Wynalazek dotyczy przedmiotów z gli¬ nu lub jego stopów o powierzchniach ze¬ wnetrznych, odbijajacych swiatlo, wyposa¬ zonych w wytwarzana sztucznie przezroczy¬ sta powloke ochronna.Czyniono juz liczne próby wytwarzania na przedmiotach z glinu trwalych i odbija* jacych swiatlo powierzchni przez pokrywa- niet ich ochronnymi powlokami tlenkowy¬ mi odpornymi na nagryzanie wskutek dzia¬ lania czynników atmosferycznych lub in¬ nych, dzialajacych szkodliwie na tego ro¬ dzaju powierzchnie.Pomimo jednak wielu zalet, jakie po¬ siadaja te powierzchnie, odbijajace swiatlo, maja one plamy jasniejsze lub ciemniejsze, pasma albo linie, niewidoczne zwykle na powierzchni metalu, a wystepujace jednak po utworzeniu na nich powloki tlenkowej.Powstawanie tych plam lub pasm jest wy¬ wolane obróbka mechaniczna, zastosowana przy wytwarzaniu danego przedmiotu.Tak wiec, na przyklad, przy wytwarza¬ niu przez tak zwane drykowanie reflekto¬ rów w ksztalcie dzwonów lub pólkul na po¬ wierzchni, która ma odbijac swiatlo, moga wystepowac po wyposazeniu jej w powloke tlenkowa tak zwane linie ciagnienia w po-staci wspólsródkówych pasemek jasniej¬ szych lub ciemniejszych, slabiej odbijaja¬ cych swiatlo.Na plaskiej powierzchni przedmiotu, od¬ bijajacej swiatlo, po wyposazeniu jej w po^ wlóke tlenkowa moga byc zupelnie wyraz¬ nie widoczne linie, wskazujace bezposred¬ nio czynnosci fabrykacyjne, za pomoca któ¬ rych przedmiot zostal wykonany. Powloka tlenkowa, utworzona na powierzchni odbi¬ jajacej swiatlo, jest poza tym czesto metna lub zaledwie przeswiecajaca a nie przezro-* czysta, niekiedy moze byc nawet zabar¬ wiona.Wady te zmniejszaja znacznie zdolnosc odbijania swiatla powierzchni, znajduja¬ cych sie na przedmiotach z glinu i pokry¬ tych powlokami tlenkowymi.Przedmiotem wynalazku jest wytwarza¬ nie na przedmiotach z glinu lub stopu gli¬ nu dobrze odbijajacych swiatlo powierzch¬ ni, powleczonych powloka tlenkowa i zu¬ pelnie jednorodnych i jasnych, pozbawio¬ nych pasm jasniejszych lub ciemniejszych oraz plam, a poza tym jasnych, bezbarw¬ nych i przezroczystych.Wynalazek oparty jest na spostrzezeniu, ze powierzchnia odbijajaca swiatlo na przedmiocie, wykonanym z wielowarstwo¬ wej bryly, skladajacej sie z metalowej pod¬ stawowej warstwy, utworzonej. z glinu lub stopu glinowego, oraz warstwy zewnetrz¬ nej, utworzonej z glinu lub stopu glinowe¬ go* nie wykazuje wymienionych wyzej plam, jezeli jest utworzona w sposób, przy którym zachodzi zmniejszenie grubosci warstwy zewnetrznej z glinu lub stopu gli¬ nu co najmniej o 99,5%, a po czym dopie¬ ro zastosowana jest obróbka chemiczna dla wytworzenia na tej powierzchni powloki tlenkowej.Ponadto wynalazek jest oparty jeszcze na innym spostrzezeniu. Spostrzezenie to polega na tym, ze na powierzchni przedmio¬ tu, którego warstwa1 zewnetrzna jest utwo¬ rzona z bardzo czystego glinu lub stopu gli¬ nowego o bardzo duzej zawartosci glinii, moze byc wytworzona bezbarwna przezro¬ czysta tlenkowa powloka, która nie zmniej¬ sza w znaczniejszym stopniu zdolnosci tej powierzchni'do odbijania swiatla.A wiec wedtug wynalazku mozna w opi¬ sany powyzej sposób wytworzyc z glinu lub stopu glinowego przedmiot metalowy, zlo¬ zony z kilku warstw, którego warstwa ze¬ wnetrzna jest pokryta trwala powloka tlen¬ kowa. Ta zewnetrzna warstwa przedmiotu odbija równomiernie swiatlo i posiada wiek¬ sza zdolnosc do jegoi odbijania, anizeli od¬ bijajace swiatlo powierzchnie, wytwarzane dotychczas na przedmiotach z glinu lub sto¬ pu glinowego, pokryte powloka tlenkowa.Bryla, sluzaca do wytwarzania przed¬ miotów z glinu lub jego stopów sposobem wedlug wynalazku, moze skladac sie z do¬ wolnej liczby warstw. Najlepiej jednak jest stosowac bryly, utworzone z jednej dosc grubej warstwy podstawowej, która jest po¬ kryta dosyc cienka warstwa glinu lub sto¬ pu glinowego. Ta warstwa podstawowa mo¬ ze byc równiez utworzona z glinu lub sto¬ pu glinowego i polaczona na zimno lub na goraco, np. przez walcowanie lub drykowa- nie z arkuszami (blachami) warstwy ze¬ wnetrznej równiez z glinu lub stopu glino¬ wego o pozadanych wlasciwosciach.Przy przeksztalcaniu takiej zlozonej bryly metalowej na przedmiot pozadanego ksztaltu moze byc stosowana dowolna ob¬ róbka.Jest rzecza bardzo wazna, aby laczna grubosc wszystkich warstw bryly wielowar¬ stwowej zostala zmniejszona co najmniej o 85% przez obróbke tej bryly, np. przez wal¬ cowanie. W celu wytworzenia zadowalaja¬ cej powierzchni nalezy pierwotna grubosc zewnetrznej warstwy glinowej zmniej szyc co najmniej o 99,5%, a najlepiej o 99,9%.Nalezy zaznaczyc, ze stopien, w jakim zmniejsza sie grubosc wielowarstwowego przedmiotu, wykonanego z glinu lub jego stopu, zalezy od sposobu wytwarzania tego - 2 -przedmiotu. Jezeli bryla wielowarstwowa zostala wykonana przez oblanie warstwy wewnetrznej metalem warstwy zewnetrz¬ nej, to zmniejszenie grubosci przy obróbce bedzie z koniecznosci wieksze, niz w przy¬ padku stloczenia metalu warstwy zewnetrz¬ nej, uzytego w postaci arkusza z metalem warstwy wewnetrznej równiez w postaci arkusza lub sztabki. Okolicznosc powyzsza jest wywolana tym, ze metal warstwy ze¬ wnetrznej zostal juz poprzednio obrobiony w pewnym stopniu przy walcowaniu bla¬ chy.Jak juz wspomniano^ powyzej, aby po¬ wloka tlenkowa, wytwarzana na majacych odbijac swiatlo powierzchniach, byla czy¬ sta, przezroczysta i bezbarwna, warstwa ze¬ wnetrzna bryly wielowarstwowej powinna byc utworzona z bardzo czystego glinu o zawartosci do 99,7% glinu lub pewnych sto¬ pów glinu, zawierajacych w przyblizeniu takiz odsetek czystego glinu. Powierzchnie przedmiotów, wykonanych z takiej bryly, posiadaja trwala powloke i znaczna zdol¬ nosc odbijania swiatla. Zewnetrzna po¬ wierzchnia przedmiotu ze stopów glinu, zblizajacych sie swym skladem do czyste¬ go glinu, a zawierajacych nieznaczne ilosci innych skladników (0,1 do 0,3%), nie wply¬ wa na rodzaj otrzymywanej powloki tlen¬ kowej. Wieksze natomiast ilosci tych sklad¬ ników, zwlaszcza takich pierwiastków, jak krzem, zelazo, mangan, miedz moga wywo¬ lac zmetnienie lub zabarwienie powlok tlen¬ kowych. Niektóre pierwastki, jak np. ma¬ gnez i cynk, znajdujace sie w stopach gli¬ nowych, nie wplywaja szkodliwie na po¬ wloke tlenkowa.Zewnetrzne powierzchnie odbijajace swiatlo, znajdujace sie na przedmiotach wytwarzanych sposobem wedlug wynalazku moga byc dowolnego rodzaju i moga byc wytwarzane w dowolny znany sposób.Polerowanie uskutecznia sie za pomoca walców polerujacych z dokladnie wypole¬ rowana powierzchnia robocza. W prze¬ rwach pomiedzy dwoma kolejnymi prze¬ biegami przepuszczania obrabianego mate¬ rialu przez walce material poddaje sie lek¬ kiemu nagryzaniu w celu usuniecia zanie¬ czyszczen. Przy tym sposobie wytwarzania powierzchni zwierciadlanych otrzymuje sie szczególnie dobre powierzchnie. Dobre po¬ wierzchnie zwierciadlane mozna równiez o- trzymac i przez wygladzanie, lecz w tym przypadku dla nadania tym powierzchniom polysku nalezy jeszcze na nich wytworzyc powloke tlenkowa, która zostaje utworzona za pomoca elektrolizy przez umieszczenie przedmiotu obrabianego na anodzie w elek¬ trolicie, zawierajacym sól fluoroborowa.Zupelnie dobre powierzchnie, odbijajace swiatlo rozproszone, moga byc równiez o- trzymane przez wytrawianie chemiczne.Mozna równiez uzyc innych znanych elek¬ trolitów, np. kwasu siarkowego lub miesza¬ niny kwasu siarkowego z kwasem szczawio¬ wym. W tym ostatnim przypadku przy u- tlenianiu obrabianej powierzchni, uzytej ja¬ ko anody w kwasie siarkowym, mozna wy¬ tworzyc dosc grube powloki czyste i bez¬ barwne, co jest bardzo pozadane, zwlaszcza jezeli chodzi o osiagniecie trwalej po¬ wierzchni, odbijajacej swiatlo, przy mini¬ malnym zmniejszeniu jej zdolnosci do od¬ bijania swiatla.Dla otrzymania dobrej tlenkowej po¬ wloki ochronnej, która posiadalaby dosc znaczna grubosc i byla bezbarwna i prze¬ zroczysta, nalezy uzyc jako elektrolitu 15% roztworu kwasu siarkowego, przy czym przepuszcza sie w ciagu 10 minut prad o ge¬ stosci wynoszacej okolo 2 A na cm2 po¬ wierzchni anody przy temperaturze elektro¬ litu okolo 21°C.Na fig. 1, 2 i 3 rysunku uwidoczniony jest tytulem przykladu przedmiot wedlug wynalazku w trzech okresach jego wytwa¬ rzania. Fig. 1 przedstawia zlozona bryle metalowa w postaci arkusza, skladajaca sie z dosc grubej warstwy podstawowej / oraz z cienkiej warstwy zewnetrznej 2 z glinu - 3 —ft&*tóffci tlfoktt. Na fig; 2 tiwi&K^foity jest t^tt safti pffcednri^t f** zn^ief$&4tiki jego grdbfcgd pr&ez obróbka i ptzed wytworze¬ niem tlenkowej {zwloki oclyonfte*) na jego ptflnerzchm, przedstawia gotowy fitz pratedaEfert, wyko¬ nany iretJltf| wyaaitóku z dosc grubej fwd- SlawoweJ warstwy ftalowej /, ze stostur- fco^ó efeskiej met&tof ztewft$tfziie$ 2, wy- fe&ft&fecf z gfóifti lt& stopu fliftu i xaapattf»- uej w powierzctiia^ adfeifajaea swiatlo, przy t&yfti grubosc tej creftataiej warstwy »ostal* ztomefsztótoii oo nafiitóiej o 99vS'5Ky *k*z * b€z*«arwne) ^tze^oczystei powloki tlen¬ kowej 3, wolnej od wszelkiego rodzaju fr- ^iiit si»ttf; p&tm ^raz pkm. PL