PL103255B1 - Urzadzenie do obrobki chemicznej w kapielach - Google Patents

Description

***«« 1^*,: it urny Twórcywynalazku: Roman Smolski, Wladyslaw Kohutek, Stanislaw Gryjarowicz, Wlodzimierz Goliszek Uprawniony z patentu: Kombinat Przemyslu Narzedziowego „VIS", Warszawa (Polska) Urzadzenie do obróbki chemicznej w kapielach Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do obróbki chemicznej w kapielach. W procesach technologicz¬ nych mycia, odtluszczania, trawienia, obróbki fotochemiczna, zmywania warstw zabezpieczajacych itp. po¬ wierzchnie przedmiotów poddawane sa kolejno oddzialywaniu róznych kapieli, plukaniu a niekiedy i wstep¬ nemu osuszaniu.

Znane dotychczas urzadzenia do prowadzenia tych procesów technologicznych zestawia sie ze zbiorni¬ ków i innych stanowisk w kolejnosci obróbki, a detale przenoszone sa miedzy nimi recznie lub za pomoca mechanicznych przenosników liniowych lub karuzelowych. Niejednokrotnie dzialanie kapieli wzmacniane jest przez ich podgrzewanie, mieszanie, natryskiwanie lub przez uzycie ultradzwieków.

Znane sa tez urzadzenia wannowe wyposazone w dysze do obróbki natryskiem. Urzadzenia takie osia¬ gaja duza wydajnosc pod warunkiem, ze czasy obróbki w poszczególnych zabiegach sa jednakowe lub zblizone.

Gdy czasy te sa rózne, a zabiegi musza nastepowac natychmiast po sobie, obróbke prowadzi sie indywidualnie przy niepelnym wykorzystaniu rozbudowanego urzadzenia. Urzadzenie takie staje sie klopotliwe w eksploatacji wtedy, gdy konieczne jest zachowanie poszczególnych warunków prowadzenia procesu, jak np. duzej czystos¬ ci, stosowania kapieli lotnych, wrazliwych na wplyw czynników zewnetrznych lub podgrzewanych. Konieczne jest wówczas stosowanie dodatkowych zabezpieczen w postaci oslon, nawiewów, wyciagów, skraplaczy par itd. Przestawienie takiego urzadzenia na inny proces technologiczny lub koniecznosc wymiany jednej z kapieli wiaze sie z dluzszym przestojem na oczyszczenie zbiorników i ponowne ich napelnienie. Zdarza sie, ze obje¬ tosci zbiorników nie odpowiadaja szybkosci zuzywania sie kapieli. Zbiorniki za male wymagaja czestej wymia¬ ny kapieli zas za duze niepotrzebnie zwiekszaja ich zuzycie.

Celem wynalazku jest skonstruowanie uniwersalnego urzadzenia do obróbki chemicznej w kapielach nie posiadajacego wyzej wymienionych wad oraz zapewniajacego równomierne traktowanie kapiela powierzchni poddawanychvobróbce, a takze usuwanie z tych powierzchni produktów reakcji i dokladne ich osuszenie po zakonczeniu procesu.2 103 255 Urzadzenie wedlug wynalazku posiada wanne do obróbki z ruchoma rama umocowana do sterowanego programowo przez urzadzenie sterujace trójpolozeniowego mechanizmu, na której to ramie osadzona jest po¬ krywa wanny, paleta z przedmiotami oraz dysze natryskowe. Wannai dysze natryskowe polaczone sa instalacja wymuszajaca przeplyw kapieli obróbczych z wymiennymi pojemnikami kapieli oraz z instalacja zasilajaca i od¬ plywowa poprzez zawory sterowane programowo urzadzeniem sterujacym.

Dysze sluza do obróbki powierzchni natryskiem, natryskowego splukiwania, osuszania sprezonym gazem lub mieszania kapieli w wannie przez jej napowietrzanie badz poruszanie mechaniczne.

Rama z dyszami poruszana jest trójpolozeniowym sterowanym mechanizmem, który umozliwia unie¬ sienie jej ponad wanne w celu zaladowania wsadu, opuszczenie jej do wewnatrz wanny oraz nadanie jej ruchu posuwisto-zwrotnego wzdluz powierzchni przedmiotów podczas obróbki powierzchni natryskiem, natrysko¬ wego splukiwania, suszenia sprezonym gazem, lub mieszania kapieli w wannie.

Zapewnia to równomierne traktowanie powierzchni kapiela, usuwanie z tych powierzchni produktów reakcji oraz dokladne ich osuszenie po zakonczeniu procesu.

Dysze moga byc zasilane kapiela z któregos z polaczonych szybko-rozlacznie pojemników lub z innej instalacji cisnieniowej, np. wody, sprezonego powietrza itp.

Urzadzenie starowane jest przez programowane urzadzenie sterujace, okreslajace kolejnosc, czas uzycia poszczególnych kapieli, czas i rodzaj zasilania dysz oraz cykl ruchów mechanizmu.

Urzadzenie moze posiadac wanne ultradzwiekowa. Niektóre z pojemników kapieli moga byc wyposazone w urzadzenia termostatujace oraz filtry do oczyszczania kapieli.

Urzadzenie wedlug wynalazku umozliwia prowadzenie wielu programów obróbki bez potrzeby przezbra¬ jania i wymiany kapieli w zbiornikach. Kapiele przez wieksza czesc czasu uzytkowania sa zabezpieczone przed wplywem atmosfery, przez co zwieksza sie ich trwalosc.

Pozostawienie detali w stalym polozeniu podczas calego cyklu obróbki eliminuje mozliwosc zabrudzenia lub mechanicznego uszkodzenia powierzchni.

O wielkosci wanny decyduje ilosc miejsca potrzebnego na wsad, a potrzebny pojemnik mozna ustawic poza urzadzeniem, wprost na podlodze.

Przedmiot wynalazku przedstawiono w przykladowym rozwiazaniu konstrukcyjnym na rysunku, w wersji sterowanej i napedzanej pneumatycznie. Wanna robocza 1 wyposazona w swej górnej czesci w wyciag szczeli¬ nowy posiada w swym dnie zawory grzybkowe Zl, Z2, Z3, o duzym przelocie, sterowane programowanym urzadzeniem sterujacym 2. Zawory Zl, Z2, polaczone sa w sposób szybko rozlaczny z latwo wymiennymi pojemnikami kapieli obróbczych PI, P2, zas zawór Z3 - ze sciekiem. Kapiele z pojemników przetlaczane sa do wanny sprezonym powietrzem, podawanym przez odpowiednie zawory Z4, Z5, Z6 i spuszczane po uplywie odpowiedniego czasu grawitacyjnie, po otwarciu któregos z zaworów Zl, Z2, Z3.

W wannie 1 umieszczona jest ruchoma rama 3 z ukladem dysz 4 kierujacych strumien cieczy lub gazu na powierzchnie przedmiotów obrabianych 5 i na scianki wanny 1. Rama 3 umocowana jest do mechanizmu 6 na¬ pedzanego przez dwustopniowy trójpolozeniowy cylinder pneumatyczny 7, sterowany programowo przez zawór Z7 urzadzenia sterujacego 2. Przy polozeniu górnym mechanizmu, na rame 3 zaklada sie palete 8 z przedmiotami 5. Po opuszczaniu ramy do polozenia posredniego paleta zostaje wprowadzona do wanny i oparta o jej krawedzie, dysze znajduja sie w górnym polozeniu pracy, a wanna przykryta zostaje pokrywa 9. Urzadzenie przygotowane jest do pracy.

Mechanizm 6 moze ramie z dyszami nadac ruch posuwisto-zwrotny w zakresie miedzy swym posrednim a dolnym polozeniem, podczas którego dysze 4 moga byc zasilane z pojemnika kapieli obróbczej P3, badz z instalacji wodociagowej lub sprezonego powietrza w celu obróbki powierzchni natryskiem, natryskowego splu¬ kiwania lub suszenia sprezonym powietrzem. Ruch ten moze byc równiez wykorzystany do mechanicznego mieszania kapieli znajdujacej sie w wannie.

Rama 3 moze byc opuszczona do dolnego polozenia i w nim pozostac, a dysze moga byc zasilane spre¬ zonym gazem dla mieszania znajdujacej sie w wannie kapieli.

Czynnik zasilajacy dysze podawany jest poprzez jeden ze sterowanych programowo zaworów Z8, Z9, Z10.

Pokazany na rysunku pojemnik kapieli PI wyposazony jest w grzalke z termoregulatorem 10 oraz filtr boczni¬ kowy 11 do filtrowania kapieli podczas jej przetlaczania do wanny. Jako pojemniki na kapiel moga sluzyc ka¬ nistry, opakowania handlowe, sloje laboratoryjne pod warunkiem, ze korki ich wyposazy sie w rure sciekowa i rurke doprowadzajaca sprezone powietrze.

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Urzadzenie do obróbki chemicznej w kapielach zawierajace wanne, pojemniki kapieli obróbczych, insta¬ lacje zasilajaca i odplywowa, zawory oraz dysze natryskowe, znamienne tym, ze posiada wanne (1)103 255 3 z ruchoma rama (3) umocowana do sterowanego programowo urzadzeniem bterujacym (2), trójpolozeniowego mechanizmu (6), na której to ramie (3) osadzona jest pokrywa (9), paleta (8) z przedmiotami (5) oraz dysze natryskowe (4), przy czym wanna (1) i dysze (4) polaczone sa instalacja wymuszajaca przeplyw kapieli obrób- czych z wymiennymi pojemnikami kapieli (PI), (P2), (P3) oraz z instalacja zasilajaca i odplywowa poprzez zawory sterowane programowo urzadzeniem sterujacym (2). P3 P2 Pi