Wynalazek niniejszy dotyczy urzadzenia czesciowo do odparowywania plynów w ro¬ dzaju lugu siarczynowego, czesciowo zas do przemywania gazów, np. gazów z pie¬ ców pirytowych lub z pieców do topienia sody (np. celem zmniejszenia strat alka- ljów), czesciowo wreszcie do skutecznego chlodzenia gazów (np. S0.2 przy otrzymy¬ waniu kwasu weglowego podczas wyrobu celulozy siarczynowej). Urzadzenie wedlug wynalazku znajduje równiez zastosowanie przy skraplaniu par celem przenoszenia ciepla i t. d.W urzadzeniu wedlug wynalazku ni¬ niejszego zuzytkowane zostaja wielkie po¬ wierzchnie zetkniecia, jakich dostarcza warstwa piany, wytwarzana przy przepu¬ szczaniu gazów, wzglednie par przez plyn.Przez urzadzenie wpustu dla gazu na od¬ powiedniej glebokosci pod poziomem dane¬ go plynu oraz odpowiednie uregulowanie szybkosci gazu i temperatury mozna uzy¬ skac tak duze banki powietrzne w warstwie piany, iz powierzchnie zetkniecia sie gazu, wzglednie par z plynem beda bardzo wiel¬ kie.Urzadzenie wedlug wynalazku w prak¬ tyce sklada sie glównie z naczynia, zaopa¬ trzonego w otwór wpustowy i rure wyloto¬ wa dla plynu, z którym ma byc uzyskana wielka powierzchnia zetkniecia, jako tez w otwór wpustowy i wylotowy dla gazów lub par, którym ma byc przekazane cieplo lub z których maja byc wydzielone brud, pyl^ lub bardziej wartosciowe skladniki (np. al- "*' kalja z pieców do topienia sody przy wy¬ robie celulozy.^siarczynowej, opary alkoho¬ lowe przy wyrobie bakelitu i t. i)i oraz z urzadzen zaworowych, pompy do panzetlo- czania gazu, pary lub plynu przez plyn w naczyniu. Urzadzenie takie mozna w razie potrzeby zaopatrzyc w separatory do pia¬ ny lub separatory do rozpylonej cieczy.Zalaczone rysunki przedstawiaja sche¬ maty kilku odmian urzadzenia wedlug wy¬ nalazku.Fig. 1 przedstawia zasadnicza kon¬ strukcje takiego urzadzenia, fig. 2 — urza¬ dzenie, zaopatrzone w separator do piany i separator do rozpylanej cieczy, fig. 3 i 4 — urzadzenie specjalnie stosowane przy plynach bardzo gestych, fig. 5 i 6 — urza¬ dzenie o dnie dziurikowanem, fig. 7, 8, 9 i 10 — dalsize dwie odmiany urzadzenia, zaopatrzonego w separatory do piany.Na fig. i liczba / oznaczono naczynie, zaopatrzone w rure wpustowa 2 i wyloto¬ wa 3 dla danego plynu, który np. ma zo¬ stac zamieniony w pare.W dno naczynia / wpuszczona jest ru¬ ra 4, dostarczajaca gazów goracych np. spalin z palenisk, górny koniec rury tej po¬ kryty jest plyta 5 z otworami. W dolnej swej czesci naczynie oddzielone jest od o- taczajacego powietrza zapomoca zamknie¬ cia hydraulicznego 15, utworzonego przez doprowadzany plyn. W górnej czesci na¬ czynia 1 umocowana jest rura 6 do odpro¬ wadzania gazów, zaopatrzona w zawór 7.Poza tern urzadzenie posiada przyrzady do mierzenia cisnienia, temperatury, po¬ ziomu cieczy i t. d. Wysokosc cieczy ponad dnem 5 powinna wynosic okolo 1 cm dla uzyskania najlepszej powierzchni zetknie¬ cia pomiedzy gazem a ciecza. Gazy, ssane przez zawór 7, plyna rura wpustowa 4, a nastepnie przez dziurkowane dno 5 prze¬ chodza do cieczy. Przy przeplywie gazu przez ciecz, przechodzi ona w stan inten¬ sywnego pienienia sie pod warunkiem, ze napiecie powierzchniowe plynu zostalo od¬ powiednio dobrane, dzieki czemu po¬ wierzchnia zetkniecia sie gazu z ciecza jest bardzo wielka. Gaz i ciecz, wychodzac z z urzadzenia, maja prawie te sama tempe¬ rature. Uchodzace gazy nasycone sa ply¬ nem, znajdujacym sie w naczyniu.Urzadzenie, przedstawione na fig. 2, rózni sie od poprzedniego glównie tern, ze rura wpustowa 4 wchodzi gleboko do na¬ czynia / i posiada dziurkowane dno 5. Nad rura 8 umieszczony jest separator do pia¬ ny w postaci szybko wirujacej tarczy 9 z lopatkami, osadzonej na pionowym wale 10. Przy 'wirowaniu tej tarczy piana zostaje odrzucana ku scianom zewnetrznego na¬ czynia / i splywa nadól. Urzadzenie to na¬ daje sie specjalnie do intensywnie pienia¬ cych sie plynów. Liczba 11 oznaczono sepa¬ rator do rozpylonej cieczy.Fig. 3 przedstawia aparat odparowuja¬ cy, przystosowany do bardzo gestych ply¬ nów. Aparat ten sklada sie, podobnie jak opisany poprzednio, z naczynia 1, zaopa¬ trzonego w rure wpustowa 2 i wylotowa 3 dla cieczy oraz w rure wpustowa 4 i wylo¬ towa 6 dla gazu, wyposazona w zawór ssa¬ cy 7. Oprócz tego aparat posiada separa¬ tor natrysikowy 11. Czesc 5 dna naczynia jest pochyla i dziurkowana, a oprócz tego dolny koniec tej czesci (fig. 4) jest szerszy od górnego. Z rury wpustowej 2 ciecz sply¬ wa ku dolowi po dziurkowanem dnie 5, wskutek czego dokonywa sie pomiedzy ga¬ zem a ciecza wymiana ciepla. Forma dziur¬ kowanego dna sprawia, iz opór cieczy przy przechodzeniu gazu przez jej warstwe jest jednakowy wzdluz calego dna.Fig. 5 i 6 przedstawiaja odpowiednia konstrukcje dziurkowanego dna dla urza¬ dzen, uwidocznionych na fig. 1 i 2. W tym wypadku dno siklada sie z kilku wspól- srodkowych pierscieni 12, umieszczonych na krzyzaku 13 z plaskiego zelaza. Potnie dzy temi pierscieniami znajduja sie pier- — 2 —scieniowe wspólsrodkowepasy wolnej prze¬ strzeni, których szerokosc waha sie dla róz¬ nych aparatów w granicach od 0,3 — 3 cm.Ilosc pierscieni zalezy od wielkosci urza¬ dzenia. Tego rodzaju konstrukcja dna na¬ daje sie w szczególnosci do stosowania przy plynach, majacych sklonnosc do two¬ rzenia inkrustacji. Dno takie w porówna¬ niu z dnem dziurkowanym zwyklej budowy, posiadajacem pewna liczbe mniej lub wie¬ cej symetrycznie rozmieszczonych otworów, daje sie wiele latwiej czyscic. W tym celu mozna zastosowac wirujacy przyrzad do¬ datkowy, odpowiadajacy pasom 14.Urzadzenie, przedstawione na fig. 7 i 8, rózni sie od urzadzenia wedlug fig. 2 tern, ze separator do piany posiada forme pro¬ wadnicy 16 z ostrzami; prowadnica ta u- dziela ruchu obrotowego pianie, i odrzuca ja ku scianom naczynia zewnetrznego 1, gdzie splywa ona ku dolowi. Liczba 11 o- znacza separator do cieczy, podobny do przedstawionego na fig. 2.Fig. 9 i 10 uwidoczniaja jeszcze jedna odmiane separatora do piany. Równiez i w tym wypadku ruch obrotowy udziela sie pianie, przyczem w czesci górnej naczynia 1 umieszczona jest pewna ilosc ostrzy 17 w kierunku stycznym, przez które gazy gora¬ ce zostaja wdmuchiwane do spienionej ma¬ sy. Jesli gazy te sa suche, jak np. gazy spalinowe z palenisk, to nastepuje gwal¬ towne parowanie powierzchni warstwy pia¬ ny, tak iz poszczególne banki pekaja.Do urzadzenia tego mozna zastosowac osobny piec lub tez gazy gorace mozna do¬ prowadzac z istniejacego juz pieca np. z paleniska kotlowego. * PL