PL209564B1 - Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów - Google Patents
Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopówInfo
- Publication number
- PL209564B1 PL209564B1 PL382600A PL38260007A PL209564B1 PL 209564 B1 PL209564 B1 PL 209564B1 PL 382600 A PL382600 A PL 382600A PL 38260007 A PL38260007 A PL 38260007A PL 209564 B1 PL209564 B1 PL 209564B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- group
- bath
- amount
- zinc
- surfactants
- Prior art date
Links
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 19
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 title claims description 19
- 239000011701 zinc Substances 0.000 title claims description 18
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title description 6
- -1 heterocyclic aldehydes Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 17
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 15
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 11
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M potassium chloride Inorganic materials [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 7
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 159000000032 aromatic acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 5
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000000644 6-membered heterocyclic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 claims description 2
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 claims description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 2
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 23
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 9
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 7
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical group 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 5
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 5
- 239000001211 (E)-4-phenylbut-3-en-2-one Substances 0.000 description 4
- 229930008407 benzylideneacetone Natural products 0.000 description 4
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N trans-benzylideneacetone Chemical compound CC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical compound [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LBCOWMYTAXJNER-UHFFFAOYSA-N benzoic acid;2-[bis(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1.OCCN(CCO)CCO LBCOWMYTAXJNER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M sodium benzoate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004299 sodium benzoate Substances 0.000 description 2
- 235000010234 sodium benzoate Nutrition 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229940060377 triethanolamine benzoate Drugs 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAIPHJJURHTUIC-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazol-2-amine Chemical class NC1=NC=CS1 RAIPHJJURHTUIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDHQUJOFJHVHEU-UHFFFAOYSA-N 1-(2-hydroxypropylsulfonyl)propan-2-ol Chemical compound CC(O)CS(=O)(=O)CC(C)O JDHQUJOFJHVHEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical group C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYBIGIADVHIODH-UHFFFAOYSA-N 2-nonylphenol;oxirane Chemical compound C1CO1.CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O DYBIGIADVHIODH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YULKCZIGXLAENH-UHFFFAOYSA-N 4-amino-3h-1,3-thiazole-2-thione Chemical class NC1=CSC(=S)N1 YULKCZIGXLAENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000565 5-membered heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 229910021556 Chromium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021580 Cobalt(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001888 Peptone Substances 0.000 description 1
- 108010080698 Peptones Proteins 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Chemical class 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYCQRIWVOKLIMW-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni].[Zn] Chemical compound [Co].[Ni].[Zn] XYCQRIWVOKLIMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000007831 chromium(III) chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011636 chromium(III) chloride Substances 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 125000005677 ethinylene group Chemical class [*:2]C#C[*:1] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000847 nonoxynol Polymers 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical class CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011022 operating instruction Methods 0.000 description 1
- 235000019319 peptone Nutrition 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N tin zinc Chemical compound [Zn].[Sn] GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów o dużej odporności korozyjnej, zwłaszcza z elektrolitów chlorkowych.
Najczęściej stosowane kąpiele do galwanicznego cynkowania żelaza i jego stopów to kąpiele chlorkowe o odczynie słabokwaśnym. Charakteryzują się łatwością prowadzenia procesu oraz uzyskaniem wysokiej jakości, błyszczących powłok dzięki dodatkom wybłyszczaczy. W ostatnich latach szczególny nacisk położono na wykorzystywanie w procesie ekologicznych dodatków nie pogarszających właściwości nakładanych powłok.
W opisie patentowym US 3 787 296 zaproponowano kąpiel do galwanicznego, chlorkowego cynkowania, w skład której wchodzą aromatyczne kwasy zawierające co najmniej jeden atom azotu, aromatyczne aldehydy i ketony oraz anionowe związki powierzchniowo czynne.
W kolejnym opisie patentowym US 4 070 256 przedstawiono jako dodatki wybł yszczają ce do galwanicznych kąpieli chlorkowych kilka typów niejonowych związków powierzchniowo czynnych. Kąpiel ta dodatkowo zawiera aromatyczne kwasy, aromatyczne i heterocykliczne aldehydy i ketony.
W opisie patentowym US nr 4 229 268 do ką pieli chlorkowej zastosowano oksyalkilowane siarczki i merkaptany, aromatyczne kwasy, aldehydy i ketony oraz różnorakie niejonowe związki powierzchniowo czynne jak np. oksyetylenowane naftole, alkilofenole, alkohole tłuszczowe, amidy, aminy, kwasy i poliglikole.
W opisie patentowym US nr 4 496 439 zastosowano jako dodatek do ką pieli chlorkowych anionowy, siarczanowany i/lub sulfonowany, oksyetylowany lub oksypropylowany fenol i jego pochodne. Dodatkowo kąpiel musi zawierać niejonowe związki powierzchniowo czynne, sole kwasu benzoesowego, produkt kondensacji formaldehydu z kwasami naftalenosulfonowymi i pochodne polietylenoaminy oraz aromatyczne aldehydy i ketony.
W kolejnym opisie patentowym US 4 512 856 do elektroosadzania bł yszczących powłok cynkowych użyto oksyetylowanych lub oksypropylowanych wieloalkoholi takich jak gliceryna lub sorbitol, dodatkowo użyto znane kwasy aromatyczne, aromatyczne aldehydy i ketony oraz związki sulfonowe.
Patent US nr 4 675 050 przedstawia nowe, niskopienne, anionowe związki powierzchniowo czynne zbudowane na bazie oksyetylowanego beta-naftolu podstawionego grupą siarczanową lub sulfobursztynową.
Znana jest też z polskiego opisu patentowego nr 144 498 kąpiel do galwanicznego nakładania cynku zwłaszcza w urządzeniach obrotowych, która zawiera związek cynku, chlorek amonu lub potasu lub sodu i przynajmniej jeden czwartorzędowy związek powierzchniowo czynny, modyfikowaną polialkilenoaminę i czwartorzędowy heterocykliczny związek o pierścieniu pirydyny, chinoliny, izochinoliny lub akrydyny.
Z polskiego opisu patentowego nr 94 161 znana jest ką piel do cynkowania, która zawiera co najmniej jeden związek cynku, co najmniej jeden związek powierzchniowo czynny z grupy polieterów i ich pochodnych oraz niearomatycznych, heterocyklicznych związków azotowych oraz co najmniej jeden aromatyczny, niekarbonylowy, zawierający azot związek heterocykliczny.
W kolejnym polskim opisie patentowym nr 127 890 przedstawiono kąpiel do galwanicznego osadzania cynku opartą na związkach cynku i chlorku amonu zawierającą liniowe oligomery, niejonowe związki powierzchniowo czynne, eteryfikowany polimetylenomocznik oraz aromatyczne aldehydy i ketony.
Przedstawione powyżej przykłady składów kąpieli do galwanicznego osadzania cynku i jego stopów ze słabokwaśnych kąpieli chlorkowych umożliwiają otrzymanie powłok o wysokim połysku, dobrej przyczepności do podłoża i zadawalającej wgłębności ale słabej odporności na korozję. Rosnące wymagania odbiorców wymusiły opracowanie dodatków wybłyszczających nowej grupy, wpływającej i zdecydowanie wydłużającej czas ochrony przeciwkorozyjnej. Odkryto również, że stopy cynku, zwłaszcza z żelazowcami dają galwaniczne pokrycia zdecydowanie bardziej odporne na korozję niż sam cynk.
Patent US nr 4 832 802 przedstawia kompozycję wybłyszczającą do galwanicznego osadzania powłok stopowych cynku z niklem. Kąpiel ta zawiera anionowe, sulfonowane aromatyczne i liniowe związki, oksyetylowane lub oksypropylowane siarczki lub merkaptany, alkilosulfonowe związki acetylenowe oraz aromatyczne aldehydy i ketony.
W opisie patentowym US nr 5 200 057 do galwanicznego osadzania cynku i jego stopów zastosowano poliwinylopirolidon, oksyetylowane lub oksypropylowane siarczki i merkaptany oraz niejonowe
PL 209 564 B1 związki powierzchniowo czynne takie jak oksyetylowany nonylofenol (którego stosowanie w Europie zakazano w 2006 roku), oksyetylowane tłuszczowe alkohole, amidy i kwasy.
W opisie patentowym US nr 2002/00469554 zaproponowano skład kąpieli do galwanicznego nakładania stopu cyna-cynk. Zawiera ona sole cyny i cynku, alifatyczne kwasy karboksylowe, anionowe lub niejonowe surfaktanty, aromatyczne aldehydy lub ketony oraz aromatyczne lub heterocykliczne kwasy.
Twórca polskiego opisu patentowego nr 155 690 przedstawił kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem lub kobaltem, która zawiera związek cynku i/lub niklu i/lub kobaltu, chlorek amonu, sodu lub potasu, co najmniej jeden jonowy lub niejonowy związek powierzchniowo czynny oraz aromatyczne i/lub alifatyczne aldehydy i ketony. Kąpiel ta zawiera ponadto kwas aryloamidokarboksylowy lub jego sól oraz pochodną tiomocznika i polietylenopoliaminę.
Z literatury patentowej znane są , jako środki myją ce i emulgujące, surfaktanty typu gemini zwane inaczej dimerycznymi lub bliźniaczymi, ponieważ zawierają dwa identyczne łańcuchy hydrofobowe, dwa identyczne ugrupowania polarne i łącznik zwany też mostkiem.
W opisach patentowych US nr 5.811.384, 5.945.393 i 6.204.297 opisano sposoby wytwarzania i wł a ś ciwości alifatycznych niejonowych surfaktantów typu gemini, a alifatyczne anionowe zwią zki gemini opisują patenty US nr 5.922.663, 5.952.290 i 6.156.721.
Celem wynalazku jest opracowanie chlorkowej kąpieli do galwanicznego nakładania cynku lub jego stopów z niklem i/lub kobaltem i/lub manganem i/lub żelazem i/lub chromem i/lub cyną i /lub tytanem i/lub molibdenem charakteryzującą się dużym połyskiem powłoki i zwiększoną odpornością korozyjną oraz zminimalizowanie stosowania związków powierzchniowo czynnych i/lub wprowadzenie nowych, ekologicznych, łatwo biodegradowalnych surfaktantów, dla których biodegradowalność według testu OECD 301D wynosiłaby po 28 dniach nie mniej niż 80%.
Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów według wynalazku zawiera chlorek amonu i/lub potasu i/lub sodu w ilości 50 do 300 g/dm3, rozpuszczalne związki cynku w ilości od 10 do 100 g/dm3, kwasy buforujące w ilości 0 do 100 g/dm3, kwasy aromatyczne w ilości od 0 do 10 g/dm3, rozpuszczalne sole metali Ni, Co, Fe, Cr, Mn, Sn, Ti i Mo w ilości od 0 do 50 g/dm3, aromatyczne i/lub heterocykliczne aldehydy i/lub ketony i/lub heterocykliczne związki czwartorzędowe o pierścieniu pirydyny, chinoliny, izochinoliny lub akrydyny w ilości do 0 do 5 g/dm3, anionowe związki, korzystnie siarczanowanego i/lub sulfonowanego i/lub sulfobursztynowanego oksyetylowanego alkilofenolu i/lub naftolu w ilości do 10 g/dm3 i charakteryzuje się tym, że zawiera także więcej niż 0,1 g/dm3 niejonowych i/lub anionowych surfaktantów alifatycznych typu gemini, o ogólnym wzorze 1,
PL 209 564 B1 gdzie R oznacza prosty lub rozgałęziony alkil, hydroksyalkil, halogenoalkil, epoksyalkil lub grupę alkenylową od 3 do maksimum 12 atomów węgla, R1 oznacza grupę alkilenową, halogenoalkilenową, hydroksyalkilenową, epoksyalkilenową, ketoalkilenową, alkenylową zawierającą od 1 do co najwyżej 8 atomów węgla, M jest łącznikiem i oznacza dwuwartościowy człon mostkowy o wzorach C1-D1-C1 lub D1-C1D1 gdzie D1 jest grupą alkilenową o od 1 do 10 atomów węgla, -C(O)-, -O-D2-O-, -D2{O(CH2CH2O)k -(CH2CH(CH3)w}- lub arylem, C1 oznacza -O-, -S-, -S-S-, -SO-, -SO2-, -C(O)- lub grupę polieterową -{(OCH2CH2O)k-(CH2CH(CH3)Ow}-, grupę amidową {-C(O)N(D3)-}, grupę aminową {-N(D3)-}, -O-D2-O-, D2 i D3 niezależnie od siebie oznaczają grupę alkilenową o 1 do 10 atomów węgla, arylową lub alkiloarylową, kiedy C1 jest azotem wówczas D1; D3 i C1 mogą być częścią dwuwartościowego pierścienia piperazyny lub bis-piperazyny, kiedy C1 jest -S- lub -SS- to D1 jest heterocyklicznym 5 lub 6 członowym związkiem zawierającym przynajmniej jeden atom tlenu i/lub siarki i/lub azotu, k i w jest liczbą od 0 do 100, R2 i R3 niezależnie od siebie oznaczają wodór lub grupę metylową, a Z jest wodorem lub oznacza grupę alkilową o maksimum 4 atomach węgla lub alkiloarylową, -SO3Y, -OSO3Y, -CH2COOY, -CH2CH2COOY, -OC(CH2)tCOOY, -OCCH=CHCOOY, -CH2CH(OH)CH2SO3Y, -CH2CH2CH2SO3Y, -CH2CH2CH(SO3Y)COOY, gdzie Y jest wodorem, alkalicznym metalem, aminą alifatyczną i/lub heterocykliczną i/lub aromatyczną, alkanoloaminą alifatyczną i/lub heterocykliczną, m ma wartość od 1 do 3, n+p jest większe niż 12, a t jest liczbą całkowitą od 1 do 6.
Korzystnie jest, kiedy kąpiel według wynalazku zawiera jeden lub więcej dodatkowych związków wybranych z grupy składającej się z amfoterycznych związków powierzchniowo czynnych, anionowych związków powierzchniowo czynnych, kationowych związków powierzchniowo czynnych i niejonowych związków powierzchniowo czynnych lub ich mieszanin w ilości do 20 g/dm3.
Z literatury patentowej, własnych prób i doświadczeń wynika, ż e w porównaniu z klasycznymi związkami powierzchniowo czynnymi, które mają jedną hydrofobową grupę i jedną hydrofilową grupę surfaktanty typu gemini, które posiadają przynajmniej dwie grupy hydrofobowe i przynajmniej dwie grupy hydrofilowe są kilka razy efektywniejsze w obniżaniu napięcia powierzchniowego i aktywności powierzchniowej na granicach międzyfazowych. Dodatkowo w połączeniu z klasycznymi związkami powierzchniowo-czynnymi, surfaktanty typu gemini wykazują właściwości synergiczne, zwłaszcza w obniżaniu napięcia powierzchniowego, zdolności pianotwórczej, solubilizacji, emulgowania, a zwłaszcza wybłyszczania powłok cynkowych i jego stopów.
Kąpiel według wynalazku charakteryzuje się dużą szybkością nakładania i szerokim zakresem osadzania powłok cynkowych i jego stopów od 0,1 do 10 A/dm2 oraz niespotykaną wgłębnością. Osadzanie powłok cynku i jego stopów można prowadzić w kielichu galwanizerskim, bębnie zanurzeniowym, w wannie stacjonarnej lub automacie, w przedziale temperatur od 15 do 45°C, z mieszaniem lub bez mieszania, korzystnie przy pH 4 - 6.
Najważniejszą zaletą nowoopracowanego wybłyszczacza typu gemini jest jego biodegradowalność, która wynosiła zgodnie z testem OECD 301D od 82 do 91% po 28 dniach, OECD 301B od 75 do 85% po 28 dniach.
Jako substancje uzupełniające kąpiel według wynalazku można stosować powszechnie znane i stosowane do tego typu kąpieli chlorkowych dodatki blaskotwórcze, niwelujące, poprawiające wgłębność, kompleksujące oraz inne poprawiające parametry kąpieli. Przykładowo są to związki wielkocząsteczkowe naturalne i syntetyczne takie jak: klej stolarski, żelatyna, pepton, alkohol poliwinylowy, poliwinylopirolidon i jego kopolimery, kopolimery i polimery kwasu akrylowego i/lub metaakrylowego, związki amoniowe lub pirydyniowe, tiomocznik i jego pochodne, merkaptokwasy, merkaptotiazole, aminotiazole, amino-merkaptotiazole, alifatyczne i/lub heterocykliczne aminy lub poliaminy, a korzystnie ich produkty reakcji z epihalogenohydrynami, aromatyczne i/lub alifatyczne kwasy, imid kwasu o-sulfobenzoesowego, sulfonian allilu i inne.
Przedmiot wynalazku zostanie dokładniej objaśniony w podanych poniżej przykładach, nie ograniczając jego zakresu.
P r z y k ł a d 1
Sporządzono kąpiel do galwanicznego cynkowania o składzie: chlorek cynku w ilości 35 g/dm3, chlorek amonu 220 g/dm3, benzoesan sodu 4 g/dm3, benzylidenoaceton 0,2 g/dm3 i 40% roztwór soli trietanoloaminowej nonylofenolu siarczanowanego i sulfonowanego, oksyetylowanego 8 molami tlenku etylenu w ilości 5 g/dm3. Kąpiel testowano w zmodyfikowanej komórce Hulla o nazwie roboczej komórka HS-1, której szkic i wymiary podane są na rysunku 1.
PL 209 564 B1
Komórka HS-1 umożliwia dokonanie oceny na dwóch niezależnych płytkach zakresu osadzania powłok (obszaru roboczego kąpieli) i pomiaru zdolności krycia (wgłębności). Komórka HS-1 wyposażona jest w anodę i dwie stalowe płytki, każda o długości 100 mm. Płytka metalowa ustawiona ukośnie w stosunku do anody służy do pomiaru obszaru roboczego kąpieli, natomiast ta ustawiona prostopadle do anody służy do pomiaru zdolności krycia kąpieli. Źródło prądu, instrukcja działania i ocena jakości osadzanych powłok są analogiczne jak w przypadku klasycznej komórki Hulla.
Do komórki HS-1 wlano 350 cm3 kąpieli o powyższym składzie. Proces prowadzono w temperaturze 25°C, w czasie 10 minut, a przez komórkę płynął prąd o natężeniu 1 A. Po tym czasie płytki stalowe wyjęto. Opłukano i chromianowano na biało-niebiesko w 3% roztworze firmowej kąpieli Inwex-Pas Cr-3/99 w czasie 5 sekund, opłukano i osuszono. Na płytce służącej do oceny obszaru roboczego kąpieli uzyskano powłokę błyszczącą tylko w zakresie 0,3 do 1,5 A, poniżej 0,3 A/dm2 uzyskano powłokę matową, a powyżej 1,5 A/dm2 powłokę szarą, która w wyższych gęstościach przechodziła w czarną, o strukturze proszku. Wgłębność wyniosł a 15 mm, co umownie moż na przyjąć, ż e jest to 15% maksymalnej wgłębności.
P r z y k ł a d 2 3
Do kąpieli z przykładu 1 dodano 7 cm3 25% roztworu związku powierzchniowo czynnego typu gemini przedstawionego wzorem 1, gdzie R jest grupą alkilenową o zawartości 6 atomów węgla, R1 jest alkilenem o 8 atomach węgla, M jest grupą piperydynową, R2 i R3 są wodorami, n+p wynosi 30, m = 1, a Z jest wodorem i ponownie przetestowano w warunkach jak w przykładzie 1. Uzyskano powłokę cynkową o bardzo wysokim połysku w zakresie gęstości prądowej od 0 do 12 A/dm2 i umownej wgłębności 100%.
PL 209 564 B1
P r z y k ł a d 3
Sporządzono kąpiel do galwanicznego nakładania stopu cynku o składzie: chlorek cynku w ilości 55 g/dm3, chlorek potasu 210 g/dm3, chlorek niklu (II) 15 g/dm3, chlorek kobaltu (II) 4 g/dm3, kwas borowy 25 g/dm3, benzoesan trietanoloaminy 5 g/dm3, benzylidenoaceton 0,1 g/dm3, aldehyd o-chlorobenzoesowy 0,1 g/dm3, 35% wodny roztwór siarczanowanego i sulfonowanego, oksyetylowanego 4 molami tlenku etylenu nonylofenolu 8 g/dm3. Ką piel przetestowano w komórce HS-1, do której wlano 350 cm3 kąpieli a proces prowadzono w temperaturze 30°C, w czasie 10 minut a przez komórkę płynął prąd o natężeniu 1 A. Po tym czasie obie płytki stalowe opłukano w zimnej wodzie a następnie pasywowano na żółto w 5% firmowej kąpieli Inwex-Pas Gelb w czasie 10 sekund. Płytki wypłukano i wysuszono a następnie dokonano oceny wizualnej. Na płytce służącej do oceny obszaru roboczego kąpieli uzyskano powłokę półbłyszczącą w zakresie 0,5 do 2,5 A/dm2, poniżej 0,5 A/dm2 powłoka była szara, powyżej 2,5 A/dm2 uzyskano powłokę szarą przechodzącą w czarną, mało przyczepną do podłoża. Wgłębność oceniono na 25%.
P r z y k ł a d 4
Do kąpieli według przykładu 3 dodano 8 cm3 25% roztworu surfaktantu typu gemini przedstawionego wzorem 1, gdzie R jest grupą alkilenową o zawartości 8 atomów węgla, R1 jest alkilenem o 6 atomach węgla, M jest grupą dimerkaptotiadiazolową , R2 jest wodorem, R3 jest grupą metylową , n wynosi 22, p = 4, m = 1, a Z jest grupą sulfobursztynową , gdzie Y jest sodem i testowano przy parametrach identycznych jak w przykładzie 3. Płytka służąca do oceny jakości obszaru roboczego kąpieli była barwy jasno żółtej równomiernie błyszcząca, pokryta stopem cynku z niklem i kobaltem w zakresie 0,1 do 5 A/dm2 i półbłyszcząca poniżej 0,1 A/dm2. Płytka służąca do oceny pomiaru wgłębności kąpieli była pokryta równomiernym stopem cynku na długości 75 mm, czyli 75% maksymalnej wgłębności kąpieli, co świadczy o bardzo dobrej wgłębności kąpieli stopowej cynku z niklem i kobaltem.
P r z y k ł a d 5
Przeprowadzono test na odporność korozyjną stopowych cynkowych powłok, który polegał na tym, że w kąpieli o składzie jak w przykładzie 4, na elementy samochodowe nałożono powłokę stopową cynku z niklem i kobaltem na grubość 10 μm i pochromianowano na żółto w pasywacji chromu trójwartościowego o nazwie firmowej Inwex-Pas 3Cr/04/Co w temperaturze 40°C i w czasie 40 sekund. Po wypłukaniu i wysuszeniu w temperaturze 75°C chromianowane detale testowano w komorze solnej, zgodnie z PN-76/H-04603. Pierwsze ślady białej korozji wystąpiły dopiero po 180 godzinach.
P r z y k ł a d 6 3
Sporządzono kąpiel do nakładania stopu cynku z niklem o składzie: chlorek cynku 60 g/dm3, chlorek potasu 180 g/dm3, chlorek niklu 40 g/dm3, kwas borowy 25 g/dm3, benzoesan sodowy 3 g/dm3, benzylidenoaceton 0,2 g/dm3, 25% roztwór sulfonianu allilu 2 g oraz 25% roztwór związku gemini o wzorze 1, gdzie R jest alkilem o długości łańcucha 6 atomów węgla, R1 jest alkilenem o zawartości 8 atomów węgla, M jest grupą polioksyetylenową o ciężarze cząsteczkowym 800, m = 1,2, R1, R2 i Z jest wodorem a n+p równe jest 18 w ilości 30 g/dm3. Kąpiel testowano w komórce HS-1 opisanej w przykładzie 1, w temperaturze 30°C, przez komórkę płynął prąd o natężeniu 1 A w czasie 10 minut. Po tym czasie obie płytki wyjęto i dokładnie opłukano, a następnie pasywowano w 3% firmowej kąpieli Inwex-pas 3Cr/03/Co w czasie 5 sekund. Następnie obie płytki wypłukano i wysuszono. Płytka służąca do oceny obszaru roboczego kąpieli była pokryta pięknym błyszczącym stopem cynku z niklem w zakresie 0,1 do 5 A/dm2, a płytka służąca do oceny wgłębności była pokryta na długości 85 mm, co świadczy o bardzo dobrej wgłębności kąpieli stopowej cynk-nikiel.
P r z y k ł a d 7
Sporządzono kąpiel o składzie: chlorek cynku 45 g/dm3, chlorek potasu 210 g/dm3, chlorek żelaza (II) 5 g/dm3, chlorek chromu (III) 2 g/dm3, kwas borowy 25 g/dm3, benzoesan trietanoloaminy 5 g/-dm3, benzylidenoaceton 0,1 g/dm3, chlorek N-allilo-izochinolinowy 0,01 g/dm3, 25% roztwór wodny surfaktantu typu gemini opisanego wzorem 1, gdzie R jest alkilem o zawartości 6 atomów węgla, R1 jest alkilenem o 8 atomach węgla, M jest grupą polioksyetylenową o ciężarze cząsteczkowym 600, m = 11, R2 i R3 jest wodorem, n+p wynosi 14 a Z jest grupą 2-hydroksypropylosulfonową gdzie Y jest sodem w ilości 25 g/dm3. Kąpiel testowano w komórce HS-1, do której wlano 350 cm3 kąpieli chlorkowej o powyższym składzie i testowano z użyciem dwóch stalowych płytek przy temperaturze 32°C, czasie 10 minut, a przez komórkę płynął prąd o natężeniu 1A. Po tym czasie obie płytki stalowe opłukano
PL 209 564 B1 w zimnej wodzie, a następnie pasywowano na czarno w 4% firmowej kąpieli Inwex-black ACZ w temperaturze 35°C przez 10 minut, następnie płytki wypłukano, wysuszono i natłuszczono. Na płytce służącej do oceny obszaru roboczego kąpieli uzyskano na całej płytce, w zakresie 0,1 do 5 A/dm2 jednolitą, półbłyszczącą powłokę czarną a wgłębność oceniono na 60%.
Claims (2)
1. Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów zawierająca chlorek amonu i/lub potasu i/lub sodu w ilości 50 do 300 g/dm3, rozpuszczalne związki cynku w ilości od 10 do 100 g/dm3, kwasy buforujące w ilości 0 do 100 g/dm3, kwasy aromatyczne w ilości od 0 do 10 g/dm3, rozpuszczalne sole metali Ni, Co, Fe, Cr, Mn, Sn, Ti i Mo w ilości od 0 do 50 g/dm3, aromatyczne i/lub heterocykliczne aldehydy i/lub ketony i/lub heterocykliczne związki czwartorzędowe o pierścieniu pirydyny, chinoliny, izochinoliny lub akrydyny w ilości do 0 do 5 g/dm3, anionowe związki, korzystnie siarczanowanego i/lub sulfonowanego i/lub sulfobursztynowanego oksyetylowanego alkilofenolu i/lub naftolu w iloś ci do 10 g/dm3, znamienna tym, że zawiera takż e więcej niż 0,1 g/dm3 niejonowych i/lub anionowych surfaktantów alifatycznych typu gemini, o ogólnym wzorze 1, gdzie R oznacza prosty lub rozgałęziony alkil, hydroksyalkil, halogenoalkil, epoksyalkil lub grupę alkenylową od 3 do maksimum 12 atomów węgla, R1 oznacza grupę alkilenową, halogenoalkilenową, hydroksyalkilenową, epoksyalkilenową, ketoalkilenową, alkenylową zawierającą od 1 do co najwyżej 8 atomów węgla, M jest łącznikiem i oznacza dwuwartościowy człon mostkowy o wzorach C1-D1-C1 lub D1-C1-D1 gdzie D1 jest grupą alkilenową o od 1 do 10 atomów węgla, -C(O)-, -O-D2-O-, -D2{O(CH2-CH2O)k(CH2CH(CH3)w}- lub arylem, C1, oznacza -O-, -S-, -S-S-, -SO-, -SO2-, -C(O)- lub grupę polieterową -{(OCH2CH2O)k(CH2CH(CH3)Ow}-, grupę amidową {-C(O)N(D3)-}, grupę aminową{-N(D3)-}, -O-D2-O-, D2 i D3 niezależnie od siebie oznaczają grupę alkilenową o 1 do 10 atomów węgla, arylową lub alkiloaryIową, kiedy C1 jest azotem wówczas D1, D3 i C1 mogą być częścią dwuwartościowego pierścienia piperazyny lub bis-piperazyny, kiedy C1 jest -S- lub -SS- to D1 jest heterocyklicznym 5 lub 6 członowym związkiem zawierającym przynajmniej jeden atom tlenu i/lub siarki i/lub azotu, k i w jest liczbą od 0 do 100, R2 i R3 niezależnie od siebie oznaczają wodór lub grupę metylową, a Z jest wodorem lub oznacza grupę alkilową o maksimum 4 atomach węgla lub alkiloarylową, -SO3Y, -OSO3Y, -CH2COOY, -CH2CH2COOY, -OC(CH2)tCOOY, -OCCH=CHCOOY, CH2CH(OH)CH2SO3Y, -CH2CH2CH2SO3Y, -CH2CH2-CH(SO3Y)COOY, gdzie Y jest wodorem, alkalicznym metalem, aminą alifatyczną i/lub heterocy8
PL 209 564 B1 kliczną i/lub aromatyczną, alkanoloaminą alifatyczną i/lub heterocykliczną, m ma wartość od 1 do 3, n+p jest większe niż 12, a t jest liczbą całkowitą od 1 do 6.
2. Kąpiel według zastrz. 1, znamienna tym, że zawiera jeden lub więcej dodatkowych związków wybranych z grupy składającej się z amfoterycznych związków powierzchniowo czynnych, anionowych związków powierzchniowo czynnych, kationowych związków powierzchniowo czynnych i niejonowych związków powierzchniowo czynnych lub ich mieszanin w ilości do 20 g/dm3.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL382600A PL209564B1 (pl) | 2007-06-06 | 2007-06-06 | Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL382600A PL209564B1 (pl) | 2007-06-06 | 2007-06-06 | Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL382600A1 PL382600A1 (pl) | 2008-12-08 |
| PL209564B1 true PL209564B1 (pl) | 2011-09-30 |
Family
ID=43036759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL382600A PL209564B1 (pl) | 2007-06-06 | 2007-06-06 | Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL209564B1 (pl) |
-
2007
- 2007-06-06 PL PL382600A patent/PL209564B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL382600A1 (pl) | 2008-12-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4384930A (en) | Electroplating baths, additives therefor and methods for the electrodeposition of metals | |
| KR100883131B1 (ko) | 구리-주석 합금 도금용 피로인산욕 | |
| TWI486490B (zh) | 具有終端胺基之聚合物及其在充當鋅與鋅合金電沈積浴之添加劑上的用途 | |
| Boto | Organic additives in zinc electroplating | |
| JP2009541580A (ja) | 亜鉛および亜鉛合金被覆の電気的析出のための、シアン化物を含有しない水性アルカリ性浴 | |
| US20060201820A1 (en) | Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom | |
| US9644279B2 (en) | Zinc-nickel alloy plating solution and plating method | |
| AU2679900A (en) | Zinc and zinc alloy electroplating additives and electroplating methods | |
| GB2367825A (en) | Zinc and zinc alloy electroplating additives and electroplating methods | |
| KR101998605B1 (ko) | 아연니켈합금 전기도금액 및 이를 이용한 전기도금법 | |
| TWI645079B (zh) | 酸性鋅及鋅－鎳合金電鍍浴組合物及電鍍方法 | |
| PL209564B1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów | |
| CA2826487C (en) | Zinc-iron alloy layer material | |
| PL209563B1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów | |
| PL209286B1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów | |
| PL213136B1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego nakładania cynku i jego stopów | |
| US7300563B2 (en) | Use of N-alllyl substituted amines and their salts as brightening agents in nickel plating baths | |
| US4293391A (en) | Cadmium plating baths and methods for electrodepositing bright cadmium deposits | |
| CN113166962A (zh) | 缎面铜浴和沉积缎面铜层的方法 | |
| US4270989A (en) | Cadmium plating baths and methods for electrodepositing bright cadmium deposits | |
| PL155690B1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego nakładania błyszczących powłok cynkowych lub stopowych cynku z niklem i/lub kobaltem | |
| Chandran et al. | Zinc electrodeposition from bromide electrolytes effect of additives | |
| EP2405034A1 (en) | Copper-zinc alloy electroplating bath and method of plating using same | |
| JPH0233795B2 (ja) | Metsukyokusoseibutsu | |
| SU876799A1 (ru) | Электролит цинковани |