PL115809B1 - Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones - Google Patents
Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones Download PDFInfo
- Publication number
- PL115809B1 PL115809B1 PL20644478A PL20644478A PL115809B1 PL 115809 B1 PL115809 B1 PL 115809B1 PL 20644478 A PL20644478 A PL 20644478A PL 20644478 A PL20644478 A PL 20644478A PL 115809 B1 PL115809 B1 PL 115809B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- plate
- diodes
- silicon
- diode
- etched
- Prior art date
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 21
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 6
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 210000002615 epidermis Anatomy 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000009700 powder processing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia krzemowych diod zwlaszcza mikrofalowych.W procesie wytwarzania diod krzemowych jak diody PIN, diody lawinowe i inne dazy sie do uzyskania takiego ksztaltu i wielkosci plytki f&ól- przewodnikowej, aby ulatwic jej montaz w obu¬ dowie, zwiekszyc mozliwosc jej chlodzenia w cza¬ sie pracy diody i równoczesnie ogranicxyc da mi¬ nimum objetosc materialu pólprzewodnikowego, co jest szczególnie wazne w diodach mikrofalowych.Znanych jest wiele sposobów wytwarzania plytek krzemowych dla diod a zwlaszcza mikrofalowy«k.Najczesciej z uwagi na trudnosci wykonania i montazu bardzo malych plytek wycina sie wiek¬ sze, w których tylko niewielka, aktywna czesc efektywnie pracuje, a pozostala czesc zwieksza re¬ zystancje mikrofalowa przyrzadu miedzy innymi przez naskórkowosc. Tak na przyklad dzieje sie w przypadku diod ze zlaczem typu mesa. W bar¬ dzo nowoczesnych przyrzadach generacyjnych, sto¬ suje sie juz plytki o niezbednej objetosci i wygod¬ nym ksztalcie do montazu. Tak na przyklad wy¬ twarza sie okragle plytki dla diod PIN i lawino¬ wych w wyniku obustronnego maskowania i wy¬ trawienia badz wycinania ultradzwiekowego czy obróbki w strumieniu proszku sciernego.Wada znanych sposobów jest duza strata ma¬ terialu pólprzewodnikowego podczas obróbki oraz kosztowna aparatura technologiczna sluzaca do obróbki tych plytek.H il Istota wynalazku jest sposób wytwarzania krze¬ mowych diod polegajacy na tym, ze z duzej plytki krzemowej zawierajacej obszar aktywny i po obu stronach kontaktowe warstwy metalowe odporne na trawienie wycina sie male plytki o podstawie czworoboku, w których lekko wytrawia sie obrzeza, a nastepnie montuje sie w obudowie diody lutujac badz spawaja* jedna strone plytki do elektrody obudowy a potem lutujac badz spawajac laczy sie jej druga strone z druga elektroda obudowy, po czym ponownie lekko wytrawia sie obrzeze plytki krzemowej i zabezpiecza sie je masa izolacyjna.Jest doN prosta ekonomiczna metoda masowego wytwarzania plytek krzemowych o minimalnej, calkowicie elektrycznie wykorzystanej objetosci, a takze wygodnych w montazu zapewniajacym dobre odprowadzenia ciepla.Sposób wedlug wynalazku zostanie blizej objas¬ niony na przykladzie wykonania diody PIN przed¬ stawionym na rysunku, którego fig. 1 pokazuje plytke krzemu, zawierajaca obszar aktywny po¬ laczona elastycznie z jednej strony, a fig. 2 plytke ze sztywnym polaczeniem z obu stron.Kwadratowa plytke krzemu zawierajaca obszar aktywny 1 wycina sie pila drutowa z duzej plytki, posiadajacej po obu stronach kontaktowe warstwy metalowe 2. Nastepnie obrzeze plytki lekko wy¬ trawia sie w celu usuniecia defektów krystalicz¬ nych powstalych podczas ciecia. Tak przygotowana plytke przyspawa sie z jednej strony do podstawki 115 809115 809 4 - obudowy mikrofalowej 3, a nastepnie przyspawa sie drut zloty 4 i laczy z kolnierzem drugiej elek¬ trody obudowy. W celu poprawienia charakte¬ rystyki elektrycznej diody obrzeze plytki krzemo¬ wej ponownie trawi sie, stad zewnetrzne warstwy metalowe i pokrycie obudowy musza byc odporne na trawienie. W koncowej czesci postepowania za¬ bezpiecza sie obrzeze plytki masa izolacyjna 5 któ¬ ra chroni obszar aktywny przed degradacja cha- raktrystyki elektrycznej.Z a s t r z ezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania krzemowych diod, zwlasz¬ cza mikrofalowych, znamienny tym, ze z duzej plytki krzemowej zawierajacej obszar aktywny i po obu stronach kontaktowe warstwy metalowe odporne na trawienie wycina sie male plytki o podstawie czworoboku, w których lekko wytrawia 10 15 sie obrzeza, a nastepnie montuje w obudowie diody lutujac badz spawajac jedna strone plytki do elek¬ trody obudowy a potem lutujac badz spawajac laczy sie jej druga strone z druga elektroda obu¬ dowy, po czym ponownie lekko wytrawia sie obrzeze plytki krzemowej i zabezpiecza sie je masa izolacyjna. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytke krzemowa równoczesnie spawa sie lub lu¬ tuje do obu elektrod diody. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze równoczesnie laczy sie wiele plytek krzemowych z obudowami diod. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze obrzeze plytki jest trawione dopiero po obustron¬ nym polaczeniu plytki z elektrodami obudowy diody. ÓZGraf. 2.P. Dz-wo, z. 420 (100+15) 12.83 Cena 100 zl PL
Claims (4)
- Z a s t r z ezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania krzemowych diod, zwlasz¬ cza mikrofalowych, znamienny tym, ze z duzej plytki krzemowej zawierajacej obszar aktywny i po obu stronach kontaktowe warstwy metalowe odporne na trawienie wycina sie male plytki o podstawie czworoboku, w których lekko wytrawia 10 15 sie obrzeza, a nastepnie montuje w obudowie diody lutujac badz spawajac jedna strone plytki do elek¬ trody obudowy a potem lutujac badz spawajac laczy sie jej druga strone z druga elektroda obu¬ dowy, po czym ponownie lekko wytrawia sie obrzeze plytki krzemowej i zabezpiecza sie je masa izolacyjna.
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze plytke krzemowa równoczesnie spawa sie lub lu¬ tuje do obu elektrod diody.
- 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze równoczesnie laczy sie wiele plytek krzemowych z obudowami diod.
- 4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze obrzeze plytki jest trawione dopiero po obustron¬ nym polaczeniu plytki z elektrodami obudowy diody. ÓZGraf. 2.P. Dz-wo, z. 420 (100+15) 12.83 Cena 100 zl PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20644478A PL115809B1 (en) | 1978-04-28 | 1978-04-28 | Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20644478A PL115809B1 (en) | 1978-04-28 | 1978-04-28 | Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL206444A1 PL206444A1 (pl) | 1980-02-11 |
| PL115809B1 true PL115809B1 (en) | 1981-05-30 |
Family
ID=19988975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL20644478A PL115809B1 (en) | 1978-04-28 | 1978-04-28 | Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL115809B1 (pl) |
-
1978
- 1978-04-28 PL PL20644478A patent/PL115809B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL206444A1 (pl) | 1980-02-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3959874A (en) | Method of forming an integrated circuit assembly | |
| KR100369393B1 (ko) | 리드프레임 및 이를 이용한 반도체패키지와 그 제조 방법 | |
| US7176062B1 (en) | Lead-frame method and assembly for interconnecting circuits within a circuit module | |
| JPH11233683A (ja) | 樹脂封止型半導体装置とそれに用いられる回路部材および樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
| US6562657B1 (en) | Semiconductor chip assembly with simultaneously electrolessly plated contact terminal and connection joint | |
| JPS5810832B2 (ja) | 電気接続装置の製法 | |
| US6660626B1 (en) | Semiconductor chip assembly with simultaneously electrolessly plated contact terminal and connection joint | |
| JP2000150765A (ja) | 半導体集積回路プラスチックパッケ―ジ、およびそのパッケ―ジの製造のための超小型リ―ドフレ―ムおよび製造方法 | |
| GB1373008A (en) | Electronic components | |
| US3184831A (en) | Method of producing an electric contact with a semiconductor device | |
| JP2840317B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| WO2018113573A1 (zh) | 一种具有低电阻损耗三维封装结构及其工艺方法 | |
| US3001113A (en) | Semiconductor device assemblies | |
| WO2018018847A1 (zh) | 一种智能功率模块及其制造方法 | |
| WO2018018848A1 (zh) | 一种智能功率模块及其制造方法 | |
| PL115809B1 (en) | Method of manufacturing silicon diodes,in particular microwave ones | |
| US5248895A (en) | Semiconductor apparatus having resin encapsulated tab tape connections | |
| CN106024652A (zh) | 一种智能功率模块及其制造方法 | |
| JPS61160946A (ja) | 半導体装置の接続構造体 | |
| KR100649878B1 (ko) | 반도체 패키지 | |
| US5324890A (en) | Direct bond copper-output footprint | |
| GB1143506A (en) | Method of producing semiconductor devices having connecting leads attached thereto | |
| US12148675B2 (en) | Power semiconductor package unit of surface mount technology including a plastic film covering a chip | |
| KR100258606B1 (ko) | Pcb 기판 형성방법 및 그를 이용한 bga 반도체 패키지 구조 | |
| US7397126B2 (en) | Semiconductor device |