Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania kwasu siarkowego, zwlaszcza z siarki po dlugotrwalymi postojiu instalacji, z tak zwanego stanu zimnego.Stan techniki. Znane sposoby wytwarzania kwa¬ su siarkowego, zwlaszcza z sdanki metoda podwój¬ nej konwersji i podwójnej absorpcji polegaja na prowadzeniu procesu w nastepujacych etapach: 1. Nagrzewa sie aparat 'kontaktowy suchym go¬ racym powietrzem do temperatury powyzej 100°C na ostatniej pólce. 2. Kolejno nagrzewa sie tenze aparat spalinami do temperatury 400—420°C na I pólce i powyzej 350°C na ostatniej pólce. 3. Prowadzi sie wlasciwy rozruch instalacji.Nagrzewanie samego aparatu kontaktowego rea¬ lizowane jest nastepujaco: Najpierw nagrzewa sie wymurówke pieca do temperatury 900°C uzywa¬ jac do tego celu oleju opalowego. Nastepnie uru¬ chamia sie obieg wiezy suszacej i wylacza palnik oleju opalowego.Rozpoczyna sie wówczas nagrzewanie aparatu kontaktowego suchymi goracym powietrzem. Ope¬ racje nagrzewania pieca palnikiem olejowym i przepuszczanie goracego powietrza przez aparat kontaktowy prowadzi sde az do uzyskania tempe¬ ratury 100°C na ostatniej pólce aparatu kontak¬ towego. Nastepnie wylacza sie obieg wiezy susza¬ cej i ponownie rozpala palnik olejowy.Po uzyskaniu klarownych spalin o temperaturze 10 ii s» «• 400—420°C na wylocie z kotla, kieruje sie te spa¬ liny ido aparatu kontaktowego w celu uzyskania temperatury do 400—420°C na I pólce i 350°C na ostatniej jego pólce. Kolejno po przeslepieniu in¬ stalacji, tj. zalozeniu zaslepki miedzy I i II kon¬ taktowania i zamontowaniiu palnika siarki, uru¬ chamia sie instalacje kierujac gazy ze spalania sianfei do aparatu kontaktowego. Gazy zawierajace S02 wchodza na I pólke aparatu kontaktowego, gdzie nastepuje czesciowe lutiendaraie S02 do SO3, czemu towarzyszy wzrost temperatury do 580°C.Gazy kierowane sa przez I wymiennik ciepla na II, III i IV pólke aparatu kontaktowego, gdzie na¬ stepuje dalszy proces uitlenianiia. Po IV pólce gazy kierowane sa do II i III wymiennika ciepla w przestrzen miejdzyrurkowa. W fazie rozruchu gaz po przejsciu przez te dwa ziimne wymienniki cie¬ pla oraz gazociagi zostaje schlodzony i kierowany jest do wiezy absorpcyjnej I gdzie zraszany jest zimnym kwasem isiarJkowym. Po czesciowej ab¬ sorpcji SO3 gaz o temperaturze okolo 20°C prze¬ sylany jest ido przestrzeni rurkowej II wymiennika ciepla gdzie ogrzewa sie kosztem ciepla gazów pierwszego stopnia kontaktowania. Z II wymienni¬ ka ciepla gaz kierowany jest do I wymiennika cie¬ pla, w którym poddawany jest dalszemu podgrza¬ niu.Nastepnie gaz wprowadzany jest na V pólke aparatu kontaktowego. Po przejsciu przez 11° kon¬ taktowania gaz kierowany jest przez/ podgrzewacz 117 140117 149 3 wody i wieze absorpcyjna II do komina sanitar¬ nego. Wytworzony w wezle absorpcji kwas siar¬ kowy przesylany jest do zbiorników /magazyno¬ wych.Podczas operacji nagrzewania aparatu kontak¬ towego powietrzem, a nastepnie spalinami czesc niki ciepla nie sa ogrzewane. Brak ogrzania wy- wezla kontaktowego, w tym gazociagi i wymien- mienionej czesci wezla .kontaktowego w tych me¬ todach i tym stadium uruchamiania instalacji kwasu siarkowego powoduje (to, ze temperatura zloza katalitycznego iia 11° kontaktowania, która winna wynosic 350°C spada do temperatury okolo 250°C. Opary kwasu siarkowego porywane z wiezy absorpcyjnej wJtym^ jc^asie, przechodzac do niena- gnziati|gooArezla -kontaktowego kondensuja tworzac kwajs siarkowy.W* kolejnym etapie procesu technologicznego wy¬ twarzania ikwasu siarkowego, gaz procesowy wpro¬ wadzany do nienaigrzanego wezla kontaiktowego, tworzy z resztkami wilgdcli, w tych wairunikach, mgly kwasu siarkowego.Kondensacja opar i mgiel kwasu siankowego w obu przypadkach, powoduje duza korozje gazocia¬ gów i wymienników ciepla, zwlaszcza wymiennika ciepla II, którego przestrzen rurkowa blokowana jest siarczanami.Kolejnym ujemnym skutkiem -tej metody jest zmniejszenie aktywnosci katalizatora 11° kontak- towianiia, spowodowana przedostawaniem sie mgiel i kropel kwasu na zloze katalityczne, które przy tym isposobie [uruchamiania instalacjii i tym sta¬ dium procesu posiada teihperaiture nizsza od tem¬ peratury ikoriideiusacji kwaisu. Zuzywa sie tafkze duze ilosci siarki, która po spaleniu do SOj i braUBu utleniania do SOs (ze wzgledu na zbyt miska teniperaiture katalizatora) kierowana jest w postaoi SOi do ikamrina sanitarnego i do atmosfery przyczyniajac sie tym samym do -zmniejszenia pro¬ dukcji kwasu siatfkdwego oraz zanieczyszczajac sttodewiisko naturalne.Istota wynalazku. Celem wynalazku jest usunie¬ cie* tych liietiogodnosoi i opracowanie takiego spo¬ sobili wytwarzania ikwasu (siarkowego po dlugotrwa¬ lym fjostoju instalacji z tak zwanego stanu zim¬ nego, aby uniknac wymiecionych niekorzystnych Ejawrijsk.Cel ten osiagnieto przez zastosowanie wynalazku i popro-wadzenie procesu technoiliogicznegd produk- egi kwasu stokowego w ten sposób, ze wezel kon- taiktjowy nagrzewa sie; powietrzem, spalinami i ga¬ zem technologScanym kierowanym z ipieookotla z póminiiociem wiezy ateoipcyjnej.Istota wynalazku polega na tym, ze w czasie urhjchamiarijia instalacji &o dlugotrwalym postoju, instalacja j3racuje jalko instalacja z pojedyncza konwersja i p8jedyncza absorpcja prowadzona na -wszystkich pólkach aparatu ikoostaUkitowego; Taka nKtóliwosc poprowadzenia procesu technologicznego w tym stadium jest osiagana poprzez to, ze gazy e IdtecoMko&a kierowane sa na I stopien kontak- tdwariia. Na pierwszej i kolejnych pólkach aparatu ll&HJtaitefówegio nasteftuije nagrzewanie katalizatora i/lub czesciowe utlenienie SOt do SO3. Po ostat¬ niej pólce I stopnia kontaktowania, gazy kiero- 4 wane sa na uiklad wymienników ciepla do prze¬ strzeni miedzyrurikowej, gdzie w zaleznosci od po¬ trzeb schladzane sa przeplywajacym w przestrzeni rurkowej jednego z wymienników powietrzem kie- s rowanym do piecokotla.Na kolejnych wymiennikach ciepla gazy kiero¬ wane .sa do przestrzeni rurkowej gdzie sa podgrze¬ wane gazami przeplywajacymi w prze&fefseni mie- dzyrurkowej z I stopnia kontaftitiwariiia; Kolejno 10 gazy kierowane sa na II stopien fcdhltafetowania, który w tym stadium procesu technologicznego pracuje jako przedluzenie I stopnia kontaktowania bez pierwszej wiezy absorpcyjnej, skad poprzez wymiennik ciepla oraz druga wieze absorpcyjna 18 i komin sanitarny przechodza dd a%hosfery. Prze¬ plyw gazów z piecokotla popnzez taki uiklad, stop¬ nie kontaktowania, wymiendiM cidpla z pominie¬ ciem pierwszej wiezy absorpcyjnej — I stopien absorpcji — powoduje nagrzanie calej insitalacji *• do temperatury ótptymalnej, w jakiej moze juz byc prowadzony proces z podwójna konwersja i po¬ dwójna absorpcja oraz na osiagniecie innych wy¬ maganych parametrów technologicznych jaikie obo¬ wiazuja po zakonczeniu etapu rozruchowego. 25 Taki sposób popnowadzeniia pierwszego etapu procesu technologicznego pozwala na zmniejszenie korozji wezla kontaktowego, skrócenie czasu na¬ grzewania aparatu kontaktowego, zmniejszenie emi¬ sji S02 i SO3 do atmosfery w czasie rozruchu instalacji, zmoiejiszenie zuzycia siarki potrzebnej do rozruchu instalacji, poprawienie procesu spala¬ nia siarki w poczatkowej fazie rozruchu instalacji Ikwasu siarkowego, mozliwosc regulacji temperatury gazu technologicznegio przy niskich stezeniach na wlocie do piatej pólki — drugiego stopnia kon¬ taktowania — aparatu kontaiktowego, zlikwidowa¬ nie polaczenia miedzy pierwszym a drugiim stop¬ niem kontaktowania, a w ostatecznym wyniku izwiejkszenia produkcji (kwasu siarkowego^ Przyklad wykonania wynalazku. Przedmiot wy¬ nalazku przedstawiony jest w przykladzie wyko¬ nania na rysunku* na którym przedstawiono sche¬ mat technologiczny instalacji produkcji 'kwasu siar¬ kowego z podwójna konwersja i podwójna aibsorp- 41 oja oraz przedstawiony w opisie wynalazku sposób prowadzenia rozruchu instalacji z pojedyncza kon¬ wersja i absorpcja.W czasie rozruchu instalacji gazy z piecoikotla 2 (kierowane sa gazociagiem 10 na I pólke aparatu 10 kontaiktowego 6, gidziie nastepuje nagrzanie katali¬ zatora lub czesciowo utlenienie S02 do SO3. Na¬ stepnie gazy kierowane sa gazociagiem 12 na II pólke aparatu kontaktowego gdzie nastepuje po¬ dobny proces jak na I pólce aparatu kontakto- 88 wegio. Z II pólki aparatu kontaiktowego gazy prze¬ chodza kolejno na III i IV pólke aparatu komtakto- -wegfO* gdzie nastepuja analogiczne procesy jak na dwóch pierwszych pólkach. Gazy po IV pólce, czyli po 1° 'kontaktowania kierowane sa gazocla- 88 gami na II wymiennik ciepla (przestrzen mdedzy- irurlkowa) 4 i na III wymiennik ciepla 3 gdzie w zaleznosci od potrzeb schladzane sa przeplywaja¬ cymi w przestrzeni rurkowej powietrzem kierowa¬ nym do pieca. Grazy z III wymiennika 3 przecho- 88 dza nastepnie gazociagami. 13, 14 i 15 na II wy-117 149 mienniik ciepla 4 w przestrzen rurkowa, gdzie sa podgrzewane przeplywajacym w przestrzeni imie- dzyrurikowej gazamia z 1° kontaktowania.Z II wymiennika oiepla 4 gazy kierowane sa do 1 wymiennika ciepla 5 w przestrzen runkowa i przechodza na V pólke aparaitu kontaktowego Ctzw. 11° kontaktowania, pomijajac wieze absorp¬ cyjna 1 — I stopien absorpcji). Nastepnie gazy fcierowane sa gazociagiem 16 do podgrzewacza wo¬ dy 7 i przez wieze absorpcyjna 8 (itzw. 11° absorp¬ cji) przechodza przez komin sanitarny 9 do atmo¬ sfery. Na gazociagu 14 zamontowana jest przepu- stnica oraz zasleplka. Frzepustnica ma za zadanie -regulowanie przeplywu gazu technologicznego w zaleznosci od potrzeb temperaturowych 1° absorp¬ cji oraz II stopnia kontaktowania.Zaslepka na tym gazociagu zabezpiecza, po uzy¬ skaniu prawidlowych parametrów, szczelnego od¬ ciecia 1° od 11° kontaktowania, co ma istotny ii 15 wplyw na koncowa przemiane S02 do SP3 w aparacie kontaktowym.Z a s t r z e ze nie patentowe Sposób wytwarzaniia kwasu siarlkowego, zwlasz¬ cza z sianki, po dlugotrwalym postoju instalacji z tak zwanego stanu zimnego, metoda podwójnej konwensijii i podwójnej absorpcji, znamienny tym, ze gazy technologiczne z pieooko/tla kierowane sa na I stopien kontaktowania, gdzie na pierwszej i kolejnych pólkach aparatu kontalktowego naste¬ puje nagrzewanie katalizatora i/lufb czesciowo utlenienie S02 do SOa, po czym po ostatniej pólce I stopnia kontaktowania gazy kierowane sa na uklad wymienników ciepla oraz kolejno na II sto¬ pien kontaktowania, który w tym stadiuni procesu technologicznego pracuje jako przedluzenie I stop¬ nia kontaktowania bez pierwszej wiezy aiboorpcyj- nej I stopnia absorpcji. PL