PL18378B3 - Oziebialnik gazowy do wytwarzania kwasu azotowego. - Google Patents

Description

Najdluzszy czas trwania patentu do 21 listopada 1947 r.W patencie glównym Nr 17547 opisany jest sposób wytwarzania kwasu azotowego z tlenków azotu i gazów zawierajacych tlen, wystepujacych przy utlenianiu amo- njaku, polegajacy na tem, ze przewidziane sa specjalne przestrzenie utleniania, two¬ rzace system posrednio chlodzonych rur.Obecnie stwierdzono, ze mozna osiagnac wysoka koncentracje kwasu azotowego przy pochlanianiu tlenków azotu, jezeli ochladza sie gazy w oziebialnikach gazo¬ wych dowolnego typu ale takich rozmia¬ rów, ze z tlenków azotu i z obecnej wilgo¬ ci tworzy sie kwas azotowy, który osiaga moc odpowiadajaca zawartosci tlenków azotu gazu i temperaturze. Jezeli, np. wil¬ gotne gazy zawierajace 6—1% tlenków a- zotu ochlodzone zostaja w oziebialniku ga¬ zowym o odpowiednich rozmiarach do 15—20°C i pozostaja wewnatrz ozi^bialni- ka w przeciagu mniej wiecej 50 — 60 se¬ kund, to z wilgoci w gazach wytwarza sie kwas azotowy o zawartosci okolo 48—50 % HNOs. Jezeli gazy te zostaja poddane dal¬ szemu pochlanianiu, to w przestrzeni ad- sorpcyjnej otrzymuje sie z latwoscia kwas azotowy zawierajacy 48 — 54% HN06.Szczególne znaczenie ma stosowanie tego rodzaju oziebialnika przy wytwarza¬ niu kwasu azotowego przez utlenianie a-monjaiku i pochlanianie gazów z tlenków azotu. Przy ochladzaniu tych gazów, któ- re*'zawieraja* okolo 7 — 9% objetosciowych tlenku azotu, i pozostawieniu ich w tym o- ziebialniku okolo 50 sekund tworzy sie z tlenków azotu przy wilgoci gazów 50—58% kwas azotowy i przy pochlanianiu w ten sposób traktowanych gazów otrzymuje sie kwas azotowy, zawierajacy 52 — 58% HNOz. Przy wyzszej koncentracji tlenków azotu w gazach i silniejszem chlodzeniu o- tfzymuje sie rólYiniez wyisze koncentracje.Kwas azotowy wytwarzany zapomoca opi¬ sanego powyzej oziebialnika jest zawsze o kilka procent mocniejszy od wytwarzanego przy dotychczasowym rodzaju pracy.Stwierdzono przytem, ze oziebialniki, w których gazy pozostaja przez dluzszy czas i w których moze wytwarzac sie kwas azotowy o bardzo wysokiej koncentracji, mozna wykonywac z glinu. Dotychczas, jak wiadomo, nie mozna bylo stosowac glinu do wytwarzania ozi^bialników, gdyz ule¬ galy one przedwczesnemu zniszczeniu.Trzeba bylo przeto wytwarzac oziebialniki gazowe albo z kosztownego zelaza krzemo¬ wego albo z jeszcze kosztowniejszego V2A — materjalu. Wedlug dotychczaso¬ wych wyników oziebialniki z glinu wyka¬ zuja znaczny czas trwania bez uszkodzen, co moze byc jeszcze bardziej podniesione przez mozliwe unikanie miejsc lutowania i przez wykonanie polaczenia blach i tur zapomoca nitowania, skuwania albo w po¬ dobny' sposób.Przy stosowaniu tlenków azotu z utle¬ nienia amon jaku moga one byc, jak to jest ogólnie stosowane, odpowiednio chlodzone i nastepnie doprowadzone do opisanych o- ziebialników.Jezeli, np., 1000 kg amon jaku utle$iiafe sie w przeciagu 24 godzin na tlenki azotu i wode powietrzem w opisany sposób, to przy utlenianiu powstaje na minute okolo 10 m3 gazu. Jezeli ten gaz, majacy poczat¬ kowo temperature okolo 600—1000°C, chlodzony zostaje do 40 — 70°C i przepro¬ wadzony przez oziebialnik o zawartosci okolo 7 — 10 m3, w którym gazy zostaja ochlodzone do 20—12°C, to w oziebial- niku wytwarza sie w przeciagu 24 godzin okolo 700—1500 kg kwasu siarkowego 55 — 60%. Pozostale tlenki azotu opu¬ szczaja oziebialnik przewaznie jako czte- rotlenek.Jezeli, np., utlenianie tych 1000 kg a- monjaku wykonywa sie nie powietrzem, lecz tlenem i zawartosc tlenku azotu u- trzymana przytem zostaje w granicach 12 — 16%, to w minute powstaje 7 — 6 m3 gazu, który po ochlodzeniu do okolo 60— 80°C zostaje przeprowadzony do oziebial¬ nika gazowego o zawartosci 2 — 5 m3. W o- ziebialniku tym wytwarza sie wtedy w przeciagu 24 godzin okolo 3000 — 5000 kg kwasu azotowego 60 — 65%. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe. Oziebialnik gazowy do wytwarzania kwasu azotowego wedlug patentu Nr 17547, znamienny tern, ze jest wykonany z gUnu, przyczem oddzielne czesci glinowe laczy sie nie przez lutowanie, lecz przez nitowa¬ nie i skuwanie. Hermann Frischer, Zastepca: Inz. M. Brokman, rzecznik patentowy. Druk L. Boguslawskiego i Ski, Warszawa. PL