KR900018397A - 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 방법 및 장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 방법 및 처리

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명의 방법과 장치에 사용하는 회전장치용 회전자의 바닥에 대한 평면도, 제2도는 제1도의 회전자가 축과 조립된 상태의 수직 단면도, 제3도는 비교적 작은 입자의 처리제와 가스로 용융금속을 처리하기 위한 본 발명의 장치의 개요도.

Claims (15)

1. 방출단부를 갖는 중공축(1)과 축에 부착된 중공 회전자(2)를 구성하며, 회전자는 축 또는 축에 인접한 위치로부터 회전자 주위를 향해 각각 뻗어 있는 다수의 날개(14)를 구비하여 회전자의 중공 내부를 다수의 격실(10)로 나누고, 각 격실은 축에 인접한 입구(11)와 회전자의 주위에 인접한 출구(12)를 가지며, 회전자가 축의 방출단부로 부터 입자형 처리제와 가스를 격실로 통과시키는 수단을 가지는 회전장치를 구비하고, 회전장치를 용기에 담긴 용융금속에 잠기게 하여 장치를 회전시킴으로써, 용융금속이 입구를 통해 격실로 들어오게 하며, 용융금속의 입자형 처리제와 가스를 축에 공급하므로써, 입자형 처리제와 가스가 축의 방출단부로 부터 방출하여 격실을 통과하고 회전자내의 용융금속과 혼합되며 회전자로 부터 방출시에 용기에 담겨 있는 용융금속 전체에 분산됨을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용유금속을 처리하는 방법.
2. 용기와 용기에 담긴 용융금속에 입자형 처리제와 가스를 분산하기 위한 회전장치와 회전장치에 입자형 처리제와 가스를 공급하기 위한 수단을 구성하며, 상기 회전장치가 방출단부를 갖는 중공축(1)과 축에 부착된 중공회전자(2)를 구성하며, 회전자는 축 또는 축에 인접한 위치로 부터 회전자 주위를 향해 각각 뻗어 있는 다수의 날개(14)를 구비하여 회전자의 중공 내부를 다수의 격실(10)로 나누고, 각 격실은 축에 인접한 입구(11)와 회전자의 주위에 인접한 출구(12)를 가지며, 회전자가 축의 방출단부로 부터 입자형 처리제와 가스를 격실로 통과시키는 수단을 가지는 것을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.
3. 제2항에 있어, 축(1)의 방출단부가 회전자의 매니폴드챔버(8)에 개방되어 있고, 격실(10)의 입구(11)가 매니폴드의 벽(6)에 있음을 특징으로 하는 입자형 처리체와 가스로 용융 금속을 처리하는 장치.
4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 회전장치에 입자형 처리제와 가스를 공급하는 수단이 가스 주입노즐을 갖춘 호퍼임을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.
5. 제2항 또는 제3항에 있어서, 회전장치에 입자형 처리제와 가스를 공급하는 수단이 입자형 처리제를 가스로 유동시켜 분산물을 생성하고 파이프(33)에 의해 회전장치의 축의 구멍에 연결되어 있는 장치(23)임을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.
6. 제5항에 있어서, 입자형 처리제를 유동시키는 장치가 입자형 처리제를 도입하기 위한 개폐구(25)를 상단에 구비한 용기(24)와, 입자형 처리제를 유동시키는 가스를 도입하기 위한 바닥 단부의 1차 입구(27), 및 파이프(33)에 연결된 바닥단부의 밸브(26)를 구성하고 있음을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.
7. 제6항에 있어서, 상기 용기가 분산물의 입자형 처리제의 농도를 감소시키기 위한 가스용 2차 입구(26)를 구비하고 있음을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.
8. 제6항에 있어서, 상기 용기가 상단부에 인접하고 파이프(33)에 연결된 가스출구(30)를 구비하고 있음을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.
9. 제2항에 있어서, 회전장치에 입자형 처리제를 공급하기 위한 수단이 측벽(58)을 갖는 호퍼(51)와 처리제 입자용 밀폐상부(52) 및 회전장치의 축(63)의 구멍(62)내에 위치한 튜브(61)와 유통하는 기저부(55)의 개구(54)를 구성하고, 기저부에 인접한 호퍼의 측벽(58)은 그 주변에 일정간격으로 배치된 적어도 1열의 개구를 가지며, 각 개구는 개구를 통해 호퍼의 내부로 돌출한 슬라이딩 부재(56, 57)를 가지고, 상기 튜브에는 가스 도입을 위한 하나 또는 그 이상의 개구가 구비되어 있음을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.
10. 제9항에 있어서, 상기 호퍼(51)가 그 측벽(58)에 2열 이상의 개구와 슬라이딩 부재(56, 57)를 갖추고 있음을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.
11. 제10항에 있어서, 호퍼(51)의 측벽(58)에 있는 개구와 슬라이딩 부재(56)는 한 열의 개구 및 슬라이딩 부재가 다른 한 열의 개구 및 슬라이딩 부재(57)사이의 윗쪽에 위치하도록 배열되어 있음을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로용융금속을 처리하는 장치.
12. 제9항에 있어서, 제11항중 어느 한항에 있어서, 상기 각 열의 3개의 개구와 3개의 슬라이딩 부재(56, 57)로 구성되어 있음을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.
13. 제9항에서 제12항중 어느 한항에 있어서, 상기 호퍼(51)가 꺼꾸로 선 원추형임을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.
14. 제9항에서 제13항중 어느 한항에 있어서, 회전장치의 축(63)의 구멍(62)내에 위치한 튜브(61)가 호퍼(51)의 기저부 아래의 블록(64)을 통과하며, 블록은 튜브(61)의 벽에 있는 개구 또는 개구들을 거쳐 튜브내부와 유통하는 하나 또는 하나 이상의 도관을 구비하고 있음을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.
15. 제9항에 있어서 제14항중 어느 한항에 있어서, 상기 장치가 튜브주위의 축의 구멍으로 가스를 도입하기 위한 수단(69)을 갖추고 있음을 특징으로 하는 입자형 처리제와 가스로 용융금속을 처리하는 장치.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.