Przedmiotem wynalazku jest chemigraficzna me¬ toda wytwarzania sit z blach grubych, przy po¬ mocy trawienia niezamaskowanych czesci blachy, W szczególnosci przedmiotem wynalazku jest spo¬ sób wytwarzania sit o otworach mniejszych niz grubosc trawionej blachy.Znane jest zastosowanie chemigraficznej metody do otrzymywania róznorodnych wyrobów metalo¬ wych, takich jak: maski do naparowywania w prózni, azury dla mikroelektroniki, sitka róznego rodzaju, maski cieniowe do kineskopu kolorowe¬ go itp.W metodzie tej pokrywa sie czesci metalowe fotorezystem to jest emulsja swiatloczula odporna na dzialanie agresywnych czynników chemicznych.Pokryta fotorezystorem powierzchnie naswietla sie promieniowaniem ultrafioletowym przez fotomaske.Powstaly obraz poddaje sie wywolywaniu, w czasie którego ulega rozpuszczeniu w odpowiednich rozpuszczalnikach nienaswietlona warstwa fotore¬ zystu (fotorezyst negatywowy), podczas gdy war¬ stwa naswietlona, spolimeryzowana pod wplywem promieni ultrafioletowych nie ulega rozpuszczeniu i chroni metal przed dzialaniem srodków chemicz-, nych.Znane sa równiez pozytywowe fotorezysty, któ¬ rych rozpuszczalnosc jest znacznie wieksza w na¬ swietlonych, niz w nienaswietlonych miejscach.W zaleznosci od tego, jaki stosowany jest rodzaj fotorezystu, przygotowuje sie fotomaske w postaci 10 15 negatywu lub pozytywu pozadanej ksztaltki. Wy¬ wolany przedmiot poddaje sie krótkotrwalemu dzialaniu podwyzszonej temperatury, w celu zwiek¬ szenia odpornosci pozostalej warstwy fotorezystu na dzialanie srodków chemicznych. Tak przygoto¬ wany przedmiot poddaje sie trawieniu w agresyw¬ nych srodkach chemicznych (przede wszystkim w roztworze chlorku zelazowego), w czasie którego ulegaja rozjpuszczeniu ndechronione fotorezystem czesci przedmiotu metalowego.Przedstawiona metoda nadaje sie w szczególnosci do wytwarzania siatek z plaskich blach metalowych o niewielkiej grubosci. Wada metody jest to, ze dzialanie srodków chemicznych nie ma charakteru kierunkowego, w zwiazku z czym nastepuje takze trawienie bocznych scian otworów, pod warstwa ochronnego fotorezystu (podtrawienie). Uniemozli¬ wia to uzyskanie otworów o malej srednicy. Innym mankamentem jest ograniczona odpornosc fotore¬ zystu na dzialanie srodków trawiacych. W celu zmniejszenia czasu trwania, a takze zwiekszenie precyzji wymiarów otworów, stosuje sie zazwyczaj trawienie dwustronne, pokrywajac dwustronnie blache fotorezystem i naswietlajac ja promieniowa¬ niem ultrafioletowym przez pare dokladnie spaso- wanych fotomasek.W ten sposób mozna uzyskac otwory o minimal¬ nej srednicy — w najlepszym przypadku — rzedu grubosci blachy, przy czym grubosc blach nie prze¬ kracza zazwyczaj 0,25 mm. Uzyskiwana precyzja 124 6153 124 615 4 Wymiarów nie zawsze jest jednak wystarczajaca.Dotyczy to przede wszystkim produkcji maski cie¬ niowej do kineskopu kolorowego, gdzie wymagane tolerancje otworów sa trudne do uzyskania zwyk¬ lymi metodami trawienia. Droge pokonania tych trudnosci wskazuja rozwiazania zawarte w opisach patentowych Stanów Zjedn. Am. nr nr 4 069 085 i 4 013 498. Zgodnie z wymienionymi rozwiazaniami czas trawienia kazdej ze stron tasmy metalowej jest niejednakowy.Jedna strone powierzchni metalu poddaje sie Jedynie nadfcrawieniu, zaznaczajacym rozmiary tra- pT*$onych otworó\y, natomiast wlasciwe trawienie glebokie zachodzi od przeciwnej strony blachy, l Oznacza to, ze w trakcie duzej czesci procesu tra- , w^ienda, jedna ze* stron tasmy jest zamaskowana.; . .Maskowanie dokonywano za pomoca naklejenia 'wta&ny samoprzylepnej z tworzywa sztucznego. Po¬ niewaz tego rodzaju tasma nie zawsze jest latwo dostepna, nie jest to rozwiazanie uniwersalne. , Wprawdzie rozwiazania wedlug opisów patentowych RFN nr 2446 781 i Stanów Zjedn. Am. nr 36 79 600 przewiduja maskowanie jednej z powierzchni tasmy metalowej, powloke ochronna odporna na dzialanie srodków trawiacych, to jednak zmierzaja one : przede wszystkim do usprawnienia produkcji maski cieniowej, która wytwarzana jest ze wzglednie cienkiej tasmy stalowej o grubosci 0}15 mm. Oka¬ zalo sie, ze nie mozna w ten sposób wytwarzac sit z blach grubszych, poniewaz odpornosc powlok a ochronnych na dlugotrwale trawienie byla niewy¬ starczajaca.. Celem niniejszego wynalazku jest opracowanie takiego sposobu wytwarzania sit, który umozli- w£tty produkcje sit z blach grubych o srednicy , otworów mniejszych niz grubosc blachy.Istota wynalazku jest sposób wytwarzania sit z blach grubych polegajaca na tym, ze na blache praeznaczona do obróbki naklada sie powloke foto- rezytstu dwustronnie i dwukrotnie w celu zwiek- szenda jej grubosci a przez to odpornosci na srodki trawiace. Nastepnie blache naswietlano przez foto- maske a po wywolaniu zapiekano ja w temperatu¬ rze 120°C przez 20 minut i trawiono roztworem chlorku zelazowego. Po trawieniu blache ponownie zapiekano przez 10 minut w temperaturze 120°C i nastepnie kilkakrotnie trawiono przez okres 3 mi¬ nut, przy czym po kazdym trawieniu nastepuje retuszowanie i zapiekanie przez 10 minut w tem¬ peraturze 130°C. Po tych zabiegach nastepuje wy- suszenie i pokrycie jednej strony blachy warstwa fotorezystu, a po naswietleniu i zapieczeniu w temperaturze do 140°C przez okres 20 minut naste¬ puje jednostronne trawienie po kazdym trawieniu blache retuszowano i zapiekano w temperaturze 120°C przez okres 10 minut Najwieksze znaczenie dla osiagniecia dobrych rezultatów ma odpowiednio prowadzony proces trawienia. W sposobie wedlug wynalazku trawienie prowadzi sie poczatkowo dwustronnie, do osiag- nieda glebokosci zatrawienia wynoszacej ok. 1/3 grubosci blachy. Nastepnie nanosi sie na jedna strone blachy nowa jednolita warstwe fotorezystu, uniemozliwiajaca dzialanie srodka trawiacego na pokryta ta strone blachy. Po naswietleniu i zapie- m czerua blachy w podwyzszonej temperaturze naste¬ puje proces jednostronnego trawienia, az do uzys¬ kania pnzeswitu, którego wielkosc okreslona jest rozmiarami nadtrawien w pierwszym, dwustron¬ nym etapie trawienia.Wazna i charakterystyczna cecha obu etapów trawienia jest okresowe przerywanie procesu, w celu wykonania retuszu i pomownegOj naswietlenia i zapieczenia blachy. W wyniku tego uzyskuje sie znacznie zwiekszona odpornosc fotorezystu na srodki trawiace. Warstwa fotorezystu nie staje sie przy tym krucha, dodatkowe naswietlenie i zapie¬ kanie likwiduje bowiem jedynie napecznienie war¬ stwy, powstajace podczas przebywania blach w trawiarce^ Opisany powyzej sposób wedlug wynalazku umozliwia wytwarzanie sit o srednicy otworów mniejszych niz grubosc blachy przy czym grubosc blachy moze byc wieksza od 0,5 mm posiadajacych doskonala powierzchnie, praktycznie pozbawiona wzerów. Kosztem zwiekszenia pracochlonnosci uzyskuje sie sita z blach grubych, o jakosci prze¬ wyzszajacej sita otrzymywane dotychczasowymi metodami Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przy¬ kladzie wykonania, który podaje sposób wytwarza¬ nia sita z blachy metoda chemograficzna wedlug wynalazku. Blache ze stali stopowej 1H 18 N9T o grubosci 0,5 mm pokryto dwustronnie, metoda wyciagania, fotorezystem negatywowym.Po wysuszeniu w suszarce o temp. 80°C przez 15 min., blache powtórnie pokryto fotorezystem zmieniajac kierunek wyciagania. Po wysuszeniu w temp. 90°C w przeciagu 20 min, blache maswiet-.Lono przez odpowiednia fotomaske stosujac ko¬ piarke. Czas naswietlania 8 min. Po wywolaniu blache zapiekano w temp. 120°C przez 20 min. Pro¬ ces trawienia rozpoczeto krótkim 45 sekundowym trawieniem wstepnym w trawiarce napelnionej roztworem chlorku zelazowego. Po trawieniu wstep¬ nym i retuszu, blache ponownie zapieczono przez 10 min. w temp. 120°C. Nastepnie blache osmio¬ krotnie trawiono przez okres 3 min. Po kazdym trawieniu nastepowal retusz i dziesieciominutowe zapiekanie w temp. 130°C. Po osmiu cyklach tra¬ wienia blache wysuszano i pokryto jej jedna strone jednolita warstwe fotorezystu. Po naswietleniu i dwudziestomiutowym zapieczeniu w temp. 130— —140°C, -blache trzykrotnie trawiono jednostronnie przez okres 10 minut Po kazdym okresie trawienia blache retuszowano i zapiekano przez 10 minut w temp. 120°C. Po pojawieniu sie pierwszych otworów wytrawionych na wylot, blache trawiono, co 45 sekund spraw-r dzajac wymiary otworów. Uzyskano sito o dosko¬ nalej powierzchni i nominalnych srednicach otwo¬ rów 0,250 mm* Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania sit z blach grubych o otwo¬ rach mniejszych niz grubosc blachy, znamienny tym, ze blache pokrywa sie obustronnie gruba warstwa fotorezystu suszy i zapieka w czasie5 124 615 6 20 minut w temperaturze 120—130°C, nastepnie poddaje sie dwustronnemu trawieniu na glebokosc okolo jednej trzeciej grubosci blachy roztworem chlorku zelazowego po czym jedna strone blachy pokrywa sie jednolita warstwa fotorezystu i trawi jednostronnie i ponownie zapieka sie przez 10 mi¬ nut w temperaturze 120°C i kilkakrotnie trawi sie przez okres trzech minut, przy czym po kazdym trawieniu nastepuje retuszowanie i zapiekanie przez 10 minut w temperaturze 130°C. PL