi w gre szybkosc obrotowa, wynoszaca np. okolo 7 obrotów na minute. Przy zastosowaniu spo¬ sobu, wedlug którego walec jest stale osa¬ dzony poziomo, szybkosc obrotowa musi byc jednak tak mala, by kazdy obrót trwal kilka minut, a mianowicie (korzystnie) oko¬ lo 5 minut. Walec trzeba przy tym celowo znowu podgrzewac, a mianowicie (korzyst¬ nie) tak, by przy obrocie walca substancja koloidalna natychmiast na nim zasychala i nie splywala z czesci walca, wynurzajacej sie z tej substancji, przy czym równiez za¬ pobiega sie osadzaniu sie cieczy na tej cze¬ sci. W ten sposób osiaga sie bardzo rów¬ nomierne powlekanie.Pomimo nadzwyczaj powolnego obraca- — 3 —nia walca podczas powlekania caly prze¬ bieg wymaga przy zastosowaniu tego spo¬ sobu mniej czasu niz przy zastosowaniu sposobu, wedlug którego walec zajmuje po¬ lozenie pochyle; oddzielanie bowiem walca od substancji przy pochylym osadzeniu walca moze sie odbywac jedynie bardzo wolno, podczas gdy przy poziomym osa¬ dzeniu walca juz po jednorazowym obrocie trwajacym okolo 5 minut walec moze byc niezwlocznie, szybko oddzielony od sub¬ stancji.Wedlug ostatnio wymienionej odmiany sposobu wedlug wynalazku mozna równiez zaoszczedzic na substancji powlekajacej, gdyz przy poziomym osadzeniu walca wy¬ starcza ^oczywiscie tylko nieznaczne zanu¬ rzanie walca w substancji, podczas gdy przy pochylym osadzeniu walca ilosc sub¬ stancji w misce, sluzacej do powlekania, musi byc z natury rzeczy odpowiednio wie¬ ksza. Ogrzewanie walca mozna uskutecz¬ niac takze i w ten sposób, ze podczas po¬ wlekania przeprowadza sie przez walec czynnik odgrzewajacy, np. ogrzewa sie walec pradem elektrycznym itd.Na rysunku na fig. 1 i 2 przedstawiony jest przyklad wykonania szczególnie ko¬ rzystnego urzadzenia do równomiernego po¬ wlekania walców metalowych swiatloczula substancja koloidalna. Urzadzenie to u- mozlrwia równomierne powlekanie takze i w chwili oddzielania od siebie walca i sub¬ stancji powlekajacej, tak ze najwyzej na waskim pasku, który nie przeszkadza przy pózniejszym stosowaniu walem jako foimy drukarskiej, warstwa posiada nieco wiek¬ sza grubosc niz w innych miejscach. Rów¬ noczesnie w razie zastosowania tego urza¬ dzenia warstwa jest calkowicie wolna od pylu, przy czym urzadzenie nie zabiera zbyt duzo miejsca. Walec nie zanurza sie w zbiorniku z substancja swiatloczula, lecz jedynie obraca siego nad górnym otworem wypelnionego ta substancja zbiornika tak, 2e powierzchnia walca zaledwie styka sie z powierzchnia substancji powlekajacej, * walec pobiera substancje ze zbiornika na skutek dzialania sil przywierania. Oddzie* lanie od siebie walca i substancji moze sie odbywac bardzo szybko i trwac bardzo krótko, tak ze nie moze sie przy oddziela¬ niu wytworzyc szerokie nierównomierne pasmo na warstwie. Aby jeszcze hardziej ograniczyc to ewentualne nierównomierne pasmo na walcu, powstajace przy oddziela* niu, jest rzecza celowa, by otwór zbiornika, nad którym obraca sie walec, byl waski, czyli zbiornik powinien posiadac postac waskiej rynny, której dlugosc jest równa przynajmniej dlugosci powlekanego walca.Szerokosc tej rynny dobiera sie przy tym celowo w takim stosunku do srednicy wal¬ ca, by zanurzenie sie walca w rynnie bylo niemozliwe i walec mógl sie jedynie obra¬ cac stykajac sie z górna powierzchnia ryn¬ ny. Równiez i' szerokosc rynny moze byc dostosowana do rodzaju stosowanej substancji, «, zwlaszcza do jej lepko¬ sci.Poniewaz substancja powlekajaca ma tylko stosunkowo waska powierzchnie swo¬ bodna, która ponadto jest przykryta znaj¬ dujacym sie nad nia walcem, wiec z natu¬ ry rzeczy nadzwyczaj male jest niebezpie¬ czenstwo zbierania sie czastek pylu na po* wierzchni cieczy powlekajacej. Jednak w celu zapobiezenia dostawaniu sie na po¬ wierzchnie substancji w rynnie czastek py¬ lu wskutek bocznych przeciagów lub po¬ dobnych podmuchów po obydwóch stro¬ nach rynny mozna umiescic scianki lub po¬ dobne oslony. Urzadzenie moze byc przy tym wykonane tak, ze przed rynna do po* wlekania na calej dlugosci walca umiesz¬ czone sa sprezynujace zgarniacze, które przy obrocie walca calkowicie oczyszczaja z pylu jego powierzchnie, z tylu zas rynny umieszczona jest scianka ochronna.Na rysunku fig. 1 przedstawia przekrój pionowy urzadzenia wraz z dolna czescia walca powlekanego, fig. 2 zas — widok z - 4 —góry urzadzenia wedlug fig, 1, czesciowo w przekroju, po usunieciu walca.Pionowo pod walcem powlekanym 1 umieszczona jest rynna 2 o dlugosci rów¬ nej dlugosci walca 1. Rynna moze byc w razie zyczenia przykrywana od góry po¬ krywka 3. Czesc dolna rynny 2 laczy sie kanalami 4 ze zbiornikiem wyrównawczym 5, celowo o tej samej dlugosci co rynna 2.Zbiornik wyrównawczy 5 jest zaopatrzony w rury 6 (fig. 2), sluzace do doprowadza¬ nia substancji koloidalnej z nie przedsta¬ wionego na rysunku zbiornika zapasowego.We wnetrzu zbiornika wyrównawczego 5, zamknietego odejmowana w razie zycze¬ nia pokrywa 7, umieszczone sa rury przele¬ wowe 8, których górne brzegi leza doklad¬ nie na tej samej wysokosci co górny otwór rynny 2. W ten sposób przez odpowiednie doprowadzanie substancji powlekajacej za¬ pewnia sie stale napelnianie rynny 2 az do jej górnego obrzeza.Jak widac z fig. 1, scianki boczne rynny 2 przy jej otworze górnym sa sciete uko¬ snie, co jest uwidocznione w miejscu 9; jest to korzystne ze wzgledu na zapobiezenie zbieraniu sie na górnych obrzezach rynny substancji mogacej sie stykac z walcem i wytwarzac na nirti szersze, nierównomier¬ ne pasma, Ukosne sciecia nie musza jed¬ nak siegac az do wewnetrznej powierzch¬ ni scianki rynny.Rynna 2 wraz ze zbiornikiem wyrów¬ nawczym 5 i rurami 4 jest wstawiona w zamknieta skrzynke 10 i spoczywa w niej w polozeniu poziomym na slupkach 11.Skrzynka 10 jest oparta ze swej strony na srubach nastawnych 12, za pomoca których moze byc ona nastawiana dokladnie pozio¬ mo przy zastosowaniu nie przedstawionej na rysunku poziomnicy. Przez rure doply¬ wowa 13 napelnia sie skrzynke 10 ciecza o odpowiedniej temperaturze, np. podgrza¬ na woda o temperaturze regulowanej ter¬ mostatem nie przedstawionym na rysunku.Ciecz odplywa przez otwór 14 (fig. 1).Z boku rynny 2 umieszczone sa wycie¬ raczki 15, 16 ze skóry lub podobnego mate¬ rialu, równiez ciagnace sie na calej dlugo¬ sci walca, W postaci wykonania przedsta¬ wionej na fig. 1 i 2 te wycieraczki 15, 16 sa osadzone na drazkach 17, 18, zamoco¬ wanych na przegubie 19, polaczonym ze swej strony z przeciwwaga 20. Zamiast przeciwwagi mozna takze oczywiscie za¬ stosowac sprezyny.Z drugiej strony rynny 2 obok skrzyn¬ ki 10 umieszczona jest scianka 21, siegaja- ca celowo az do walca 1 i sluzaca jako boczna oslona przed pylem. Ta scianka 21 moze byc przymocowana do skrzynki 10 za pomoca srub z nakretkami skrzydelko¬ wymi 22 i moze byc obracana w miejscu 23 tak, by po zwolnieniu srub 22 scianka ta dawala: sie odchylac w dól.W razie zyczenia wycieraczki 15, 16 mozna takze zastapic druga scianka, chro¬ niaca przed pylem i umieszczona przed rynna 2, lub tez oprócz wycieraczek 15, 16 mozna zastosowac dodatkowo taka scian- ke.Przy uzyciu tego urzadzenia najpierw napelnia sie skrzynke 10 woda lub inna od¬ powiednia ciecza o zadanej równomiernej temperaturze, a zbiornik wyrównawczy 5 wypelnia sie substancja sluzaca do powle¬ kania. Substancja ta przechodzi ze zbiorni¬ ka 5 przez rury 4 do rynny 2 i napelnia ja az do jej górnego obrzeza, którego wyso^ kosc odpowiada krawedzi rur przelewo¬ wych 8. Pokrywa rynny moze byc az do tej chwili utrzymywana w polozeniu za¬ mkniecia. Jesli po usunieciu pokrywy opu¬ sci sie podgrzany walec / w poblize kra¬ wedzi rynny 2 albo tez rynne wraz ze skrzynka 10 np. za pomoca srub nastaw- czych 12 lub innego odpowiedniego urza¬ dzenia podniesie sie ku walcowi, to sub¬ stancja znajdujaca sie w rynnie 2 zetknie sie z walcem. Gdy nastepnie walec zacznie obracac sie powoli, to bedzie on pobieral substancje z rynny 2 i pokrywal sie nia — 5 —calkowicie równomiernie, podczas gdy z nie przedstawionego na rysunku zbiornika za¬ pasowego do zbiornika wyrównawczego 5 bedzie stale doplywala odpowiednia ilosc tej substancji. Gdy w ten sposób caly wa¬ lec zostanie pokryty równomiernie, podno¬ si sie go lub tez opuszcza skrzynka 10 wraz z rynna. Stosownie do zyczenia mozna o- czywiscie obracac walec raz jeden lub tez kilkakrotnie. Przy zastosowaniu substan¬ cji, schnacej szybko pod dzialaniem ciepla walca, calkowite Wyschniecie nastepuje juz przed wysunieciem sie powleczonej czesci walca ponad scianke ochronna 21.Szybkosc obrotowa walca zalezy z jed¬ nej strony od lepkosci stosowanej substan¬ cji, a z drugiej strony od szybkosci wysy¬ chania i podobnych okolicznosci. Zamiast substancji swiatloczulej do powlekania walca mozna oczywiscie zastosowac takze i inne dowolne ciecze, np. roztwory lakieru, stosowane miedzy innymi takze i do celów fotograficznych. Urzadzenie wedlug wyna¬ lazku umozliwia powlekanie walców o do¬ wolnie duzej srednicy, bez potrzeby zasad¬ niczej zmiany urzadzenia. Mozna równiez stosowac oczywiscie takze i walce o mniej¬ szej dlugosci niz dlugosc rynny urzadzenia.Przy powlekaniu plyt i walców meta¬ lowych nalezy zwrócic szczególna uwage na wytworzenie warstwy calkowicie wolnej od pylu. W tym celu wedlug wynalazku oslona urzadzenia odsrodkowego, stosowa¬ nego do powlekania plyt, wzglednie oslo¬ na powlekanego walca metalowego jesU po¬ laczona z urzadzeniem do przetlaczania i zasysania czystego powietrza, które przed wejsciem do oslony przeprowadza sie przez odpowiedni filtr. Sama oslona musi byc poza tym oczywiscie szczelna. W ten spo¬ sób osiaga sie, ze zadne czastki pylu nie stykaja sie z urzadzeniem odsrodkowym, dzwigajacym plyty powlekane, wzglednie z powlekanym walcem i te czastki w ogóle nie moga sie przedostac do wnetrza oslo¬ ny* W razie zyczenia w takiej zamknietej oslonie mozna takze umiescic wspólnie dwa lub wieksza liczbe urzadzen odsrodkowych lub walców.Przed uruchomieniem urzadzenia nale¬ zy zassac lub wtloczyc do wnetrza urza¬ dzenia czyste wzglednie oczyszczone po¬ wietrze, uprzednio w razie zyczenia pod¬ grzane. Ma to mianowicie znaczenie pod¬ czas suszenia warstwy swiatloczulej na plytach lub walcach. Nie jest zatem ko¬ nieczne przepuszczanie przez oslone o- grzanego powietrza juz od poczatku poste¬ powania, lecz ogrzewanie to mozna w razie zyczenia zaczac dopiero po pewnym cza¬ sie. Zamiast przepuszczania przez oslone uprzednio podgrzanego powietrza mozna ja takze oczywiscie podgrzewac w calosci, np. za pomoca otaczajacego ja plaszcza grzejnego lub podobnego urzadzenia; prze¬ puszczanie ogrzanego powietrza jest jed¬ nak prostsze i dogodniejsze. Zamiast prze¬ puszczac przez oslone powietrze oczyszczo¬ ne mozna oczywiscie w razie zyczenia sto¬ sowac takze i inne czyste gazy obojetne, jak azot lub podobne gazy.Na fig. 3 i 4 przedstawiona jest odmia¬ na urzadzenia, sluzaca do powlekania plyt, przy czym fig. 3 przedstawia schematycznie widok z boku i czesciowy przekrój urza¬ dzenia przy otwartej pokrywie, a fig. 4 — widok z boku samej pokrywy.Skrzynka lub oslona a jest ze wszyst¬ kich stron zamknieta szczelnie na powie¬ trze i (korzystnie) uksztaltowana cylin¬ drycznie. Pokrywa 6 oslony jest celowo dosyc ciezka i posiada brzegi zaokraglone ku górze (fig. 4). Do skrzynki przymoco¬ wany jest pierscien uszczelniajacy c z gu¬ my lub podobnego materialu, który sluzy jako uszczelnienie. Zasadnicze znaczenie posiada tu okolicznosc, aby powierzchnie zetkniecia zarówno skrzynki a, jak i po¬ krywy b, byly calkowicie gladkie, co moz¬ na osiagnac przy stosowaniu materialów takich, jak zywica sztuczna, aluminium — 6 —lub podobny metal nierdzewiejacy, stopy metali i podobne materialy/ Na gladkiej dolnej powierzchni pokry¬ wy b umieszczone sa rury grzejne d lub podobne urzadzenia pokrywajace po¬ wierzchnie wycinka kolowego, co jest uwi¬ docznione na fig. 3; w ten sposób wszyst¬ kie czesci plyty powlekanej e zostaja ogrza¬ ne równomiernie. Te rury grzejne sa celo¬ wo zamkniete ze wszystkich stron i posia¬ daja równiez calkowicie gladka po¬ wierzchnie. Ogrzewanie moze byc jednak takze uskuteczniane w dowolny inny spo¬ sób, np. za pomoca elektrycznosci; zasadni¬ cze znaczenie ma zawsze tylko ta okolicz¬ nosc, aby przez urzadzenie grzejne nie mo¬ gly sie dostac do oslony zadne czastki py¬ lu i zanieczyszczen i urzadzenie to bylo takze umieszczone tak, by mozliwie wyklu¬ czone bylo osadzanie sie na nim czastek pylu i zanieczyszczen.Podklad / plyty powlekanej jest wyko¬ nany równiez z materialu calkowicie glad¬ kiego, np. z zywicy sztucznej, aluminium lub podobnego materialu, a w celu zapobie¬ zenia szkodliwym wirom powietrznym podklad ten posiada postac talerza. Pod¬ klad ten nie jest wiekszy niz plyta powle¬ kana, a to w celu zapobiezenia osadzaniu sie na jego krawedziach starej substancji zeschnietej. Do powlekania szczególnie du¬ zych plyt, do których dany podklad / jest zbyt maly, na podkladzie tym mozna umo¬ cowac wieksza stosunkowo cienka, mocna i czysta plyte g, np. plyte ze stali, aby uzy¬ skac w ten sposób dostatecznie duza pla¬ ska powierzchnie tworzaca podloze plyty powlekanej. Wielkosc podkladu / nalezy celowo dobrac odpowiednio do wielkosci skrzynki a tak, by krawedz h podkladu / znajdowala sie w dostatecznej odleglosci od zewnetrznej powierzchni oslony a. W ten sposób osiaga sie, ze na, wewnetrzna po¬ wierzchnie oslony nie dostaje sie wcale substancja powlekajaca, odrzucona sila odsrodkowa. W celu osiagniecia tego sa¬ mego wyniku nalezy uwazac, by Szybkosc ruchu urzadzenia obrotowego me byla zbyl duza.Wal r przechodzi przez dno skrzynki lub oslony a i jest w miejscu przechodze¬ nia zaopatrzony w nie przedstawione na rysunku uszczelnienie w celu zapobiezenia przedostawaniu sie w tym miejscu do oslo- ny czastek kurzu lub podobnych zanieczy¬ szczen. W tym celu mozna np. umiescic kil¬ ka krazków, polozonych jeden; na drugim, lub tez dlawnice, gdyz zwykle lozysko kul¬ kowe nie wystarcza do tego celu.Czesc dolna oslony a jest wypelniona woda lub inna odpowiednia ciecza k. Ciecz ta sluzy z; jednej strony do chwytania i za¬ trzymywania czastek pylu i zanieczysz¬ czen, ewentualnie osadzajacych sie jesz¬ cze w oslonie, oraz do chwytania substancji powlekajacej, odrzuconej dzialaniem sily odsrodkowej przez plyte e, co jest zazna¬ czone na fig. 3 liniami przerywanymi, za¬ opatrzonymi w strzalki.W sciance zewnetrznej / oslony a znaj¬ duje sie wylot rury / doprowadzajacej po¬ wietrze; za pomoca rury tej powietrze fil¬ trowane jest tloczone z wnetrza oslony m do skrzynki a. Jako masa filtrujaca moga byc celowo zastosowane pierscienie Raschi- ga, zwilzone olejem lub podobna ciecza i umieszczone w leju n. Za pomoca odpo¬ wiedniego urzadzenia, np. oddzielacza ole¬ ju o, zapewnia sie przy tym, ze olej nie zo¬ staje porwany z masy filtrujacej do wne¬ trza oslony a. Zamiast tego mozna jednak takze przetlaczac oczyszczane powietrze przez zbiornik z woda. We wnetrzu oslony a nad wylotem rury / umieszczona jest bla¬ cha kierownicza p, zapobiegajaca tworze¬ niu sie wirów powietrznych we wnetrzu o- slony, przy czym powietrze przeplywa na sredniej wysokosci przy sciankach we¬ wnetrznych oslony a.W odpowiednich miejscach oslony a przewidziane sa male otworki, nie przed¬ stawione na rysunku; przez otworki te po-wietrze moze wyplywac z powrotem. Za¬ brane zostaja przy tym takze ewentualne czastki pylu i zanieczyszczen, znajdujace sie poczatkowo we wnetrzu oslony. Z dru¬ giej strony wychodzace powietrze zapo¬ biega przedostawaniu sie czastek kurzu przez te otworki do skrzynki. W razie zy¬ czenia . mozna ponadto zaopatrzyc te o- tworki wylotowe w zaworki zwrotne, u- mozliwiajace tylko wychodzenie powietrza, a zapobiegajace jego wchodzeniu do wne¬ trza oslony.Wi celu calkowitego zabezpieczenia przed zanieczyszczeniami skrzynke przed powlekaniem plyt oczyszcza sie specjalnie przez wyplukanie woda filtrowana, a na¬ stepnie przez przedmuchanie powietrzem filtrowanym. Wode filtrowana wprowadza sie przez jeden lub kilka nie przedstawio¬ nych na rysunku, zamykanych rurek lub otworów wykonanych w pokrywie b oslo¬ ny. Przez te same dajace sie zamykac rur¬ ki lub otwory mozna wprowadzac takze i substancje powlekajaca.Powlekanie plyt w tym urzadzeniu u- skutecznia sie w ten sposób, ze po wlozeniu plyty oslone najpierw zamyka sie i oczysz¬ cza przez przedmuchanie powietrzem fil¬ trowanym, nastepnie przez znajdujace sie w pokrywie i dajace sie zamykac rurki lub podobne narzady, które mozna wsadzac w otwory q pokrywy oslony, doprowadza sie na plyte najpierw wode w celu splukania ewentualnych czastek pylu lub zanieczysz¬ czen, a nastepnie—substancje powlekajaca.Urzadzenie, przedstawione w przekro¬ ju na fig. 5, rózni sie od urzadzenia wedlug fig. 3 i 4 zasadniczo tym, ze wtloczone lub wessane powietrze w celu zapewnienia cal¬ kowitego usuniecia pylu zostaje najpierw przeprowadzone przez wode, znajdujaca sie w dolnej czesci oslony, a nastepnie przeplywa przez wolna przestrzen oslony.W tym celu urzadzenie jest korzystnie wy¬ konane tak, ze przez rure, umieszczona przy dnie, powietrze zostaje doprowadzo¬ ne pod pokrywe, umieszczona, nad po¬ wierzchnia wody, przy czym boczne scianki tej pokrywy siegaja pod powierzchnie wo¬ dy tak, ze powietrze moze wejsc do wol¬ nej przestrzeni oslony dopiero po przej¬ sciu przez wode. W ten sposób powietrze zostaje z calkowita pewnoscia uwolnione od najdrobniejszych czastek kurzu, które mogly byc jeszcze ewentualnie w nim za¬ warte.Przez dno oslony a wprowadzona jest do wnetrza oslony rura s, sluzaca do wdmuchiwania powietrza. Rura ta konczy sie nad powierzchnia wody k. Powyzej wy^ lotu rury s umieszczona jest pokrywa v, której; brzegi, jak to| jest widoczne z rysun¬ ku, siegaja pod powierzchnie wody. Pokry¬ wa v jest przymocowana do pokrywy w z otworami, osadzonej na dnie l skrzynki a.Powietrze przechodzi przez rure s od dolu w kierunku strzalek pod pokrywe v, po czym zostaje przetloczone przez wode k i przez otworki w pokrywy u dostaje sie do wnetrza skrzynki a. Przy tym przejsciu przez wode powietrze zostaje oczywiscie calkowicie pozbawione pylu. Takze i w tym przypadku powietrze moze wychodzic z o- slony przez nie przedstawione na rysunku otworki, ewentualnie zaopatrzone w zawor¬ ki zwrotne; otworki te moga byc wykonane celowo w pokrywie b oslony.Oczywiscie rura do wprowadzania po¬ wietrza oraz jej pokrywa moga byc umie¬ szczone takze i w innym miejscu dna o- slony, a pokrywa v moze byc zamocowana inaczej niz za pomoca pokrywy u z otwor¬ kami, np. za pomoca pretów lub palaków, nasadzonych na koniec rury s i utrzymu¬ jacych pokrywe v w pewnym odstepie nad ta rura. Urzadzenie do przepuszczania po¬ wietrza przez wode moze byc wykonane nie tylko w sposób opisany powyzej, ale np. tak, ze rure do wprowadzania powie¬ trza wygina sie wezykowato lub kilkakrot¬ nie i umieszcza tak, by[ koniec rury znajdo¬ wal sie pod powierzchnia wody. — 8 — PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe. 1. Sposób równomiernego powlekania podkladów drukarskich (walców metalo¬ wych i plyt), sluzacych do fotomechanicz- f nego wytwarzania form drukarskich, swia¬ tloczula warstwa koloidalna, znamienny tym, ze temperature podkladu drukarskie- fr go podczas powlekania utrzymuje sie w scislej zaleznosci od temperatury swiatlo¬ czulej substancji koloidalnej, a szybkosc obrotu powlekanego podkladu drukarskie¬ go dostosowuje sie odpowiednio do lepko¬ sci substancji koloidalnej. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze przed naprowadzaniem substancji koloidalnej walec doprowadza sie do tem¬ peratury substancji koloidalnej. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, zna¬ mienny tym, ze podgrzany uprzednio wa¬ lec, osadzony poziomo podczas powleka¬ nia, obraca sia podczas powlekania tak wolno, ze jeden obrót trwa kilka minut. 4. Sposób wedlug zastrz, 1 lub 3, zna¬ mienny tym, ze jeden obrót trwa okolo 5 minut. 5. Sposób wedlug zastrz. 1 — 4, zna¬ mienny tym, ze oddzielanie od siebie sub¬ stancji i walca uskutecznia sie przez wyle¬ wanie substancji ze zbiornika sluzacego do powlekania podczas obracania nieco po¬ chylo osadzonego walca. 6. Sposób wedlug zastrz. 1 — 5, zna¬ mienny tym, ze podczas oddzielania od siebie substancji i walca walec ten wzgled¬ nie znajdujaca sie na nim warstwe koloi¬ dalna posrednio lub bezposrednio ogrzewa sie w celu suszenia. 7. Sposób wedlug zastrz. 6, znamien¬ ny tym, ze podczas powlekania walec o- grzewa sie tak silnie, aby substancja koloi¬ dalna natychmiast na nim zasychala, przez co zapobiega sie splywaniu substancji z czesci walca, wynurzajacej sie z tej sub¬ stancji przy obrocie, oraz przyklejaniu sie pylu do tej czesci walca. 8. Sposób wedlug zastrz, 1 — 7 w za¬ stosowaniu do powlekania plyt na zasadzie dzialania sily odsrodkowej, znamienny tym, ze przed powlekaniem oslone oczysz¬ cza sie przez przeplukanie filtrowana wo¬ da i filtrowanym- powietrzem. 9. Sposób wedlug zastrz, 8, znamien¬ ny tym, ze obiera sie taka szybkosc obrotu urzadzenia pracujacego na zasadzie sily odsrodkowej, aby substancja powlekajaca nie padala na wewnetrzna scianke oslony. 10. Sposób wedlug zastrz. 8 i 9, zna¬ mienny tym, ze do wnetrza oslony wprowa¬ dza sie powietrze w stanie ogrzanym. 11. Urzadzenie do wykonywania spo¬ sobu] wedlug zastrz. 1 — 7, znamienne tym, ze powlekany walec, zaopatrzony w urza¬ dzenie napedowe, jest osadzony poziomo nad otwartym zbiornikiem, mogacym byc napelnionym ogrzana woda lub podobna ciecza, wj której moze plywac miska lub in¬ ne naczynie, zawierajace substancje sluza¬ ca do powlekania, przy czym naczynie przez wlanie wody lub podobnej cieczy do zbiornika zewnetrznego zostaje podniesio¬ ne, az do zetkniecia sie substancji powleka¬ jacej, znajdujacej siew naczyniu, z obraca¬ jacym sie walcem, a przez wylanie tej wo¬ dy lub podobnej cieczy — oddalone od te¬ go walca. 12. Urzadzenie do wykonywania spo¬ sobu wedlug zastrz. 1 — 7, znamienne tym* ze pod powlekanym obracajacym sie wal¬ cem, umieszczonym poziomo, tak umiesz¬ czona jest rynna, zawierajaca substancje do powlekania, ze walec styka sie z sub¬ stancja do powlekania bez zanurzania sie do tej rynny, przy czym walec pobiera substancje z tej rynny podczas swego obra¬ cania sie. 13. Urzadzenie wedlug zastrz. lii 12, znamienne tym, ze walec jest osadzony na¬ stawnie tak, ze podczas oddzielania od siebie substancji koloidalnej i walca, os te¬ go walca moze przyjmowac polozenie po¬ chyle. — 914. Odmiana urzadzenia wedlug zastrz. 13, znamienna tym, ze os walca po¬ siada stale polozenie pochyle, które maj po¬ siadac podczas oddzielania walca od sub¬ stancji powlekajacej. 15. Urzadzenie wedlug zastrz. 11 — 14, znamienne tym, ze naczynie, zawiera¬ jace substancje sluzaca do powlekania, ma postac rynny o szerokosci malej w stosun¬ ku do srednicy walca. 16. Urzadzenie wedlug zastrz. 15, zna¬ mienne tym,: ze rynna sluzaca do powleka¬ nia jest polaczona ze zbiornikiem wyrów¬ nawczym, który za pomoca jednej lub kil¬ ku rur przelewowych stale utrzymuje ryn¬ ne w stanie napelnienia az do jej górnej krawedzi. 17. Urzadzenie wedlug zastrz. 15 i 16, znamienne tym, ze górne czesci scianek bocznych rynny sa sciete ukosnie ku do¬ lowi. 18. Urzadzenie wedlug zastrz. 11 — 17, znamienne tym, ze przed rynna do po¬ wlekania umieszczono jedna lub kilka wy¬ cieraczek przylegajacych do walca spre¬ zynujaco. 19. Odmiana urzadzenia wedlug zastrz. 11 — 18, w zastosowaniu do po¬ wlekania plyt na zasadzie dzialania sily odsrodkowej, znamienna tym, ze oslona urzadzenia, pracujacego na zasadzie dzia¬ lania] sily odsrodkowej, jest polaczona z u- rzadzeniem do przetlaczania lub zasysania czystego powietrza i jest szczelna na pyl. 20. Urzadzenie wedlug zastrz. 19, zna¬ mienne tym, ze przed lub przy miejscu wlotu powietrza do oslony wlaczony jest filtr, zatrzymujacy pyl i podobne zanieczy¬ szczenia. 21. Urzadzenie wedlug zastrz. 19, zna¬ mienne tym, ze przy danej szybkosci obro¬ towej podkladu plyt, okreslonej lepkoscia substancji naprowadzanej, odstep tego podkladu od scianki wewnetrznej oslony jest obrany tak, ze przy wirowaniu ciecz wcale nie jest odrzucana na scianke we¬ wnetrzna oslony. 22. Urzadzenie wedlug zastrz. 19 i 20, znamienne tym, ze w dolnej czesci oslony znajduje sie woda lub inna ciecz odpowied¬ nia do zatrzymywania czastek pylu i zanie¬ czyszczen, przy czym powietrze, sluzace do oczyszczania oslony, przed wejsciem do oslony jest przetlaczane przez wode znaj¬ dujaca sie w dolnej czesci oslony. 23. Urzadzenie wedlug zastrz. 19 i 20, znamienne tym, ze do wewnetrznej scianki oslony przymocowana jest blacha kierowni¬ cza prowadzaca przefiltrowane powietrze wzdluz scianki oslony. 24. Urzadzenie wedlug zastrz. 19, zna¬ mienne tym, ze oslona jest zaopatrzona w male otworki, dajace sie zamykac zawor- kami zwrotnymi i umozliwiajace wyplyw wtloczonego powietrza i ewentualnie po¬ rwanych nim czastek pylu i zanieczyszczen. 25. Urzadzenie wedlug zastrz. 19, zna¬ mienne tym, ze jest zaopatrzone w za¬ mkniete ze wszystkich stron grzejniki, np. rury grzejne, umieszczone po wewnetrznej stronie pokrywy oslony i ulozone tak, ze pokrywaja pole wycinka kolowego. 26. Urzadzenie wedlug zastrz. 19 — 25, znamienne tym, ze w dnie oslony) umie¬ szczona jest rura doprowadzajaca powie¬ trze, a nad nia umieszczona jest pokrywa przymocowana do dna oslony, przy czym boczne brzegi tej pokrywy siegaja pod po¬ wierzchnie wody tak, ze powietrze dopiero po przejsciu przez wode moze wejsc do wolnej przestrzeni oslony. Dr. Bekk & Kaulen Chemische F a b r i k G. m. b. H. Zastepca: Inz. M. Brokman, rzecznik patentowy.Do opisu patentowego Nr 28016. Ark. 1. FigJ. Ficj.2- \Y/s///77/jfrrl\;s/;;///;/////;s//s///////s/s/s////////s///s/s////s/s \/sss/s/ss/-rr77[ ;//////////s///js/;//;js//j;s;s;;s;sjs;/s;;/s;;js;s j/A Jf* 'ZZZZZZZZZZZZZ X l&\ i ¦±A ±0 ^0 IDo opisu patentowego Nr 28016. Ark.

2. aA CtA Druk L. Boguslawskiego i Ski, Warszawa. PL