PL119863B1 - Reflectometer - Google Patents

Reflectometer Download PDF

Info

Publication number
PL119863B1
PL119863B1 PL21418379A PL21418379A PL119863B1 PL 119863 B1 PL119863 B1 PL 119863B1 PL 21418379 A PL21418379 A PL 21418379A PL 21418379 A PL21418379 A PL 21418379A PL 119863 B1 PL119863 B1 PL 119863B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
axis
mirror
mirrors
sample
flat
Prior art date
Application number
PL21418379A
Other languages
English (en)
Other versions
PL214183A1 (pl
Inventor
Marian Bartkowski
Mieczyslaw Subotowicz
Original Assignee
Univ M Curie Sklodowskiej
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Univ M Curie Sklodowskiej filed Critical Univ M Curie Sklodowskiej
Priority to PL21418379A priority Critical patent/PL119863B1/pl
Publication of PL214183A1 publication Critical patent/PL214183A1/xx
Publication of PL119863B1 publication Critical patent/PL119863B1/pl

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest reflektometr, sluza¬ cy do mierzenia promieniowania elektromagnetycz¬ nego odbitego przez badana próbke przy zmiennym kacie padania.Przy ocenie niektórych wlasciwosci optycznych powierzchni próbek pólprzewodnikowych badz me¬ talicznych, niezbedna jest znajomosc wspólczynnika odbicia R w funkcji dlugosci fali, to jest liczby okreslajacej stosunek natezenia swiatla odbitego do padajacego w danym obszarze spektralnym. Wy¬ znaczanie wspólczynnika odbicia R polega na mie¬ rzeniu natezenia promieniowania elektromagnetycz¬ nego odbitego od powierzchni próbki,,. przy czym wedlug ogólnie stosowanych sposobów, w istnieja¬ cych obecnie spektrofotometrach, pomiar ten od¬ bywa sie itylko dla zadanego kata padania promie¬ niowania elektromagnetycznego.Wyznaczanie wspólczynnika R przy zmiennym kacie padania jest dosc skomplikowane, gdyz — jak wiadomo — obrót próbki wzgledem wiazki promieniowania zmienia kat padania, co z kolei powoduje odpowiednio zmiane kata odbicia.A zatem, aby zarejestrowac promien odbity przy zmiennym kacie padania, nalezy odpowiednio prze¬ mieszczac detektor promieniowania elektromagne¬ tycznego lub zmieniac uklad optyczny, kierujacy wiazke promieniowania na detektor, co jest bardzo uciazliwe. W zwiazku z czym, w znanych spektro¬ fotometrach nie mozna zmierzyc wspólczynnika odbicia R przy zmiennym kacie padania, co moze 10 15 20 25 2 byc szczególnie wazne podczas pracy z promienio¬ waniem spolaryzowanym.Reflektometr wedlug wynalazku sklada sie z czterech luster plaskich i jednego Lustra sferycz¬ nego. Jedno lustro plaskie i lustro sferyczne, sprze¬ zone isa z osia geometryczna, na której umieszczo¬ ne jest jeszcze jedno lustro plaskie i badana prób¬ ka. Os geometryczna stanowia dwie sprzegniete ze soba mechanicznie, korzystnie za pomoca kól zeba¬ tych o przekladni 1 :2 osie, to jest os, na której umieszczone jest jedno lustro plaskie i próbka oraz os, na której umieszczone jest lustro plaskie i lu¬ stro sferyczne.Lustra te, to jest plaskie i sferyczne, przymo¬ cowane sa do ramion osi o równej wielkosci, co powoduje, ze poruszaja sie one po tej samej po¬ wierzchni cylindrycznej. Opisane sprzezenie osi po¬ woduje, ze predkosci katowej osi, na której umiesz¬ czona jest badana próbka i lustro plaskie, odpo¬ wiada dwukrotnie wieksza predkosc katowa osi, na której umieszczone jest lustro plaskie i lustro sferyczne. Pozostale dwa lustra, których zadaniem jest skierowanie wiazki swiatla wzdluz przedluzenia wiazki padajacej, umieszczone sa w sposób trwaly na kierunku wiazki padajacej.Zbiezna wiazka promieniowania elektromagnety¬ cznego pada na próbke, odbija sie od niej, a na¬ stepnie przez uklad czterech luster plaskich i jed¬ nego sferycznego jest kierowana wzdluz kierunku wiazki padajacej. 119 863119 863 Reflektometr wedlug wynalazku zapewnia zmiane kata padania bez zmiany polozenia detektora, po¬ nadto — ze wzgledu na zwarta i prosta konstruk¬ cje — .stwarza mozliwosc seryjnej produkcji jako elementu wyposazenia spektrofotometru.Wynalazek w przykladzie wykonania uwidocz¬ niony jest na rysunku, na którym fig. 1 przedsta¬ wia reflektometr w przekroju poziomym, fig. 2 — w przekroju pionowym, natomiast fig. 3 przedsta¬ wia schemat przestrzennego rozmieszczenia po¬ szczególnych czesci reflektometru.Reflektometr jsklada sie z 5 luster, w tym 4 pla- r skich M|7*ftjfs,-M4 iTM* oraz jednego sferycznego M*.? Próbka S i lustra plaskie Mi, M8 oraz lustro sfe¬ ryczne Mj sprzezone sa jedna osia geometryczna.Próbka.S i lustro Mi znajduja sie na wspólnej osi ¦ S—Mj. Lustra Mt i Mi sa ze soba sprzezone i po¬ ruszaja sie po tej samej powierzchni cylindrycznej.Osie S—Ms i Mi—M2 sa ze soba sprzezone mecha¬ nicznie tak, ze predkosci katowej co osi S-^MS. od¬ powiada predkosc katowa 2 co osi Mi—M2. Takie sprzezenie osiagnieto za pomoca kól zebatych o przekladni 1:2. Lustra M4 i M* sa zamocowane na trwale na podstawie spektrofotometru. W dwu- wiazkowym spektrofotometrze, reflektometr nalezy umieszczac tak, by rzeczywisty obraz zródla swia¬ tla promieniowania znajdowal sie na próbce S.W jednowiazkowym spektrofotometrze reflekto¬ metr nalezy umieszczac za monochromatorem i u- kladem optycznym, ogniskujacym szczeline wyj¬ sciowa monochromatora na próbce S. Obraz zró¬ dla swiatla promieniowania badz szczeliny wyjscio¬ wej monochromatora, znajduje sie na próbce S.Stad za pomoca lustra sferycznego M2 i luster plaskich Mi, Ms, M4 jest przenoszony do punktu P.Plaskie lustro M* zapewnia dalszy bieg wiazki.Wiazka wychodzaca z reflektometru jest prze¬ dluzeniem wiazki wchodzacej. Os obrotu próbki S m 15 25 30 35 i lustra plaskiego Ms (S—Ms) pokrywa sie z osia obrotu polaczonych na trwale luster Mi i M8. Lu¬ stra Mi i M2 poruszaja sie po powierzchni cylin¬ drycznej. Dla przykladu, dla powierzchni cylin¬ drycznej o promieniu r = 60 milimetrów, ognisko¬ wa lustra Mj wynosi okolo 80 milimetrów. Srodki luster Mi i Ms sa 20 milimetrów ponizej srodka próbki S. Srodki luster M* i Mr sa odpowiednio nizej — 50 i 40 milimetrów. Srodek lustra M5 znaj¬ duje sie na wysokosci próbki S.Opisany uklad mozna miniaturyzowac zmieniajac proporcjonalnie podane wyzej parametry.Zastrzezenia patentowe 1. Reflektometr, sluzacy do mierzenia promienio¬ wania elektromagnetycznego, odbitego przez bada¬ na próbke, przy zmiennym kacie padania, znamien¬ ny tym, ze sklada sie z czterech luster plaskich (Mi, Ms, M4, M5) i jednego lustra sferycznego (Ms), przy czym dwa lustra plaskie (Mi, M5) i lustro sfe¬ ryczne (M2) oraz badana próbka (S), zmieszczone sa na jednej geometrycznej osi, która stanowia dwie sprzegniete ze soba mechanicznie, korzystnie za pomoca kól zebatych o przekladni 1 :2 osie, to jest os (S—M8), kie (Ms) i próbka (S) oraz os umieszczone jest lustro plaskie (Mi) i lustro sfery¬ czne (M2), które to lustra przymocowane sa do ra¬ mion osi, o równej wielkosci i poruszaja sie po tej samejf powierzchni cylindrycznej, natomiast dwa pozostale lustra plaskie (M4 i M5) umieszczone sa w sposób trwaly na kierunku wiazki padajacej. 2. Reflektometr wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze predkosc katowa obrotu osi (Mi—Ms) jest dwu¬ krotnie wyzsza od predkosci katowej obrotu osi (S—M8).Fig. 1110 863 Fig. 2 -os obrotu (S-M3) i (M,-M2) Fig. 3 PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Reflektometr, sluzacy do mierzenia promienio¬ wania elektromagnetycznego, odbitego przez bada¬ na próbke, przy zmiennym kacie padania, znamien¬ ny tym, ze sklada sie z czterech luster plaskich (Mi, Ms, M4, M5) i jednego lustra sferycznego (Ms), przy czym dwa lustra plaskie (Mi, M5) i lustro sfe¬ ryczne (M2) oraz badana próbka (S), zmieszczone sa na jednej geometrycznej osi, która stanowia dwie sprzegniete ze soba mechanicznie, korzystnie za pomoca kól zebatych o przekladni 1 :2 osie, to jest os (S—M8), kie (Ms) i próbka (S) oraz os umieszczone jest lustro plaskie (Mi) i lustro sfery¬ czne (M2), które to lustra przymocowane sa do ra¬ mion osi, o równej wielkosci i poruszaja sie po tej samejf powierzchni cylindrycznej, natomiast dwa pozostale lustra plaskie (M4 i M5) umieszczone sa w sposób trwaly na kierunku wiazki padajacej.
  2. 2. Reflektometr wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze predkosc katowa obrotu osi (Mi—Ms) jest dwu¬ krotnie wyzsza od predkosci katowej obrotu osi (S—M8). Fig. 1110 863 Fig. 2 -os obrotu (S-M3) i (M,-M2) Fig. 3 PL
PL21418379A 1979-03-15 1979-03-15 Reflectometer PL119863B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21418379A PL119863B1 (en) 1979-03-15 1979-03-15 Reflectometer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21418379A PL119863B1 (en) 1979-03-15 1979-03-15 Reflectometer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL214183A1 PL214183A1 (pl) 1980-11-03
PL119863B1 true PL119863B1 (en) 1982-01-30

Family

ID=19995141

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL21418379A PL119863B1 (en) 1979-03-15 1979-03-15 Reflectometer

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL119863B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL214183A1 (pl) 1980-11-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4076421A (en) Spectrophotometer with parallel sensing
US3813172A (en) Photometric device with a plurality of measuring fields
US3771880A (en) Roughness analyzer
JPH07209083A (ja) 多重スペクトル・センサ
JPS628729B2 (pl)
US3572951A (en) Single mirror normal incidence reflectometer
US4875773A (en) Optical system for a multidetector array spectrograph
US3817633A (en) Spectroradiometric apparatus and method for measuring radiation
JPS6355020B2 (pl)
HU188795B (en) Detecting arrangement for meassuring the intensity of radiation scattering at a given angle from a sample exposed to radiation of given angle of incidence
US4676652A (en) Multiple pass optical system
GB2404980A (en) Goniospectrophotometer for the simultaneous measurement of the angular spectrum of a source
PL119863B1 (en) Reflectometer
CA2667650C (en) Apparatus, system and method for optical spectroscopic measurements
Dunn¹ et al. Ellipsoidal mirror reflectometer
Hutley et al. The use of a zone-plate monochromator as a displacement transducer
US7304737B1 (en) Rotating or rotatable compensator system providing aberation corrected electromagnetic raadiation to a spot on a sample at multiple angles of a incidence
US3669547A (en) Optical spectrometer with transparent refracting chopper
JPH0694528A (ja) 分光分析装置
Steel III Two-beam interferometry
Workman Optical spectrometers
JPS58727A (ja) フ−リエ変換分光装置
RU2046303C1 (ru) Оптический пирометр
JPH0432728A (ja) コヒーレント光選択分光方法及び装置
Leviton et al. Optical metrology for the filter set for the Hubble Space Telescope (HST) Advanced Camera for Surveys (ACS)