PL150765B2

PL150765B2 - Retort for conducting head and chemical working processe

Info

Publication number: PL150765B2
Application number: PL27336888A
Authority: PL
Inventors: Zdzislaw Has; Piotr Kula; Jerzy Gramsz
Original assignee: Politechnika Lodzka
Priority date: 1988-06-27
Filing date: 1988-06-27
Publication date: 1990-06-30
Also published as: PL273368A2

Description

RZECZPOSPOLITA OPIS PATENTOWY 150 765 POLSKA

Patent dodatkowy do patentu nr--Int. Cl.⁵ C23C 8/06

F27B 5/04

Zgłoszono: 88 06 27 (P. 273368)

Pierwszeństwo -----URZĄD PATENTOWY RP

Zgłoszenie ogłoszono: 89 04 03 ίΖΠΕΙΙΗ ogólna

Opis patentowy opublikowano: 1992 11 30

Twórcy wynalazku: Zdzisław Haś, Piotr Kula, Jerzy Gramsz

Uprawniony z patentu: Politechnika Łódzka,

Łódź (Polska)

Retorta do prowadzenia procesów obróbki cieplno-chemicznej

Przedmiotem wynalazku jest retorta do prowadzenia procesów obróbki cieplno-chemicznej. Znane są retorty do prowadzenia obróbki cieplno-chemicznej pod obniżonym ciśnieniem, wyposażone w mieszadła. Mieszadła nie zapewniają dostatecznej intensywności mieszania atmosfery obróbczej, przy czym stosowanie ich stwarza dodatkowe problemy związane z uszczelnieniem wałów obrotowych tych mieszadeł.

Z opisu patentowego nr 109 249jest znana retorta do prowadzenia procesów obróbki cieplnochemicznej, zwłaszcza pod obniżonym ciśnieniem, w postaci cylindrycznego, pionowego zbiornika zamkniętego od góry pokrywą, zaopatrzonego w przewód doprowadzający i odprowadzający gaz. Dno zbiornika ma kształt czaszy kulistej lub powierzchni stożkowej, a wylot przewodu doprowadzającego gaz, zakończony dyszą, jest usytuowany w górnej części zbiornika na wspólnej osi geometrycznej z wlotem przewodu odprowadzającego gaz, umieszczonego w dolnej części zbiornika.

Ruch atmosfery obróbczej odbywa się w tej rotorcie w kierunku przeciwnym do kierunku składowej konwekcyjnej, co w efekcie prowadzi do osłabienia intensywności mieszania atmosfery obróbczej. Nadto efektywność mieszania atmosfery obróbczej w tej retorcie obróbczej zmniejsza się wraz ze zmniejszeniem się różnicy ciśnień na wlocie i wylocie atmosfery obróbczej, co powoduje, iż retorta ta nie znajduje zastosowania w procesach obróbki cieplno-chemicznej prowadzonych w warunkach bardzo obniżonego ciśnienia.

Retorta do prowadzanie procesów obróbki cieplno-chemicznej, w postaci usytuowanego pionowo, cylindrycznego zbiornika, zamkniętego od góry pokrywą, zaopatrzonego w przewody rurowe do doprowadzania i odprowadzania atmosfery obróbczej, według wynalazku charakteryzuje się tym, że przewód rurowy do doprowadzania atmosfery obróbczej, o długości nie większej niż 0,1 wysokości roboczej zbiornika, zaopatrzony ewentualnie w otwory perforacyjne wyposażone w okapy, jest zamocowany w pokrywie zbiornika tak, iż jego oś symetrii pokrywa się z osią symetrii zbiornika, zaś co najmniej dwa przewody rurowe do odprowadzania atmosfery obróbczej, w które jest zaopatrzony zbiornik, są zamocowane w pokrywie zbiornika lub w jego ściankach tak, iż ich wloty znajdują się w odległości od dna zbiornika równej co najwyżej 0,1 wysokości roboczej zbiornika i w odległości od ścianek zbiornika nie większej niż 0,05 średnicy wewnętrznej zbiornika,

150 765 przy czym zarówno przewód do doprowadzania atmosfery obróbczej jak i przewody do odprowadzania atmosfery obróbczej są wyposażone w zawory elektromagnetyczne sterowane przekaźnikami czasowymi lub sterownikiem mikroprocesorowym. Przewód do doprowadzania atmosfery obróbczej oraz przewody do odprowadzania atmosfery obróbczej są zamocowane w pokrywie zbiornika ewentualnie przesuwnie. Przewody do odprowadzania atmosfery obróbczej są zamocowane w pokrywie lub w ściankach zbiornika ewentualnie symetrycznie względem osi symetrii zbiornika.

Strugę gazu doprowadza się do retorty przewodem rurowym do doprowadzania atmosfery obróbczej przy zamkniętych zaworach na przewodach do odprowadzania atmosfery obróbczej do chwili, gdy ciśnienie wewnątrz zbiornika osiągnie wartość równą 1,2-3,5 wartości ciśnienia roboczego procesu obróbki. Następnie zamyka się zawór na przewodzie do doprowadzania atmosfery obróbczej i otwiera zawory na przewodach do odprowadzania atmosfery obróbczej, która w przypadku gdy obróbka jest prowadzona przy nadciśnieniu wypływa swobodnie na zewnątrz zbiornika, zaś w przypadku, gdy obróbkę prowadzi się przy obniżonym ciśnieniu, jest odsysana tymi przewodami aż do uzyskania wewnątrz zbiornika rzędu 0,25-0,85 wartości ciśnienia roboczego procesu obróbki, po czym powtarza się proces napełniania zbiornika atmosferą obróbczą.

Zaopatrzenie przewodów retorty według wynalazku w zawory elektromagnetyczne powoduje, iż zmiany ciśnienia wewnątrz retorty odbywają się pulsacyjnie, zaś pulsacyjne zmiany ciśnienia wymuszają penetrację atmosfery obróbczej wokół wsadu retorty niezależnie od wymiarów elementów poddawanych obróbce, jak również od stopnia wypełnienia przestrzeni roboczej retorty. Usytuowanie przewodów do odprowadzania i doprowadzania atmosfery obróbczej zaproponowane w retorcie według wynalazku wymusza ukierunkowany opływ obrabianych elementów przez strugę gazu.

Przedmiot wynalazku przedstawiono w przykładzie wykonania na rysunku przedstawiającym retortę w przekroju wzdłużnym.

Retortę stanowi usytuowany pionowo cylindryczny zbiornik 1, w którego pokrywie 6 jest zamocowany trwale przewód rurowy 2 do doprowadzania atmosfery obróbczej, o długości równej 0,07 wysokości roboczej zbiornika 1. Przewód rurowy 2 jest zamocowany w pokrywie 6 tak, iż jego oś symetrii pokrywa się z osią symetrii zbiornika 1. Nadto w pokrywie 6 zbiornika 1, symetrycznie względem osi zbiornika 1, są zamocowane przewody rurowe 3 do odprowadzania atmosfery obróbczej. Przewody 3 są zamocowane tak, iż ich wloty znajdują się w odległości od ścianek zbiornika 1 równej 0,02 średnicy wewnętrznej zbiornika 1 i w odległości od dna 7 zbiornika 1 równej 0,05 wysokości roboczej zbiornika 1. przewód rurowy 2 do doprowadzania atmosfery obróbczej posiada, na odcinku wewnątrz zbiornika 1, otwory perforacyjne 4 z okapami 5. Na przewodach 2 i 3, poza zbiornikiem 1, są zamocowane zawory elektromagnetyczne 8 sterowane przekaźnikami czasowymi.

Strugę gazu doprowadza się do retorty przewodem rurowym 2 do doprowdzania atmosfery obróbczej przy zamkniętych zaworach 8 na przewodach 3 do odprowadzania atmosfery obróbczej do chwili, gdy ciśnienie wewnątrz zbiornika 1 osiągnie wartość równą 1,2-3,5 wartości ciśnienia roboczego procesu obróbki. Następnie zamyka się zawór 8 na przewodzie 2 do doprowadzania atmosfery obróbczej i otwiera zawory 8 na przewodach 3 do doprowadzania atmosfery obróbczej, która w przypadku, gdy obróbka jest prowadzona przy nadciśnieniu wypływa swobodnie na zewnątrz zbiornika 1, zaś w przypadku, gdy obróbkę prowadzi się przy obniżonym ciśnieniu, jest odsysana tymi przewodami 3 aż do uzyskania wewnątrz zbiornika 1 ciśnienia rzędu 0,25-0,85 wartości ciśnienia roboczego procesu obróbki, po czym powtarza się proces napełniania zbiornika 1 atmosferą obróbczą.

Claims

Zastrzeżenia patentowe

1. Retorta do prowadzenia procesów obróbki cieplno-chemicznej, w postaci usytuowanego pionowo, cylindrycznego zbiornika zamkniętego od góry pokrywą, zaopatrzonego w przewody rurowe do doprowadzania i odprowadzania atmosfery obróbczej, znamienna tym, że przewód rurowy (2) do doprowadzania atmosfery obróbczej, o długości nie większej niż 0,1 wysokości roboczej zbiornika (1), ewentualnie zaopatrzony w otwory perforacyjne (4) wyposażone w okapy

150 765 (5) jest zamocowany w pokrywie (6) zbiornika (1) tak, iż jego oś symetrii pokrywa się z osią symetrii zbiornika (1), zaś co najmniej dwa przewody rurowe (3) do odprowadzania atmosfery obróbczej, w które jest zaopatrzony zbiornik (1), są zamocowane w pokrywie (6) zbiornika (1) lub w jego ściankach tak, iż wloty znajdują się w odległości od dna (7) zbiornika (1) równej co najwyżej 0,1 wysokości roboczej zbiornika (1) i w odległości od ścianek zbiornika (1) nie większej niż 0,05 średnicy wewnętrznej zbiornika (1), przy czym zarówno przewód rurowy (2) do doprowadzania atmosfery obróbczej jak i przewody rurowe (3) do odprowadzania atmosfery obróbczej są wyposażone w zawory elektromagnetyczne (8) sterowane przekaźnikami czasowymi lub sterownikiem mikroprocesorowym.
2. Retorta według zastrz. 1, znamienna tym, że przewód rurowy (2) do doprowadzania atmosfery obróbczej oraz przewody rurowe (3) do odprowadzania atmosfery obróbczej są zamocowane w pokrywie (6) zbiornika (1) ewentualnie przesuwnie.
3. Retorta według zastrz. 1, znamienna tym, że przewody rurowe (3) do odprowadzania atmosfery obróbczej są zamocowane w pokrywie (6) ewentualnie symetrycznie względem osi symetrii zbiornika (1).
4. Retorta według zastrz. 1, znamienna tym, że przewody rurowe (3) do odprowadzania atmosfery obróbczej są zamocowane w ściankach zbiornika (1) ewentualnie symetrycznie względem osi symetrii zbiornika (1).

150 765

I

Zakład Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz. Cena 5000 zł.