Przedmiotem wynalazku jest sposób odparowa¬ nia cieczy z zastosowaniem cyrkulacji i wyparka z wymuszonym obiegiem cieczy. Urzadzenie to przeznaczone jest do zatezania cieczy w wymaga¬ nych ze wzgledów technologicznych warunkach od¬ parowania powierzchniowego nie dopuszczajacych do stanu wrzenia cieczy w wyparce.Powierzchnie znane sa dwie zasadnicze metody odparowania cieczy; odparowanie powierzchniowe moze byc realizowane nastepujacymi sposobami: odparowanie ze swobodnego lub lekko wzburzone¬ go wymuszona cyrkulacja lustra cieczy odparowanie z powierzchni tryskajacych fontann cieczy, odparowanie z powierzchni kropel rozpylonej cie¬ czy lub z powierzchni swobodnie opadajacych kropel, odparowanie z powierzchni cieczy splywajacej po wypelnieniu.Z literatury znanych jest szereg urzadzen do od¬ parowania powierzchniowego, poza tym do zate¬ zania cieczy na drodze odparowania powierzchnio¬ wego moga sluzyc równiez wyparki przeznaczone do odparowania w stanie wrzenia. Sposród tych urzadzen, do najblizszych przedmiotowi zgloszenia nalezy zaliczyc: wyparki panwiowe, przedstawione w ksiazce Ranta pt. „Odparowanie w teorii i prak¬ tyce"; WNT W-wa 1,965 r. Rys. II-3, wyparki z wewnetrzna wymuszona cyrkulacja zatezonej cie- 10 25 30 czy opisane przez Kubasiewicza w ksiazce pt. „Wy¬ parki, konstrukcja i obliczenia"; WNT, W-wa 1977., rys. IV-19, IV-12, chlodnie fontannowe wody gora¬ cej.Urzadzenia pierwszej grupy skladaja sie wylacz¬ nie z plaskiej poziomej komory odparowania wy¬ pelnionej na dnie zatezona ciecza i podgrzewanej od spodu przez scianke, czynnikiem grzejnym.Urzadzenia drugiej grupy posiadaja jedna wytwo¬ rzona centralnie i zamocowana od góry cyrkula- cyjna pompe smiglowa oraz jeden rurkowy wy¬ miennik ciepla usytuowany pionowo wewnatrz wy¬ parki z tym, ze cyrkulacja zatezonej cieczy przez wymiennik moze sie odbywac w obu wariantach; albo pompa cykrulacyjna przetlacza ciecz w dól przez rurki wymiennika ciepla a nastepnie pod¬ grzewana ciecz przez cylindryczny kanal miedzy wymiennikiem ciepla a korpusem wyparki jest kie¬ rowana do góry pod lustro cieczy w komorze od¬ parowania, lub tez wymiennik ciepla posiada cen¬ tralnie usytuowana rure cyrkulacyjna, przez która roztwór jest za pomoca pompy smiglowej przetla¬ czany w dól a nastepnie przeplywa on do góry przez rurki wymiennika ciepla skad po podgrza¬ niu kierowany jest pod lustro cieczy w komorze odparowania. W urzadzeniach trzeciej grupy, prze¬ znaczonych tylko do ochladzania cieczy goracej, goraca ciecz tloczona przez odsrodkowa pompe wi¬ rowa, wtryskiwana jest przez dysze do basenu fontany. 583 ^.113 583 3 Wada podanych sposobów i rozwiazan w stosun¬ ku do powierzchniowego odparowania cieczy jest: zbyt mala intensywnosc odparowania w warunkach odparowania powierzchniowego, zarówno w wypar¬ ce panwiowej jak tez w wyparce z wymuszona wewnetrzna cyrkulacja cieczy, zbyt silny rozbryzg cieczy w chlodniach fontanno¬ wych, niekorzystny zarówno ze wzgledów techno¬ logicznych jak tez powodujacy zbyt silne bryzga¬ nie, na scianki wyparki i w nastepstwie ich inten¬ sywne zarastanie faza stala powyzej lustra cieczy.Celem wynalazku jest osiagniecie znacznie wyz¬ szej intensywnosci odparowania powierzchniowego cieczy w wyparce, unikajac przy tym silnego roz¬ bryzgu cieczy w komorze odparowania.Sposób wedlug wynalazku polega na odparowa¬ niu cieczy w wyparce z wymuszonym obiegiem cie¬ czy, utrzymujac w wyparce warunki odparowania powierzchniowego i nie dopuszczajac do stanu wrzenia cieczy w wyparce a ciecz w komorze od¬ parowania prowadzi sie w góre ponad lustro cieczy w wyparce i wytwarza sie co najmniej trzy rucho¬ me parasole cieczy. Wyparka z wymuszonym obie¬ giem, charakteryzuje sie tym, ze posiada dwustop¬ niowy uklad pompowy, przy*czym pierwsza pompa smiglowa umieszczona w centralnej opadowej ru¬ rze cyrkulacyjnej przetlacza zatezona ciecz z ko¬ mory odparowania przez rurki wymiennika ciepla do komory rozdzielczej skad podgrzewana ciecz promieniowymi kanalami jest kierowana pod krócce ssace pomp drugiego stopnia wytwarzajacych pa¬ rasole cieczy z tym, ze dyfozory wylotowe pomp wytwarzajacych parasole cieczy sa wysuniete po¬ nad lustro cieczy i zakonczone skierowanymi w góre kolnierzami stozkowymi Rozwiazanie wedlug wynalazku umozliwia zwiek¬ szenie jednostkowego powierzchniowego odparowa¬ nia cieczy w wyparce o okolo 30—50%- w stosunku do odparowania z powierzchni swobodnego lustra cieczy.Wyparka wedlug wynalazku przedstawiona jest na rysunku w przykladzie wykonania Wyparka wedlug wynalazku sklada sie z komory odparowa¬ nia 1, w której usytuowane sa symetrycznie trzy pompy smiglowe 2, przeznaczone do wytwarzania parasoli cieczy. Dyfozory wylotowe 3 tych pomp sa zakonczone skierowanymi ku górze stozkowymi kolnierzami sluzacymi do uksztaltowania parasoli cieczy. Srodek dna komory odparowania jest po- 10 20 25 35 45 laczony z centralna rura opadowa 4, wewnatrz któ¬ rej od góry jest usytuowany wirnik cyrkulacyjnej pompy smiglowej 5. Centralna rura opadowa 4 przenika przez srodek komory rozdzielczej 6 a na¬ stepnie przez srodek wymiennika ciepla 7. Tloczo¬ na przez pompe cykrulacyjna 5 ciecz po przeply¬ nieciu przez rure opadowa 4 jest kierowana do rurek wymiennika ciepla 7. Po przeplynieciu przez^ rurki podgrzana ciecz wplywa do komory rozdziel¬ czej 6 skad trzema promieniowymi kanalami 8 jest kierowana pod krócce wlotowe pomp smiglowych 2.Doprowadzone dodatkowo do wyparki gorace po¬ wietrze jest podane do komory zatezania 1, króc¬ cem dolotowym 9. Ciecz do procesu zatezania jest doprowadzana do wyparki króccem dolotowym 10.Natomiast króciec 11 jest przeznaczony do odpro¬ wadzenia na zewnatrz powietrza oraz odparowanej w wyparce pary wodnej. Zatezanie jest procesem szarzowym.W poczatkowej fazie, zatezanie przebiega ze stala szybkoscia odparowania przy niezmiennej objetosci cieczy w wyparce. Dopiero po odparowaniu w ten sposób calej ilosci cieczy przewidzianej do zateza¬ nia w jednej szarzy, dalsze odparowanie przebiega az do momentu osiagniecia pozadanej gestosci kon¬ cowej produktu.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób odparowania cieczy w wyparce z wy¬ muszonym obiegiem utrzymujacy w wyparce wa¬ runki odparowania powierzchniowego nie dopusz¬ czajac do stanu wrzenia cieczy w wyparce, zna¬ mienny tym, ze w komorze odparowania ciecz pro¬ wadzi sie w góre ponad lustro cieczy w wyparce i wytwarza sie co najmniej trzy ruchome parasole cieczy. 2. Wyparka z wymuszonym obiegiem cieczy, zna¬ mienna tym, ze posiada dwustopniowy uklad pom¬ powy, przy czym pierwsza pompa smiglowa (5) umieszczona w centralnej opadowej rurze cyrkula¬ cyjnej (4) przetlacza zatezona ciecz z komory od¬ parowania (1) przez rurki wymiennika ciepla (7), do komory rozdzielczej (6) skad podgrzana ciecz promieniowymi kanalami (8) jest kierowana pod krócce ssace pomp drugiego stopnia (2) wytwarza¬ jacych parasole cieczy z tym, ze dyfuzory wyloto¬ we (3) pomp wytwarzajacych parasole cieczy sa wysuniete ponad lustro cieczy i zakonczone skiero¬ wanymi w góre kolnierzami stozkowymi.V' 113 583 PL