PL115809B1 - Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones - Google Patents

Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones Download PDF

Info

Publication number
PL115809B1
PL115809B1 PL20644478A PL20644478A PL115809B1 PL 115809 B1 PL115809 B1 PL 115809B1 PL 20644478 A PL20644478 A PL 20644478A PL 20644478 A PL20644478 A PL 20644478A PL 115809 B1 PL115809 B1 PL 115809B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
plate
diodes
silicon
diode
etched
Prior art date
Application number
PL20644478A
Other languages
English (en)
Other versions
PL206444A1 (pl
Inventor
Jerzy Klamka
Lech Muczke
Original Assignee
Inst Tech Elektronowej
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Tech Elektronowej filed Critical Inst Tech Elektronowej
Priority to PL20644478A priority Critical patent/PL115809B1/pl
Publication of PL206444A1 publication Critical patent/PL206444A1/xx
Publication of PL115809B1 publication Critical patent/PL115809B1/pl

Links

Landscapes

  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia krzemowych diod zwlaszcza mikrofalowych.W procesie wytwarzania diod krzemowych jak diody PIN, diody lawinowe i inne dazy sie do uzyskania takiego ksztaltu i wielkosci plytki f&ól- przewodnikowej, aby ulatwic jej montaz w obu¬ dowie, zwiekszyc mozliwosc jej chlodzenia w cza¬ sie pracy diody i równoczesnie ogranicxyc da mi¬ nimum objetosc materialu pólprzewodnikowego, co jest szczególnie wazne w diodach mikrofalowych.Znanych jest wiele sposobów wytwarzania plytek krzemowych dla diod a zwlaszcza mikrofalowy«k.Najczesciej z uwagi na trudnosci wykonania i montazu bardzo malych plytek wycina sie wiek¬ sze, w których tylko niewielka, aktywna czesc efektywnie pracuje, a pozostala czesc zwieksza re¬ zystancje mikrofalowa przyrzadu miedzy innymi przez naskórkowosc. Tak na przyklad dzieje sie w przypadku diod ze zlaczem typu mesa. W bar¬ dzo nowoczesnych przyrzadach generacyjnych, sto¬ suje sie juz plytki o niezbednej objetosci i wygod¬ nym ksztalcie do montazu. Tak na przyklad wy¬ twarza sie okragle plytki dla diod PIN i lawino¬ wych w wyniku obustronnego maskowania i wy¬ trawienia badz wycinania ultradzwiekowego czy obróbki w strumieniu proszku sciernego.Wada znanych sposobów jest duza strata ma¬ terialu pólprzewodnikowego podczas obróbki oraz kosztowna aparatura technologiczna sluzaca do obróbki tych plytek.H il Istota wynalazku jest sposób wytwarzania krze¬ mowych diod polegajacy na tym, ze z duzej plytki krzemowej zawierajacej obszar aktywny i po obu stronach kontaktowe warstwy metalowe odporne na trawienie wycina sie male plytki o podstawie czworoboku, w których lekko wytrawia sie obrzeza, a nastepnie montuje sie w obudowie diody lutujac badz spawaja* jedna strone plytki do elektrody obudowy a potem lutujac badz spawajac laczy sie jej druga strone z druga elektroda obudowy, po czym ponownie lekko wytrawia sie obrzeze plytki krzemowej i zabezpiecza sie je masa izolacyjna.Jest doN prosta ekonomiczna metoda masowego wytwarzania plytek krzemowych o minimalnej, calkowicie elektrycznie wykorzystanej objetosci, a takze wygodnych w montazu zapewniajacym dobre odprowadzenia ciepla.Sposób wedlug wynalazku zostanie blizej objas¬ niony na przykladzie wykonania diody PIN przed¬ stawionym na rysunku, którego fig. 1 pokazuje plytke krzemu, zawierajaca obszar aktywny po¬ laczona elastycznie z jednej strony, a fig. 2 plytke ze sztywnym polaczeniem z obu stron.Kwadratowa plytke krzemu zawierajaca obszar aktywny 1 wycina sie pila drutowa z duzej plytki, posiadajacej po obu stronach kontaktowe warstwy metalowe 2. Nastepnie obrzeze plytki lekko wy¬ trawia sie w celu usuniecia defektów krystalicz¬ nych powstalych podczas ciecia. Tak przygotowana plytke przyspawa sie z jednej strony do podstawki 115 809115 809 4 - obudowy mikrofalowej 3, a nastepnie przyspawa sie drut zloty 4 i laczy z kolnierzem drugiej elek¬ trody obudowy. W celu poprawienia charakte¬ rystyki elektrycznej diody obrzeze plytki krzemo¬ wej ponownie trawi sie, stad zewnetrzne warstwy metalowe i pokrycie obudowy musza byc odporne na trawienie. W koncowej czesci postepowania za¬ bezpiecza sie obrzeze plytki masa izolacyjna 5 któ¬ ra chroni obszar aktywny przed degradacja cha- raktrystyki elektrycznej.Z a s t r z ezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania krzemowych diod, zwlasz¬ cza mikrofalowych, znamienny tym, ze z duzej plytki krzemowej zawierajacej obszar aktywny i po obu stronach kontaktowe warstwy metalowe odporne na trawienie wycina sie male plytki o podstawie czworoboku, w których lekko wytrawia 10 15 sie obrzeza, a nastepnie montuje w obudowie diody lutujac badz spawajac jedna strone plytki do elek¬ trody obudowy a potem lutujac badz spawajac laczy sie jej druga strone z druga elektroda obu¬ dowy, po czym ponownie lekko wytrawia sie obrzeze plytki krzemowej i zabezpiecza sie je masa izolacyjna. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytke krzemowa równoczesnie spawa sie lub lu¬ tuje do obu elektrod diody. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze równoczesnie laczy sie wiele plytek krzemowych z obudowami diod. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze obrzeze plytki jest trawione dopiero po obustron¬ nym polaczeniu plytki z elektrodami obudowy diody. ÓZGraf. 2.P. Dz-wo, z. 420 (100+15) 12.83 Cena 100 zl PL

Claims (4)

  1. Z a s t r z ezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania krzemowych diod, zwlasz¬ cza mikrofalowych, znamienny tym, ze z duzej plytki krzemowej zawierajacej obszar aktywny i po obu stronach kontaktowe warstwy metalowe odporne na trawienie wycina sie male plytki o podstawie czworoboku, w których lekko wytrawia 10 15 sie obrzeza, a nastepnie montuje w obudowie diody lutujac badz spawajac jedna strone plytki do elek¬ trody obudowy a potem lutujac badz spawajac laczy sie jej druga strone z druga elektroda obu¬ dowy, po czym ponownie lekko wytrawia sie obrzeze plytki krzemowej i zabezpiecza sie je masa izolacyjna.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytke krzemowa równoczesnie spawa sie lub lu¬ tuje do obu elektrod diody.
  3. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze równoczesnie laczy sie wiele plytek krzemowych z obudowami diod.
  4. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze obrzeze plytki jest trawione dopiero po obustron¬ nym polaczeniu plytki z elektrodami obudowy diody. ÓZGraf. 2.P. Dz-wo, z. 420 (100+15) 12.83 Cena 100 zl PL
PL20644478A 1978-04-28 1978-04-28 Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones PL115809B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL20644478A PL115809B1 (en) 1978-04-28 1978-04-28 Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL20644478A PL115809B1 (en) 1978-04-28 1978-04-28 Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL206444A1 PL206444A1 (pl) 1980-02-11
PL115809B1 true PL115809B1 (en) 1981-05-30

Family

ID=19988975

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL20644478A PL115809B1 (en) 1978-04-28 1978-04-28 Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL115809B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL206444A1 (pl) 1980-02-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3959874A (en) Method of forming an integrated circuit assembly
KR100369393B1 (ko) 리드프레임 및 이를 이용한 반도체패키지와 그 제조 방법
US7176062B1 (en) Lead-frame method and assembly for interconnecting circuits within a circuit module
JPH11233683A (ja) 樹脂封止型半導体装置とそれに用いられる回路部材および樹脂封止型半導体装置の製造方法
US6562657B1 (en) Semiconductor chip assembly with simultaneously electrolessly plated contact terminal and connection joint
JPS5810832B2 (ja) 電気接続装置の製法
US6660626B1 (en) Semiconductor chip assembly with simultaneously electrolessly plated contact terminal and connection joint
JP2000150765A (ja) 半導体集積回路プラスチックパッケ―ジ、およびそのパッケ―ジの製造のための超小型リ―ドフレ―ムおよび製造方法
GB1373008A (en) Electronic components
US3184831A (en) Method of producing an electric contact with a semiconductor device
JP2840317B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
WO2018113573A1 (zh) 一种具有低电阻损耗三维封装结构及其工艺方法
US3001113A (en) Semiconductor device assemblies
WO2018018847A1 (zh) 一种智能功率模块及其制造方法
WO2018018848A1 (zh) 一种智能功率模块及其制造方法
PL115809B1 (en) Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones
US5248895A (en) Semiconductor apparatus having resin encapsulated tab tape connections
CN106024652A (zh) 一种智能功率模块及其制造方法
JPS61160946A (ja) 半導体装置の接続構造体
KR100649878B1 (ko) 반도체 패키지
US5324890A (en) Direct bond copper-output footprint
GB1143506A (en) Method of producing semiconductor devices having connecting leads attached thereto
US12148675B2 (en) Power semiconductor package unit of surface mount technology including a plastic film covering a chip
KR100258606B1 (ko) Pcb 기판 형성방법 및 그를 이용한 bga 반도체 패키지 구조
US7397126B2 (en) Semiconductor device