PL112983B1 - Process for preparing reflection coating on glass - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób otrzymywa¬ nia powloki refleksyjnej na szkle. Szklo otrzymane sposobem wedlug wynalazku, znajduje zastosowa¬ nie w budownictwie o duzych przeszkleniach oraz jako ekrany cieplne w przemysle.Znany jest sposób otrzymywania powlok reflek¬ syjnych przez naparowanie w wysokiej prózni po¬ wierzchni szklanej warstwa metalu, np. zlota oraz cienkimi dielektrycznymi warstwami przezroczy¬ stymi, utworzonymi na przyklad z tlenków metali.Przed procesem naparowania, swiezo polerowane szklo myje sie woda z detergentami, woda destylo¬ wana i czystym alkoholem, a po wysuszeniu umie¬ szcza sie je w komorze prózniowej. W komorze prózniowej plyte szklana poddaje sie z kolei czysz¬ czeniu jonowemu i wygrzewaniu, a nastepnie na tak przygotowana plyte naparowuje sie zadane war¬ stwy powloki.Znany, z opisu patentowego Stanów Zjednoczo¬ nych Ameryki nr 3798146. sposób otrzymywania powlok refleksyjnych polega na tym, ze przedmioty szklane umieszczone w komorze prózniowej w at¬ mosferze gazu szlachetnego o cisnieniu 7—0,6 Pa, pokrywa sie metoda katodowego rozpylania ciagla warstwa posrednia o grubosci 1—20 nm z molib¬ denu, tytanu, chromu lub tantalu. Nastepnie na uzyskana warstwe nanosi sie kolejna warstwe o grubosci 10—50 nm, skladajaca sie ze zlota, sto¬ pów na bazie zlota, miedzi lub stopów na bazie miedzi. Pokryte powloka przedmioty usuwa sie z ko- 2 mory prózniowej. W celu zabezpieczenia otrzyma¬ nych powlok naklada sie na nie dodatkowo warstwe ochronna o grubosci 0,1—10 ^m, skladajaca sie z tlenków krzemu, szkla lub tlenku glinu, przy czym 5 proces ten prowadzi sie technika rozpylania katodo¬ wego wysokiej czestotliwosci.Inny, znany z opisu patentowego RFN nr 2203943, sposób dotyczy otrzymywania powlok refleksyjnych, wytwarzanych na bazie zlota, metoda naparowania io w wysokiej prózni. Powloke te uzyskuje sie przez nalozenie na plyte szklana warstwy posredniej, skladajacej sie z tlenku njetalu lub mieszaniny tlenków metalicznych, tlenku krzemu lub ze szkla, nastepnie warstwy antyrefleksyjnej z siarczku cyn- is ku oraz warstwy zlota jako metalu o wysokiej zdol¬ nosci odbijania w podczerwieni. Na tak uzyskana powloke mozna nalozyc dalsze warstwy interferen¬ cyjne lub ochronne.Z kolei w opisie patentowym NRD nr 119823, któ- 2D ry dotyczy metody regulacji«prooesu i kontroli wlas¬ nosci optycznych powlok, otrzymywanych metodami prózniowymi jest mowa o stosowaniu miedzi jako metalu majacego istotny wplyw na charakterystyke produktu koncowego. Miedz stosowana jest w oto- 25 czeniu interferencyjnych warstw dielektrycznych gruntowej i zewnetrznej, przy czym w patencie nie podano rodzaju stosowanego dielektryka.Sposób otrzymywania powloki refleksyjnej na szkle, wedlug wynalazku, polega na tym, ze po- 30 wierzchnie szklana po uprzednim umyciu poddaje 1129833 112983 4 sie przepolerowaniu i odpyleniu z równoczesna neu¬ tralizacja ladunków elektrostatycznych oraz wy¬ grzaniu w temperaturze 150—250°C. Nastepnie plyte umieszcza sie w-komorze prózniowej, gdzie poddaje sie ja czyszczeniu jonowemu i naparowuje kolejno warstwe ochronna podkladowa o grubosci 4—20 nm, warstwe metalicznej miedzi o grubosci 10—30 nm oraz zewnetrzna warstwe ochronna o grubosci 10— —40 nmy-przy czym warstwy ochronne skladaja sie z tlenku ceru, fluorku magnezu, tlenku krzemu lub chromu. / W przypadku nanoszenia powloki refleksyjnej na szklo bez zawartosci zwiazków siarki i arsenu wzglednie w ilosciach sladowych oraz niewielkiej ilosci rozpuszczanych w nim gazów i zwiazanej wo¬ dy mozna po wygrzaniu powierzchni szkla w tem¬ peraturze okolo 250—300°C wyeliminowac z obróbki wstepnej operacje czyszczenia jonowego. Jako ma¬ terial na powloke refleksyjna stosuje sie chrom, glin, miedz lub ich kombinacje, na która naparo¬ wuje sie zewnetrzna warstwe ochronna z tlenku ceru, fluorku magnezu lub tlenku krzemu. Grubosc warstwy metalicznej wynosi 4—30 nm, zas grubosc warstwy ochronnej 10—150 nm; - Szklo, z powloka refleksyjna, otrzymana sposobem wedlug wynalazku, stosowane jest zwlaszcza w ze¬ stawie szklanym, przy czym powloka umieszczona jest do wewnatrz zestawu. Zastosowanie szkla z powloka refleksyjna poprawia w istotny sposób wlasnosci termoizolacyjne zestawu zmniejszajac przejmowalnosc energii cieplnej od wartosci okolo 3,1 W/m2K dla zestawu zwyklych 2 plyt szklanych do wartosci 2,2—2,3 W/m2K dla zestawy z warstwa refleksyjna, który co do skutecznosci dzialania od¬ powiada zestawowi potrójnemu zwyklych szyb .Po¬ nadto szklo z powloka refleksyjna posiada dobre parametry przepuszczalnosci swiatla ograniczajac wystepujace przy duzym przeszkleniu zbyt jaskra¬ we oswietlenie wnetrz.Przyklad I. Powierzchnie szkla przeznaczona do pokrycia powloka refleksyjna myje sie dwukro¬ tnie woda z detergentem, po czym kilkakrotnie splukuje czysta, a nastepnie destylowana woda.Z kolei powierzchnie plyty przepolerowuje sie ró¬ zem polerskim oraz czysta flanela oraz usuwa z niej pylki neutralizujac równoczesnie ladunki elektrosta¬ tyczne. Nastepnie przez okolo 10 minut wygrzewa sie plyte w temperaturze 150°C, a po umieszczeniu jej w komorze prózniowej poddaje sie bombardo¬ waniu jonowemu przy cisnieniu 10 Pa i napieciu 1 kV. Po uzyskaniu prózni 1 • 10—2 Pa naparowuje sie na plyte warstwe tlenku ceru o grubosci 15 nm, metalicznej miedzi o grubosci 15 nm i ponownie warstwe tlenku ceru o grubosci 20 nm.Przyklad II. Powierzchnie szkla bez zawarto¬ sci zwiazków siarki i arsenu oraz z niewielka iloscia rozpuszczonych w nim gazów i zwiazanej wody, przygotowana jak w przykladzie I, wygrzewa sie 5 w temperaturze 260°C. Z kolei plyte szklana umie¬ szcza sie w komorze prózniowej, a po uzyskaniu prózni 2 • 10-3 Pa naparowuje sie kolejno warstwe metaliczna, skladajaca sie z chromu o grubosci 4 nm . i miedzi o grubosci 12 nm, a nastepnie warstwe fluorku magnezu o grubosci 10 nm.Otrzymane szklo z powlokami refleksyjnymi za¬ równo w przykladzie I i II zabezpiecza sie przez wbudowanie ich w szklo zespolone, w którym po¬ wloka refleksyjna skierowana jest do wewnatrz zestawu.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób otrzymywania powloki refleksyjnej na szkle, zawierajacej w swym skladzie warstwe me¬ taliczna, która stanowi miedz oraz warstwy ochron¬ ne, zawierajace w swym skladzie miedzy innymi tlenek krzemu, polegajacy na nanoszeniu powlok metoda naparowywania w wysokiej prózni na po¬ wierzchnie szklane, poddane zabiegom mycia, od¬ tluszczania, jonowego oczyszczania oraz wygrzewa¬ nia, znamienny tym, ze powierzchnie plyty szklanej po uprzednim umyciu poddaje sie przepolerowaniu i odpyleniu z równoczesna neutralizacja ladunków elektrostatycznych oraz wygrzaniu w temperaturze 150—250°C, po czym umieszcza sie plyte w komorze prózniowej, gdzie poddaje sie ja czyszczeniu jono¬ wemu i naparowuje kolejno warstwe ochronna pod¬ kladowa o grubosci 4—20 nm, warstwe metalicznej miedzi o grubosci 10—30 nm oraz zewnetrzna war¬ stwe ochronna z tlenku ceru, fluorku magnezu, tlenku krzemu lub chromu, której grubosc wynosi 10—40 nm. 2. Sposób otrzymywania powloki refleksyjnej na szkle, zawierajacej warstwe^ metaliczna, która ma w swym skladzie miedz, chrom oraz warstwe ochronna, zawierajaca m.in. tlenek krzemu, polega¬ jacy na nanoszeniu powlok metoda naparowywania w wysokiej prózni na powierzchnie szklane, podda¬ ne zabiegom mycia, odtluszczania oraz wygrzewa¬ nia, znamienny tym, ze powierzchnie plyty szklanej po uprzednim umyciu poddaje sie przepolerowaniu i odpyleniu z równoczesna neutralizacja ladunków elektrostatycznych oraz wygrzaniu w temperaturze 250—300°C, po czym plyte umieszcza sie w komorze prózniowej, gdzie naparowuje sie ja warstwa meta¬ liczna z chromu, miedzi, glinu lub ich kombinacji, o grubosci 4—30 nm oraz warstwa ochronna z tlen¬ ku ceru, fluorku magnezu lub tlenku krzemu o gru¬ bosci 10—150 nm. 15 20 25 30 35 40 45 50 ZfeK^zam. 8786/1110/4/81, 120 Cena 45 zl PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób otrzymywania powloki refleksyjnej na szkle, zawierajacej w swym skladzie warstwe me¬ taliczna, która stanowi miedz oraz warstwy ochron¬ ne, zawierajace w swym skladzie miedzy innymi tlenek krzemu, polegajacy na nanoszeniu powlok metoda naparowywania w wysokiej prózni na po¬ wierzchnie szklane, poddane zabiegom mycia, od¬ tluszczania, jonowego oczyszczania oraz wygrzewa¬ nia, znamienny tym, ze powierzchnie plyty szklanej po uprzednim umyciu poddaje sie przepolerowaniu i odpyleniu z równoczesna neutralizacja ladunków elektrostatycznych oraz wygrzaniu w temperaturze 150—250°C, po czym umieszcza sie plyte w komorze prózniowej, gdzie poddaje sie ja czyszczeniu jono¬ wemu i naparowuje kolejno warstwe ochronna pod¬ kladowa o grubosci 4—20 nm, warstwe metalicznej miedzi o grubosci 10—30 nm oraz zewnetrzna war¬ stwe ochronna z tlenku ceru, fluorku magnezu, tlenku krzemu lub chromu, której grubosc wynosi 10—40 nm.
2. 2. Sposób otrzymywania powloki refleksyjnej na szkle, zawierajacej warstwe^ metaliczna, która ma w swym skladzie miedz, chrom oraz warstwe ochronna, zawierajaca m.in. tlenek krzemu, polega¬ jacy na nanoszeniu powlok metoda naparowywania w wysokiej prózni na powierzchnie szklane, podda¬ ne zabiegom mycia, odtluszczania oraz wygrzewa¬ nia, znamienny tym, ze powierzchnie plyty szklanej po uprzednim umyciu poddaje sie przepolerowaniu i odpyleniu z równoczesna neutralizacja ladunków elektrostatycznych oraz wygrzaniu w temperaturze 250—300°C, po czym plyte umieszcza sie w komorze prózniowej, gdzie naparowuje sie ja warstwa meta¬ liczna z chromu, miedzi, glinu lub ich kombinacji, o grubosci 4—30 nm oraz warstwa ochronna z tlen¬ ku ceru, fluorku magnezu lub tlenku krzemu o gru¬ bosci 10—150 nm. 15 20 25 30 35 40 45 50 ZfeK^zam. 8786/1110/4/81, 120 Cena 45 zl PL