PL235831B1 - Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne - Google Patents

Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne Download PDF

Info

Publication number
PL235831B1
PL235831B1 PL397977A PL39797712A PL235831B1 PL 235831 B1 PL235831 B1 PL 235831B1 PL 397977 A PL397977 A PL 397977A PL 39797712 A PL39797712 A PL 39797712A PL 235831 B1 PL235831 B1 PL 235831B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
target
textile
layer
electromagnetic
base
Prior art date
Application number
PL397977A
Other languages
English (en)
Other versions
PL397977A1 (pl
Inventor
Joanna Koprowska
Janusz KUSIAKIEWICZ
Janusz Kusiakiewicz
Arkadiusz SZWUGIER
Arkadiusz Szwugier
Grzegorz JEGIER
Grzegorz Jegier
Jan ZIAJA
Jan Ziaja
Original Assignee
Inst Wlokiennictwa
Politechnika Wroclawska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Wlokiennictwa, Politechnika Wroclawska filed Critical Inst Wlokiennictwa
Priority to PL397977A priority Critical patent/PL235831B1/pl
Priority to PCT/PL2013/000006 priority patent/WO2013115660A2/en
Priority to EP13707057.9A priority patent/EP2809841B1/en
Publication of PL397977A1 publication Critical patent/PL397977A1/pl
Publication of PL235831B1 publication Critical patent/PL235831B1/pl

Links

Classifications

    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06MTREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M11/00Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with inorganic substances or complexes thereof; Such treatment combined with mechanical treatment, e.g. mercerising
    • D06M11/83Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with inorganic substances or complexes thereof; Such treatment combined with mechanical treatment, e.g. mercerising with metals; with metal-generating compounds, e.g. metal carbonyls; Reduction of metal compounds on textiles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036Reactive sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/20Metallic material, boron or silicon on organic substrates
    • C23C14/205Metallic material, boron or silicon on organic substrates by cathodic sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3485Sputtering using pulsed power to the target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/02Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
    • C23C28/021Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material including at least one metal alloy layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/02Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
    • C23C28/023Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/02Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
    • C23C28/023Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material only coatings of metal elements only
    • C23C28/025Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material only coatings of metal elements only with at least one zinc-based layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • C23C28/3225Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only with at least one zinc-based layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • C23C28/3455Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer with a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxide, ZrO2, rare earth oxides or a thermal barrier system comprising at least one refractory oxide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/42Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by the composition of the alternating layers
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06MTREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M11/00Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with inorganic substances or complexes thereof; Such treatment combined with mechanical treatment, e.g. mercerising
    • D06M11/32Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with inorganic substances or complexes thereof; Such treatment combined with mechanical treatment, e.g. mercerising with oxygen, ozone, ozonides, oxides, hydroxides or percompounds; Salts derived from anions with an amphoteric element-oxygen bond
    • D06M11/36Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with inorganic substances or complexes thereof; Such treatment combined with mechanical treatment, e.g. mercerising with oxygen, ozone, ozonides, oxides, hydroxides or percompounds; Salts derived from anions with an amphoteric element-oxygen bond with oxides, hydroxides or mixed oxides; with salts derived from anions with an amphoteric element-oxygen bond
    • D06M11/44Oxides or hydroxides of elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table; Zincates; Cadmates
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06MTREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M11/00Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with inorganic substances or complexes thereof; Such treatment combined with mechanical treatment, e.g. mercerising
    • D06M11/32Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with inorganic substances or complexes thereof; Such treatment combined with mechanical treatment, e.g. mercerising with oxygen, ozone, ozonides, oxides, hydroxides or percompounds; Salts derived from anions with an amphoteric element-oxygen bond
    • D06M11/36Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with inorganic substances or complexes thereof; Such treatment combined with mechanical treatment, e.g. mercerising with oxygen, ozone, ozonides, oxides, hydroxides or percompounds; Salts derived from anions with an amphoteric element-oxygen bond with oxides, hydroxides or mixed oxides; with salts derived from anions with an amphoteric element-oxygen bond
    • D06M11/46Oxides or hydroxides of elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table; Titanates; Zirconates; Stannates; Plumbates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761Continuous moving
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405Magnetron sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3464Operating strategies
    • H01J37/3467Pulsed operation, e.g. HIPIMS
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073Shielding materials
    • H05K9/0081Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding
    • H05K9/0088Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding comprising a plurality of shielding layers; combining different shielding material structure

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)

Abstract

Przedmiotem wynalazku jest wyrób włókienniczy, tłumiący pole elektromagnetyczne poprzez pokrywanie wyrobów włókienniczych powłokami nanoszonymi metodą rozpylania magnetronowego, które to wyroby włókiennicze przeznaczone są do stosowania jako ekrany elektromagnetyczne, w szczególności w szpitalach, w budynkach biurowych, mieszkalnych i w laboratoriach i które mogą znaleźć zastosowanie do wytwarzania tapet, kotar albo zasłon i rolet. Wyrób włókienniczy ma na podłoże (P) naniesioną powłokę, zawierającą co najmniej jedną warstwę (W1, W2, W3, W4) metalu i/lub co najmniej jedną warstwę (W1, W2, W3, W4) tlenku metalu o grubości nie przekraczającej pojedynczych µm, przy czym warstwy (W1, W2, W3, W4) nałożone są na podłoże (P) naprzemiennie, a ilość nałożonych warstw (W1, W2, W3, W4) uwarunkowana jest współczynnikiem efektywności tłumienia pola elektromagnetycznego wyrobu włókienniczego. Przedmiotem wynalazku jest również urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego, tłumiącego pole elektromagnetyczne, mające wewnątrz komory próżniowej, nad urządzeniem transportowym zamocowanym w podstawie, umieszczoną trójwarstwową anodę, wykonaną w kształcie części powierzchni walca, umocowaną poprzez izolatory w podstawie, zamocowanej do obudowy komory. Anodą, od strony target, ma warstwę poślizgową, a pod nią warstwę konstrukcji nośnej, zaś od dołu stabilizator temperatury, do którego zamocowany jest układ chłodzenia, wykonany z zespołu rurek transportujących medium chłodzące. Nad trójwarstwową anodą zamocowane jest urządzenie magnetronowe (1) wyposażone w prostokątny target, podłączone do zasilacza (27), który połączony jest poprzez układ sterowania (26) z komputerem (25). Układ sterowania (26) połączony jest poprzez sterownik zaworu (28) z zaworem regulacyjnym (29), licznikiem długości pokrytego powłoką materiału włókienniczego (30) i jednocześnie poprzez regulator obrotów silnika (31) z silnikiem napędowym (32) napędzającym napęd rewersyjny urządzenia transportowego.

Description

Przedmiotem wynalazku jest urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne poprzez pokrywanie wyrobów włókienniczych powłokami nanoszonymi metodą rozpylania magnetronowego, które to wyroby włókiennicze przeznaczone są do stosowania jako ekrany elektromagnetyczne, w szczególności w szpitalach, w budynkach biurowych, mieszkalnych i w laboratoriach i które mogą znaleźć zastosowanie do wytwarzania tapet, kotar albo zasłon i rolet.
Sposób i urządzenie do powlekania podłoża warstwą przezroczystego tlenku metalu w procesie rozpylania magnetronowego, znane są z niemieckiego opisu patentowego nr DE102008034960. Sposób polega na tym, że powlekane podłoże przemieszczane jest urządzeniem transportowym, poprzez otwory wykonane w komorze urządzenia, przy czym na podłoże nanoszone są metodą napylania magnetronowego warstwy cyny, cynku, kadmu, galu, indu, jak również związki, w szczególności tlenki, lub mieszaniny tych materiałów. Urządzenie ma komorę wyposażoną w zawory gazowe, przy czym w dolnej części komory zamocowane jest urządzenie transportowe, a nad nim urządzenie magnetronowe wyposażone w target, podłączone do zasilacza.
Sposób wytwarzania tkanin anty-UV oraz ekranujących fale elektromagnetyczne znany jest z chińskiego opisu patentowego nr CN1970882. Sposób, polega na tym, że powlekana tkanina jest myta w detergencie, płukana w czystej wodzie, suszona i wygładzana. Następnie tkanina jest umieszczana w komorze próżniowej wyposażonej w urządzenie do magnetronowego napylania powłoki na tkaninę, którą nanosi się w temperaturze od 0 do 150°C, przy ciśnieniu od 0,4 10-2 do 100 Pa, z mocą rozpylania w zakresie od 20 do 400 W, przez 5-60 min. Materiałem nanoszonym w postaci powłoki, są metale, takie jak: aluminium, srebro, żelazo, nikiel, chrom, złoto, platyna lub magnez, ich mieszaniny oraz ich związki w szczególności tlenki i azotki.
Istota urządzenia, według wynalazku polega na tym, że wewnątrz komory próżniowej nad urządzeniem transportowym zamocowanym w podstawie, umieszczona jest trójwarstwowa anoda wykonana w kształcie części powierzchni walca, umocowana poprzez izolatory w podstawie zamocowanej do obudowy komory. Anoda od strony targetu ma warstwę poślizgową, a pod nią warstwę konstrukcji nośnej, zaś od dołu stabilizator temperatury, do którego zamocowany jest układ chłodzenia wykonany z zespołu rurek transportujących medium chłodzące. Nad trójwarstwową anodą zamocowane jest urządzenie magnetronowe wyposażone w prostokątny target, podłączone do zasilacza, który połączony jest poprzez układ sterowania z komputerem. Ponadto układ sterowania połączony jest poprzez sterownik zaworu z zaworem regulacyjnym, licznikiem długości pokrytego powłoką materiału włókienniczego i jednocześnie poprzez regulator obrotów silnika z silnikiem napędowym napędzającym napęd rewersyjny urządzenia transportowego.
Korzystnie, urządzenie transportowe ma rolki z przewijanym wyrobem włókienniczym, wyposażone w próżniowe sprzęgła elektromagnetyczne, które to rolki połączone są z rewersyjnym napędem, przy czym rolki i rewersyjny napęd zamocowane są w podstawie.
Korzystnie jest, gdy rolka osadzona jest poprzez izolator na osi napędowej, przy czym pierwszy koniec osi napędowej połączony jest z tarczą hamulca umocowaną w podstawie, za którą umieszczona jest sprężyna z regulatorem docisku hamulca, zaś drugi koniec osi napędowej poprzez sprzęgła elektromagnetyczne połączony jest z kołem napędowym, przy czym sprzęgło elektromagnetyczne od strony koła napędowego ma tarczę sprzęgła i solenoid obudowany magnetowodem.
Korzystnie, stabilizator temperatury i zespół rurek wykonane są z materiału dobrze przewodzącego ciepło, korzystnie miedzi.
Korzystnie, target jest na potencjale ziemi.
Korzystnym jest również, gdy target jest wieloskładnikowy, najkorzystniej zestawiony z co najmniej dwóch segmentów w postaci płyt.
Korzystnie, urządzenie transportowe osadzone jest w podstawie na regulatorze wysokości targetu nad przewijanym wyrobem włókienniczym, przy czym przewijany wyrób włókienniczy umieszczany jest w obszarze plazmy.
Korzystnie, target zamocowany jest za pomocą elementów mocujących na korpusie urządzenia magnetronowego, przy czym pomiędzy targetem i korpusem umieszczona jest folia metalowa, najkorzystniej miedziana, która jest intensywnie chłodzona płynem chłodzącym doprowadzanym do przestrzeni pomiędzy korpusem, układem magnetycznym i folią metalową, układem chłodzenia.
Korzystnie, folia metalowa połączona jest trwale z korpusem, najkorzystniej połączeniem lutowanym.
PL 235 831 B1
Korzystnie, poniżej powierzchni targetu w jego osi pomiędzy strefami emisyjnego oddziaływania układu magnetycznego, umieszczona jest rurka dozująca gaz roboczy otworami. Rurka dozująca połączona jest bezpośrednio z zaworem dozującym gaz roboczy albo rurka dozująca połączona jest z zaworem dozującym gaz roboczy, rurką wygiętą w kształcie litery U, najkorzystniej długość rurki dozującej jest mniejsza od długości strefy emisyjnego oddziaływania układu magnetycznego.
Korzystnym jest również, gdy poniżej powierzchni targetu pomiędzy strefy emisyjnego oddziaływania układu magnetycznego, doprowadzany jest gaz roboczy otworami z co najmniej trzech rurek dozujących, połączonych z rurą rozprowadzającą, która podłączona jest do zaworu dozującego gaz roboczy.
Wyrób włókienniczy charakteryzuje się dużą stabilnością, a niewielka grubość włókien umożliwia dokładne zapełnienie powierzchni materiału przemieszczanego podczas napylania po wypukłej anodzie. Proces napylania zachodzi w stosunkowo niskiej temperaturze i nie uszkadza materiału włókienniczego. Zastosowanie sprzęgieł elektromagnetycznych pracujących w próżni oraz regulacji prędkości przesuwu podłoża pozwala na odpowiednie naprężenie podłoża podczas napylania powłoki, przez co urządzenie zapewnia równomierne pokrycie podłoża tak, że powstaje siatka przewodząca, nadająca mu właściwość tłumienia pola elektromagnetycznego. Ponadto urządzenie wyposażone jest w układ zasilania zapewniający modulację mocy, która regulowana jest precyzyjnie w zakresie 0-100%, w celu uniknięcia nadtopień materiału włókienniczego w strefie plazmy, przy dużych porcjach energii przekazywanych w krótkim czasie. Urządzenie wyposażone jest też w komputerowy system archiwizacji parametrów technologicznych, który pozwala na prowadzenie powtarzalnych procesów napylania zwłaszcza materiałów włókienniczych.
Przedmiot wynalazku objaśniony jest w przykładach wykonania i na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia warstwowy wyrób włókienniczy w ujęciu schematycznym wytworzony w urządzeniu, fig. 2 - urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego w ujęciu schematycznym, fig. 3 - komorę próżniową wyposażoną w urządzenie transportowe i urządzenie magnetronowe, fig. 4 - rolkę urządzenia transportowego, fig. 5 - urządzenie magnetronowe, fig. 6 - rurkę dozującą umieszczoną pod targetem, fig. 7 - rurkę dozującą połączoną z rurką wygiętą w kształcie litery U, a fig. 8 - trzy rurki dozujące połączone z rurą rozprowadzającą gaz roboczy.
P r z y k ł a d 1
Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne zawiera komorę próżniową wyposażoną w zawory gazowe, urządzenie transportowe i urządzenie magnetronowe 1 podłączone do zasilacza 27 oraz target 11 jednoskładnikowy. Nad urządzeniem transportowym zamocowanym w podstawie 10 stalowej, wewnątrz komory próżniowej umieszczona jest trójwarstwowa anoda wykonana w kształcie części powierzchni walca, umocowana poprzez izolatory 6 w postawie 10 zamocowanej do obudowy komory. Uformowanie anody w kształcie części walca zwiększa dostępność głębszych warstw podłoża P włókienniczego dla osadzanych na nim metali i/lub tlenków metali i/lub ich mieszanin. Anoda od strony targetu 11 ma warstwę poślizgową 5, a pod nią warstwę konstrukcji nośnej 4, zaś od dołu stabilizator temperatury 3, do którego zamocowany jest układ chłodzenia wykonany z zespołu rurek 2 transportujących medium chłodzące w postaci wody, przy czym rurki 2 wykonane są z miedzi stanowiącej materiał dobrze przewodzącego ciepło. Stabilizator temperatury 3 obniża temperaturę pokrywanego podłoża P włókienniczego. Nad trójwarstwową anodą zamocowane jest urządzenie magnetronowe 1 wyposażone w długi prostokątny target 11, podłączone do zasilacza 27, który połączony jest poprzez układ sterowania 26 z komputerem 25. Komputer 25 pozwala na archiwizację parametrów technologicznych oraz na prowadzenie powtarzalnych procesów napylania warstwa na materiały włókiennicze. Układ sterowania 26 połączony jest również, poprzez sterownik zaworu 28 z zaworem regulacyjnym 29, licznikiem długości pokrytego powłoką materiału włókienniczego 30 i jednocześnie poprzez regulator obrotów silnika 31 z silnikiem napędowym 32 napędzającym napęd rewersyjny 9 urządzenia transportowego. Urządzenie transportowe ma rolki 8 z przewijanym wyrobem włókienniczym 7 oraz wyposażone jest w próżniowe sprzęgła elektromagnetyczne 13. Rolki 8 połączone są z rewersyjnym napędem 9, przy czym rolki 8 i rewersyjny napęd 9 zamocowane są w podstawie 10. Każda rolka 8 osadzona jest poprzez izolator 24 na osi napędowej 18, przy czym pierwszy koniec osi napędowej połączony jest z tarczą hamulca 16 umocowaną w podstawie 10, za którą umieszczona jest sprężyna 15 z regulatorem docisku hamulca 14, zaś drugi koniec osi napędowej 18 poprzez sprzęgła elektromagnetyczne 13 regulujące naciąg i prędkość przesuwu p pokrywanego podłoża P włókienniczego, połączony jest z kołem napędowym 20. Sprzęgło elektromagnetyczne 13 od strony koła napędowego 20 ma tarczę sprzęgła 23 i solenoid 19 obudowany magnetowodem 22. Ponadto urządzenie
PL 235 831 B1 transportowe osadzone jest w podstawie 10 na regulatorze wysokości targetu 11 nad przewijanym wyrobem włókienniczym 7, przy czym przewijany wyrób włókienniczy 7 umieszczany jest w obszarze plazmy 12. Target 11 zamocowany jest za pomocą elementów mocujących na korpusie 34 urządzenia magnetronowego 1, przy czym pomiędzy targetem 11 i korpusem 34 umieszczona jest folia metalowa 37, wykonana z miedzi. Folia metalowa 37 o grubości 0,25 mm, połączona jest trwale z korpusem 34, połączeniem lutowanym i jest intensywnie chłodzona płynem chłodzącym doprowadzanym układem chłodzenia 36 do przestrzeni pomiędzy korpusem 34 układem magnetycznym 35 i folią metalową 37. Poniżej powierzchni targetu 11 w jego osi pomiędzy strefami emisyjnego oddziaływania układu magnetycznego 35, umieszczona jest rurka dozująca 38 gaz roboczy otworami 39. Rurka dozująca 38 połączona jest bezpośrednio z zaworem dozującym gaz roboczy.
P r z y k ł a d 2
Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne wykonane jak w przykładzie pierwszym z tą różnicą, że target 11 jest dwuskładnikowy i zestawiony z dwóch segmentów w postaci płyt. Ponadto target 11 jest na potencjale ziemi, co pozwala na uzyskanie plazmy bardziej ukierunkowanej na podłoże. Zasilacz 27 zasilający urządzenie magnetronowe jest przetwornicą sinusoidalną z impulsową modulacją przebiegu napięcia o regulowanej częstotliwości w zakresie 1 Hz do 5 kHz. Ponadto gaz roboczy podawany jest na target 11 rurką dozującą 38 zawierającą otwory wylotowe 39 o średnicy do 1 mm, połączoną z zaworem dozującym gaz roboczy, rurką wygiętą w kształcie litery U, przy czym korzystnie długość rurki dozującej 38 jest mniejsza od długości strefy emisyjnego oddziaływania układu magnetycznego 35, dzięki czemu materiał rurki dozującej 38 nie jest rozpylany.
P r z y k ł a d 3
Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne wykonane jak w przykładzie pierwszym albo drugim z tą różnicą, że poniżej powierzchni targetu 11 pomiędzy strefy emisyjnego oddziaływania układu magnetycznego 35, doprowadzany jest gaz roboczy otworami 39 co najmniej trzech rurek dozujących 38, połączonych z rurą rozprowadzającą, która podłączona jest do zaworu dozującego gaz roboczy.
W urządzeniu magnetronowym 1 pracującym impulsowo, moc wydzielona na targecie 11 regulowana jest szerokością podawanych impulsów prądowych, co umożliwia stabilność procesów reaktywnych, która wynika z eliminacji niekontrolowanych wyładowań łukowych. Ponieważ w pojedynczym impulsie istnieje zawsze maksymalna szybkość rozpylania, to modulacja impulsowa pozwala na zwiększenie stosunku rozpylonego materiału do zanieczyszczeń. Ponadto zastosowanie zasilacza 27 rezonatorowego pozwala na efektywne wykorzystanie mocy wydzielanej na targecie 11. Modulacja częstotliwości plazmy wspomaga proces napylania przez niwelowanie zjawiska elektryzacji powierzchni materiałów, zwłaszcza izolacyjnych jak wyroby włókiennicze włókniny i tkaniny z włókien syntetycznych np. polipropylenowe, powodując wnikanie cząstek rozpylanego targetu między włókna, w głąb materiału.
W urządzeniach magnetronowych 1, target 11 i układ magnetyczny 35 chłodzony jest wodą poprzez odpowiednio wykonany układ chłodzenia 36. W proponowanym rozwiązaniu folia miedziana 37 o grubości nie przekraczającej 0,25 mm pełni rolę uszczelki 34, co zapobiega przedostawaniu się wody z układu chłodzenia 36 do komory próżniowej podczas zniszczenia lub uszkodzenia targetu 11. W długich prostokątnych urządzeniach magnetronowych, podstawowym problemem jest zapewnienie jednorodnej koncentracji jonów gazu roboczego przy powierzchni targetu, które zapewnia rozpylanie targetu wzdłuż całej powierzchni roboczej. Problem ten rozwiązano przez zastosowanie rurki dozującej 38 gaz roboczy, zawierającej otwory wylotowe 39 skierowane prostopadle do powierzchni targetu 11.
Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne, w którym na podłoże P włókiennicze nanosi się warstwy W1, W2, W3, W4, metaliczne w obojętnej atmosferze argonu, a warstwy tlenkowe w procesie reaktywnego rozpylania magnetronowego w tlenie lub mieszaninie tlenu i argonu. Na podłoże P będące tkaniną, dzianiną lub włókniną, o strukturze zapewniającej stabilne wymiary, wykonane z włókien poliolefinowych, poliestrowych, poliamidowych, aramidowych, poliakrylonitrylowych oraz ich kombinacji, nanosi się warstwy W1, W2, W3, W4 metali wybranych z grupy obejmującej Zn, Cu, Al, Ti, Ag i AL, ich mieszanin lub stopów wybranych z grupy obejmującej Zn-Bi, Bi-In, Cu-Sn, Cu-Zn Cu-Zn-Ni, Cu, Ni-Fe oraz, warstw W1, W2, W3, W4, metali i tlenków wybranych z grupy obejmującej Zn-ZnO-Zn, Ti-TiO2-Ti, Zn-ZnO-Zn, Zn-TiO2-Zn, Ti-ZnO-Ti, jak również pojedyncze warstwy W1 w postaci powłok wykonanych z mieszaniny SnO2-ImO3, czy też z mieszaniny ZnOIn2O3. Najwyższe współczynniki tłumienia pola elektromagnetycznego przekraczające 50 dB uzyskano dla kompozytów Zn-Bi, natomiast dla warstw Ti, Al, Fe-Ni współczynnik tłumienia wynosi około 35 dB. Przez napyleniem warstw W1, W2, W3, W4, podłoża P włókiennicze za pomocą wyładowania jarzeniowego, są
PL 235 831 B1 wstępnie odgazowane z gazów zaadsorbowanych oraz oczyszczane. Podczas napylania powłoki urządzenie magnetronowe 1 zasila się zasilaczem 27 stanowiącym impulsowe źródło prądowe o mocy 12 kW i maksymalnym napięciu 1,2 kV. Źródło to umożliwia zasilanie urządzenia magnetronowego 1 w dwóch modach: unipolarnym DC-M o częstotliwości 160 kHz oraz bipolarnym AC-M o częstotliwości 80 kHz. Mod unipolarny stosowany jest do rozpylania targetów metalicznych, a bipolarny do procesów reaktywnych. Prąd moduluje się grupowo prostokątnymi sygnałami w postaci paczek, o częstotliwości f = 2 kHz (ti = 500 ms), z możliwością regulacji częstotliwości powtarzania paczek impulsów w zakresie od 50 Hz do 5 kHz (ti = 0,02 s - 200 ms). Czas t2 określa czas rozpylania targetu, a w czasie ti-t2 materiał z obszaru plazmy jest nakładany na podłoża P. Stosunek ti/t2 jest dodatkowym parametrem technologicznym charakterystycznym dla każdego procesu reaktywnego. Zmieniając jego wartość kontroluje się stechiometryczny skład otrzymywanych warstw W i, W2, W3, W4 tlenkowych lub wieloskładnikowych. Ilość i rodzaj nanoszonych warstw Wi, W2, W3, W4 uwarunkowana jest współczynnikiem efektywności tłumienia pola elektromagnetycznego wyrobu włókienniczego. Parametry elektryczne warstw tlenkowych regulowane są parametrami procesu rozpylania magnetronowego, a ilość i kolejność nakładanych warstw jest dowolna i uwarunkowana współczynnikiem efektywności tłumienia pola elektromagnetycznego, którym powinien charakteryzować się wyrób włókienniczy.
Wykaz oznaczeń na rysunku:
i - urządzenie magnetronowe,
- rurka z medium chłodzącym,
- stabilizator temperatury,
- warstwa konstrukcji nośnej,
- warstwa poślizgowa,
- izolator,
- wyrób włókienniczy,
- rolka,
- rewersyjny napęd, i0 - podstawa, ii - target (elektroda rozpylana), i2 - obszar plazmy i3 - sprzęgło elektromagnetyczne, i4 - regulatorem docisku hamulca, i5 - sprężyna, i6 - tarcza hamulca, i7 - wpust, i8 - oś napędowa, i9 - solenoid,
- koło napędowe,
2i - wieloklin,
- magnetowód,
- tarcza sprzęgła,
- izolator rolki.
- komputer,
- sterownik procesu,
- zasilacz magnetronu,
- sterownik zaworu argonu,
- zawór regulacyjny argonu,
- licznik metrów materiału,
3i - regulator obrotów silnika,
- silnik napędowy,
- element mocujący,
- korpus,
- układ magnetyczny,
- układ chłodzenia,
- folia miedziana,
- rurka dozująca,
- otwór wylotowy.
PL 235 831 B1

Claims (13)

1. Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne, zawierające komorę próżniową wyposażoną w zawory gazowe, przy czym w dolnej części komory zamocowane jest urządzenie transportowe, a nad nim urządzenie magnetronowe wyposażone w target, podłączone do zasilacza, znamienne tym, że wewnątrz komory próżniowej nad urządzeniem transportowym zamocowanym w podstawie (10), umieszczona jest trójwarstwowa anoda wykonana w kształcie części powierzchni walca, umocowana poprzez izolatory (6) w podstawie (10) zamocowanej do obudowy komory, przy czym anoda od strony targetu ma warstwę poślizgową (5), a pod nią warstwę konstrukcji nośnej (4), zaś od dołu stabilizator temperatury (3), do którego zamocowany jest układ chłodzenia wykonany z zespołu rurek (2) transportujących medium chłodzące, natomiast nad trój warstwową anodą zamocowane jest urządzenie magnetronowe (1) wyposażone w prostokątny target (11), podłączone do zasilacza (27), który połączony jest poprzez układ sterowania (26) z komputerem (25), ponadto układ sterowania (26) połączony jest poprzez sterownik zaworu (28) z zaworem regulacyjnym (29), licznikiem długości pokrytego powłoką materiału włókienniczego (30) i jednocześnie poprzez regulator obrotów silnika (31) z silnikiem napędowym (32) napędzającym napęd rewersyjny (9) urządzenia transportowego.
2. Urządzenie, według zastrz. 1, znamienne tym, że urządzenie transportowe ma rolki (8) z przewijanym wyrobem włókienniczym (7), wyposażone w próżniowe sprzęgła elektromagnetyczne (13), które to rolki (8) połączone są z rewersyjnym napędem (9), przy czym rolki (8) i rewersyjny napęd (9) zamocowane są w podstawie (10).
3. Urządzenie, według zastrz. 2, znamienne tym, że rolka (8) osadzona jest poprzez izolator (24) na osi napędowej (18), przy czym pierwszy koniec osi napędowej (18) połączony jest z tarczą hamulca (16) umocowaną w podstawie (10), za którą umieszczona jest sprężyna (15) z regulatorem docisku hamulca (14), zaś drugi koniec osi napędowej (18) poprzez sprzęgła elektromagnetyczne (13) połączony jest z kołem napędowym (20), przy czym sprzęgło elektromagnetyczne (13) od strony koła napędowego (20) ma tarczę sprzęgła (23) i solenoid (19) obudowany magnetowodem (22).
4. Urządzenie, według zastrz. 1, znamienne tym, że stabilizator temperatury (3) i zespół rurek (2) wykonane są z materiału dobrze przewodzącego ciepło, korzystnie miedzi.
5. Urządzenie, według zastrz. 1, znamienne tym, że target (11) jest na potencjale ziemi.
6. Urządzenie, według zastrz. 1, znamienne tym, że target (11) jest wieloskładnikowy, korzystnie zestawiony z co najmniej dwóch segmentów w postaci płyt.
7. Urządzenie, według zastrz. 1, znamienne tym, że urządzenie transportowe osadzone jest w podstawie (10) na regulatorze wysokości targetu (11) nad przewijanym wyrobem włókienniczym (7), przy czym przewijany wyrób włókienniczy (7) umieszczany jest w obszarze plazmy (12).
8. Urządzenie, według zastrz. 1, znamienne tym, że target (11) zamocowany jest za pomocą elementów mocujących na korpusie (34) urządzenia magnetronowego, przy czym pomiędzy targetem (11) i korpusem (34) umieszczona jest folia metalowa (37), korzystnie miedziana, która jest intensywnie chłodzona płynem chłodzącym doprowadzanym do przestrzeni pomiędzy korpusem (34) układem magnetycznym (35) i folią metalową (37), układem chłodzenia (36).
9. Urządzenie, według zastrz. 8, znamienne tym, że folia metalowa (37) połączona jest trwale z korpusem (34), korzystnie połączeniem lutowanym.
10. Urządzenie, według zastrz. 8, znamienne tym, że poniżej powierzchni targetu (11) w jego osi pomiędzy strefami emisyjnego oddziaływania układu magnetycznego (35), umieszczona jest rurka dozująca (38) gaz roboczy otworami (39).
11. Urządzenie, według zastrz. 10, znamienne tym, że rurka dozująca (38) połączona jest bezpośrednio z zaworem dozującym gaz roboczy.
12. Urządzenie, według zastrz. 10, znamienne tym, że rurka dozująca (38) połączona jest z zaworem dozującym gaz roboczy, rurką wygiętą w kształcie litery U, korzystnie długość rurki dozującej (38) jest mniejsza od długości strefy emisyjnego oddziaływania układu magnetycznego (35).
13. Urządzenie, według zastrz. 10, znamienne tym, że poniżej powierzchni targetu (11) pomiędzy strefy emisyjnego oddziaływania układu magnetycznego (35), doprowadzany jest gaz roboczy otworami (39) co najmniej trzech rurek dozujących (38), połączonych z rurą rozprowadzającą, która podłączona jest do zaworu dozującego gaz roboczy.
PL397977A 2012-02-02 2012-02-02 Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne PL235831B1 (pl)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL397977A PL235831B1 (pl) 2012-02-02 2012-02-02 Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne
PCT/PL2013/000006 WO2013115660A2 (en) 2012-02-02 2013-01-25 Textile product for attenuation of electromagnetic field and the devices for manufacturing the textile product attenuating electromagnetic field
EP13707057.9A EP2809841B1 (en) 2012-02-02 2013-01-25 Textile product for attenuation of electromagnetic field

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL397977A PL235831B1 (pl) 2012-02-02 2012-02-02 Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL397977A1 PL397977A1 (pl) 2013-08-05
PL235831B1 true PL235831B1 (pl) 2020-11-02

Family

ID=47757675

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL397977A PL235831B1 (pl) 2012-02-02 2012-02-02 Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP2809841B1 (pl)
PL (1) PL235831B1 (pl)
WO (1) WO2013115660A2 (pl)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103640282B (zh) * 2013-12-12 2016-01-20 安徽工程大学 一种纺织品、其制作方法及应用
CN103935081A (zh) * 2014-02-26 2014-07-23 东莞市万丰纳米材料有限公司 一种具有无机杀菌抑菌作用的透气性材料及其制备方法
PL412341A1 (pl) 2015-05-16 2016-11-21 Instytut Włókiennictwa Sposób otrzymywania kompozytowego materiału włókienniczego o właściwościach bioaktywnych i barierowych dla pól elektromagnetycznych
GB2535818B (en) * 2015-07-22 2017-04-05 Whyte And Ivory Ltd Fabric for a window treatment
CN116654661B (zh) * 2023-07-28 2023-10-27 山西科为磁感技术有限公司 一种矿用物料输送机用铁磁材料检测系统

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6075669A (ja) * 1983-10-03 1985-04-30 豊田合成株式会社 金属付着繊維物
TW593833B (en) * 2003-08-18 2004-06-21 Helix Technology Inc Method for plating a film to a non-ionized radiation fibrous fabric
WO2006030254A1 (en) * 2004-09-15 2006-03-23 Kabushiki Kaisha Suzutora (Suzutora Corporation) Metal-coated textile
CN1970882A (zh) 2006-12-13 2007-05-30 东华大学 一种屏蔽电磁波和抗紫外的织物及其制备方法
DE102008034960A1 (de) 2008-07-25 2010-01-28 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Verfahren und Beschichtungskammer zur Beschichtung eines Substrats mit einer transparenten Metalloxid-Schicht

Also Published As

Publication number Publication date
EP2809841A2 (en) 2014-12-10
EP2809841B1 (en) 2018-04-25
WO2013115660A2 (en) 2013-08-08
WO2013115660A3 (en) 2013-12-12
PL397977A1 (pl) 2013-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL235831B1 (pl) Urządzenie do wytwarzania wyrobu włókienniczego tłumiącego pole elektromagnetyczne
RU2602571C2 (ru) Высокопроизводительный источник для процесса распыления
JP5291086B2 (ja) 真空アーク蒸発源、及び真空アーク蒸発源を有するアーク蒸発チャンバ
US5616224A (en) Apparatus for reducing the intensity and frequency of arcs which occur during a sputtering process
JP5702143B2 (ja) スパッタリング薄膜形成装置
JP2006511715A (ja) アノードガス供給装置を備えたマグネトロンスパッタリング装置
JPH05507965A (ja) 基材材料を被覆するための方法及び装置
RU2510097C2 (ru) Способ осаждения электрически изолирующих слоев
RU2058429C1 (ru) Способ напыления пленок
TW201408805A (zh) 脈衝雙極濺鍍方法、用於製造工件的設備、方法以及工件
RU2578336C2 (ru) Улучшенный способ совместного распыления сплавов и соединений с использованием двойной с-mag конструкции катода и соответствующая установка
CN110453192A (zh) 一种钢带离子镀膜上色工艺
EP0966021A2 (de) Vorrichtung zum Beschichten von Substraten in einer Vakuumkammer
US3750623A (en) Glow discharge coating apparatus
CN103649358B (zh) 钢板稳定化装置
EP3095891B1 (en) Method for preparation of a composite textile fabric with bioactive and barrier properties against electromagnetic fields
RU2677551C1 (ru) Способ напыления электропроводящего металл-углеродного многослойного покрытия на ленточную подложку из нетканого волокнистого материала
Lorusso et al. Pulsed laser deposition of yttrium photocathode suitable for use in radio-frequency guns
DE102016101019A1 (de) Beschichtungsanordnung und Verfahren zum Beschichten eines Bandsubstrats
US5827580A (en) Low temperature formation of electrode having electrically conductive metal oxide surface
JP7189030B2 (ja) 成膜装置
RU2443038C1 (ru) Устройство для высокотемпературного осаждения сверхпроводящих слоев
CN1103677A (zh) 大面积可控电弧蒸发源
PL239275B1 (pl) Sposób nanoszenia metodą magnetronową na podłoża ultracienkich powłok funkcyjnych o zwiększonej odporności fizycznej i chemicznej oraz podłoża z powłokami funkcyjnymi otrzymane tym sposobem
PL221077B1 (pl) Sposób nanoszenia warstw w wielotargetowym układzie do rozpylania magnetronowego