PL177720B1 - Zeszklenie zaopatrzone w podłoże przezroczyste i sposób wytwarzania zeszklenia zaopatrzonego w podłoże przezroczyste - Google Patents
Zeszklenie zaopatrzone w podłoże przezroczyste i sposób wytwarzania zeszklenia zaopatrzonego w podłoże przezroczysteInfo
- Publication number
- PL177720B1 PL177720B1 PL94306833A PL30683394A PL177720B1 PL 177720 B1 PL177720 B1 PL 177720B1 PL 94306833 A PL94306833 A PL 94306833A PL 30683394 A PL30683394 A PL 30683394A PL 177720 B1 PL177720 B1 PL 177720B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- functional layer
- coating
- glazing
- oxide
- refractive index
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 66
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 54
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims abstract description 36
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 4
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 53
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 15
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 14
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000012686 silicon precursor Substances 0.000 claims 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 abstract description 4
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 4
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 3
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 3
- UTLYKVGGKZYRRQ-UHFFFAOYSA-L dibutyltin(2+);difluoride Chemical compound CCCC[Sn](F)(F)CCCC UTLYKVGGKZYRRQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N Chlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)Cl VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- 241000566146 Asio Species 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- JNCMHMUGTWEVOZ-UHFFFAOYSA-N F[CH]F Chemical compound F[CH]F JNCMHMUGTWEVOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010081348 HRT1 protein Hairy Proteins 0.000 description 1
- 102100021881 Hairy/enhancer-of-split related with YRPW motif protein 1 Human genes 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N diethylsilane Chemical compound CC[SiH2]CC UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 1
- 238000005188 flotation Methods 0.000 description 1
- SBFKENUEAOCRNR-UHFFFAOYSA-K indium(3+);triformate Chemical compound [In+3].[O-]C=O.[O-]C=O.[O-]C=O SBFKENUEAOCRNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003701 inert diluent Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical class [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTRPZROOJRIMKW-UHFFFAOYSA-N triethylindigane Chemical compound CC[In](CC)CC OTRPZROOJRIMKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3441—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising carbon, a carbide or oxycarbide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
- Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
1. Zeszklenie zaopatrzone w podloze przezroczyste znamienne tym, ze jest zwlaszcza ze szkla, zaopatrzone w przezroczysta war- stwe funkcjonalna (3), przewodzaca i/lub niskoemisyjna na bazie tlenku metalu lub tlenków metali, w powloke „wewnetrzna” (2) o grubosci geometrycznej, zawartej w granicach od 70 nm do 135 nm, oraz o wspólczynniku zalamania swiatla, zawartych w granicach od 1,65 do 1,90, która jest umieszczona pomiedzy warstwa funkcjo- nalna (3) a podlozem (1), oraz w powloke „zewnetrzna” (4) o grubo- sci geometrycznej, zawartej w granicach od 70 do 110 nm, i o wspólczynniku zalamania swiatla, zawartym w granicach od 1,40 do 1,70, która jest umieszczona na warstwie funkcjonalnej (3). 12. Sposób wytwarzania zeszklenia zaopatrzonego w podloze przezroczyste, znamienny tym, ze na podloze przezroczyste (1) nanosi sie powloke wewnetrzna(2) o grubosci geometrycznej zawa- rtej w granicach od 70 nm do 135 nm oraz o wspólczynniku zalama- nia swiatla zawartym w granicach od 1,65 do 1,90 a nastepnie nanosi sie warstwe funkcjonalna(3) oraz powloke zewnetrzna(4) o grubo- sci geometrycznej zawartej w granicach od 70 do 110 nm i o wspólczynniku zalamania swiatla zawartym w granicach od 1,40 do 1,70, przy czym co najmniej jedna z powlok (2 , 4) i/lub warstwe fun- kcjonalna (3) na bazie tlenku metalu lub tlenków metali nanosi sie technika, wykorzystujaca próznie, zwlaszcza technika napylania katodowego, ewentualnie reaktywnego w obecnosci tlenu, z tarczek celowych ze stopu metali lub z materialu ceramicznego o odpowied- nich skladach FIG.1 PL PL PL PL
Description
Przedmiotem wynalazku jest zeszklenie, zaopatrzone w podłoże przezroczyste i sposób wytwarzania zeszklenia zaopatrzonego w podłoże przezroczyste.
Warstwy funkcjonalne stosuje się w szczególności do wyposażenia w niązeszkleń, przeznaczonych dla budownictwa: pokryte warstwąniskoemisyjnąpodłoże szklane pozwala zmniejszyć emisje w dalekiej podczerwieni poprzez zeszklenie, którego stanowi część składową, od wewnątrz na zewnątrz pomieszczenia. Zmniejszając straty energetyczne, uwarunkowane częściowo przez to uchodzenie promieniowania, poprawia się wyraźnie komfort mieszkańców zwłaszcza zimą. Podłoże, pokryte w ten sposób, a następnie skojarzone z innym podłożem za pośrednictwem warstwy gazu, gdzie warstwa niskoemisyjna znajduje się wewnątrz, a zwłaszcza na trzeciej powierzchni (licząc od najbardziej zewnętrznej powierzchni), stanowi bardzo efektywne podwójne zeszklenie izolacyjne. Warstwy te mogą również wyposażać zeszklenie, przeznaczone do samochodu, ze względu na ich właściowści przewodności elektrycznej, np. dla uzyskania zeszkleń grzejnych przez zastosowanie doprowadzeń prądu.
Warstwami z tlenków metali, wykazującymi takie właśckiwścr, są np. warstwy z tlenku indu z domieszką cyny /ITO/, tlenku cynku z domieszką glinu /ZnO:Al/, indu /ZnO:In/, cyny /ZnO:Sn/ lub fluoru /ZnO:F/ albo tlenku cynowego z domieszką fluoru /SnO2:F/.
Te warstwy z tlenków metali można otrzymać różnymi metodami: sposobami próżniowymi /naparowywanie cieplne, napylanie katodowe, ewentualnie za pomocą magnetronu/ lub za pomocą pirolizy związków organometalowych, natryskiwanych przez gaz nośny, w postaci ciekłej, stałej lub gazowej na powierzchnię podłoża szklanego, nagrzanego temperatury wprawdzie wysokiej, lecz niższej od jego temperatury mięknienia. Te ostatnie, zetknięte w ten sposób z gorącąpowierzchnią, rozkładają się, utleniając się i tworząc na tej ostatniej warstwę tlenku metalu. Ta ostatnia technika jest szczególnie korzystna ponieważ pozwala na wykonywanie powłok bezpośrednio na wstędze szkła na linii technologicznej typu flotacyjnego, w sposób ciągły.
Aby jednak warstwy te osiągały wysoki poziom jakościowy, zwłaszcza w aspekcie wartości emisyjności i/lub przewodności elektrycznej, ich grubość powinna wynosić co najmniej 180 nm, a nawet powyżej 400 nm, zazwyczaj być zawarta w granicach od 300 do 450 nm.
Jednakże gdy warstwa cienka wykazuje takie cechy charakterystyczne, wówczas nadaje ona podłożu, które pokrywa, wygląd odbiciowy od strony warstwy, który może nie być zbyt ceniony z estetycznego punktu widzenia.
177 720
Tak np. według treści opisu patentowego EP-B-O.125.153 warstwa tlenku cynowego z domieszką fluoru SnO2:F, której niewielka grubość wynosi od 163 do 165 nm, naniesiona na jasne podłoże ze szkła flotacyjnego o grubości 4 mm, nadaje temu ostatniemu zabarwienie odbiciowe w kolorze niebieskawym, które to zabarwienie jest obecnie bardzo cenione w dziedzinie zarówno budownictwa, jak i przemysłu samochodowego.
Odwrotnie, stwierdzono, że warstwa o tym samym charakterze, lecz tym razem o grubości 360 nm, a zatem warstwa o wyższej jakości, nadaje temu samemu podłożu wygląd odbiciowy od strony warstwy w kolorze czerwonawo-zielonkawym, czyli zabarwienie, które można uważać jako mało przyjemne dla oka. Prócz tego powleczone podłoże ma współczynnik odbicia światła Rl od strony warstwy, większy od 10%, a nawet 15%, oraz czystość barwy, skojarzoną z takim odbijaniem, mogącą przekraczać 10 do 15%, co implikuje wygląd zabarwiony i odbijający podłoża od strony warstwy (to jest ta strona, która znajduje się na ogół na trzeciej powierzchni zaszklenia podwójnego, założonego w budynku, a zatem ta, którą się widzi z zewnątrz, gdy patrzy się na elewację). Stwierdza się istotnie, że wartość czystości determinuje kolor: im bardziej zbliża się ona do 0%, tym bardziej barwa wydaje się rozmyta bielą i pastelowa. Kolor ocenia się wówczas w relacji do współczynnika odbicia światła Rl.
Otóż obecne dążenia idą raczej w kierunku koncepcji zaszkleń, zwłaszcza tych, które są przeznaczone dla budynków, by były one słabo odbijające, zwłaszcza przy patrzeniu z zewnątrz. Ten aspekt odbijania, błyszczenia jest przy tym o tyle bardziej uciążliwy, że kojarzy się z zabarwieniem mało cenionym.
Prócz tego jeśli nawet w istocie współczynnik odbicia światła Rl, równy ok. 15%, nie jest znaczny, to jednak oznacza on pewien ubytek przenoszonej energii słonecznej, zwłaszcza wewnątrz pomieszczenia, a zatem powoduje on zmniejszenie o kilka procent współczynnika słonecznego, tj. stosunku sumy przenoszonej energii słonecznej i energii słonecznej, pochłanianej przez zaszklenie, a następnie reemitowanej w kierunku wnętrza pomieszczenia, do padającej energii słonecznej. Jest to niedogodność z energetycznego punktu widzenia, zwłaszcza wówczas, gdy zamierza się wstawić takie podłoże do podwójnego zeszklenia izolacyjnego, w celu obniżenia kosztów ogrzewania.
Pierwsze rozwiązanie tego problemu, dotyczącego odbijania, przyniosło francuskie zgłoszenie patentowe FR-A-2.684.095, którego meritum jest włączone do niniejszego zgłoszenia. Rozwiązanie to polega przede wszystkim na wstawieniu pomiędzy podłoże a wymienioną poprzednio warstwę „funkcjonalną”, mającą grubość od 200 do 400 nm, pierwszej powłoki, zwanej powłoką „wewnętrzną”, której grubość optycznajest zawarta w granicach od 50 do 75 nm. Ponadto na warstwie tej umieszczonajest druga powłoka, zwana powłoką „zewnętrzną”, której grubość optyczna wynosi ok. 1/4 średniej długości fali, należącej do zakresu widzialnego, korzystnie w pobliżu 550 nm (grubość optyczna stanowi iloczyn grubości geometrycznej przez współczynnik załamania światła danej powłoki).
Zaletą takiego zespołu warstw polega na tym, że przewidziane są dwie powłoki z obu stron warstwy funkcjonalnej, co umożliwia dokładną optymalizację ich cech charakterystycznych, głównie grubości optycznej i geometrycznej oraz współczynnika załamania światła.
Taka kombinacja starannie dobranych powłok pozwala uzyskać podłoża monolityczne (np. ze szkła flotacyjnego o grubości 4 mm), które po zaopatrzeniu w zespół powłok mają współczynnik odbicia światła Rl co najwyżej 6%, któremu towarzyszy czystość zabarwienia przy odbiciu podczas padania normalnego co najwyżej 3%. Mająone ponadto emisyjność co najwyżej 0,2.
Po osadzeniu w podwójnym zeszkleniu tak, aby warstwy znajdowały się na powierzchni trzeciej, to ostatnie ma współczynnik odbicia światła nieco większy (lecz tym nie mniej poniżej 15%), z czystością zabarwienia przy odbiciu jeszcze zmniejszoną podczas padania normalnego, a nawet co najwyżej 5% i to przy zmierzonym kącie padania uważanym zwykle jako niekorzystny. Jego współczynnik słoneczny podczas padania normalnego osiąga co najmniej 0,76.
177 720
Takie wartości RL powodująprzede wszystkim wyeliminowanie głównej części efektu odbiciowego zeszklenia, pozwalając zwiększyć w sumie wartość współczynnika przepuszczania energii TE, a zatem współczynnik słoneczny.
Jeśli chodzi o wartości czystości zabarwienia w warunkach odbijania, w połączeniu z wartościami Rl, to nadająone zeszkleniom zarówno monolitycznym, jak i podwójnym mało intensywny wygląd kolorystyczny, nawet przy wybraniu kąta padania, mało dogodnego i różniącego się od kąta padania, mało dogodnego i różniącego się od kąta padania normalnego. W ten sposób można przekonać się o większej jednorodności wyglądu zeszkleń w elewacji budynku, oglądanych z zewnątrz.
Odwrotnie, nie zamierzano regulować i dobierać dominującej długości fali odbiciowej od strony warstw, tj. wybierać barwę przy odbiciu, nawetjeśli jest ona rzeczywiście bardzo osłabiona i rozmyta bieląwskutek połączenia małej czystości i małego współczynnika odbicia światła.
Celem wynalazku jest zatem opracowanie zeszklenia, które optymalizuje ten rodzaj zespołu powłok, aby zachować wszystkie jego zalety, a ponadto móc sterować wyborem barwy przy odbiciu, w szczególności móc uzyskać barwę odbiciowąpo stronie warstw w zakresie błękitu - koloru dość poszukiwanego obecnie zarówno w budownictwie, jak i w przemyśle samochodowym jako przyjemnego dla oka.
Zeszklenie według wynalazku zawiera podłoże przezroczyste, zwłaszcza szklane, zaopatrzone w warstwę, zwaną „funkcjonalną”, która jest przezroczysta, przewodząca i/lub niskoemisyjna na bazie tlenku metalu lub tlenków metali.
Pomiędzy podłożem a warstwą funkcjonalną przewidziana jest powłoka „wewnętrzna”, mająca korzystnie grubość geometryczną, zawartą w granicach od 70 do 135 nm, oraz współczynnik załamania światła, zawarty w granicach od 1,65 do 1,90.
Na warstwie funkcjonalnej umieszczona jest druga, „zewnętrzna” powłoka, mająca korzystnie grubość geometryczną, zawartą w granicach od 70 do 110 nm, oraz współczynnik załamania światła, zawarty w granicach od 1,40 do 1,70.
Jeśli chodzi o warstwę funkcjonalną, to ma ona zazwyczaj współczynnik załamania światła, bliski 2, oraz grubość, zawartą w granicach od 300 do 450 nm, korzystnie od 330 do 410 nm, zwłaszcza ok. 330, 360 lub 410 nm.
Ten nowy dobór cech charakterystycznych, dotyczących obu powłok, pozwala zapewnić, że podłoże, powleczone w ten sposób, a następnie osadzone w postaci podwójnego zeszklenia, wykazuje nie tylko czystość przy odbiciu od strony warstw, mniejszą lub równą 5%, oraz współczynnik odbicia światła, mniejszy lub równy 150%,lecz ponadto dominującą długość fali koloru odbiciowego, położoną w zakresie błękitu, a mianowicie zawartą w granicach od 465 do 480 nm. Te trzy czynniki łącząsię ze sobą, nadając zeszkleniu bardzo korzystny wygląd w warunkach odbicia, ponieważ jednocześnie słabo odbijający i o zabarwieniu mało intensywnym i bardzo ceniony.
Zaskakujące jest przy tym to, że zeszklenie może być niebieskie w warunkach odbijania, gdy jest ono powleczone warstwą funkcjonalną, mającą grubość, która - gdy wymieniona warstwa jest używana jako jedyna - odpowiada zupełnie innemu zabarwieniu. Ten wybór dominującej długości fali, otrzymanej przez skojarzenie dwóch bardzo specyficznych powłok, nie odbywa się przy tym kosztem wartości współczynnika odbicia i czystości, które pozostaj ąbardzo małe, jak już wspomniano, co jest maksymalnie korzystne.
Dwa rodzaje powłoki wewnętrznej są w szczególności faworyzowane. Może być ona mianowicie na bazie krzemu, tlenu i węgla (Si, O, C) i/lub na bazie krzemu, tlenu i azotu (Si, O, N), przy tym otrzymaną korzystnie metodąpirolizy prekursorów nakrzemowywanych, zwłaszcza na drodze gazowej CVD (Chemical Vapor Deposition), jak to omówiono w zgłoszeniu patentowym FR-A-2.677.639, lub metodą plazmową CVD, jak to podano w zgłoszeniu patentowym EP-A-413.617.
Powłoka wewnętrzna może być jednak wykonana także z mieszaniny tlenków metali, których proporcja wzajemna pozwala wyregulować żądany współczynnik załamania światła. Wymienione tlenki wybiera się w szczególności z następującej grupy: tlenek glinowy, tlenek
177 720 tytanowy, tlenek cynowy, tlenek cynkowy, tlenek indowy, jak to wymieniono we francuskim zgłoszeniu patentowym FR-A-2.670.199. Stosuje się wówczas korzystnie technikę pirolizy proszku prekursorów organometalowych. Można również, w dodatku bardziej specyficznie, stosować warstwę pośrednią na bazie tlenków glinu i tytanu lub cyny, uzyskana korzystnie przez pirolizę na drodze ciekłej prekursorów organometalowych, jak to jest proponowane w europejskim zgłoszeniu patentowym EP-A-465.309. Grubość geometryczna tej powłoki wybiera się korzystnie w granicach od 90 do 120 nm.
Sama warstwa funkcjonalna jest korzystnie na bazie tlenku metalu lub tlenków metali z domieszkami, należących do grupy, obejmującej tlenek indu z domieszką cyny (ITO), tlenku cynku z domieszką indu ZnO:In, fluoru ZnO:F, glinu ZnO:Al lub cyny ZnO:Sn, a także tlenek cyny z domieszką fluoru SnO2:F, przy czym ten ostatni tlenek stanowi preferowaną postać wykonania wynalazku.
Warstwę te można również wytworzyć za pomocą metody pirolizy, zwłaszcza związków sproszkowanych, gdy warstwa jest wykonana z SnO2:F lub z ITO.
Warstwy SnO2:F można wytwarzać z tlenku dwubutylocyny (DBTO) w proszku i z bezwodnego gazowego kwasu fluorowodorowego, jak to jest opisane w opisie patentowym FR-2.380.997, lub z dwufluorku dwubutylocyny (DBTF), ewentualnie w mieszaninie z DBTO, jak to jest opisane w dokumencie EP-A-178.956 lub EP-A-039.256.
Jeśli chodzi o warstwy z ITO, to można je otrzymać np. z mrówczanu indu i ze związku cyny, takiego jak DBTO, opisanego w dokumencie EP-A-192.009.
Można także otrzymać warstwy z SnO2:F przez pirolizę w fazie gazowej, zwłaszcza z mieszaniny związków cyny, np. (CHĄ^SnC^, (C^jH^SnC^, Sn(C2H5)4 oraz związków organofluorowanych, takichjak CCLF), CHClF2, i CH3CHF2, jak to jest opisane w zgłoszeniu patentowym EP-A-027.403, bądź też z monobutylotrójchlorocyny i związku, takiego jak chlorodwufluorometan, wymienionego w zgłoszeniu patentowym EP-A-121.459.
Warstwy z SnO2:F można także otrzymać w fazie ciekłej z acetyloacetonianu cyny lub dwumetylocyny-2-propionianu w odpowiednich rozpuszczalnikach organicznych, jak to opisano zwłaszcza w opisie patentowym FR-2.211.411.
Warstwy z tlenku cynkowego z domieszką indu lub glinu można otrzymać przez pirolizę w fazie parowej z dwuetylocynku lub octanu cynku i trójetyloindu, chlorku indu lub trójetyloglinu, chlorku glinowego, jak to jest opisane w zgłoszeniu patentowym EP-A-385.769.
Powłokę zewnętrzną dobiera się korzystnie w taki sposób, aby jej grubość geometryczna była zawarta w granicach od 80 do 100 nm, a zwłaszcza od ok. 90 do ok. 95 nm.
Jak to już uprzednio wspomniano, zalecany zakres współczynników załamania światła dla tej powłoki zawiera się w granicach od 1,40 do 1,70. Wykonując powłokę można wybrać w tym zakresie związki krzemu, np. tlenek krzemu SiO2 lub tlenowęgliki albo tlenoazotki krzemu. Tlenek krzemu ma współczynnik załamania światła ok. 1,45, natomiast zwłaszcza tlenowęgliki maja większy ten współczynnik, który można zresztą regulować przez zmianę zawartości węgla w powłoce.
Można jednak również preferować powłoki na bazie tlenku metalu lub mieszanin tlenków metali, wybranych np. spośród tlenku glinowego, tlenku tytanowego, tlenku cyrkonowego lub tlenku chromowego.
W pierwszym przypadku można otrzymać powłokę, stosując w szczególności wymienione już techniki CVD, w celu wytworzenia powłoki wewnętrznej.
Można także stosować technikę CVD, używając jako prekursorów związków organokrzemowanych, skojarzonych z gazem utleniającym, np. tlenem (lub z dowolnym innym gazem słabiej utleniającym, np. z H2O lub N2O) w obojętnym gazie rozcieńczającym typu azotu. Jako odpowiednie związki organokrzemowane można wymienić dwuetyl silanowy ShClFJJE, sześciometylodwusilan (CH3)Si-Si(CH3)3, czteroetyloortokrzemian (Si/OC2H5)4, sześciometylodwusilaksan (CH3)3-Si-O-Si(CH3)3, ośmioetylocykloczterosiloksan (/C^ĄSiO^, czterometylocykloczterosiloksan (CH3HSiO)4, a także sześciometylodwusilazan lub czterometylosilan.
177 720
Bez względu na rodzaj prekursora krzemowanego można regulować zawartość węgla w warstwie, zwłaszcza przez regulację proporcji wzajemnej poszczególnych związków prekursorowych w tej ostatniej.
W drugim przypadku można wybrać otrzymanie powłoki z tlenku metalu lub tlenków metali metoda nanoszenia pirolitycznego odpowiednich prekursorowych proszków organometalowych, jak to jest opisane zwłaszcza w europejskim zgłoszeniu patentowym EP-0.500.445 i we francuskim zgłoszeniu patentowym o numerze złożenia 93 02 136 z dnia 25 lutego 1993 r., przy czym zawartość merytoryczna tych zgłoszeń patentowych jest włączona do niniejszego zgłoszenia. Zaletą zastosowania urządzenia do nanoszenia, opisanego w wymienionym francuskim zgłoszeniu patentowym, jest możliwość kolejnego łatwego nałożenia warstwy funkcjonalnej i powłoki zewnętrznej.
Dobór dla powłoki zewnętrznej mniejszego lub większego wskaźnika załamania światła w zakresie 1,4-1,7 jest w istocie rzeczy kwestią kompromisu. Stwierdzono istotnie, że przy danej grubości optycznej raczej duży współczynnik poprawia własności fizyko-chemiczne zespołu warstw, natomiast mniejszy współczynnik poprawia jego właściwości optyczne, optymalizując w szczególności jego właściwość przeciwodbiciową (należy pamiętać, że grubość optyczna stanowi iloczyn grubości geometrycznej przez współczynnik załamania światła danej warstwy). Dobór tego współczynnika dla powłoki zewnętrznej pozwala dzięki temu położyć nacisk na określoną właściwość, zwłaszcza w zależności od zamierzonego wykorzystania zeszklenia, niosącego zespół warstw·’.
Wariantowa postać wykonania wynalazku polega na wstawieniu powleczonego w ten sposób podłoża w podwójne zeszklenie w taki sposób, aby po jego zamontowaniu warstwy znajdowały się na trzeciej powierzchni. Można wówczas nałożyć z korzyścią na drugą powierzchnię, bądź na inne podłoże przezroczyste, oddzielone od pierwszego warstwą gazu, powłokę dodatkową, zwłaszcza o małym współczynniku załamania światła. Może tu chodzić np. o powłokę na bazie tlenku krzemowego, która może wówczas przyczynić się w szczególności do zmniejszenia wartości współczynnika odbicia światła RL wymienionego zeszklenia.
Aby nanieść warstwę funkcjonalną i jej powłoki, można stosować dowolny rodzaj techniki nakładania. W szczególności przynajmniej jednąz warstw - gdy jest na bazie tlenku metalu lub tlenków metali - można nanieść metodą, wykorzystującą próżnię, zwłaszcza metodą napylania katodowego, ewentualnie reaktywnego w obecności tlenu, z tarcz celowych ze stopu metali lub z materiału ceramicznego o odpowiednich składach.
Dla nałożenia przynajmniej jednej z warstw preferuje się jednka stosowanie techniki pirolizy na drodze stałej, ciekłej lub gazowej, jak to już wymieniono, ponieważ ten rodzaj techniki umożliwia ciągłe nanoszenia na wstęgę szkła.
Preferowany sposób uzyskiwania zespołu warstw według wynalazku polega zatem na wykonaniu pierwszego naniesienia powłoki wewnętrznej metodą CVD na wstęgę szkła w komorze flotacyjnej, a następnie na naniesieniu warstwy funkcjonalnej metodą pirolizy, zwłaszcza związków sproszkowanych, pomiędzy komorą flotacyjną a obszarem ciągnienia, a wreszcie na naniesieniu powłoki zewnętrznej bądź metodą CVD przed obszarem ciągnienia lub w nim, bądź też metodą pirolizy proszku lub proszków zaraz po nałożeniu warstwy funkcjonalnej.
Inne szczegóły i korzystne cechy wynalazku wynikają z dalszego opsiu nie ograniczających jego zakresu przykładów wykonania w oparciu o fig. 1 rysunku, która przedstawia powleczone podłoże według wynalazku w przekroju poprzecznym.
Stosując wynalazek w praktyce według podanych poniżej przykładów, trzeba było zatem ustalić cechy charakterystyczne powłoki wewnętrznej 2 i powłoki zewnętrznej 4 w zależności od grubości warstwy funkcjonalnej 3, aby uzyskać żądaną dominującą długość fali, a tym samym kolor szczątkowy.
Przykłady 1-6
Następujące przykłady 1-6 odnoszą się do podłoża 1 z jasnego szkła krzemowo-sodowo-wapniowego o grubości 4 mm, na którym znajduje się powłoka wewnętrzna 2 na bazie krzemu, tlenu i węgla, otrzymana metodą CYD według treści francuskiego zgłoszenia patentowego
177 720
FR-A-2.677.639, wymienionego powyżej, dalej warstwa funkcjonalna 3 z SnO2:F, otrzymana znaną metodą pirolizy proszku z DBTF, jak to opisano w wymienionych opisach patentowych, oraz powłoka zewnętrzna 4 na bazie tlenku krzemowego, uzyskana również metodą CVD w znany sposób.
Podkreśla się, że odwzorowanie na fig. 1 jest bardzo schematyczne i nie zachowuje wzajemnych proporcji grubości materiałów 1, 2, 3, 4 dla większej przejrzystości.
Wszystkie pomiary spektrofotometryczne zostały dokonane w odniesieniu do źródła oświetlającego D65.
Skróty, użyte w podanych poniżej tabelach 1-3, które streszczają właściwości odbicia światła w przykładach - co następuje : RL (%) - współczynnik odbicia świałła w procentach; Pe - czystość wzbudzenia w procentach, zmierzona przy padaniu normalnym, a Lambda - długość fali dominująca w nanometrach na wykresie chromatyczności (x, y); c nasycenie przy c * = y a* + b* w systemie kolorymetrycznym (L*, a*, b*) oraz CR - kolor szczątkowy w warunkach odbijania od strony warstw. Podkreśla się, że te wartości odpowiadają wartościom, zmierzonym w przypadku zeszklenia podwójnego, zawierającego podłoże 1, powleczone zespołem warstw 2,3,4 na powierzchni trzeciej i oddzielone warstwą powietrza o grubości 12 mm podłoża niepowleczonego, lecz identycznego z podłożem 1.
Przykład 1 jest podany tytułem porównania.
Przykład 1
Powłoka wewnętrzna 2 ma grubość geometryczną 100 nm i współczynnika załamania światła 1,70. Warstwa funkcjonalna 3 ma grubość geometryczną 360 nm. Powłoka zewnętrzna z SiO2 ma współczynnik załamania światła 1, 45 i grubość fizyczną 65 nm.
Następne przykłady 2-5 są wykonane według wynalazku.
Przykład 2
Powłoka wewnętrzna 2 ma grubość geometryczną 115 nm i współczynnik załamania światła 1,90. Warstwa funkcjonalna 3 ma grubość geometryczną ok. 350 nm. Powłoka zewnętrzna z SiO2 ma współczynnik załamania światła ok. 1,45 i grubość geometryczną ok. 90 nm,
Przykład3
Powłoka wewnętrzna 2 ma grubość geometryczną 110 nm i współczynnik załamania światła 1,77. Warstwa funkcjonalna 3 ma grubość geometryczną ok. 375 nm. Powłoka zewnętrzna 4 z SiO2 ma współczynnik załamania światła ok. 1,45 i grubość geometryczną ok. 93 nm. Jej emisyjność wynosi 0,17.
Przykład 4
Powłoka wewnętrzna 2 ma grubość geometryczną 130 nm i współczynnik załamania światła 1,67. Warstwa funkcjonalna 3 ma grubość ok. 352 nm. Powłoka zewnętrzna 4 z SiO2 ma grubość geometryczną ok. 93 nm i współczynnik załamania ok. 1,45. Jej emisyjność wynosi 0,18.
Przykład 5
Powłoka wewnętrzna 2 ma grubość geometryczną 85 nm i współczynnik załamania światła 1,70. Warstwa funkcjonalna 3 ma grubość 360 nm. Powłoka zewnętrzna 4 z SiO2 ma współczynnik załamania światła 1,45 i grubość geometryczną ok. 100 nm.
Tabela 1
| Przykład | Rl | Pe | Lambda | C | CR |
| 1 | 12,9 | 4,8 | 564 | - | czerwony |
| 2 | 13,8 | 4 | 475 | 2,9 | niebieski |
| 3 | 13,2 | 4 | 477 | 2,9 | niebieski |
| 4 | 13,3 | 5 | 478 | 3,3 | niebieski |
| 5 | 11,7 | 5,8 | 477 | - | niebieski |
177 720
Z porównania przykładu 1 z następnymi przykładami wynika, że dla otrzymania żądanego koloru niebieskiego w warunkach odbijania niezbędne jest przyjęcie właściwości, zwłaszcza w zakresie grubości, w przypadku powłoki zarówno wewnętrznej, jak i zewnętrznej, które byłyby starannie dobrane w myśl wynalazku. Stwierdza się ponadto, że przykłady 2-4 wykazują również wartości R Pe i c* bardzo niskie, zwłaszcza przy RL rzędu 15% i nasyceniach c*, mniejszych od 5 w podwójnym zeszkleniu. Wygląd zeszkleń w świetle odbitym jest zatem bardzo estetyczny, ponieważ jednocześnie blady, przeciwodbiciowy i przyjemny dla oka, przy czym ten wybór estetyki nie dokonuje się kosztem dobrych właściwości zeszklenia, które zachowuje zadawalające wartości emisyjności.
Przykład 6
Powłoka wewnętrzna 2 ma grubość geometryczną 110 nm i współczynnik załamania światła 1,75. Warstwa funkcjonalna 3 ma grubość geometryczną ok. 360 nm, a powłoka zewnętrzna 4 jest z SiO2 przy grubości geometrycznej ok. 93 nm.
W poniższej tabeli 2 zestawiono niektóre wyjaśnione już wartości fotometryczne tego powleczonego podłoża, osadzonego w podwójnym zeszkleniu, jednak tym razem przy kącie alfa pomiaru tych wartości, zmieniającym się od 0°(padanie normalne) do 40°.
Tabela 2
| Alfa | Rl | Lambda | Pe | CR |
| 0° | 12,4 | 476 | niebieski | |
| 20° | 12,5 | 476 | 5,3 | niebieski |
| 40° | 13,6 | 430 | 3,5 | niebieski |
Z tabeli tej wynika, że nawet jeśli kąt pomiaru zmienia się bardzo znacznie, to wygląd w świetle odbitym pozostaje bardzo stabilny, zwłaszcza w paśmie koloru niebieskiego. Oznacza to, że elewacja np. budynku, wyposażona w takie zeszklenia będzie mieć bardzo korzystnie wygląd bardzo jednorodny przy patrzeniu z zewnątrz, bez względu na kąt obserwacji.
Przykłady 7 i 8
Przykłady 7 i 8 są podobne do poprzednich z tą jedynie różnicą, że nie wykorzystują powłoki zewnętrznej z tlenku krzemowego SiO2, lecz raczej powłokę zewnętrzną typu Si, O, C o nieco większym współczynniku załamania światła. Powłokę tę można otrzymać metoda CVD bez różnicy przy tej samej technice i tych samych prekursorachjak w przypadku powłoki wewnętrznej (tj. zwłaszcza przy użyciu SiH4 i etylenu), zatem metoda CVD z prekursorami organometalowymi typu sześciometylodwusilanu lub czterometylosylanu, skojarzonymi z utleniaczami „łagodnymi” typu N2O lub H2O. W obu tych przypadkach otrzymuje się żądany współczynnik załamania światła przez odpowiedni dobór ilości poszczególnych prekursorów składowych miotanego gazu reaktywnego.
Przykład 7
Powłoka wewnętrzna 2 ma grubość geometryczną 95 nm współczynnik załamania światła 1,70. Warstwa funkcjonalna 3 ma grubość geometryczną360 nm. Powłoka zewnętrzna 4 ma grubość geometryczną 88 nm i współczynnik załamania światła 1,65.
Przykład 8
Powłoka wewnętrzna 2 ma grubość geometryczną 90 nm i współczynnik załamania światła 1,65. Parametry warstwy funkcjonalnej i powłoki zewnętrznej sątakie same jak w przykładzie 6.
Tabela 3 podaje parametry optyczne, dotyczące tych dwóch przykładów, zmierzone w taki sam sposób jak w przykładzie 1-5wtabeli 1 (ten sam układwpostaci podwójnego zeszklenia).
177 720
Tabela 3
| Przykład | Rl | Pe | Lambda | CR |
| 7 | 13 | 470 | 3,9 | niebieski |
| 8 | 13,1 | 471 | 4,3 | niebieski |
Parametry optyczne tych dwóch zespołów warstw są zatem zadowalające, nawetjeśli wartość RLjest nieco większa od tej, jaką uzyskano w przypadku zespołów warstw z poprzednich przykładów. Odwrotnie, zaobserwowano, że obydwa te zespoły warstw mają wyższe parametry fizyko-chemiczne i większą trwałość, co jest bardzo korzystne.
FIG.1
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz. Cena 2,00 zł.
Claims (16)
- Zastrzeżenia patentowe1. Zeszklenie zaopatrzone w podłoże przezroczyste znamienne tym, że jest zwłaszcza ze szkła, zaopatrzone w przezroczystą warstwę funkcjonalną (3), przewodząca i/lub niskoemisyjną na bazie tlenku metalu lub tlenków metali, w powłokę „wewnętrzną” (2) o grubości geometrycznej, zawartej w granicach od 70 nm do 135 nm, oraz o współczynniku załamania światła, zawartych w granicach od 1,65 do 1,90, która jest umieszczona pomiędzy warstwą funkcjonalną (3) a podłożem (1), oraz w powłokę „zewnętrzną” (4) o grubości geometrycznej, zawartej w granicach od 70 do 110 nm, i o współczynniku załamania światła, zawartym w granicach od 1,40 do 1,70, która jest umieszczona na warstwie funkcjonalnej (3).
- 2. Zeszklenie według zastrz. 1, znamienne tym, że warstwa funkcjonalna (3) ma współczynnik załamania światła, bliski 2, oraz grubość, zawartą w szczególności w granicach od 300 do 450 nm, zwłaszcza w granicach od 330 do 410 nm a korzystnie ok. 330, 360 lub 410 nm.
- 3. Zeszklenie według zastrz. 1, znamienne tym, że powłoka zewnętrzna (4) ma grubość geometryczną, zawartą w granicach od 80 do 100 nm, zwłaszcza od ok. 90 do ok. 95 nm.
- 4. Zeszklenie według zastrz. 1, znamienne tym, że powłoka wewnętrzna (2) ma grubość geometryczną, zawartą w granicach od 90 do 120 nm.
- 5. Zeszklenie według zastrz. 1 albo 2, znamienne tym, że warstwa funkcjonalna (3) zawiera co najmniej jeden domieszkowany tlenek metalu, należący do grupy, obejmującej tlenek indu z domieszką cyny ITO, tlenek cynku z domieszką indu ZnO:In, fluoru ZnO:F, glinu ZNO: Al lub cyny ZnO:Sn, tlenek cyny z domieszką fluoru SN02:F.
- 6. Zeszklenie według zastrz. 1 albo 4, znamienne tym, że powłoka wewnętrzna (2) składa się z co najmniej jednego z tlenków metali, należących do grupy, obejmującej tlenek tytanu, glinu, cynku, cyny i indu.
- 7. Zeszklenie według zastrz. 1 albo 4, znamienne tym, że powłoka wewnętrzna (2) składa się z tlenowęglika i/lub tlenoazotku krzemu.
- 8. Zeszklenie według zastrz. 1 albo 3, znamienne tym, że powłoka zewnętrzna (4) jest związkiem krzemu, wybranym spośród tlenku krzemu, tlenowęglika i/lub tlenoazotku krzemu.
- 9. Zeszklenie według zastrz. 1 albo 3, znamienne tym, że powłoka zewnętrzna (4) jest wybrana spośród co najmniej jednego z tlenków metali, należących do grupy, obejmującej tlenek glinu, tlenek tytanu, tlenek cyrkonu, tlenek chromu.
- 10. Zeszklenie według zastrz. 1, znamienne tym, że jest zeszkleniem wielokrotnym, zwłaszcza podwójnym, kojarzącym z innym podłożem przezroczystym podłoże (1), zaopatrzone w swe warstwy (2, 3, 4), przy czym zeszklenie podwójne ma kolor odbiciowy od strony warstw, którego nasycenie jest mniejsze od 5 i którego dominująca długość fali, zawarta w granicach od 465 do 480 nm, należy do pasma niebieskiego, a także wartość współczynnika odbicia światła RL, mniejszą lub równą 15%.
- 11. Zeszklenie według zastrz. 1 albo 10, znamienne tym, że jest podwójnym zeszkleniem kojarzącym z podłożem (1) o wartościach (2,3,4) z innym podłożem szklanym, przy czym warstwy (2,3,4) znajdują się na trzeciej powierzchni, a drugie podłoże jest powleczone alternatywnie na drugiej powierzchni warstwą o małym współczynniku załamania światła typu tlenku krzemu.
- 12. Sposób wytwarzania zeszklenia zaopatrzonego w podłoże przezroczyste, znamienny tym, że na podłoże przezroczyste (1) nanosi się powłokę wewnętrzną (2) o grubości geometrycznej zawartej w granicach od 70 nm do 135 nm oraz o współczynniku załamania światła zawartym177 720 w granicach od 1,65 do 1,90 a następnie nanosi się warstwę funkcjonalną(3) oraz powłokę zewnętrzną (4) o grubości geometrycznej zawartej w granicach od 70 do 110 nm i o współczynniku załamania światła zawartym w granicach od 1,40 do 1,70, przy czym co najmniej jednąz powłok (2, 4) i/lub warstwę funkcjonalną (3) na bazie tlenku metalu lub tlenków metali nanosi się techniką, wykorzystującą próżnię, zwłaszcza techniką napylania katodowego, ewentualnie reaktywnego w obecności tlenu, z tarczek celowych ze stopu metali lub z materiału ceramicznego o odpowiednich składach.
- 13. Sposób według zastrz. 12, znamienny tym, że co najmniej jednąz powłok (2,4) i/lub warstwą funkcjonalną (3) nanosi się metodą pirolizy.
- 14. Sposób według zastrz. 12, znamienny tym, że powłokę wewnętrzną (2) nanosi się przez naparowywanie chemiczne CVD prekursorów organometalowych lub krzemowych albo przez pirolizę proszku lub proszków prekursorów organometalowych.
- 15. Sposób według zastrz. 12, znamienny tym, że warstwę funkcjonalną(3) nanosi się techniką nakładania przez pirolizę proszku prekursorów organometalowych.
- 16. Sposób według zastrz. 12, znamienny tym, że powłokę zewnętrzną (4) nanosi się techniką nakładania przez naparowywanie chemiczne CVD prekursorów krzemowych, jeśli składa się ze związku lub związków krzemu, albo techniką nakładania przez pirolizę proszku lub proszków, jeśli składa się z tlenku metalu lub tlenków metali.* * *
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9305056A FR2704545B1 (fr) | 1993-04-29 | 1993-04-29 | Vitrage muni d'une couche fonctionnelle conductrice et/ou basse-émissive. |
| PCT/FR1994/000429 WO1994025410A1 (fr) | 1993-04-29 | 1994-04-18 | Vitrage muni d'une couche fonctionnelle conductrice et/ou basse emissive |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL306833A1 PL306833A1 (en) | 1995-04-18 |
| PL177720B1 true PL177720B1 (pl) | 2000-01-31 |
Family
ID=9446559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL94306833A PL177720B1 (pl) | 1993-04-29 | 1994-04-18 | Zeszklenie zaopatrzone w podłoże przezroczyste i sposób wytwarzania zeszklenia zaopatrzonego w podłoże przezroczyste |
Country Status (19)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5520996A (pl) |
| EP (1) | EP0648196B1 (pl) |
| KR (1) | KR950702179A (pl) |
| CN (1) | CN1108862A (pl) |
| AT (1) | ATE181546T1 (pl) |
| BR (1) | BR9405295A (pl) |
| CA (1) | CA2138798A1 (pl) |
| CZ (1) | CZ333594A3 (pl) |
| DE (1) | DE69419224T2 (pl) |
| DK (1) | DK0648196T3 (pl) |
| ES (1) | ES2135573T3 (pl) |
| FI (1) | FI946122A (pl) |
| FR (1) | FR2704545B1 (pl) |
| NO (1) | NO944952D0 (pl) |
| PL (1) | PL177720B1 (pl) |
| RO (1) | RO114784B1 (pl) |
| RU (1) | RU2127231C1 (pl) |
| TR (1) | TR28354A (pl) |
| WO (1) | WO1994025410A1 (pl) |
Families Citing this family (66)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6673438B1 (en) | 1994-05-03 | 2004-01-06 | Cardinal Cg Company | Transparent article having protective silicon nitride film |
| FR2722493B1 (fr) | 1994-07-13 | 1996-09-06 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage hydrophobe multicouches |
| FR2727107B1 (fr) * | 1994-11-21 | 1996-12-27 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage muni d'au moins une couche mince et son procede d'obtention |
| FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| FR2736632B1 (fr) * | 1995-07-12 | 1997-10-24 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage muni d'une couche conductrice et/ou bas-emissive |
| FR2738813B1 (fr) * | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
| JPH09241037A (ja) * | 1996-03-07 | 1997-09-16 | Nissan Motor Co Ltd | 防曇性被膜形成基材およびその製造方法 |
| FR2748743B1 (fr) * | 1996-05-14 | 1998-06-19 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage a revetement antireflet |
| US5945209A (en) * | 1996-11-07 | 1999-08-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-reflection film and plasma display panel |
| US6018902A (en) * | 1997-06-27 | 2000-02-01 | Ebsco Industries, Inc. | Iridescent coating for fishing lure |
| US6074730A (en) * | 1997-12-31 | 2000-06-13 | The Boc Group, Inc. | Broad-band antireflection coating having four sputtered layers |
| US6265076B1 (en) | 1998-02-06 | 2001-07-24 | Libbey-Owens-Ford Co. | Anti-reflective films |
| JP3548434B2 (ja) * | 1998-09-14 | 2004-07-28 | 日本板硝子株式会社 | ガラスパネル |
| US6974629B1 (en) * | 1999-08-06 | 2005-12-13 | Cardinal Cg Company | Low-emissivity, soil-resistant coating for glass surfaces |
| US6964731B1 (en) * | 1998-12-21 | 2005-11-15 | Cardinal Cg Company | Soil-resistant coating for glass surfaces |
| US6660365B1 (en) | 1998-12-21 | 2003-12-09 | Cardinal Cg Company | Soil-resistant coating for glass surfaces |
| JP2001002449A (ja) * | 1999-04-22 | 2001-01-09 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 低放射ガラスと該低放射ガラスを使用したガラス物品 |
| DE19927683C1 (de) * | 1999-06-17 | 2001-01-25 | Sekurit Saint Gobain Deutsch | Sonnen- und Wärmestrahlen reflektierende Verbundglasscheibe |
| FR2795745B1 (fr) * | 1999-06-30 | 2001-08-03 | Saint Gobain Vitrage | Procede de depot d'une couche a base de tungstene et/ou de molybdene sur un substrat verrier, ceramique ou vitroceramique, et substrat ainsi revetu |
| JP2001186967A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 冷凍・冷蔵庫用ガラスと該ガラスを使用したガラス物品 |
| US6749337B1 (en) | 2000-01-26 | 2004-06-15 | Varian Medical Systems, Inc. | X-ray tube and method of manufacture |
| DE10019888B4 (de) * | 2000-04-20 | 2011-06-16 | Schott Ag | Transparente elektronische Bauelementanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| US6921579B2 (en) * | 2000-09-11 | 2005-07-26 | Cardinal Cg Company | Temporary protective covers |
| US6456692B1 (en) * | 2000-09-28 | 2002-09-24 | Varian Medical Systems, Inc. | High emissive coatings on x-ray tube components |
| WO2002035574A1 (en) * | 2000-10-23 | 2002-05-02 | Varian Medical Systems, Inc. | X-ray tube and method of manufacture |
| US6743488B2 (en) | 2001-05-09 | 2004-06-01 | Cpfilms Inc. | Transparent conductive stratiform coating of indium tin oxide |
| US6589657B2 (en) * | 2001-08-31 | 2003-07-08 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Anti-reflection coatings and associated methods |
| US20030049464A1 (en) * | 2001-09-04 | 2003-03-13 | Afg Industries, Inc. | Double silver low-emissivity and solar control coatings |
| US6902813B2 (en) * | 2001-09-11 | 2005-06-07 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic surfaces carrying temporary protective covers |
| US6770321B2 (en) * | 2002-01-25 | 2004-08-03 | Afg Industries, Inc. | Method of making transparent articles utilizing protective layers for optical coatings |
| CA2477844C (en) * | 2002-03-01 | 2010-10-05 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having niobium-titanium layer |
| US6919133B2 (en) * | 2002-03-01 | 2005-07-19 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
| FR2836912B1 (fr) * | 2002-03-06 | 2004-11-26 | Saint Gobain | Susbstrat transparent a revetement antireflets avec proprietes de resistance a l'abrasion |
| US7067195B2 (en) * | 2002-04-29 | 2006-06-27 | Cardinal Cg Company | Coatings having low emissivity and low solar reflectance |
| US7122252B2 (en) * | 2002-05-16 | 2006-10-17 | Cardinal Cg Company | High shading performance coatings |
| US7138182B2 (en) | 2002-07-31 | 2006-11-21 | Cardinal Cg Compay | Temperable high shading performance coatings |
| US20060077549A1 (en) * | 2003-05-14 | 2006-04-13 | Mrakami Corporation | Anti-fog mirror |
| ATE377579T1 (de) | 2004-07-12 | 2007-11-15 | Cardinal Cg Co | Wartungsarme beschichtungen |
| DE102004040887B4 (de) | 2004-08-24 | 2018-03-29 | Volkswagen Ag | Glasscheibe mit wenigstens einer transparenten Beschichtung für Fahrzeuge |
| US8092660B2 (en) | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
| US7923114B2 (en) | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
| CN101124085B (zh) * | 2005-02-24 | 2012-02-01 | 皮尔金顿北美公司 | 抗反射绝热装配玻璃制品 |
| CN101180243B (zh) * | 2005-04-29 | 2013-03-27 | 旭硝子欧洲玻璃公司 | 涂覆基板和制备涂覆基板的方法 |
| USRE43388E1 (en) * | 2005-07-26 | 2012-05-15 | Pilkington North America, Inc. | Silver-free low-E solar control coating |
| WO2007124291A2 (en) | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Cardinal Cg Company | Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances |
| US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
| KR101563197B1 (ko) | 2007-09-14 | 2015-10-26 | 카디날 씨지 컴퍼니 | 관리 용이한 코팅 및 이의 제조방법 |
| GB0904803D0 (en) * | 2009-03-20 | 2009-05-06 | Univ London | Coated substrate |
| US8293344B2 (en) | 2010-02-26 | 2012-10-23 | Guardian Industries Corp. | Articles including anticondensation coatings and/or methods of making the same |
| US8815059B2 (en) | 2010-08-31 | 2014-08-26 | Guardian Industries Corp. | System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation |
| US8939606B2 (en) | 2010-02-26 | 2015-01-27 | Guardian Industries Corp. | Heatable lens for luminaires, and/or methods of making the same |
| EP3141534B1 (en) * | 2010-02-26 | 2019-06-05 | Guardian Glass, LLC | Articles including anticondensation and/or low-e coatings and/or methods of making the same |
| US8304045B2 (en) | 2010-02-26 | 2012-11-06 | Guardian Industries Corp. | Articles including anticondensation coatings and/or methods of making the same |
| US8524337B2 (en) | 2010-02-26 | 2013-09-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treated coated article having glass substrate(s) and indium-tin-oxide (ITO) inclusive coating |
| US8834976B2 (en) | 2010-02-26 | 2014-09-16 | Guardian Industries Corp. | Articles including anticondensation and/or low-E coatings and/or methods of making the same |
| US9422189B2 (en) * | 2011-02-11 | 2016-08-23 | Guardian Industries Corp. | Substrates or assemblies having directly laser-fused frits, and/or method of making the same |
| FR2973023B1 (fr) * | 2011-03-25 | 2019-08-02 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage multiple isolant comprenant deux empilements bas emissifs |
| EP2691343B1 (en) | 2011-03-30 | 2018-06-13 | Pilkington Group Limited | Coated tinted glass article and method of making same |
| BE1019988A3 (fr) * | 2011-05-24 | 2013-03-05 | Agc Glass Europe | Substrat verrier transparent portant un revetement de couches successives. |
| US9332862B2 (en) * | 2012-11-30 | 2016-05-10 | Guardian Industries Corp. | Refrigerator door/window |
| CN103304150A (zh) * | 2013-06-06 | 2013-09-18 | 中国南玻集团股份有限公司 | 智能调光低辐射玻璃及其制备方法 |
| CN103695856B (zh) * | 2013-12-24 | 2015-11-04 | 滨州学院 | 柔性F掺杂SnO2透明导电薄膜及制备方法 |
| RU2608858C2 (ru) * | 2015-06-17 | 2017-01-25 | Открытое акционерное общество "Ракетно-космическая корпорация "Энергия" имени С.П. Королёва" (ОАО "РКК "Энергия") | Стекло с оптически прозрачным защитным покрытием и способ его изготовления |
| EP3387163B1 (en) | 2015-12-11 | 2020-04-29 | Cardinal CG Company | Method of coating both sides of a substrate |
| US10604442B2 (en) | 2016-11-17 | 2020-03-31 | Cardinal Cg Company | Static-dissipative coating technology |
| US11286199B2 (en) * | 2019-07-01 | 2022-03-29 | Agc Automotive Americas Co., A Division Of Agc Flat Glass North America Inc. | Substantially transparent substrates including high and low emissivity coating layers |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4440822A (en) * | 1977-04-04 | 1984-04-03 | Gordon Roy G | Non-iridescent glass structures |
| FR2439167A1 (fr) * | 1978-10-20 | 1980-05-16 | Gordon Roy Gerald | Verres couches non irises |
| DE3300589A1 (de) * | 1983-01-11 | 1984-07-12 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Verfahren zur herstellung von indiumoxid-zinnoxid-schichten |
| GB2136316B (en) * | 1983-03-17 | 1986-05-29 | Glaverbel | Coated glazing materials |
| KR0156905B1 (ko) * | 1989-02-21 | 1998-11-16 | 앨런 제이.밀러 | 코팅된 유리 제품 및 그 제조방법 |
| FR2657866A1 (fr) * | 1990-02-07 | 1991-08-09 | Saint Gobain Vitrage Int | Procede de formation d'une couche d'oxycarbure de silicium sur du verre, verre obtenu et son utilisation dans des vitrages a couche semi-conductrice. |
| FR2672884B1 (fr) * | 1991-02-20 | 1993-09-10 | Saint Gobain Vitrage Int | Couche protectrice sur un substrat conducteur. |
| JP3139031B2 (ja) * | 1991-02-21 | 2001-02-26 | 日本板硝子株式会社 | 熱線遮蔽ガラス |
| FR2675139B1 (fr) * | 1991-04-09 | 1993-11-26 | Saint Gobain Vitrage Internal | Depot de couches pyrolysees a performances ameliorees et vitrage revetu d'une telle couche. |
| US5318830A (en) * | 1991-05-29 | 1994-06-07 | Central Glass Company, Limited | Glass pane with reflectance reducing coating |
| FR2677639B1 (fr) * | 1991-06-14 | 1994-02-25 | Saint Gobain Vitrage Internal | Technique de formation par pyrolyse en voie gazeuse d'un revetement essentiellement a base d'oxygene et de silicium. |
| JPH0818849B2 (ja) * | 1991-08-29 | 1996-02-28 | 日本板硝子株式会社 | 熱線遮蔽ガラス |
| FR2684095B1 (fr) * | 1991-11-26 | 1994-10-21 | Saint Gobain Vitrage Int | Produit a substrat en verre muni d'une couche a basse emissivite. |
| NO931606L (no) * | 1992-05-26 | 1993-11-29 | Saint Gobain Vitrage | Vindusplate med en funksjonell film |
-
1993
- 1993-04-29 FR FR9305056A patent/FR2704545B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-04-18 CN CN94190250A patent/CN1108862A/zh active Pending
- 1994-04-18 CA CA002138798A patent/CA2138798A1/fr not_active Abandoned
- 1994-04-18 DK DK94913656T patent/DK0648196T3/da active
- 1994-04-18 RO RO94-02123A patent/RO114784B1/ro unknown
- 1994-04-18 KR KR1019940704791A patent/KR950702179A/ko not_active Application Discontinuation
- 1994-04-18 AT AT94913656T patent/ATE181546T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-04-18 RU RU94046262A patent/RU2127231C1/ru active
- 1994-04-18 CZ CZ943335A patent/CZ333594A3/cs unknown
- 1994-04-18 WO PCT/FR1994/000429 patent/WO1994025410A1/fr not_active Application Discontinuation
- 1994-04-18 EP EP94913656A patent/EP0648196B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-18 BR BR9405295-6A patent/BR9405295A/pt not_active Application Discontinuation
- 1994-04-18 ES ES94913656T patent/ES2135573T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-18 US US08/356,320 patent/US5520996A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-18 DE DE69419224T patent/DE69419224T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-18 PL PL94306833A patent/PL177720B1/pl unknown
- 1994-04-27 TR TR00401/94A patent/TR28354A/xx unknown
- 1994-12-20 NO NO944952A patent/NO944952D0/no not_active Application Discontinuation
- 1994-12-28 FI FI946122A patent/FI946122A/fi unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CZ333594A3 (en) | 1995-08-16 |
| FI946122A0 (fi) | 1994-12-28 |
| FI946122A (fi) | 1994-12-28 |
| FR2704545B1 (fr) | 1995-06-09 |
| DE69419224D1 (de) | 1999-07-29 |
| RO114784B1 (ro) | 1999-07-30 |
| BR9405295A (pt) | 1999-08-31 |
| EP0648196A1 (fr) | 1995-04-19 |
| CN1108862A (zh) | 1995-09-20 |
| PL306833A1 (en) | 1995-04-18 |
| EP0648196B1 (fr) | 1999-06-23 |
| DE69419224T2 (de) | 2000-02-17 |
| WO1994025410A1 (fr) | 1994-11-10 |
| ATE181546T1 (de) | 1999-07-15 |
| FR2704545A1 (fr) | 1994-11-04 |
| KR950702179A (ko) | 1995-06-19 |
| DK0648196T3 (da) | 2000-01-24 |
| CA2138798A1 (fr) | 1994-11-10 |
| RU2127231C1 (ru) | 1999-03-10 |
| NO944952L (no) | 1994-12-20 |
| RU94046262A (ru) | 1996-10-10 |
| NO944952D0 (no) | 1994-12-20 |
| US5520996A (en) | 1996-05-28 |
| ES2135573T3 (es) | 1999-11-01 |
| TR28354A (tr) | 1996-05-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL177720B1 (pl) | Zeszklenie zaopatrzone w podłoże przezroczyste i sposób wytwarzania zeszklenia zaopatrzonego w podłoże przezroczyste | |
| KR100237950B1 (ko) | 복사율이 낮은 필름이 제공된 유리 기판을 포함하는 제품 및 이의 제조방법 | |
| JP5177922B2 (ja) | 低曇り度コーティングの製法並びにそれにより製造したコーティング及び被覆された物品 | |
| EP0925260B1 (en) | Coated glass | |
| AU779141B2 (en) | Solar control coated glass | |
| US6218018B1 (en) | Solar control coated glass | |
| US5780149A (en) | Glass article having a solar control coating | |
| US5635287A (en) | Pane provided with a functional film | |
| JPH04265253A (ja) | 被覆ガラス及びその製造法 | |
| JPH07508491A (ja) | 機能性の導電性及び／又は低放射性層を有する窓ガラス | |
| AU759899B2 (en) | Solar control coated glass | |
| JP2001500464A5 (pl) | ||
| JP2001500464A (ja) | 改良被覆ガラス | |
| AU2004200384B2 (en) | Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby | |
| ZA200106821B (en) | Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby. | |
| MXPA01009238A (en) | Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby | |
| MXPA99007735A (en) | Glass coated for so control | |
| NZ505140A (en) | A near infrared (NIR) wavelength film containing a tin oxide with a NIR dopant |