PL128499B1 - Method and apparatus for electromagnetically controlling metal casting processes - Google Patents

Method and apparatus for electromagnetically controlling metal casting processes Download PDF

Info

Publication number
PL128499B1
PL128499B1 PL1978211649A PL21164978A PL128499B1 PL 128499 B1 PL128499 B1 PL 128499B1 PL 1978211649 A PL1978211649 A PL 1978211649A PL 21164978 A PL21164978 A PL 21164978A PL 128499 B1 PL128499 B1 PL 128499B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
current
voltage
coil
gap
induction coil
Prior art date
Application number
PL1978211649A
Other languages
English (en)
Other versions
PL211649A1 (pl
Inventor
John C Yarwood
Yk Y Yun
Derek E Tyler
Peter J Kindlamann
Original Assignee
Olin Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olin Corp filed Critical Olin Corp
Publication of PL211649A1 publication Critical patent/PL211649A1/xx
Publication of PL128499B1 publication Critical patent/PL128499B1/pl

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22DCASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
    • B22D11/00Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
    • B22D11/01Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths without moulds, e.g. on molten surfaces
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/02Induction heating
    • H05B6/06Control, e.g. of temperature, of power
    • H05B6/067Control, e.g. of temperature, of power for melting furnaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22DCASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
    • B22D11/00Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
    • B22D11/01Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths without moulds, e.g. on molten surfaces
    • B22D11/015Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths without moulds, e.g. on molten surfaces using magnetic field for conformation, i.e. the metal is not in contact with a mould
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22DCASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
    • B22D27/00Treating the metal in the mould while it is molten or ductile ; Pressure or vacuum casting
    • B22D27/02Use of electric or magnetic effects

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Continuous Casting (AREA)
  • Casting Support Devices, Ladles, And Melt Control Thereby (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób i urzadzenie do elektromegnetycznego sterowania odle¬ waniem metali, zwlaszcza miedzi i stopów miedzi. Znany jest sposób elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali, stosowany do ciaglego i pólciaglego odlewania metali i stopów.Sposób ten wykorzystuje sie w przemysle do odlewania glinu i stopów glinu.Przy próbach zastosowania sposobu elektromagnetycznego sterowania odlewaniem do metali ciezszych niz glin, jak miedz, stopy miedzi, stal, stopy stali, nikiel, stopy niklu itp. pojawily sie rózne problemy zwiazane ze sterowaniem procesu odlewania. W procesie odlewania elektromagnety¬ cznego nadlew plynnego metalu jest utrzymywany w pewnej odleglosci od sciany formy przez sily elektromagnetyczne równowazace cisnienie hydrostatyczne nadlewu plynnego metalu. Cisnienie hydrostatyczne nadlewu plynnego metalu jest funkcja wysokosci nadlewu plynnego metalu i ciezaru wlasciwego plynnego metalu.Stosujac sposób elektromagnetycznego sterowania odlewaniem glinu i stopów glinu, nadlew plynnego metalu ma stosunkowo mala gestosc i duze napiecie powierzchniowe ze wzgledu na warstwe tlenku. Napiecie powierzchniowe jest dodawane do sil pola elektromagnetycznego i suma ta przeciwdziala cisnieniu hydrostatycznemu nadlewu plynnego metalu. Drobne wahania nadlewu plynnego metalu powoduja niewielki wzrost sil magnetycznych utrzymujacych wlewek. W przy¬ padku ciezszych metali i stopów, takich jak medz i stopy miedzi, porównywalne zmiany nadlewu plynnego metalu powoduja wieksze zmiany cisnienia hydrostatycznego i wymagaja wiekszych zmian sil magnetycznych. W przypadku miedzi i stopów miedzi okazalo sie, ze zmiany sil magnety¬ cznych wymagane do utrzymania wlewka sa okolo trzykrotnie wieksze niz w przypadku glinu i stopów glinu przy porównywalnych zmianach nadlewu plynnego metalu.W celu uzyskania wlewka o jednorodnym przekroju na calej dlugosci, obrzeze wlewka i nadlew plynnego metalu wewnatrz cewki musza pozostawac pionowe szczególnie w poblizu powierzchni rozdzialu faz cieklej i stalej na krzepnacej powierzchni wlewka. Aktualne polozenie obrzeza wlewka jest okreslone przez plaszczyzne równowagi cisnienia hydrostatycznego i sil magnetycznych. Takwiec jakiekolwiek zmiany bezwzglednej wysokosci nadlewu plynnego metalu2 128 499 wywoluja porównywalne zmiany cisnienia hydrostatycznego, powodujac zafalowanie powierzch¬ niowe na calej dlugosci wlewka. Te zafalowania sa bardzo niepozadane i moga pogarszac powrót do normalnego stanu metalu podczas dalszej obróbki.Z przedstawionych tu danych wynika, ze proces elektromagnetycznego odlewania metali ciezkich i ich stopów wymaga zastosowania precyzyjnego sterowania w celu uzyskania pozadanego ksztaltu powierzchni i stanu uzyskiwanego odlewu. W opisie patentowym Stanów Zjednoczonych nr 4 014 379 jest przedstawione urzadzenie sterujace pradem plynacym w cewce na podstawie zmian wymiarów plynnego obszaru wlewka nadlewu plynnego metalu w stosunku do zadanej wartosci.Napiecie cewki jest sterowane w celu refulacji jej pradu na podstawie mierzonych zmian poziomu powierzchni plynnego obszaru wlewka. Sterowanie napieciem cewki jest realizowane przez wzmoc¬ niony sygnal uchybu doprowadzany do uzwojenia wzbudzajacego przetwornika czestotliwosci.Wada tego typu urzadzenia sterujacego jest fakt uwzglednienia jedynie zmian plynnego metalu, powodowanych zmianami poziomu powierzchni plynnego obszaru. Okazalo sie, ze zalo¬ zono tam, ze polozenie granicy krzepniecia miedzy plynnym metalem, a krzepnaca powierzchnia wlewka jest stale wzgledem cewki. Nie wydaje sie jednak, aby tak bylo rzeczywiscie w praktyce.Czynnikiem powodujacym zmiany pionowego polozenia granicy krzepniecia sa szybkosc odlewa¬ nia, przegrzanie metalu, szybkosc przeplywu wody chlodzacej, polozenie wlotu wody chlodzacej, temperatura wody chlodzacej i jakosc (zawartosc domieszek) oraz amplituda i czestotliwosc pradu cewki.Glin i stopy glinu charakteryzuja sie waskim zakresem rezystywnosci elektrycznej. W procesie odlewania elektromagnetycznego glebokosc, na jaka sa wytwarzane prady wirowe w nadlewie cieklego metalu i krzepnacym wlewku, jest prawie jednakowa dla szerokiej gamy stopów glinu.Glebokosc wnikania indukowanego elektromagnetycznie pradu jest funkcja rezystywnosci obcia¬ zenia i czestotliwosci.W przypadku miedzi i stopów miedzi, jak równiez dla innych ciezkich metali i ich stopów istnieje szeroki zakres rezystywnosci. Glebokosc wnikania indukowanego pradu o stalej czestotli¬ wosci dla takich stopów jest równiez stosunkowo duza w porównaniu z glinem. Nie jest to korzystne, poniewaz stopien magnetycznego mieszania plynnego metalu jest funkcja glebokosci indukowanego pradu.Dla tak ciezkich metali i stopów czestotliwosc robocza musi byc rózna dla róznych stopów w celu uzyskania pozadanej glebokosci wnikania indukowanego pradu. I tak np. dla stopu C 51000 glebokosc wnikania powinna wynosic 10 mm dla 1 kHz, 5 mm dla 4 kHz i 3 mm dla 10 kHz.Glebokosc wnikania przy elektromagnetycznym odlewaniu stopów glinu wynosi okolo 5 mm. W porównaniu ze stopem C 51000 czysta miedz charakteryzuje sie glebokoscia wnikania 5 mm przy 2 kHz, a wiec przy polowie wartosci czestotliwosci, przy której stop C 51000 charakteryzuje sie ta glebokoscia wnikania. Urzadzenie sterujace elektromagnetycznym odlewaniem takich metali jak miedz i stopy miedzi, musi wiec byc przystosowana do pracy przy róznych czestotliwosciach w celu uzyskania wlasciwej glebokosci wnikania indukowanego pradu.Znane jest stosowanie wysokoczestotliwosciow7ych zasilaczy mocy, wykorzystujacych pól¬ przewodnikowe przetworniki statyczne zamiast zespolów generatorów. W przypadku stosowania takich pólprzewodnikowych przetworników korzystne jest, zwlaszcza to, ze moga one pracowac w szerokim zakresie czestotliwosci.Znany sposób elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali polega na tym, ze wytwa¬ rza sie za pomoca cewki indukcyjnej pole elektromagnetyczne oddzialywujace i formujace plynny metal do wymaganego ksztaltu. Cewke indukcyjna ustawia sie podczas pracy w pewnej odleglosci od plynnego metalu, tworzac szczeline miedzy plynnym nadlewem, a powierzchnia cewki indukcyj¬ nej. Przeciwdziala sie zmianom w tej szczelinie podczas procesu odlewania przez elektryczne badanie zmian parametrów szczeliny i w odpowiedzi na to reguluje sie wartosc pradu dostarcza¬ nego do cewki indukcyjnej.Znane urzadzenie do elektromagnetycznego sterowania odlewami metali zawiera cewke dola¬ czona do zasilacza i ukladu sterowania.Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze podczas badania zmian parametrów szczeliny okresla sie elektryczny parametr bierny cewki indukcyjnej, który zmienia sie wraz ze zmiana Wymiaru szczeliny i w odpowiedzi na to wytwarza sie sygnal uchybu, którego wartosc jest funkcja128 499 3 róznicy pomiedzy wartoscia tego okreslonego elektrycznego parametru biernego i zadana wartos¬ cia tego parametru oraz reguluje sie wartosc pradu dostarczanego do cewki indukcyjnej w zale¬ znosci od sygnalu uchybu.W jednym wykonaniu wynalazku okresla sie wartosc parametru elektrycznego poprzez pomiar napiecia i pradu w cewce indukcyjnej. Jako elektryczny parametr bierny stosuje sie korzystnie reaktancje cewki indukcyjnej. W innym wykonaniu wynalazku jako elektryczny para¬ metr bierny stosuje sie induktancje cewki indukcyjnej.Przy zastosowaniu elektrycznego parametru biernego w postaci reaktywnej podczas okresla¬ nia parametru elektrycznego wytwarza sie sygnal napieciowy zalezny od fazy, odpowiadajacy wartosc napiecia o fazie przesunietej o 90° wzgledem sygnalu pradowego oraz dzieli sie sygnal napieciowy zalezny od fazy przez sygnal pradowy, przez co wytwarza sie sygnal wyjsciowy reprezentujacy reaktancje cewki indukcyjnej.Przy zastosowaniu elektrycznego parametru biernego w postaci indukcji podczas okreslenia parametru elektrycznego wytwarza sie sygnal napieciowy zalezny od fazy, odpowiadajacy wartosci napiecia o fazie przesunietej o 90° wzgledem sygnalu pradowego oraz dzieli sie sygnal napieciowy zalezny od fazy przez sygnal pradowy, przez co wytwarza sie sygnal wyjsciowy reprezentujacy reaktancje cewki indukcyjnej, mierzy sie czestotliwosc pradu cewki indukcyjnej i wytwarza sie odpowiadajacy jej sygnal oraz dzieli sie sygnal reprezentujacy reaktancje przez sygnal reprezentu¬ jacy czestotliwosc, przez co wytwarza sie sygnal reprezentujacy induktancje cewki indukcyjnej.Wydziela sie korzystnie czestotliwosc podstawowa sygnalów napieciowych i pradowych przed etapem dzielenia, który moze byc pierwszym etapem dzielenia.W innym wykonaniu sposobu wedlug wynalazku bada sie wymiar szczeliny, w odpowiedzi na zmiany zbadanego wymiaru szczeliny wytwarza sie sygnal uchybu, którego wartosc jest funkcja róznicy pomiedzy zbadanym wymiarem szczeliny i zadanym wymiarem szczeliny oraz w zaleznosci od sygnalu uchybu reguluje sie prad dostarczany do cewki indukcyjnej dla przywrócenia wymiaru szczeliny do okreslonej wartosci. Bada sie korzystnie wymiar szczeliny przez pomiar napiecia i pradu w cewce indukcyjnej.Wedlug wynalazku podczas badania szczeliny przetwarza sie sygnaly pradowe i napieciowe w sygnaly odpowiadajace czestotliwosci pradu w cewce indukcyjnej, napieciu skutecznemu, pradowi skutecznemu i mocy rzeczywistej dostarczanej do cewki indukcyjnej oraz oblicza sie na podstawie sygnalów reprezentujacych czestotliwosc, napiecie skuteczne, prad skuteczny i moc rzeczywista parametr elektryczny cewki indukcyjnej, który zmiania sie wraz ze zmiana wymiaru szczeliny.Podczas etapu obliczania, oblicza sie induktancje cewki indukcyjnej i nastepnie oblicza sie wartosc wymiaru szczeliny i podczas etapu wytwarzania sygnalu uchybu porównuje sie obliczona wartosc wymiaru szczeliny z zaprogramowana wartoscia wymiaru szczeliny oraz wytwarza sie programowany sygnal uchybu w zaleznosci od róznicy pomiedzy obliczona wartoscia wymiaru szczeliny i zaprogramowana wartoscia wymiaru szczeliny.Urzadzenie wedlug wynalazku zawiera transformator pradowy wykrywajacy prad w cewce, dolaczony do pradowo-napieciowej sieci rezystorów skalujacych, dolaczonej do petli synchroniza¬ cji fazowej, której jedno wyjscie jest dolaczone dojednego wejscia pierwszego prostownika czulego na faze, a drugie wyjscie jest dolaczone do jednego wejscia drugiego prostownika czulego na faze, którego drugie wejscie jest sprzezone z wejsciem petli synchronizacji fazowej. Drugie i trzecie wejscie pierwszego prostownika sa dolaczone do polaczonego z cewka zasilacza zawierajacego przetwornik i uklad magnetyczny, a wyjscia obu prostowników sa dolaczone do jednego wejscia wzmacniacza róznicowego, którego drugie wejscie jest dolaczone do zródla regulowanego napie¬ cia. Wyjscie wzmacniacza róznicowego jest dolaczone do wzmacniacza sygnalu uchybu dolaczo¬ nego do przetwornika zasilacza.W innym wykonaniu urzadzenia wedlug wynalazku miedzy analogowy dzielnik napieciowy i wzmacniacz róznicowy jest wlaczony drugi analogowy dzielnik napieciowy, do którego drugiego wejscia jest dolaczone polaczenie szeregowe ukladu skalujacego i przetwornika czestotliwosciowo- napieciowego, dolaczonego do drugiego wejscia prostownika.W jeszcze innym wykonaniu urzadzenie wedlug wynalazku zawiera transformator pradowy wykrywajacy prad w cewce, dolaczony do filtru wycinajacego czestotliwosc podstawowa i do koncówek cewki jest dolaczony równiez wzmacniacz róznicowy dolaczony do filtru wycinajacego4 128 499 czestotliwosc podstawowa, którego wyjscie jest dolaczone do przetwornika czestotliwosciowo- napieciowego i miernika pradu zmiennego, do którego jest dolaczone takze wyjscie filtru. Jedyne wyjscie przetwornika czestotliwosciowo-napieciowego, trzy wyjscia-napiecia, pradu i mocy mier¬ nika pradu zmiennego oraz jedyne wyjscie przetwornika liniowego dolaczonego do górnej powierzchni plynnego nadlewu stanowia wejscia przetwornika analogowo-cyfrowego dolaczonego do procesora, korzystnie minikomputera czy mikroprocesora, dolaczonego do przetwornika cyfrowo-analogowego, którego jedno wyjscie jest dolaczone do regulatora napiecia, a drugie wyjscie — do regulatora czestotliwosci, których wyjscia sa dolaczone do zewnetrznego przetwor¬ nika zasilacza.Zaleta sposobu i urzadzenia wedlug wynalazku jest zapewnienie precyzyjnych srodków do elektromagnetycznego odlewania metali i ich stopów przy zachowaniu jednorodnego wymiaru poprzecznego wlewka. Dzieki wynalazkowi zmniejsza sie niejednorodnosci powierzchni.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykladach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schemat urzadzenia do elektromagnetycznego odlewania metali, fig. 2 — sche¬ mat blokowy urzadzenia do elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali, fig. 3 — sche¬ mat blokowy urzadzenia do elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali w innym wykonaniu wynalazku i fig, 4 — schemat blokowy urzadzenia do elektromagnetycznego sterowa¬ nia odlewaniem metali w jeszcze innym wykonaniu wynalazku.Na figurze 1 jest przedstawiony schemat urzadzenia do elektromagnetycznego odlewania metali wedlug wynalazku.Elektromagnetyczna forma odlewnicza 10 sklada sie z cewki 11 chlodzonej woda, z rurowego przewodu 12 chlodzenia, który dostarcza wode chlodzaca do obwodowej powierzchni 13 wlewka C i z niemagnetycznego ekranu 14. Plynny metal jest w sposób ciagly wprowadzany do formy 10 podczas procesu odlewania zwykle za pomoca koryta 15 i kanalu 16 oraz zwyklego urzadzenia sterujacego plynnym metalem. Cewka~ll jest pobudzana pradem przemiennym ze zródla energii 17, przy czym pobudzaniem tym steruje urzadzenie sterujace 18 wedlug wynalazku.Prad przemienny plynacy w cewce 11 wytwarza pole magnetyczne, które oddzialywuje na plynny nadlew 19 i wzbudza w nim prady wirowe. Te prady wirowe wspóldzialaja z polem magnetycznym, wytwarzajac sily dzialajace na plynny nadlew 19 tak, ze krzepnie on w postaci wlewka o wymaganym przekroju.Miedzy plynnym nadlewem 19, a cewka 11 istnieje szczelina powietrzna d. Plynny nadlew 19 jest formowany lub odlewany zwykle do tego samego ogólnego ksztaltu jaki ma cewka 11, dzieki czemu uzyskuje sie wymagany przekrój wlewka. Cewkall moze miec dowolny wymagany ksztalt np. kolowy lub prostokatny w celu uzyskania pozadanego przekroju wlewka C.Zadaniem niemagnetycznego ekranu 14 jest dokladne dostosowanie i zrównowazenie sil magnetycznych i cisnienia hydrostatycznego plynnego nadlewu 19. Niemagnetyczny ekran 14 moze stanowic element oddzielny, tak jak pokazano, lub tez moze byc integralna czescia rurowego przewodu 12 chlodzenia.. Poczatkowo w obszarze magnetycznego oddzialywania formy 10 sa utrzymywane zwykly suwak 21 i dolny blok 22, co umozliwia splyniecie plynnego metalu do formy na poczatku procesu odlewania. Suwak 21 i dolny blok 22 sa nastepnie jednakowo wycofywane zgodnie z wymagana predkoscia odlewania.Krzepniecie plynnego metalu utrzymywanego magnetycznie w formie 10jest uzyskiwane przez bezposrednie dostarczenie wody z rurowego przewodu 12 chlodzenia na powierzchnie 13 wlewka.W wykonaniu urzadzenia przedstawionym na fig. 1 woda jest dostarczana na powierzchnie 13 wlewka otworem ograniczonym przez cewke 11. Wode mozna dostarczac na powierzchnie 13 wlewka otworem ponad, wewnatrz lub pod cewka 11, jak jest to wymagane.Jezeli jest to wymagane mozna wykorzystywac dowolne znane konstrukcje lub uklady urzadzen do elektromagnetycznego odlewania.Wynalazek dotyczy elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali w celu dostarczenia wlewków odlewniczych o jednorodnym przekroju na calej ich dlugosci, przy czym wlewki te odlewane sa z metali i stopów takich, jak miedz i stopy miedzi. Wedlug wynalazku osiagnieto to na drodze badania parametrów elektrycznych cewki 11, bedacych funkcja szerokosci szczeliny d miedzy cewka 11, a obciazeniem, które stanowi wlewek C i plynny nadlew 19.128499 5 Induktancja cewki 11 w czasie pracy jest funkcja szerokosci szczeliny d. Ponizsze równanie wyraza spodziewana zaleznosc miedzy induktancja cewki, a szerokoscia szczeliny: (1) Li = kd(2Dc-d) gdzie: Li — induktancja cewki, Dc — srednica cewki, d — odleglosc cewka-—wlewek (szczelina powietrzna), k — wspólczynnik uwzgledniajacy parametryczne urzadzenia, takie jak poziom powierzchni 23 plynnego nadlewu 19 i poziom granicy krzepniecia 24 wzgledem cewki 11, przewod¬ nosc wlasciwa odlewanego metalu i czestotliwosc pradu.Wspólczynnik k wyznacza sie empirycznie, mierzac induktancje dla znanej srednicy cewki i odleglosci cewka-wlewek oraz rozwiazujac równanie (1) dla „k". Wspólczynnik k nie zmienia sie wraz ze zmianami szczeliny d. Wspólczynnik k zalezy w niewielkim stopniu od wysokosci h plynnego nadlewu tak dlugo, jak powierzchnia 23 metalu utrzymywana jest w poblizu wierzcholka cewki 11.Jasne jest wiec, ze induktancja ukladu cewka—wlewek jest funkcja szczeliny d. Induktancja ta jest zwiazana z reaktancja ukladu cewka—wlewek zgodnie z nastepujacym równaniem: (2) Xi =2IIf Li gdzie: Xi — reaktancja cewki (omy); Li — induktancja (henry); f — czestotliwosc (herce).Powietrzna szczelina d miedzy cewka 11, a plynnym nadlewem 19 daje reaktancje obciazenia Xi dla zasilacza cewki. Wartosc reaktancji indukcyjnej Xi jest funkcja czestotliwosci f pradu, wymiaru szczeliny d, liczby zwojów cewki i wysokosci cewki. Zarówno reaktancja XJak i induktan¬ cja Li nie zaleza wlasciwie od rodzaju odlewanego stopu, jak to ma miejsce z rezystancja.Uklad cewki 11 i otoczonego przez nia plynnego nadlewu 19 stanowi obciazenie rezystancyjne dla zasilacza cewki. Wartosc obciazenia rezystancyjnegojest funkcja geometrii (wymiarów) cewki 11, plynnego nadlewu 19 i rezystywnosci obu tych elementów. Polaczenie obciazen rezystancyjnego i reaktancyjnego opisanych wyzej okresla calkowita impedancje Z*, przez która plynie prad I.Impedancje calkowita mozna wyrazic w omach zgodnie z nastepujacym wyrazeniem: (3) Zi ~VR2i + (2IIf-Li)2 gdzie: Zi — impedancja (omy), R i — rezystancja (omy), f— czestotliwosc (herce), Li—induktancja (henry).Zmiany przekroju obciazenia, a dokladniej zmiany przekroju plynnego nadlewu 19 powoduja zmiany elektrycznego obciazenia cewki 11. Jezeli do cewki 11 jest dostarczane napiecie stale — wtedy proces utrzymywania wlewka w formie polega na rónowazeniu cisnienia elektromegnety- cznego plynnego nadlewu 19 przez sily elektromagnetyczne w celu zapewnienia wlasciwego sterowania. Wzrost plynnego nadlewu spowoduje w takim przypadku przezwyciezenie sil megnety- cznych, a co za tym idzie — wzrost przekroju wlewka. Toz kolei spowoduje zmniejszenie szczeliny d, czyli odleglosci wlewek—cewka oraz zmniejszenie impedancji Zi i induktancji Lj. Prawdopodob¬ nie zjawisko to wywolane jest zmiana rezystancji zwiazana ze wzrostem rozmiarów wlewka.Jednakze na zjawisko to ma wplyw impedancja, a nie rezystancja. Amplituda pradu Iicewki, a wiec i amplituda indukowanego pradu wzrastaja zgodnie z wyrazeniem: (4) Ii =v/Zi gdzie: Ii — prad, Vi — napiecie, Zj — impedancja, tak, ze wlewek powraca do swych wymiarów pierwotnych.Ze wzgledu na to, ze caly proces jest procesem dynamicznym, na powierzchni 13 wlewka tworza sie zafalowania. Przewiduje sie, ze tego rodzaju niejednorodnosci powierzchniowe beda pojawiac sie w charakterystycznych przedzialach czasu o dlugosci rzedu kilku sekund. W celu przedziwdzialania temu zjawisku za pomoca elektrycznych elementów sterujacych, szybkosc reak¬ cji zasilacza 17 i urzadzenia sterujacego 18 powinna byc znacznie mniejsza. Pozadanejest uzyskanie czasu reakcji rzedu co najwyzej 100 milisekund.Zgodnie z powyzszym opisem induktancja lub reaktancja obciazonej cewki 11 sa funkcjami szerokosci szczeliny d. W znanym rozwiazaniu utrzymuje sie napiecie stale na cewce, a do sterowa¬ nia pradem cewki wykorzystuje sie napiecie korekcyjne zalezne od wysokosci powierzchni plyn¬ nego nadlewu.6 128499 W przeciwienstwie do tego w urzadzeniu wedlug wynalazku jest wytwarzany sygnal reprezen¬ tujacy parametr elektryczny formy odlewniczej 10, który jest funkcja szerokosci szczeliny d miedzy plynnym nadlewem 19, a wewnetrzna powierzchnia cewki 11. Sygnal ten steruje wyjsciowym sygnalem zasilacza 17 w celu utrzymania jego wlasciwej czestotliwosci, napiecia i pradu tak, aby szerokosc szczeliny d byla prawie stala.Do cewki 11 jest dostarczany prad bedacy glównym czynnikiem wytwarzania sil elektromag¬ netycznych. Prad ten jest funkcja przykladanego napiecia i impedancji obciazonej cewki, która to impedancja z kolei jest funkcja czestotliwosci i induktancji. Wedlug wynalazku mozliwe jest sterowanie dostarczanym pradem poprzez regulowanie napiecia wyjsciowego zasilacza 17 przy stalej czestotliwosci lub poprzez regulowanie czestotliwosci zasilacza 17 przy stalym napieciu lub tez regulacje czestotliwosci i napiecia lacznie.Na figurze 1 i 2 przedstawiono przykladowe urzadzenie sterujace 18 do sterowania zasilaczem 17 urzadzenia do elektromagnetycznego odlewania. Zadaniem tego urzadzenia sterujacego jest utrzymanie prawie stalych wymiarów szczeliny d tak, aby zmiany jej byly minimalne. Zmniejszenie do minimum zmian wymiarów szczeliny d powoduje zmniejszenie do minimum znieksztalcen powierzchni 13 wlewka C.Cewka 11 jest dolaczona do zasilacza 17 dostarczajacego prad o wymaganym napieciu i czestotliwosci. Typowy zasilacz sklada sie z dwu podzespolów. Jeden podzespól — zewnetrzny przetwornik 25 zawiera glównie generator pólprzewodnikowy, dostarczajacy napiecie do obciaze¬ nia czy ukladu magazynujacego 26 energii pomijajac cewke 11, nazywany jest czasami ukladem cieplnym i zawiera takie elementy, jak kondensatory i transformatory.Wedlug wynalazku przetwornik 25 jest korzystnie przetwornikiem pólprzewodnikowym.Zaleca sie stosowanie przetwornika pólprzewodnikowego, poniewaz jego konstrukcja umozliwia uzyskanie sygnalu wyjsciowego o czestotliwosci regulowanej w szerokim zakresie. To z kolei umozliwia sterowanie glebokoscia wnikania pradu do obciazenia, jak opisano wyzej. Zasilacz 17 wyposazono w uklady sterowania napieciem stalym w celu odseparowania funkcji napieciowych od czestotliwosciowych zasilacza.Bada se tutaj zmiany parametrów elektrycznych ukladu cewka—wlewek w celu badania zmiany wymiarów szczeliny d. Mozna badac wszystkie pozadane parametry lub sygnaly bedace funkcja wymiarów szczeliny d. Jako parametry sterujace stosowane sa, reaktancja cewki 11 i jej obciazenie, a najkorzystniej induktancja cewki i jej obciazenia. Oba te parametry sa funkcja szerokosci szczeliny miedzy cewka 11, a obciazeniem utworzonym przez plynny nadlew 19. Jezeli jednakze jest to pozadane, mozna wykorzystac i inne parametry zalezne od wymiarów szczeliny, takie jak impedancja lub moc. Wykorzystanie impedancji jest mniej pozadane, poniewaz jest ona równiez funkcja obciazenia rezystancyjnego, które zmienia sie wraz ze zmianami srednicy obciaze¬ nia (wlewka) w sposób bardzo zlozony.Na figurze 2 jest przedstawiony sposób badania reaktancji cewki 11 i obciazenia utworzonego przez plynny nadlew 19 w oparciu o pomiar napiecia na cewce 11, którego faza jest przesunieta o 90° wzgledem pradu i podzielenie tego sygnalu przez prad mierzony w cewce. W przypadku pracy przy stalej czestotliwosci reaktancja jest wprost proporcjonalna do induktancji zgodnie z równa¬ niem (2). W wyniku tego dla przypadku stalej czestotliwosci mierzona reaktancja stanowi funkcje szczeliny d zgodnie z równaniem (1). Podczas pracy przy czestotliwosci zmiennej, korzystne jest okreslanie induktancji cewki 11 i jej obciazenia, co mozna osiagnac dzielac reaktancje przez wspólczynnik zawierajacy czlon 2IIf.Powracajac ponownie do fig. 2, przedstawione urzadzenie sterujace 18 nadaje sie zwlaszcza do ukladu, w którym czestotliwosc zasilacza 17 jest utrzymywana na stalym poziomie podczas dzialania urzadzenia. W zwiazku z tym w przypadku urzadzenia sterujacego 18 niezbedny jest jedynie pomiar reaktancji cewki 11 i obciazenia w postaci plynnego nadlewu 19 w celu uzyskania sygnalu reprezentujacego zmiany wymiarów szczeliny d.Sygnal wyjsciowy pólprzewodnikowego zasilacza 17 zawiera skladowe harmoniczne. Ampli¬ tuda tych skladowych harmonicznych wzgledem skladowej o czestotliwosci podstawowej zalezy od wielu czynników takich, jak rodzaj i srednica wlewka, charakterystyki elementów mocy w zasilaczu (np. transformatora dopasowania impedancyjnego). Pomiary parametrów elektrycznych podczas procesu odlewania powinny byc wykonywane dla czestotliwosci podstawowej, aby wyeliminowac uchyby zwiazane z obecnoscia skladowych harmonicznych.I 128499 7 Transformatorpradowy 27 wykrywa prad w cewce 1JL Pradowo-napieciowa siec rezystorów skalujacych 29 dostarcza wlasciwe napiecie. Napiecie tojest dostarczane do petli 30 synchronizacji fazowej, która zapewnia synchronizacje dla czestotliwosci podstawowej pradu i wytwarza dwa sinusoidalne sygnaly wyjsciowe odniesienia przesuniete fazowo odpowiednio o 0° i 90° wzgledem skladowej podstawowej pradp. Czuly na faze prostownik 31 o fazie odniesienia równej 0° wytwarza sygnal o amplitudzie i czestotliwosci podstawowej pradu. Sygnal o fazie odniesienia równej 90°jest dostarczany do prostownika 28 czulego na faze, który wytwarza sygnal o amplitudzie podstawowej skladowej napiecia, zalezny od reaktancji indukcyjnej. Sygnaly napieciowe z prostowników 28,31 po ich wlasciwym przeskalowaniu sa dostarczane do analogowego dzielnika napieciowego 32, w którym napiecie prostownika 28 jest dzielone przez napiecie prostownika 31 w celu uzyskania sygnalu wyjsciowego proporcjonalnego do reaktancji cewki U i obciazenia -— plynnego nadlewu 19. Sygnal wyjsciowy dzielnika napieciowego 32 jest dostarczany do wejscia odwracajacego wzmacniacza róznicowego 33 pracujacego w zakresie liniowym. Nieodwracajace wejscie wzmac¬ niacza róznicowego 33 jest dolaczone do zródla 34 regulowanego napiecia. Sygnal wyjsciowy wzmacniacza róznicowego 33 jest dostarczany do wzmacniacza 35 sygnalu uchybu w celu zapew¬ nienia napiecia uchybu dostarczanego do zewnetrznego przetwornika 25 zasilacza dla dostarczenia do niego sygnalu sterujacego sprzezenia zwrotnego.Korzystne jest, ze wzmacniacz 35 sygnalu uchybu zawiera równiez uklady kompensacji czestotliwosci w celu regulowania dynamicznego zachowania sie calej petli sprzezenia zwrotnego.Sygnal uchybu ze wzmacniacza róznicowego 33jest proporcjonalny do zmian reaktancji cewki 11 i obciazenia — plynnego nadlewu 19, a ponadto odpowiada co do kierunku i polaryzacji kierunkowi zmian reaktancji. Zródlo regulowanego napiecia umozliwia uzyskanie pozadanej szerokosci szczeliny d. Urzadzenie sterujace 18 sprzezenia zwrotnego zmniejsza do minimum zmiany szczeliny d, sprowadzajacje prawie do zera. Urzadzenie sterujace 18 opisane w powiazaniu z Hg. 2 nadaje sie zwlaszcza do pracy w systemie o stalej czestotliwosci, jakkolwiek male zmiany czestotliwosci sadopuszczalne. , Do wycinania skladowej o czestotliwosci podstawowej mozna wykorzystywac inne uklady filtrujace niz petla 30 synchronizacji fazowej. I tak np. mozna badac zarówno przebiegi pradowe, jak i napieciowe o fazie 0° i 90ó wzgledem dowolnie przyjetej fazy odniesienia, które moga byc wyciete z ukladu przetwornika zasilacza 17. Teskladowe bedace w fazie (0°) i skladowe kwadratu- rowe (90°) moga nastepnie zostac dodane wektorowo w celu uzyskania napiec proporcjonalnych do czestotliwosci podstawowej pradu plynacego przez cewke 11.Urzadzenie z fig. 2 mozna zmodyfikowac, jak przedstawiono to na fig. 3, na której podobnie dzialajace elementy ukladowe oznaczono tymi samymi numerami, jak na fig. 2. W urzadzeniu sterujacym 18' z fig. 3 bada sie czestotliwosc pradu dostarczanego do cewki 11 i wytwarza sie sygnal napieciowy proporcjonalny do tej czestotliwosci za pomoca przetwornika 36 czestotliwosciowo- napieciowego dolaczonego do wyjscia ukladu skalujacego 29 prad—napiecie. Sygnal wyjsciowy przetwornika 36 jest wlasciwie skalowany w stosunku do wyjscia dzielnika 32przez uklad skalujacy 37. Drugi analogowy dzielnik 38 napiecia dzieli sygnal wyjsciowy pierwszego dzielnika 32 napiecia przez napiecie proporcjonalne, pochodzace z przetwornika 26 czestotliwosciowo-napieciowego.Sygnal wyjsciowy dzielnika 38 aproksymuje induktancje cewki U i plynnego nadlewu 19, umozli¬ wiajac w ten sposób prace urzadzenia sterujacego 18' nawet przy zmiennej czestotliwosci.Opisane urzadzenia sterujace 18 i 18' wykorzystuja w duzym stopniu technike analogowa, jezeli jednak jeszcze jest to pozadane, to wedlug wynalazku mozna uzyskac jeszcze wieksza skutecznosc, stosujac cyfrowe urzadzenie sterujace 18" przedstawione przykladowo na schemacie blokowym na fig. 4. Zasilacz 17 wraz z zewnetrznym przetwornikiem 25 i ukladem magazynujacym 26 aa tu identyczne jak na fig. 2 i 3.W wykonaniu urzadzenia z fig. 4 wzmacniacz róznicowy 39 wykorzystywany do badania napiecia na cewce 11. Transformatorpradowy 27jest wykorzystywany do badania pradu w cew^e 11 Sygnal wyjsciowy wzmacniacza róznicowego 39 jest dostarczany do filtru F wycinajacego czestotliwosc podstawowa. Sygnal wyjsciowy filtru F jest dostarczany do przetwornika 40 Cfcestotliwosciwo-napieciowego. Sygnal wyjsciowy przetwornika 40 czestotliwosciowo-napiecio¬ wego zawiera sygnal b proporcjonalny do czestotliwosci dostarczango pradu. Sygnal wyjsciowy wzmacniacza róznicowego 39 jest dostarczany równiez do wejscia miernika 41 pradu zmiennego.8" 128 499 Do jego drugiego wejscia dochodzi sygnal pradowy badany przez transformator pradowy 27, gdy sygnal jest filtrowany przez filtr F' wycinajacy czestotliwosc podstawowa. Miernik 41 pradu zmiennego dostarcza sygnaly wyjsciowe proporcjonalne do wartosci skutecznej napiecia V, war¬ tosci skutecznej pradu I i mocy czynnej KW dostarczanej do cewki 11.Sygnal wyjsciowy b z przetwornika 40 i sygnaly napiecia V, pradu I i mocy KW z miernika 41 pradu zmiennego sa dostarczane do przetwornika analogowo-cyfrowego 42, który przetwarza je na postac cyfrowa. Sygnal wyjsciowy przetwornika analogowo-cyfrowego 42 jest dostarczany do procesora 43 w postaci minikomputera lub mikroprocesora.Procesor 43 jest zaprogramowyny tak, ze na podstawie doprowadzanych do niego wartosci sygnalu b, napiecia V, pradu I i mocy KW oblicza poszczególne wartosci mocy pozornej KVA,fazy 0, impedancji Z, reaktancjiX i induktancji L. Procesor 43 moze byc zaprogramowany na obliczanie wartosci tych parametrów na podstawie nastepujacych wyrazen: KVA = VI, 0 = cos_1(KW/KVA), Z = V/I, X-Z -sin0 i L = X/(2IIf).Kazde z tych wyrazen jest dobrze znane i umozliwia obliczenie induktancji pracujacego ukladu cewka—obciazenie. Po obliczeniu induktancji procesor 43 oblicza parametry szczeliny d na podsta¬ wie równania (1). Nastepnie procesor 43 porównuje obliczona wartosc dc szczeliny z zadana wartoscia d przechowywana w pamieci i wytwarza zaprogramowany sygnal uchybu odpowiada¬ jacy róznicy miedzy d a dc. Ten sygnal uchybu jest nastepnie dostarczany do przetwornika cyfrowo-analogowego 44 w celu przetworzenia cyfrowego sygnalu uchybu na postac analogowa.Jeden sygnal wyjsciowy przetwornika cyfrowo-analogowego 44 jest dostarczany do regulatora 45 napiecia, a drugi sygnal wyjsciowy przetwornika cyfrowo-analogowego 44 jest dostarczany do regulatora 46 czestotliwosci. Sygnaly wyjsciowe regulatora 45 napiecia i regulatora 46 czestotli¬ wosci sa dostarczane do zasilacza 17 w celu dostarczenia do niego sygnalu sprzezenia zwrotnego regulujacego prad dostarczany do cewki w cely skompensowania zmian wymiarów szczeliny, aby zmniejszyc te zmiany do zera.Urzadzenie sterujace 15" moze pracowac w trzech róznych stanach £racy.Moze ono pracowac ze stala czestotliwoscia, gdy zmienia sie tylko napiecie w celu wyregulowania pradu dostarczanego do cewki 11. W tym stanie pracy regulator 46 czestotliwosci nie pracuje i mozliwe jest obliczanie korekcyjnego sygnalu uchybu z obliczonej wartosci reaktancji X zamiast obliczanie induktancji L, poniewaz obie te wielkosci sa wprost proporcjonalne.Urzadzenie sterujace 18" z fig. 4 moze równiez pracowac w stanie stalego napiecia, w którym zmienia sie jedynie czestotliwosc w celu wysterowania pradu cewki 11. W tym stanie pracy regulator 45 napiecia nie pracuje, a jedynie regulator 46 czestotliwosci dostarcza sygnal uchybu do zasilacza. Wreszcie cyfrowy sposób pracy urzadzenia z fig. 4 umozliwia zmiane zarówno czestotli¬ wosci, jak i napiecia w celu wysterowania pradu w cewce 11. W tym stanie pracy pracuja oba regulatory 45 i 46.Jakkolwiek dzialanie urzadzenia sterujacego 18" z fig. 4 opisano w odniesieniu do badanego wymiaru szczeliny w porównaniu z zadana szczelina w celu wytworzenia sygnalu uchybu, to urzadzenie to moze pracowac równiez w sposób podobny do tego, który opisano w powiazaniu z fig. 2 i 3. I tak np. zamiast obliczac badany wymiar szczeliny, urzadzenie moze obliczac jedynie badana reaktancje lub induktancje zgodnie z przedstawionymi wyzej równaniami, porównac obliczona wartosc reaktancji lub induktancji z zaprogramowana wartoscia i wytworzyc zaprogra¬ mowany sygnal uchybu w zaleznosci od róznicy porównywanych wielkosci. Podejscie takie jest korzystne, poniewaz wymaga mniej liczenia niz wtedy, gdyjest obliczany badany wymiar szczeliny.Urzadzenie sterujace 18" opisane w powiazaniu z fig. 4 jest korzystne ze wzgledu na bardzo duza szybkosc obliczania przez procesor 43 i wytwarzania sygnalów korekcyjnych oraz duza czulosc i skutecznosc charakterystyczna dla ukladów cyfrowych i techniki programowania.Jakkolwiek zaleca sie stosowanie petli synchronizacji fazowej jako filtrów 30, F i F do wycinania czestotliwosci podstawowej, to mozna oczywiscie stosowac do tych celów inny uklad filtrujacy.Urzadzenie wedlug wynalazku mozna wykorzystywac bez potrzeby badania górnej powierzchni 23 plynnego nadlewu 19. Jest to istotne, poniewaz stosowane parametry sa funkcja wymiarów szczeliny d i zaleza w niewielkim stopniu od wysokosci h plynnego nadlewu 19. Jezeli128499 9 jednakze do celów koncowej obróbki pozadane jest badanie polozenia górnej powierzchni 23 plynnego nadlewu 19 mozna zrealizowac to w ten sposób, ze wytwarza sie sygnal zwiazany z wysokoscia tej powierzchni, przy czym sygnal ten jest nastepnie dostarczany do przetwornika liniowego 47.Sygnal wyjsciowy przetwornika 47 jest nastepnie dostarczany do przetwornika analogowo- cyfrowego 42, który zmienia sygnal analogowy na sygnal cyfrowy. Cyfrowy sygnal wysokosci nadlewu jest nastepnie porównywany w procesorze 43 z pozadana wartoscia programowana i wytwarzany jest sygnal uchybu odpowiadajacy róznicy porównywanych wielkosci. Procesor 43 analizuje nastepnie sygnal uchybu zwiazany ze zmianami wymiarów szczeliny z sygnalem uchybu wysokosci nadlewu i wytwarza w wyniku wlasciwy zlozony sygnal uchybu dostarczany do ukladów sterujacych zasilacza 17 w sposób podobny jak opisano to wyzej.Pomimo, ze opisane obciazenie stanowi wlewek, to moze nim byc dowolny ciagly lub pólciagly element odlewany jako pret, ksztaltownik itp.Pomimo, ze w opisie stosowano okreslenie „srednica cewki", to oczywiscie w przypadku nieliniowych cewek 11 chodzi o srednice efektywna. Srednice efektywna cewki liczy sie, mierzac powierzchnie wyznaczona przez cewke 11, a nastepnie liczac jej srednice efektywna tak, jakby zmierzona powierzchnia byla kolowa.Pomimo tego, ze wynalazek opisano dla przypadku miedzi i jej stopów, to mozna go równiez stosowac dla szerokiej gamy metali i stopów, obejmujacych nikiel i jego stopy, stal i jej stopy, glin i jego stopy itd.Programowanie procesora 43 i jego pamieci odbywa sie w znany sposób i nie stanowi wynalazku.Pomimo, ze urzadzenia sterujace 18,18', 18" zostaly opisane w odniesieniu do konkretnego ich zastosowania w urzadzeniu do elektromagnetycznego odlewania, to mozna je oczywiscie w czesci lub w calosci stosowac w innych urzadzeniach do obróbki metali, w których wykorzystuje sie pole magnetyczne. W szczególnosci uklad do badania induktancji cewki mozna wykorzystac np. w piecach indukcyjnych. Jakkolwiek wynalazek ten opisano na podstawie jego konkretnego wykona¬ nia, to oczywiste jest, ze mozliwe sa tu rózne modyfikacje i odmiany nie odbiegajace od zakresu wynalazku. Tenwynalazek jest bardzo waznym i podstawowym wynalazkiem z dziedziny odlewa¬ nia metali. Sposób i urzadzenie wedlug wynalazku znajduja takze zastosowanie w przypadku materialów takich jak krzem lub metaloidy czy pólprzewodniki.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali, w którym wytwarza sie za pomoca cewki indukcyjnej pole elektromagnetyczne oddzialujace i formujace plynny metal do wymaganego ksztaltu, przy czym cewke indukcyjna ustawia sie podczas pracy w pewnej odleglosci od plynnego metalu, tworzac szczeline miedzy plynnym nadlewem, a powierzchnia cewki indukcyj¬ nej i przeciwdziala sie zmianom w tej szczelinie podczas procesu odlewania przez elektryczne badanie zmian parametrów szczeliny i w odpowiedzi na to reguluje sie wartosc pradu dostarcza¬ nego do cewki indukcyjnej, znamienny tym, ze podczas badania zmian parametrów szczeliny okresla sie elektryczny parametr bierny cewki indukcyjnej, który zmienia sie wraz ze zmiana wymiaru szczeliny i w odpowiedzi na to wytwarza sie sygnal uchybu, którego wartosc jest funkcja róznicy pomiedzy wartoscia tego okreslonego elektrycznego parametru biernego i zadana wartos¬ cia tego parametru oraz reguluje sie wartosc pradu dostarczanego do cewki indukcyjnej w zale¬ znosci od sygnalu uchybu. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze okresla sie wartosc parametru elektrycznego poprzez pomiar napiecia i pradu w cewce indukcyjnej. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako elektryczny parametr bierny stosuje sie reaktancje cewki indukcyjnej. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako elektryczny parametr bierny stosuje sie induktancje cewki indukcyjnej. 5. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako elektryczny parametr bierny stosuje sie reaktancje i podczas okreslania parametru elektrycznego wytwarza sie sygnal napieciowy zalezny10 . 128 499 od fazy, odpowiadajacy wartosci napiecia o fazie przesunietej o 90° wzgledem sygnalu pradowego oraz dzieli sie sygnal napieciowy zalezny od fazy przez sygnal pradowy, przez co wytwarza sie sygnal wyjsciowy reprezentujacy reaktancje cewki indukcyjnej, 6. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako elektryczny parametr bierny stosuje sie induktancje i podczas okreslania parametru elektrycznego wytwarza sie sygnal napieciowy zalezny, od fazy, odpowiadajacy wartosci napiecia o fazie przesunietej o 90° wzgledem sygnalu pradowego oraz dzieli sie sygnal napieciowy zalezny od fazy przez sygnal pradowy, przez co wytwarza sie sygnal wyjsciowy reprezentujacy reaktancje cewki indukcyjnej, mierzy sie czestotliwosc pradu cewki indukcyjnej i wytwarza sie odpowiadajacy jej sygnal oraz dzieli sie sygnal reprezentujacy reaktancje przez sygnal reprezentujacy czestotliwosc, przez co wytwarza sie sygnal reprezentujacy induktancje cewki indukcyjnej. 7. Sposób wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze wydziela sie czestotliwosc podstawowa sygnalów napieciowych i pradowych przed etapem dzielenia. 8. Sposób wedlug zastrz. 6, znamienny tym, ze wydziela sie czestotliwosc podstawowa sygnalów napieciowych i pradowych przed pierwszym etapem dzielenia. 9. Sposób elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali, w którym wytwarzasie za pomoca cewki indukcyjnej pole elektromagnetyczne oddzialywujace i formujace plynny metal do wymaganego ksztaltu, przy czym cewke indukcyjna ustawia sie podczas pracy w pewnej odleglosci od plynnego metalu, tworzac szczeline miedzy plynnym nadlewem, a powierzchnia cewki indukcyj¬ nej, znamienny tym, ze bada sie wymiar szczeliny, w odpowiedzi na zmiany zbadanego wymiaru szczeliny wytwarza sie sygnal uchybu, którego wartosc jest funkcja róznicy pomiedzy zbadanym wymiarem szczeliny i zadanym wymiarem szczeliny oraz w zaleznosci od sygnalu uchybu reguluje sie prad dostarczany do cewki indukcyjnej. 10. Sposób wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze bada sie wymiar szczeliny przez pomiar napiecia i pradu w cewce indukcyjnej. 11. Sposób wedlug zastrz. 10, znamienny tym, ze podczas badania szczeliny przetwarza sie sygnaly pradowe i napieciowe w sygnaly odpowiadajace czestotliwosci pradu w cewce indukcyjnej, napieciu skutecznemu, pradowi skutecznemu i mocy rzeczywistej dostarczanej do cewki indukcyj¬ nej oraz oblicza sie na podstawie sygnalów reprezentujacych czestotliwosc, napiecie skuteczne, prad skuteczny i moc rzeczywista parametr elektryczny cewki indukcyjnej, który zmienia sie wraz ze zmiana wymiaru szczeliny. 12. Sposób wedlug zastrz. 11, znamienny tym, ze podczas etapu obliczania oblicza sie induk¬ tancje cewki indukcyjnej i nastepnie oblicza sie wartosc wymiaru szczeliny i podczas etapu wytwarzania sygnalu uchybu porównuje sie obliczona wartosc wymiaru szczeliny z zaprogramo¬ wana wartoscia wymiaru szczeliny oraz wytwarza sie programowany sygnal uchybu w zaleznosci od róznicy pomiedzy obliczona wartoscia wymiaru szczeliny i zaprogramowana wartoscia wymiaru szczeliny. 13. Urzadzenie do elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali, zawierajace cewke indukcyjna dolaczona do zasilacza i ukladu sterowania, przy czym cewka jest oddalona od plynnego nadlewu o odleglosc tworzaca szczeline powietrzna, znamienny tym, ze zawiera transfor¬ mator pradowy (27) wykrywajacy prad w cewce (11), dolaczony do pradowo-napteciowej sieci rezystorów skalujacych (29), dolaczonej do petli (30) synchronizacji fazowej, której jedno wyjscie jest dolaczone do jednego wejscia prostownika (28) czulego na faze, a drugie wyjscie jestdolaczone do jednego wejscia prostownika (31) czulego na faze, którego drugie wejscie jest sprzezone t wejsciem petli (30) synchronizacji fazowej, drugie i trzecie wejscie prostownika (28) sa dolaczone do polaczonego z cewka (11) zasilacza (17) zawierajacego zewnetrzny prostownik (25) i uklad magazy¬ nujacy (26), a wyjscia prostowników (28, 31) sa dolaczone do analogowego dzielnika napieciowego (32) dolaczonego do jednego wejscia wzmacniacza róznicowego (33), którego drugie wejscie jest dolaczone do zródla (34) regulowanego napiecia, wyjscie wzmacniacza róznicowego (33) jest dolaczone do wzmacniacza (35) sygnalu uchybu dolaczonego do przetwornika (25) zasilacza (17). 14. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze miedzy analogowy dzielnik napieciowy (32) i wzmacniacz róznicowy (33) jest wlaczony drugi analogowy dzielnik napieciowy (38), do którego drugiego wejscia jest dolaczone polaczenie szeregowe ukladu skalujacego (37) i przetwor¬ nika (36) czestotliwosciowo-napieciowego, dolaczonego do drugiego wejscia prostownika (31), |128499 11 15. Urzadzenie do elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali, zawierajace cewke indukcyjna dolaczona do zasilacza i ukladu sterowania, przy czym cewka jest oddalona od plynnego nadlewu o odleglosc tworzaca szczeline powietrzna, znamienne tym, ze zawiera transfor¬ mator pradowy (27) wykrywajacy prad w cewce (11), dolaczony do filtru (F) wycinajacego czestotliwosc podstawowa i do koncówek cewki (11) jest dolaczony równiez wzmacniacz rózni¬ cowy (39) dolaczony do filtru (F) wycinajacego czestotliwosc podstawowa, którego wyjscie jest dolaczone do przetwornika (40) czestotliwosciowo-napieciowego i miernika (41) pradu zmiennego, do którego jest dolaczone takze wyjscie filtru (F), przy czym jedyne wyjscie przetwornika (40) czestotliwosciowo-napieciowego, trzy wyjscia — napiecia, pradu i mocy — miernika (41) pradu zmiennego oraz jedyne wyjscie przetwornika liniowego (47) dolaczonego do górnej powierzchni (23) plynnego nadlewu (19) stanowia wejscia przetwornika analogowo-cyfrowego (42) dolaczo¬ nego do procesora (43), korzystnie minikomputera lub mikroprocesora, dolaczonego do przetwor¬ nika cyfrowo-analogowego (44), którego jedno wyjscie jest dolaczone do regulatora (45) napiecia, a drugie wyjscie — do regulatora (46) czestotliwosci, których wyjscia sa dolaczone do zewnetrznego przetwornika (25) zasilacza (17).128 499 W//////A \g^-^} V ¦21 -FIG-1 17 V 18 V128499 JFIG-2128499 JFIG-3128499 JFIG-4 PL PL PL PL PL

Claims (5)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali, w którym wytwarza sie za pomoca cewki indukcyjnej pole elektromagnetyczne oddzialujace i formujace plynny metal do wymaganego ksztaltu, przy czym cewke indukcyjna ustawia sie podczas pracy w pewnej odleglosci od plynnego metalu, tworzac szczeline miedzy plynnym nadlewem, a powierzchnia cewki indukcyj¬ nej i przeciwdziala sie zmianom w tej szczelinie podczas procesu odlewania przez elektryczne badanie zmian parametrów szczeliny i w odpowiedzi na to reguluje sie wartosc pradu dostarcza¬ nego do cewki indukcyjnej, znamienny tym, ze podczas badania zmian parametrów szczeliny okresla sie elektryczny parametr bierny cewki indukcyjnej, który zmienia sie wraz ze zmiana wymiaru szczeliny i w odpowiedzi na to wytwarza sie sygnal uchybu, którego wartosc jest funkcja róznicy pomiedzy wartoscia tego okreslonego elektrycznego parametru biernego i zadana wartos¬ cia tego parametru oraz reguluje sie wartosc pradu dostarczanego do cewki indukcyjnej w zale¬ znosci od sygnalu uchybu.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze okresla sie wartosc parametru elektrycznego poprzez pomiar napiecia i pradu w cewce indukcyjnej.
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako elektryczny parametr bierny stosuje sie reaktancje cewki indukcyjnej.
4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako elektryczny parametr bierny stosuje sie induktancje cewki indukcyjnej.
5. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako elektryczny parametr bierny stosuje sie reaktancje i podczas okreslania parametru elektrycznego wytwarza sie sygnal napieciowy zalezny10 . 128 499 od fazy, odpowiadajacy wartosci napiecia o fazie przesunietej o 90° wzgledem sygnalu pradowego oraz dzieli sie sygnal napieciowy zalezny od fazy przez sygnal pradowy, przez co wytwarza sie sygnal wyjsciowy reprezentujacy reaktancje cewki indukcyjnej,6. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako elektryczny parametr bierny stosuje sie induktancje i podczas okreslania parametru elektrycznego wytwarza sie sygnal napieciowy zalezny, od fazy, odpowiadajacy wartosci napiecia o fazie przesunietej o 90° wzgledem sygnalu pradowego oraz dzieli sie sygnal napieciowy zalezny od fazy przez sygnal pradowy, przez co wytwarza sie sygnal wyjsciowy reprezentujacy reaktancje cewki indukcyjnej, mierzy sie czestotliwosc pradu cewki indukcyjnej i wytwarza sie odpowiadajacy jej sygnal oraz dzieli sie sygnal reprezentujacy reaktancje przez sygnal reprezentujacy czestotliwosc, przez co wytwarza sie sygnal reprezentujacy induktancje cewki indukcyjnej.7. Sposób wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze wydziela sie czestotliwosc podstawowa sygnalów napieciowych i pradowych przed etapem dzielenia.8. Sposób wedlug zastrz. 6, znamienny tym, ze wydziela sie czestotliwosc podstawowa sygnalów napieciowych i pradowych przed pierwszym etapem dzielenia.9. Sposób elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali, w którym wytwarzasie za pomoca cewki indukcyjnej pole elektromagnetyczne oddzialywujace i formujace plynny metal do wymaganego ksztaltu, przy czym cewke indukcyjna ustawia sie podczas pracy w pewnej odleglosci od plynnego metalu, tworzac szczeline miedzy plynnym nadlewem, a powierzchnia cewki indukcyj¬ nej, znamienny tym, ze bada sie wymiar szczeliny, w odpowiedzi na zmiany zbadanego wymiaru szczeliny wytwarza sie sygnal uchybu, którego wartosc jest funkcja róznicy pomiedzy zbadanym wymiarem szczeliny i zadanym wymiarem szczeliny oraz w zaleznosci od sygnalu uchybu reguluje sie prad dostarczany do cewki indukcyjnej.10. Sposób wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze bada sie wymiar szczeliny przez pomiar napiecia i pradu w cewce indukcyjnej.11. Sposób wedlug zastrz. 10, znamienny tym, ze podczas badania szczeliny przetwarza sie sygnaly pradowe i napieciowe w sygnaly odpowiadajace czestotliwosci pradu w cewce indukcyjnej, napieciu skutecznemu, pradowi skutecznemu i mocy rzeczywistej dostarczanej do cewki indukcyj¬ nej oraz oblicza sie na podstawie sygnalów reprezentujacych czestotliwosc, napiecie skuteczne, prad skuteczny i moc rzeczywista parametr elektryczny cewki indukcyjnej, który zmienia sie wraz ze zmiana wymiaru szczeliny.12. Sposób wedlug zastrz. 11, znamienny tym, ze podczas etapu obliczania oblicza sie induk¬ tancje cewki indukcyjnej i nastepnie oblicza sie wartosc wymiaru szczeliny i podczas etapu wytwarzania sygnalu uchybu porównuje sie obliczona wartosc wymiaru szczeliny z zaprogramo¬ wana wartoscia wymiaru szczeliny oraz wytwarza sie programowany sygnal uchybu w zaleznosci od róznicy pomiedzy obliczona wartoscia wymiaru szczeliny i zaprogramowana wartoscia wymiaru szczeliny.13. Urzadzenie do elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali, zawierajace cewke indukcyjna dolaczona do zasilacza i ukladu sterowania, przy czym cewka jest oddalona od plynnego nadlewu o odleglosc tworzaca szczeline powietrzna, znamienny tym, ze zawiera transfor¬ mator pradowy (27) wykrywajacy prad w cewce (11), dolaczony do pradowo-napteciowej sieci rezystorów skalujacych (29), dolaczonej do petli (30) synchronizacji fazowej, której jedno wyjscie jest dolaczone do jednego wejscia prostownika (28) czulego na faze, a drugie wyjscie jestdolaczone do jednego wejscia prostownika (31) czulego na faze, którego drugie wejscie jest sprzezone t wejsciem petli (30) synchronizacji fazowej, drugie i trzecie wejscie prostownika (28) sa dolaczone do polaczonego z cewka (11) zasilacza (17) zawierajacego zewnetrzny prostownik (25) i uklad magazy¬ nujacy (26), a wyjscia prostowników (28, 31) sa dolaczone do analogowego dzielnika napieciowego (32) dolaczonego do jednego wejscia wzmacniacza róznicowego (33), którego drugie wejscie jest dolaczone do zródla (34) regulowanego napiecia, wyjscie wzmacniacza róznicowego (33) jest dolaczone do wzmacniacza (35) sygnalu uchybu dolaczonego do przetwornika (25) zasilacza (17).14. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze miedzy analogowy dzielnik napieciowy (32) i wzmacniacz róznicowy (33) jest wlaczony drugi analogowy dzielnik napieciowy (38), do którego drugiego wejscia jest dolaczone polaczenie szeregowe ukladu skalujacego (37) i przetwor¬ nika (36) czestotliwosciowo-napieciowego, dolaczonego do drugiego wejscia prostownika (31), |128499 1115. Urzadzenie do elektromagnetycznego sterowania odlewaniem metali, zawierajace cewke indukcyjna dolaczona do zasilacza i ukladu sterowania, przy czym cewka jest oddalona od plynnego nadlewu o odleglosc tworzaca szczeline powietrzna, znamienne tym, ze zawiera transfor¬ mator pradowy (27) wykrywajacy prad w cewce (11), dolaczony do filtru (F) wycinajacego czestotliwosc podstawowa i do koncówek cewki (11) jest dolaczony równiez wzmacniacz rózni¬ cowy (39) dolaczony do filtru (F) wycinajacego czestotliwosc podstawowa, którego wyjscie jest dolaczone do przetwornika (40) czestotliwosciowo-napieciowego i miernika (41) pradu zmiennego, do którego jest dolaczone takze wyjscie filtru (F), przy czym jedyne wyjscie przetwornika (40) czestotliwosciowo-napieciowego, trzy wyjscia — napiecia, pradu i mocy — miernika (41) pradu zmiennego oraz jedyne wyjscie przetwornika liniowego (47) dolaczonego do górnej powierzchni (23) plynnego nadlewu (19) stanowia wejscia przetwornika analogowo-cyfrowego (42) dolaczo¬ nego do procesora (43), korzystnie minikomputera lub mikroprocesora, dolaczonego do przetwor¬ nika cyfrowo-analogowego (44), którego jedno wyjscie jest dolaczone do regulatora (45) napiecia, a drugie wyjscie — do regulatora (46) czestotliwosci, których wyjscia sa dolaczone do zewnetrznego przetwornika (25) zasilacza (17).128 499 W//////A \g^-^} V ¦21 -FIG-1 17 V 18 V128499 JFIG-2128499 JFIG-3128499 JFIG-4 PL PL PL PL PL
PL1978211649A 1978-05-15 1978-12-11 Method and apparatus for electromagnetically controlling metal casting processes PL128499B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/905,889 US4161206A (en) 1978-05-15 1978-05-15 Electromagnetic casting apparatus and process

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL211649A1 PL211649A1 (pl) 1980-02-11
PL128499B1 true PL128499B1 (en) 1984-01-31

Family

ID=25421640

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1978211649A PL128499B1 (en) 1978-05-15 1978-12-11 Method and apparatus for electromagnetically controlling metal casting processes

Country Status (18)

Country Link
US (1) US4161206A (pl)
JP (1) JPS54149323A (pl)
KR (1) KR810002034B1 (pl)
AU (1) AU523771B2 (pl)
BE (1) BE872442A (pl)
BR (1) BR7808062A (pl)
CA (1) CA1115769A (pl)
CH (1) CH642290A5 (pl)
DE (1) DE2853792A1 (pl)
ES (2) ES475434A1 (pl)
FR (1) FR2425904A1 (pl)
GB (1) GB2020855B (pl)
IT (1) IT1107597B (pl)
MX (1) MX150899A (pl)
PL (1) PL128499B1 (pl)
SE (1) SE440862B (pl)
SU (1) SU1209022A3 (pl)
YU (1) YU43755B (pl)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4265294A (en) * 1979-05-30 1981-05-05 Olin Corporation Duflex impedance shield for shape control in electromagnetic casting
US4321959A (en) * 1979-07-11 1982-03-30 Olin Corporation Electromagnetic casting shape control by differential screening and inductor contouring
US4530394A (en) * 1979-07-11 1985-07-23 Olin Corporation Controlled water application for electromagnetic casting shape control
US4458744A (en) * 1979-11-23 1984-07-10 Olin Corporation Electromagnetic casting shape control by differential screening and inductor contouring
US4473104A (en) * 1980-01-10 1984-09-25 Olin Corporation Electromagnetic casting process and apparatus
USRE32596E (en) * 1980-04-07 1988-02-09 Olin Corporation Head top surface measurement utilizing screen parameters in electromagnetic casting
US4495983A (en) * 1980-04-07 1985-01-29 Olin Corporation Determination of liquid-solid interface and head in electromagnetic casting
US4470447A (en) * 1980-04-07 1984-09-11 Olin Corporation Head top surface measurement utilizing screen parameters in electromagnetic casting
EP0037472A1 (en) * 1980-04-07 1981-10-14 Olin Corporation System and process for determination of liquid-solid interface and head in electromagnetic casting
US4375234A (en) * 1980-04-11 1983-03-01 Olin Corporation Electromagnetic thin strip casting process
US4353408A (en) * 1980-04-11 1982-10-12 Olin Corporation Electromagnetic thin strip casting apparatus
US4325777A (en) * 1980-08-14 1982-04-20 Olin Corporation Method and apparatus for reforming an improved strip of material from a starter strip of material
US4419177A (en) * 1980-09-29 1983-12-06 Olin Corporation Process for electromagnetically casting or reforming strip materials
US4410392A (en) * 1980-10-06 1983-10-18 Olin Corporation Process for restructuring thin strip semi-conductor material
US4934446A (en) * 1980-10-06 1990-06-19 Olin Corporation Apparatus for recrystallization of thin strip material
US4356861A (en) * 1980-10-06 1982-11-02 Olin Corporation Process for recrystallization of thin strip material
US4373571A (en) * 1980-12-04 1983-02-15 Olin Corporation Apparatus and process for electromagnetically shaping a molten material within a narrow containment zone
US4471832A (en) * 1980-12-04 1984-09-18 Olin Corporation Apparatus and process for electromagnetically forming a material into a desired thin strip shape
US4358416A (en) * 1980-12-04 1982-11-09 Olin Corporation Apparatus and process for cooling and solidifying molten material being electromagnetically cast
US4446909A (en) * 1981-02-20 1984-05-08 Olin Corporation Process and apparatus for electromagnetic casting of multiple strands having individual head control
US4450890A (en) * 1981-02-20 1984-05-29 Olin Corporation Process and apparatus for electromagnetic casting of multiple strands having individual head control
US4567935A (en) * 1981-05-26 1986-02-04 Kaiser Aluminum & Chemical Corporation Molten metal level control in continuous casting
US4498521A (en) * 1981-05-26 1985-02-12 Kaiser Aluminum & Chemical Corporation Molten metal level control in continuous casting
US4473105A (en) * 1981-06-10 1984-09-25 Olin Corporation Process for cooling and solidifying continuous or semi-continuously cast material
US4415017A (en) * 1981-06-26 1983-11-15 Olin Corporation Control of liquid-solid interface in electromagnetic casting
CA1192372A (en) * 1981-06-26 1985-08-27 Michael J. Pryor Prioritized electromagnetic casting control system
US4523624A (en) * 1981-10-22 1985-06-18 International Telephone And Telegraph Corporation Cast ingot position control process and apparatus
US4495981A (en) * 1981-11-02 1985-01-29 Olin Corporation Process and apparatus for synchronized electromagnetic casting of multiple strands
US4612972A (en) * 1982-01-04 1986-09-23 Olin Corporation Method and apparatus for electro-magnetic casting of complex shapes
US4452297A (en) * 1982-03-05 1984-06-05 Olin Corporation Process and apparatus for selecting the drive frequencies for individual electromagnetic containment inductors
US4561489A (en) * 1982-03-25 1985-12-31 Olin Corporation Flux concentrator
US4522790A (en) * 1982-03-25 1985-06-11 Olin Corporation Flux concentrator
US4469165A (en) * 1982-06-07 1984-09-04 Olin Corporation Electromagnetic edge control of thin strip material
US4516625A (en) * 1983-01-10 1985-05-14 Olin Corporation Electromagnetic control system for casting thin strip
US4606397A (en) * 1983-04-26 1986-08-19 Olin Corporation Apparatus and process for electro-magnetically forming a material into a desired thin strip shape
US4674557A (en) * 1984-03-09 1987-06-23 Olin Corporation Regulation of the thickness of electromagnetically cast thin strip
US4682645A (en) * 1986-03-03 1987-07-28 Olin Corporation Control system for electromagnetic casting of metals
US4741383A (en) * 1986-06-10 1988-05-03 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Horizontal electromagnetic casting of thin metal sheets
US4904497A (en) * 1987-03-16 1990-02-27 Olin Corporation Electromagnetic solder tinning method
US4953487A (en) * 1987-03-16 1990-09-04 Olin Corporation Electromagnetic solder tinning system
US4846255A (en) * 1987-10-28 1989-07-11 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Electromagnetic augmentation for casting of thin metal sheets
SE523881C2 (sv) * 2001-09-27 2004-05-25 Abb Ab Anordning samt förfarande för kontinuerlig gjutning
DE102005043611B4 (de) * 2005-09-13 2016-07-28 Inductoheat Europe Gmbh Induktionshärtungsanlage
DE102006032640B4 (de) * 2006-07-13 2010-07-01 Ema Indutec Gmbh Umrichter, insbesondere zur Erzeugung von Wirkleistung für die induktive Erwärmung und Verfahren zum induktiven Schmelzen und Rühren
WO2010077844A1 (en) * 2008-12-16 2010-07-08 Bp Corporation North America Inc. Systems and methods for manufacturing cast silicon

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2324525A (en) * 1943-07-20 Method of and apparatus fob heat
US2123776A (en) * 1934-06-08 1938-07-12 Rca Corp Control of hardening of steel
US3055959A (en) * 1959-11-24 1962-09-25 Nat Res Corp Electrical device for induction furnaces
GB1351125A (en) * 1970-04-15 1974-04-24 British Steel Corp Method of and apparatus for controlling a moving metal sheet to conform to a predetermined plane
US4014379A (en) * 1970-06-09 1977-03-29 Getselev Zinovy N Method of forming ingot in process of continuous and semi-continuous casting of metals
FR2092863A1 (en) * 1970-06-25 1972-01-28 Kuibyshevsky Metallurg Ingot moulding in continuous and semicontin- - uous metal casting
SU537750A1 (ru) * 1972-04-24 1976-12-05 Предприятие П/Я В-2996 Способ управлени непрерывной и полунепрерывной разливкой металлов

Also Published As

Publication number Publication date
MX150899A (es) 1984-08-13
BR7808062A (pt) 1979-12-18
GB2020855A (en) 1979-11-21
CA1115769A (en) 1982-01-05
AU523771B2 (en) 1982-08-12
BE872442A (fr) 1979-05-30
DE2853792A1 (de) 1979-11-22
KR810002034B1 (ko) 1981-12-21
SU1209022A3 (ru) 1986-01-30
YU43755B (en) 1989-12-31
FR2425904A1 (fr) 1979-12-14
US4161206A (en) 1979-07-17
PL211649A1 (pl) 1980-02-11
SE7812007L (sv) 1979-11-16
JPS619097B2 (pl) 1986-03-19
CH642290A5 (de) 1984-04-13
SE440862B (sv) 1985-08-26
IT1107597B (it) 1985-11-25
FR2425904B1 (pl) 1983-06-10
GB2020855B (en) 1982-09-02
JPS54149323A (en) 1979-11-22
IT7852238A0 (it) 1978-12-07
AU4192978A (en) 1979-11-22
DE2853792C2 (pl) 1987-10-08
ES475434A1 (es) 1980-01-16
YU302678A (en) 1983-04-30
ES478869A1 (es) 1979-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL128499B1 (en) Method and apparatus for electromagnetically controlling metal casting processes
US4289946A (en) Electromagnetic casting apparatus
US4506131A (en) Multiple zone induction coil power control apparatus and method
CA1120235A (en) Method and apparatus for regulating the bath level in a continuous casting mould by means of alternating electro-magnetic fields
JPS6018014B2 (ja) 導電性流体導電率監視装置
Hwang et al. Distribution transformer winding losses due to nonsinusoidal currents
CN105050218A (zh) 感应发热辊装置
US4213496A (en) Electromagnetic casting apparatus
JP2017035716A (ja) 浸漬ノズル内の溶鋼流量測定方法及び装置、連続鋳造用タンディッシュ並びに複層鋳片の連続鋳造方法
JP2018114548A (ja) 浸漬ノズル内の溶鋼流量測定方法及び装置、連続鋳造用タンディッシュ並びに複層鋳片の連続鋳造方法
US4450890A (en) Process and apparatus for electromagnetic casting of multiple strands having individual head control
US3566687A (en) Electromagnetic flowmeter for metallic fluids
CN112560301B (zh) 一种基于磁感原理的磁性材料涡流损耗计算方法
US4446909A (en) Process and apparatus for electromagnetic casting of multiple strands having individual head control
JP2003500218A (ja) 連続鋳造インゴット・モールドにおける液体金属の流速を測定し、かつ調節する方法および設備
CA1119658A (en) Electromagnetic casting apparatus and process
Roy et al. Magnetic shaping of columns of liquid sodium
Souley et al. Modelling and control of a multi phase induction system for metal disc heating
CA1119657A (en) Electromagnetic casting apparatus and process
Kuchinskii et al. MATHEMATICAL MODELLING AND VERIFICATION OF MHD PROCESSES AT STIRRING THE LIQUID PHASE OF THE SOLIDIFYING INGOT.
JPH06122056A (ja) 高周波電磁界鋳型における湯面レベル検出方法
Lavers et al. Current Distribution, Forces, and Circulation in the Coreless Furnace
Razmyshlyaev et al. Magnetic Properties of Materials Used in Electric Arc Welding and Surfacing
JPH0242416B2 (pl)
RU2116648C1 (ru) Электромагнитный структуроскоп