NO761006L - - Google Patents
Info
- Publication number
- NO761006L NO761006L NO761006A NO761006A NO761006L NO 761006 L NO761006 L NO 761006L NO 761006 A NO761006 A NO 761006A NO 761006 A NO761006 A NO 761006A NO 761006 L NO761006 L NO 761006L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- mixture
- groups
- photosensitizer
- component
- water
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 60
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 46
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 29
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 4
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 claims description 3
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 4
- -1 hydrocarbon radicals Chemical class 0.000 description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 4
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical group C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- MIJRFWVFNKQQDK-UHFFFAOYSA-N furoin Chemical compound C=1C=COC=1C(O)C(=O)C1=CC=CO1 MIJRFWVFNKQQDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N pentan-1-amine Chemical compound CCCCCN DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triallyloxy-1,3,5-triazine Chemical compound C=CCOC1=NC(OCC=C)=NC(OCC=C)=N1 BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOBAWNWVKHMRJH-UHFFFAOYSA-N 2-(N-chloroanilino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCN(C1=CC=CC=C1)Cl OOBAWNWVKHMRJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- UGCSBAYAYZNGRD-UHFFFAOYSA-N 2-anilinoethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCNC1=CC=CC=C1 UGCSBAYAYZNGRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRRQSCPPOIUNGX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(O)C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 LRRQSCPPOIUNGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004042 4-aminobutyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- FXJVNINSOKCNJP-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfinate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])=O)C=C1 FXJVNINSOKCNJP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFPRJLBZLPBTPZ-UHFFFAOYSA-N acenaphthoquinone Chemical compound C1=CC(C(C2=O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 AFPRJLBZLPBTPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001748 allylthiourea Drugs 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- QIGLLCHDIZAZFE-YPKPFQOOSA-N bis(6-methylheptyl) (z)-but-2-enedioate Chemical compound CC(C)CCCCCOC(=O)\C=C/C(=O)OCCCCCC(C)C QIGLLCHDIZAZFE-YPKPFQOOSA-N 0.000 description 1
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N dibutyl (z)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001663 electronic absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethenylcarbamate Chemical class CCOC(=O)NC=C HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- GUAWMXYQZKVRCW-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1C GUAWMXYQZKVRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C)C1=CC=CC=C1 DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCNCCCCC JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACLZYRNSDLQOIA-UHFFFAOYSA-N o-tolylthiourea Chemical compound CC1=CC=CC=C1NC(N)=S ACLZYRNSDLQOIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006503 p-nitrobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1[N+]([O-])=O)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940100684 pentylamine Drugs 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003053 piperidines Chemical class 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920002717 polyvinylpyridine Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- ZKDDJTYSFCWVGS-UHFFFAOYSA-M sodium;diethoxy-sulfanylidene-sulfido-$l^{5}-phosphane Chemical compound [Na+].CCOP([S-])(=S)OCC ZKDDJTYSFCWVGS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPYJNCGUESNPMV-UHFFFAOYSA-N triallylamine Chemical compound C=CCN(CC=C)CC=C VPYJNCGUESNPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- SXPUVBFQXJHYNS-UHFFFAOYSA-N α-furil Chemical compound C=1C=COC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CO1 SXPUVBFQXJHYNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F291/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00
- C08F291/18—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00 on to irradiated or oxidised macromolecules
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F271/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of nitrogen-containing monomers as defined in group C08F26/00
- C08F271/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of nitrogen-containing monomers as defined in group C08F26/00 on to polymers of monomers containing heterocyclic nitrogen
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
" Fotopolymeriserbar blanding"."Photopolymerizable mixture".
Oppfinnelsen vedrører strålingspolymeriserbare blandinger. The invention relates to radiation polymerizable mixtures.
Belgisk patentskrift nr..820.404 beskriver fotopolymeriserbare blandinger som omfatter (a) en vannløselig eller vanndispergerbar polymer eller kopolymér, eller en polymer eller kopolymér blanding hvor en eller flere av komponentene er vann-løselig eller vanndispergerbar; (b) en addisjonspolymeriserbar monomer som er løselig i eller forlikelig med et løsningsmiddel eller dispergeringsmedium for (a); og (c) en fotoinitiator som er istand til å initiere polymeriseringen av monomeren hvorved blandingen kan gjøres vann-uløselig ved bestråling. Belgian Patent No. 820,404 describes photopolymerizable mixtures comprising (a) a water-soluble or water-dispersible polymer or copolymer, or a polymer or copolymer mixture where one or more of the components is water-soluble or water-dispersible; (b) an addition polymerizable monomer which is soluble in or compatible with a solvent or dispersing medium for (a); and (c) a photoinitiator capable of initiating the polymerization of the monomer whereby the mixture can be rendered water-insoluble by irradiation.
Belgisk patentskrift nr. 789.950 beskriver fotopoly-merisering av etylenisk umettet materiale under anvendelse av en fotoinitiator som omfatter Belgian Patent No. 789,950 describes the photopolymerization of ethylenically unsaturated material using a photoinitiator comprising
(I) minst én fotosensibilisator med strukturformelen (I) at least one photosensitizer having the structural formula
hvor X er >C=0, >CR1R2eller ;>CR3OR4; R^^til R4, som kan være like eller forskjellige, er hydrogen eller hydrokarbonrester; n er 0 eller 1, og gruppene A, som kan være like eller forskjellige, er hydrokarbon- eller substituert hydrokarbonrester, idet gruppene A er aromatiske eller substituert aromatiske når n er 1 og X er >CR^R2og når n er 0, og (II) minst ett reduksjonsmiddel som er istand til å redusere fotosensibilisatoren når denne er i fotostimulert tilstand. where X is >C=0, >CR1R2 or ;>CR3OR4; R 3 to R 4 , which may be the same or different, are hydrogen or hydrocarbon radicals; n is 0 or 1, and the groups A, which may be the same or different, are hydrocarbon or substituted hydrocarbon residues, the groups A being aromatic or substituted aromatic when n is 1 and X is >CR^R2 and when n is 0, and ( II) at least one reducing agent capable of reducing the photosensitizer when it is in a photostimulated state.
Søkeren har nå funnet at det kan være fordelaktig å . anvende som polymeren eller kopolymeren i den fotopolymeriserbare blanding i henhold til patent nr. 820.404 en forbindelse som er istand til å virke også som reduksjonsmidlet i henhold til patent nr. 789.950, i tilknytning til fotoinitiatoren i henhold til sistnevnte patent. The applicant has now found that it can be beneficial to . use as the polymer or copolymer in the photopolymerizable mixture according to patent no. 820,404 a compound which is able to act also as the reducing agent according to patent no. 789,950, in connection with the photoinitiator according to the latter patent.
Derfor tilveiebringer oppfinnelsen en fotopolymeriserbar blanding som omfatter (a) en vannløselig eller vanndispergerbar polymer eller kopolymér, eller en polymer eller kopolymér blanding i hvilken en eller flere av komponentene er vannløselig eller vanndispergerbar, (b) en addisjonspolymeriserbar monomer som er løselig i eller forlikelig med et løsnings-middel eller dispergeringsmedium for (a); og (c) minst én fotosensibilisator som har strukturformelen Therefore, the invention provides a photopolymerizable mixture comprising (a) a water-soluble or water-dispersible polymer or copolymer, or a polymer or copolymer mixture in which one or more of the components is water-soluble or water-dispersible, (b) an addition polymerizable monomer which is soluble in or compatible with a solvent or dispersing medium for (a); and (c) at least one photosensitizer having the structural formula
hvor X er C=0; >CR R eller ^CR^OR., R, til R„, som kan være where X is C=0; >CR R or ^CR^OR., R, to R„, which may be
1 2 3 4 1 4 1 2 3 4 1 4
like eller forskjellige, er hydrogen eller hydrokarbonrester,the same or different, are hydrogen or hydrocarbon residues,
n er 0 eller 1, og gruppene A, som kan være like eller forskjellige, er hydrokarbon- eller substituert hydrokarbonrester, idet gruppene A er aromatiske eller substituert aromatiske når n er 1 og X er^CR-^I^°9n^r n er 0, idet den polymere komponent (a) er istand til å redusere fotosensibilisatoren (c) når denner er i stimulert tilstand, for bevirkelse av addisjonspolymerisasjon av minst en del av komponentene (a) og (b) i blandingen. n is 0 or 1, and the groups A, which may be the same or different, are hydrocarbon or substituted hydrocarbon residues, the groups A being aromatic or substituted aromatic when n is 1 and X is ^CR-^I^°9n^r n is 0, the polymeric component (a) being able to reduce the photosensitizer (c) when it is in a stimulated state, to effect addition polymerization of at least part of the components (a) and (b) in the mixture.
Den polymere komponent (a) omfatter fortrinnsvis en reduserende komponent som har strukturen B-M-B hvor M er et ele- The polymeric component (a) preferably comprises a reducing component which has the structure B-M-B where M is an
B B
ment fra gruppeVb i det periodiske system, idet minst én av enhetene B har et karbonatom som utgjør del av polymerkjeden i den polymere komponent (a) og minst én annen av enhetene B, som er hydrogen, hydrokarbonrest, substituert hydrokarbonrest, eller en gruppe hvor to enheter B sammen med elementet M danner et ringsystem, og hvor elementet M er knyttet direkte til en aromatisk gruppe, idet minst én av de andre grupper B har en -C- gruppe knyttet til M. H meant from group Vb in the periodic table, in that at least one of the units B has a carbon atom that forms part of the polymer chain in the polymeric component (a) and at least one other of the units B, which is hydrogen, hydrocarbon residue, substituted hydrocarbon residue, or a group where two units B together with the element M form a ring system, and where the element M is linked directly to an aromatic group, with at least one of the other groups B having a -C- group linked to M. H
Fortrinnsvis omfatter den polymere komponent (a) en poly-(N-vinylpyrrolidon)- og eventuelt en vinylacetatkomponent. Preferably, the polymeric component (a) comprises a poly-(N-vinylpyrrolidone) and optionally a vinyl acetate component.
Den reduserende komponent i polymeren bør ha et slikt reduksjonspotensial at den i den konsentrasjon som den innarbeides i blandingen i, er istand til å redusere fotosensibilisatoren når denne er i stimulert tilstand men allikevel ute av stand til å redusere fotosensibilisatoren når sistnevnte ikke er stimulert ved bestråling. Den reduserende komponent bør, i den konsentrasjon som den er tilstede i i den fotopolymeriserbare blanding, ha liten eller ingen inhiberende effekt på polymerisasjonen. The reducing component in the polymer should have such a reduction potential that, in the concentration in which it is incorporated into the mixture, it is able to reduce the photosensitizer when it is in a stimulated state, but still unable to reduce the photosensitizer when the latter is not stimulated by irradiation . The reducing component should, at the concentration in which it is present in the photopolymerizable mixture, have little or no inhibitory effect on polymerization.
Det periodiske system som det er referert til ovenfor, er det som er publisert i "Advanced Inorganic Chemistry", punkt 2. utgave, av F.A. Cotton og G. Wilkinson (Interscience 1966) , og element M kan f.eks. være fosfor eller, mer fortrinnsvis, nitrogen. Om ønskes, kan M være arsen eller antimon, og The periodic table referred to above is that published in "Advanced Inorganic Chemistry", Item 2nd Edition, by F.A. Cotton and G. Wilkinson (Interscience 1966), and element M can e.g. be phosphorus or, more preferably, nitrogen. If desired, M can be arsenic or antimony, and
i hele denne beskrivelse hvor det henvises til spesifikke eksempler på reduserende komponenter hvor M er nitrogen, vil det på egnede steder inkluderes tilsvarende eksempler hvor M er fosfor, arsen eller antimon. throughout this description where reference is made to specific examples of reducing components where M is nitrogen, corresponding examples where M is phosphorus, arsenic or antimony will be included in suitable places.
Den reduserende komponent kan være primær, sekundær The reducing component can be primary, secondary
B B
eller tertiær. Dette vil si at i strukturen B-M-B kan to, én eller ingen av enhetene B være hydrogenatomer. Eksempelvis kan den reduserende komponent stamme fra et primært, sekundært eller tertiært amin eller fosfin. or tertiary. This means that in the structure B-M-B two, one or none of the units B can be hydrogen atoms. For example, the reducing component can originate from a primary, secondary or tertiary amine or phosphine.
En eller flere av gruppene B kan være hydrokarbonrest, og hydrokarbonresten kan f.eks. være alkyl, cykloalkyl eller alkaryl. Fortrinnsvis er en eller flere av gruppe B en alkylgruppe med 1-10karbonatomer. One or more of the groups B can be a hydrocarbon residue, and the hydrocarbon residue can e.g. be alkyl, cycloalkyl or alkaryl. Preferably, one or more of group B is an alkyl group with 1-10 carbon atoms.
Eksempler på egnede reduserende komponenter hvor en eller flere av enhetene B er en hydrokarbonrest, er slike som begrepsmessig stammer fra propylamin, n-butylamin, pentylamin, heksylamin, dimetylamin, dietylamin, dipropylamin, di-n-butylamin, dipentylamin, trimetylamin, trietylamin, tripropylamin, tri-n-butylamin, tripentylamin, dimetylaminoetylmetakrylat og langkjedede fettaminer, f.eks. C,QH NMe . Examples of suitable reducing components where one or more of the units B is a hydrocarbon residue are those which conceptually derive from propylamine, n-butylamine, pentylamine, hexylamine, dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, di-n-butylamine, dipentylamine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tri-n-butylamine, tripentylamine, dimethylaminoethyl methacrylate and long-chain fatty amines, e.g. C,QH NMe .
IO3 I 2.IO3 I 2.
Således innføres den reduserende komponent bekvemt i polymeren ved kopolymerisasjon. Egnede reduserende komonomerer i hvilke en eller flere av enhetene B er en hydrokarbonrest, er f.eks. følgende estere av en metakryisyre: Thus, the reducing component is conveniently introduced into the polymer by copolymerization. Suitable reducing comonomers in which one or more of the units B is a hydrocarbon residue are e.g. the following esters of a methacrylic acid:
2- aminoetyl2-aminoethyl
3- amino-2-hydroksypropyl3-amino-2-hydroxypropyl
2-aminopropyl2-aminopropyl
4- aminobutyl4-aminobutyl
5- aminopenty15-aminopenty1
6- aminobenzy16-aminobenzy1
N-metylaminoetylN-methylaminoethyl
2- N-etylaminoetyl2- N-ethylaminoethyl
3- N-propylaminopropy13- N-propylaminopropyl1
N-metylaminometylN-methylaminomethyl
4- N-butylaminobutyl4- N-butylaminobutyl
5 N-pentylaminopentyl5 N-pentylaminopentyl
N,N-dimetylaminometylN,N-Dimethylaminomethyl
2 N,N-dimetylaminoetyl2 N,N-Dimethylaminoethyl
3 N,N-dipropylaminopropyl3 N,N-dipropylaminopropyl
4 N,N-dibutylaminobuty14 N,N-dibutylaminobuty1
N,N-dipentylaminopentylN,N-dipentylaminopentyl
Eksempler på reduserende komponenter som inneholder aromatiske grupper, inkluderer slike som begrepsmessig stammer fra N,N'-dimetylanilin, N-metyldifenylamin, p-(N ,N-climetylamino) - styren, 2 anilinoetylmetakrylat, 2-p-metoksyanilinoetylmetakry-lat, 2-anilino-l-metyletylakrylat. Examples of reducing components containing aromatic groups include those conceptually derived from N,N'-dimethylaniline, N-methyldiphenylamine, p-(N,N-climethylamino)-styrene, 2-anilinoethyl methacrylate, 2-p-methoxyanilinoethyl methacrylate, 2 -anilino-1-methylethyl acrylate.
En eller flere av enhetene B kan være en substituert hydrokarbonrest og spesielt kan hydrokarbonresten ha en substi- One or more of the units B can be a substituted hydrocarbon residue and in particular the hydrocarbon residue can have a substituted
tuent med strukturformelen tuent with the structural formula
hvor M er et element where M is an element
fra gruppe Vb i det periodiske system, og enheten R2f.eks. er en alkylenkjede, og enhetene R som kan være like eller forskjellige, er hydrogenatomer eller hydrokarbonrester, spesielt alkyl-( spesieltC^-C^)-grupper. from group Vb in the periodic table, and the unit R2 e.g. is an alkylene chain, and the units R, which may be the same or different, are hydrogen atoms or hydrocarbon residues, especially alkyl-(especially C₁-C₂) groups.
Eksempler på reduserende komponenter som har struk-Examples of reducing components that have struc-
B B
turen B-M-B hvor minst én av enhetene b er en substituert hydrokarbonrest, inkluderer begrepsmessige derivater av strukturen the tour B-M-B where at least one of the units b is a substituted hydrocarbon residue includes conceptual derivatives of the structure
hvor n er et helt tall på minst to, og gruppeneR^, som kan være like eller forskjellige, er hydrogenatomer eller hydrokarbonrester,' spesielt alkylgrupper. Eksempelvis kan den reduserende komponent være begrepsmessig avledet fra etylendiamin, trimetylen-diamin, tetrametylendiamin, pentametylendiamin eller heksametylen-diamin, eller en N-hydrokarbonrest, spesielt N-alkylderivater derav. where n is an integer of at least two, and the groups R^, which may be the same or different, are hydrogen atoms or hydrocarbon residues, especially alkyl groups. For example, the reducing component can be conceptually derived from ethylenediamine, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine or hexamethylenediamine, or an N-hydrocarbon residue, especially N-alkyl derivatives thereof.
Eksempler på slike kopolymeriserbare monomerer er følgende estere av (met)akrylsyre: Examples of such copolymerizable monomers are the following esters of (meth)acrylic acid:
1,3 bis-(dimetylamino)isopropyl1,3 bis-(dimethylamino)isopropyl
1,3 bis-(dietylamino)isopropyl 1,3 bis-(diethylamino)isopropyl
N-(dietylaminoetyl)-N-metylaminometylN-(diethylaminoethyl)-N-methylaminomethyl
Andre egnede reduksjonskomponenter inkluderer begrepsmessige derivater av forbindelser med strukturen Other suitable reduction components include conceptual derivatives of compounds with the structure
hvor ett eller flere av hydrogenatomene i -CH -enheten er substituert med en where one or more of the hydrogen atoms in the -CH unit are substituted with one
gruppe, spesielt en -NH2~gruppe. group, especially a -NH2~ group.
Eksempler på reduserende komponenter hvor elementet M utgjør en del av et ringsystem, inkluderer dem som begrepsmessig stammer fra piperidin, og en N-hydrokarbonrest, spesielt N-alkyl, derivater av piperidin, f.eks. 1,3-bis-di-piperidino-metyl)isopropylmetakrylat. Examples of reducing components where the element M forms part of a ring system include those conceptually derived from piperidine, and an N-hydrocarbon residue, especially N-alkyl, derivatives of piperidine, e.g. 1,3-bis-di-piperidino-methyl)isopropyl methacrylate.
Andre reduserende komponenter inkluderer slike som Other reducing components include such as
begrepsmessig stammer fra triallylamin, conceptually derived from triallylamine,
(allyl) 2-N-CH2- (allyl) 2-N-CH2-
CH2_N-(allyl) , allyltiourinstoff,o-tolyltiourmstoff, løselige salter av aromatiske sulfinsyrer, f.eks. S-benzyl-iso-tiuronium, p-toluensulfinat, og natirumdietylditiofosfat. CH2_N-(allyl), allylthiourea, o-tolylthiourea, soluble salts of aromatic sulfinic acids, e.g. S-benzyl-iso-thiuronium, p-toluenesulfinate, and sodium diethyldithiophosphate.
Innarbeidelse av den reduserende komponent i den polymere komponent i blandingen, eller fremstilling av en polymer komponent som inneholder en slik reduserende komponent i henhold til oppfinnelsen, kan foregå ved kjente teknikker for polymer-fremstilling og vil ikke by på noen vanskelighet for fagmannen på området. Egnede preparative metoder inkluderer kopolymeri-sering av den polymere komponent i blandingen med et materiale som omfatter den reduserende komponent og er kopolymeriserbar med den nevnte polymere komponent. Incorporation of the reducing component in the polymeric component in the mixture, or production of a polymeric component containing such a reducing component according to the invention, can take place by known techniques for polymer production and will not present any difficulty for the person skilled in the field. Suitable preparative methods include copolymerizing the polymeric component of the mixture with a material which comprises the reducing component and is copolymerizable with said polymeric component.
En spesielt egnet metode for innarbeidelse av den . reduserende komponent er ved friradikal-kopolymerisasjon under anvendelse av f.eks. aminoalkohplestere av (met)akrylsyre. A particularly suitable method for incorporating it. reducing component is by free radical copolymerization using e.g. aminoalcohol esters of (meth)acrylic acid.
Den reduserende komponent kan også innføres ved om-setning av en eksisterende polymer, f.eks. polyvinylalkohol, med et aminoaldehyd.Monomerer som inneholder syrefunksjoner, bør The reducing component can also be introduced by conversion of an existing polymer, e.g. polyvinyl alcohol, with an aminoaldehyde. Monomers containing acid functions should
ikke anvendes.not used.
Polykondensasjonsteknikker kan også anvendes der hvor det måtte passe. Polycondensation techniques can also be used where appropriate.
Konsentrasjonen av den reduserende komponent i blandingen kan passende ligge i området .0,001 til 50 vekt% av addi-sjonspolymeriserbart eller etylenisk umettet materiale i blandingen, selv om konsentrasjoner utenfor disse områder kan anvendes om så ønskes. Den reduserende komponent er fortrinnsvis tilstede i en konsentrasjon av 1 til 10 vekt% av det etylenisk umettede materiale i blandingen. The concentration of the reducing component in the mixture may suitably be in the range of 0.001 to 50% by weight of addition polymerizable or ethylenically unsaturated material in the mixture, although concentrations outside these ranges may be used if desired. The reducing component is preferably present in a concentration of 1 to 10% by weight of the ethylenically unsaturated material in the mixture.
Hvis en eller flere av gruppene B i den reduserende komponent B-M-B er aromatisk, så foretrekkes det å ha en konsen-B If one or more of the groups B in the reducing component B-M-B is aromatic, then it is preferred to have a concen-B
trasjon av reduserende komponent i den fotopolymeriserbare blanding i området 0,01 til 0,5 vekt% av etylenisk umettet materiale i blandingen. tration of reducing component in the photopolymerizable mixture in the range of 0.01 to 0.5% by weight of ethylenically unsaturated material in the mixture.
Typiske vannløselige polymerer inkluderer hhdroksy-etylcellulose, polyvinylpyridin, sulfonert polystyren, og parti-elt hydrolysert polyvinylacetat. Typical water-soluble polymers include hydroxyethyl cellulose, polyvinylpyridine, sulfonated polystyrene, and partially hydrolyzed polyvinyl acetate.
Komponent (a) omfatter en vannløselig polymer enten alene eller i blanding eller kopolymerisert med en eller flere mindre vannløselige polymerer eller monomerer (etter hva som passer), og eksempler på disse er polyakrylater, polyalkylakry-later (f.eks. polymetylakrylat, 2-etylheksylakrylat), polyalkyl-metakrylater (f.eks. polymetylmetakrylat, laurylmetakrylat, dialkylmaleater (f.eks. di-iso-oktylmaleat, di-butylmaleat, dietylmaleat). Component (a) comprises a water-soluble polymer either alone or in mixture or copolymerized with one or more less water-soluble polymers or monomers (as appropriate), and examples of these are polyacrylates, polyalkyl acrylates (e.g. polymethyl acrylate, 2- ethylhexyl acrylate), polyalkyl methacrylates (e.g. polymethyl methacrylate, lauryl methacrylate, dialkyl maleates (e.g. di-iso-octyl maleate, di-butyl maleate, diethyl maleate).
Utvelgelse av bestanddelen(e) i komponent (a) vil bli gjort i lys av det krav at den må være istand til å bli vasket ut fra en film eller et materiale under anvendelse av en vandig væske, fortrinnsvis vann, dvs. at den må være vannløselig eller vanndispergerbar. Blandingen er fortrinnsvis også løselig i en alkohol eller et annet passende løsningsmiddel for å lette filmdannelsen. Selection of the component(s) in component (a) will be made in light of the requirement that it must be able to be washed out of a film or material using an aqueous liquid, preferably water, i.e. that it must be water-soluble or water-dispersible. The mixture is preferably also soluble in an alcohol or other suitable solvent to facilitate film formation.
Søkerens foretrukne komponent (a) omfatter poly(N-vinylpyrrolidon), enten alene eller i blanding med polyvinylacetat, eller en kopolymér av N-vinylpyrrolidon og vinylacetat. Pply(N-vinylpyrrolidon) og kopolymeren av N-vinylpyrrolidon og vinylacetat er begge vannløselige og løselige i lavere alkohol (f.eks. metanol og etanol), og søkeren har funnet dette fordel aktig, da en av de lavere alkoholer (dvs. opp til C^) foretrekkes ved dannelse av blandingen i henhold .til oppfinnelsen til en film fra en løsning. Substitusjonsderivater av komponentene kan naturligvis også anvendes der hvor det måtte passe. The applicant's preferred component (a) comprises poly(N-vinylpyrrolidone), either alone or in admixture with polyvinyl acetate, or a copolymer of N-vinylpyrrolidone and vinyl acetate. Pply(N-vinylpyrrolidone) and the copolymer of N-vinylpyrrolidone and vinyl acetate are both water soluble and soluble in lower alcohol (eg methanol and ethanol) and the applicant has found this advantageous, as one of the lower alcohols (ie up to C^) is preferred when forming the mixture according to the invention into a film from a solution. Substitution derivatives of the components can of course also be used where appropriate.
Komponent (a) vil vanligvis være tilstede i blandingen i en mengde som utgjør fra 50 til 95 vekt%, idet den vannløselige polymer, fortrinnsvis utgjør 30 til 40% av hele mengden av (a). Component (a) will usually be present in the mixture in an amount of from 50 to 95% by weight, the water-soluble polymer preferably constituting 30 to 40% of the entire amount of (a).
Den monomer som anvendes, er en som fortrinnsvis,The monomer used is one which preferably,
men ikke nødvendigvis, er vann-uløselig. Det er naturligvis ønskelig at monomeren er i høy grad forlikelig med den polymere og eventuelle andre komponenter i blandingen og istand til å polymerisere med minst én av komponent (a) for dannelse av et vann-uløselig produkt. Monomeren .omfatter fortrinnsvis minst to ikke-konjugerte etyleniske dobbeltbindinger og har fortrinnsvis . endestående umettethet. Som eksempler på egnede monomerer nevnes but not necessarily, is water-insoluble. It is naturally desirable that the monomer is highly compatible with the polymer and any other components in the mixture and is able to polymerize with at least one of component (a) to form a water-insoluble product. The monomer preferably comprises at least two non-conjugated ethylenic double bonds and preferably has terminal unsaturation. Examples of suitable monomers are mentioned
hvor R = H eller CH^' > hvor benzenringen kan inneholde en eller flere substituenter som kan .være like eller forskjellige, inklu-sive alkylgrupper opp til 4 karbonatomer, -C00H, halogen, -COOR.^ hvorR^er lavere (f.eks. opp til 4 karbonatomer) alkylgruppe, -SO»NR R_ eller -C0NR.Rrhvor R„, R_, R. og R_ hver represen-Å £ 545 2 j 4 5 . where R = H or CH^' > where the benzene ring may contain one or more substituents which may be the same or different, including alkyl groups up to 4 carbon atoms, -COOH, halogen, -COOR.^ where R^ is lower (e.g. eg up to 4 carbon atoms) alkyl group, -SO»NR R_ or -CONR.Rrh R„, R_, R. and R_ each represent-Å £ 545 2 j 4 5 .
terer H eller en lavere alkylgruppe.teres H or a lower alkyl group.
F.eks.: N:N-bis-(fi-akryloyloksyetyl)anilin N :N-bis-(13-metakryloyloksyetyl)-m-toluidinN:N (akryloyloksyetyl)-kloranilin Eg: N:N-bis-(f-acryloyloxyethyl)aniline N :N-bis-(13-methacryloyloxyethyl)-m-toluidine N:N (acryloyloxyethyl)-chloroaniline
hvor R = H eller CH3. where R = H or CH3.
F.eks.: 1,2-(v -akrylamidopropoksy)etan 1,2-(V-metakrylamidopropoksy)etan (3) akrylater, E.g.: 1,2-(v-acrylamidopropoxy)ethane 1,2-(V-methacrylamidopropoxy)ethane (3) acrylates,
f.eks.: allylmetakrylat eg: allyl methacrylate
etylenglykoldiametakrylat ethylene glycol dimethacrylate
trimetylolpropantriakrylat trimethylolpropane triacrylate
trimetylolpropantrimetakrylat trimethylolpropane trimethacrylate
pentaerytritoltetraakrylat pentaerythritol tetraacrylate
pentaerytritolmonohydrdksytriakrylat. pentaerythritol monohydridoxytriacrylate.
(4) vinyluretaner,(4) vinyl urethanes,
f.eks. et reaksjonsprodukt av di(4-isocyanatofenyl)metan, polypropylenglykol og 2-hydroksyetylmetakrylat i molforholdet 2:1:2. e.g. a reaction product of di(4-isocyanatophenyl)methane, polypropylene glycol and 2-hydroxyethyl methacrylate in the molar ratio 2:1:2.
Reaksjonsproduktet av tolylendiisocyanat, penta-erytritol/propylenoksyd-addukt, og 2-hydroksyetylmetakrylat i molforholdet 4:1:4; The reaction product of tolylene diisocyanate, penta-erythritol/propylene oxide adduct, and 2-hydroxyethyl methacrylate in the molar ratio 4:1:4;
(5) allylmonpmerer(5) allyl monomers
f.eks. triallylcyanurat.e.g. triallyl cyanurate.
Andelen av monomer i blandingen vil varierer innen vide grenser, men vil vanligvis ligge innen området 5-50 vekt%, fortrinnsvis 10-25 vekt% av blandingen. The proportion of monomer in the mixture will vary within wide limits, but will usually lie within the range 5-50% by weight, preferably 10-25% by weight of the mixture.
Det vil forstås at komponent (b), selv om det ikkeIt will be understood that component (b), although it does not
er foretrukket, kunne være en oligomer, dvs. en kort polymer-kjede med opp til 8, f.eks. 5, gjentatte monomerenheter. is preferred, could be an oligomer, i.e. a short polymer chain with up to 8, e.g. 5, repeating monomer units.
Den reduserende komponent i polymeren bør naturligvis være en som ikke på noen ugunstig måte innvirker på den vann-løselige eller vanndispergerbare egenskap hos polymeren i uønsket grad, og den vil bli utvalgt i overensstemmelse med dette. The reducing component in the polymer should, of course, be one which does not adversely affect the water-soluble or water-dispersible property of the polymer to an undesirable degree, and it will be selected accordingly.
Den fotosensibilisator som anvendes i henhold til oppfinnelsen, kan være hvilken som helst egnet forbindelse. Spesielt foretrekkes det i henhold til oppfinnelsen å anvende The photosensitizer used according to the invention can be any suitable compound. In particular, it is preferred according to the invention to use
en fotosensibilisator som beskrevet, og i de andeler som angitt,a photosensitizer as described, and in the proportions indicated,
i belgisk patentskrift nr. 789.950.in Belgian Patent Document No. 789,950.
Generelt vil gruppen A i fotosensibilisatoren være alifatiske eller aromatiske, og det skal forstås at gruppene A kan være like eller forskjellige, det vil f.eks. si i fotosensibilisatoren av strukturformel I kan begge grupper A være aromatiske, eller begge kan være alifatiske, eller én gruppe A kan være aromatisk og den annen alifatisk, forutsatt at når n ér 1 og X er^CR-j^»og når n er 0, begge grupper A er aromatiske. Imidlertid er, for bekvemmelighets skyld ved fremstilling av fotosensibilisatoren, gruppene A fortrinnsvis like. In general, the group A in the photosensitizer will be aliphatic or aromatic, and it should be understood that the groups A can be the same or different, e.g. say in the photosensitizer of structural formula I, both groups A may be aromatic, or both may be aliphatic, or one group A may be aromatic and the other aliphatic, provided that when n is 1 and X is ^CR-j^»and when n is 0, both groups A are aromatic. However, for convenience in preparing the photosensitizer, the groups A are preferably the same.
Innenfor omfanget av betegnelsen alifatiske grupper inkluderes sykloalifatiske grupper og alifatiske grupper som bærer aromatiske substituenter, dvs. alkarylgrupper.Likeledes inkluderes innen omfanget av betegnelsen aromatisk gruppe grupper som bærer alkylsubstituenter, dvs. aralkylgrupper. Within the scope of the designation aliphatic groups are included cycloaliphatic groups and aliphatic groups that carry aromatic substituents, i.e. alkaryl groups. Similarly, included within the scope of the designation aromatic group are groups that carry alkyl substituents, i.e. aralkyl groups.
Den aromatiske gruppe kan være en benzenoid-aromatisk gruppe, f.eks..fenylgruppen, eller den kan være en ikke-benzenoid- syklisk gruppe som er anerkjent på området å være i besittelse av karakteristika for en benzenoid-aromatisk gruppe. The aromatic group may be a benzenoid aromatic group, e.g., the phenyl group, or it may be a non-benzenoid cyclic group recognized in the art to possess the characteristics of a benzenoid aromatic group.
Gruppene A, spesielt når de er aromatiske, kan bære andre substituentgrupper enn hydrokarbonrester, f.eks. halogen eller alkoksy, forutsatt at fotosensibilisatoren som inneholder substituentgruppene ikke er tilstede i den fotopolymeriserbare blanding i en slik konsentrasjon at det resulterer i vesentlig inhibering av polymerisasjonen av det etylenisk umettede materiale i blandingen. The groups A, especially when they are aromatic, may carry substituent groups other than hydrocarbon residues, e.g. halogen or alkoxy, provided that the photosensitizer containing the substituent groups is not present in the photopolymerizable mixture in such a concentration as to result in substantial inhibition of the polymerization of the ethylenically unsaturated material in the mixture.
.1 fotosensibilisatoren som har strukturen I, har gruppen X fortrinnsvis strukturen?C=0 eller ?CR3OR4 hvor R3.1 the photosensitizer having the structure I, the group X preferably has the structure ?C=0 or ?CR3OR4 where R3
og R^er som beskrevet ovenfor.and R^ are as described above.
Gruppene R^', R2, R3og R^kan være hydrogen eller hydrokarbonrester, f.eks. alkyl. GruppeneR^til R^ er fortrinnsvis hydrogen. The groups R 1 , R 2 , R 3 and R 3 can be hydrogen or hydrocarbon residues, e.g. alkyl. The groups R^ to R^ are preferably hydrogen.
I fotosensibilisatoren som har strukturen I, kan gruppene A videre være knyttet sammen med en direkte binding, eller ved en toverdig gruppe, f.eks. en toverdig hydrokarbonrest, In the photosensitizer having the structure I, the groups A can further be connected by a direct bond, or by a divalent group, e.g. a divalent hydrocarbon residue,
dvs. at i tillegg til bindingen via gruppen ie that in addition to the binding via the group
kan gruppene A være ytterligere forbundet.slik at de danner et syklisk ringsystem. Eksempelvis, hvis gruppene A er aromatiske, kan fotosensibilisatoren ha strukturen hvor X og n er som beskrevet ovenfor,. Y er >CH2 , eller et hydro-karbonderivat derav, og m er 0, 1 eller 2. Gruppen Y er fortrinnsvis knyttet til de aromatiske grupper i orto-posisjoner til gruppen the groups A can be further connected so that they form a cyclic ring system. For example, if the groups A are aromatic, the photosensitizer may have the structure where X and n are as described above. Y is >CH2 , or a hydrocarbon derivative thereof, and m is 0, 1 or 2. The group Y is preferably linked to the aromatic groups in ortho-positions to the group
Gruppene A kan sammen danne et smeltet aromatisk ringsystem. The groups A can together form a fused aromatic ring system.
Spesielt foretrukne fotosensibilisatorer med hensyn til de store hastigheter ved hvilke det etylenisk umettede materiale kan polymeriseres, er a-diketoner med strukturen I hvor X er Particularly preferred photosensitizers in view of the high rates at which the ethylenically unsaturated material can be polymerized are α-diketones of the structure I where X is
C=0 og n er 1. Generelt er a-diketonene istand til å bli stimulert ved bestråling i det synlige område av spekteret, dvs. av lys som har bølgelender større enn 400 mu, f.eks. i bølge-lengdeområdet 400 mu - 500 mu, selv om ultrafiolettbestråling eller en blanding av ultrafiolettbestråling og synlig lys kan anvendes. Egnede a-diketon-fotosensibilisatorer inkluderer bi-acetyl hvor begge grupper A er metyl, benzil hvor begge grupper A er fenyl, a-diketoner hvor begge grupper A er smeltet aromatiske, f.eks. ar-naftil og B-naftil, og a-diketoner hvor gruppene A er aralkylgrupper, f.eks. p-tolil. Som eksempel på en egnet a-diketon-fotosensibilisator hvor gruppene A er ikke-benzenoid-aromatiské, kan nevnes furil hvor gruppene A har strukturen C=0 and n is 1. In general, the α-diketones are capable of being stimulated by irradiation in the visible region of the spectrum, i.e. by light having wavelengths greater than 400 mu, e.g. in the wavelength range 400 mu - 500 mu, although ultraviolet irradiation or a mixture of ultraviolet irradiation and visible light may be used. Suitable α-diketone photosensitizers include bi-acetyl where both groups A are methyl, benzyl where both groups A are phenyl, α-diketones where both groups A are fused aromatic, e.g. ar-naphthyl and B-naphthyl, and α-diketones where the groups A are aralkyl groups, e.g. p-tolyl. As an example of a suitable α-diketone photosensitizer where the groups A are non-benzenoid aromatics, mention can be made of furil where the groups A have the structure
,f.eks. 2:2'-furil. I a-diketon-fotosensibilisatoren , e.g. 2:2'-furyl. In the a-diketone photosensitizer
kan gruppene A bære ikke-hydrokarbonrester, for eksempel kan fotosensibilisatoren være p,p'-dialkoksybenzil, f.eks. p,p '-dimetoksybenzil, eller p,p'-dihalobenzil, f.eks. p,p'-diklor-benzil, eller p-nitrobenzil. the groups A may carry non-hydrocarbon residues, for example the photosensitizer may be p,p'-dihydroxybenzyl, e.g. p,p'-dimethoxybenzyl, or p,p'-dihalobenzyl, e.g. p,p'-dichloro-benzyl, or p-nitrobenzyl.
I fotosensibilisatoren som har strukturen I, kan n være 0, og i dette tilfelle er gruppene A aromatiske eller substituert aromatiske. Et eksempel på en slik fotosensibilisator er benzofenon hvor begge grupper A er fenyl. In the photosensitizer having the structure I, n may be 0, in which case the groups A are aromatic or substituted aromatic. An example of such a photosensitizer is benzophenone where both groups A are phenyl.
Andre egnede fotosensibilisatorer inkluderer slike som har strukturen I hvor n er 1 og X er >CR.jOR4. Eksempelvis kan fotosensibilisatoren være benzoin hvorR^og R^og H og begge grupper A er fenyl, et alkylbenzoin hvorR^er hydrogen ogR^er alkyl, f.eks. metyl, a-naftoin og fi-naftoin hvor begge grupper A er smeltet aromatiske, p,p'-dialkoksybenzoin, f.eks. p,p'-dimetoksybénzoin, og p,p'-dihalogenbenzoin, f.eks. p,p'-diklorbenzoin, hvor gruppene A bærer ikke-hydrokarbonrester, og furoin hvor gruppene A er ikke-benzenoid-aromatiske og har struk- Other suitable photosensitizers include those having the structure I where n is 1 and X is >CR.jOR 4 . For example, the photosensitizer can be benzoin where R^ and R^ and H and both groups A are phenyl, an alkylbenzoin where R^ is hydrogen and R^ is alkyl, e.g. methyl, α-naphthoin and ph-naphthoin where both groups A are fused aromatic, p,p'-di-alkoxybenzoin, e.g. p,p'-dimethoxybenzoin, and p,p'-dihalobenzoin, e.g. p,p'-dichlorobenzoin, where the groups A carry non-hydrocarbon residues, and furoin where the groups A are non-benzenoid aromatic and have struc-
turen the trip
f.eks. 2,2'-furoin. e.g. 2,2'-furoin.
I fotosensibilisatoren kan gruppene A være knyttet sammen med en direkte binding eller ved en toverdig hydrokarbonrest for dannelse av et syklisk ringsystem.F.eks. kan fotosensibilisatoren, hvis gruppene A er alifatiske, være kamferkinon. In the photosensitizer, the groups A can be linked together by a direct bond or by a divalent hydrocarbon residue to form a cyclic ring system. E.g. the photosensitizer, if the groups A are aliphatic, can be camphorquinone.
Hvis fotosensibilisatoren har.strukturformelen II, inkluderer egnede fotosensibilisatorer fluorenon hvor n og m begge er 0 bg de aromatiske grupper A er knyttet, sammen ved en direkte binding som står i orto-stilling til gruppen If the photosensitizer has the structural formula II, suitable photosensitizers include fluorenone where n and m are both 0 bg the aromatic groups A are linked together by a direct bond that is ortho to the group
og fenantrakinon hvor X er>C=0, n er 1, og m er 0, idet de aromatiske grupper A er knyttet sammen ved en direkte binding som står i orto-stilling til gruppen and phenanthraquinone where X is>C=0, n is 1, and m is 0, the aromatic groups A being linked together by a direct bond that is in the ortho position to the group
Fotosensibilisa- Photosensitizers
toren kan være acenaftenkinon hvor gruppene A i strukturen I sammen danner et smeltet aromatisk ringsystem. the torus can be acenaphthenquinone where the groups A in structure I together form a fused aromatic ring system.
Fotosensibilisatoren kan f.eks. være tilstede i den fotopplymeriserbare blanding i en konsentrasjon i området 0,001 til 10 vekt% av de etylenisk umettede materiale i blandingen, selv om konsentrasjoner utenfor disse områder kan være å fore-trekke . The photosensitizer can e.g. be present in the photopolymerizable mixture in a concentration in the range of 0.001 to 10% by weight of the ethylenically unsaturated material in the mixture, although concentrations outside these ranges may be preferable.
Fremgangsmåten for blanding av fotosensibilisatoren med det etylenisk umettede materiale kan ha innvirkning på vel-lykketheten eller på annen måte for oppnåelse av de ønskede konsentrasjoner av fotosensibilisator og reduksjonsmiddel i blandingen. The method of mixing the photosensitizer with the ethylenically unsaturated material may affect the success or otherwise of achieving the desired concentrations of photosensitizer and reducing agent in the mixture.
Derfor, hvis fotosensibilisatoren ikke er tilstrek-kelig løselig i det etylenisk umettede materiale, eller hvis en eller annen kan oppløses bare med vanskelighet, har søkeren funnet at oppløsning av fotosensibilisatoren kan avhjelpes ved til-setning til det etylenisk umettede materiale av en liten mengde av et fortynningsmiddel som fotosensibilisatoren er løselig i og som er blandbart med det etylenisk umettede materiale. Fotosensibilisatoren kan gjerne innføres i det etylenisk umettede materiale i form av en løsning i et slikt fortynningsmiddel. Therefore, if the photosensitizer is not sufficiently soluble in the ethylenically unsaturated material, or if either can be dissolved only with difficulty, the applicant has found that dissolution of the photosensitizer can be remedied by adding to the ethylenically unsaturated material a small amount of a diluent in which the photosensitizer is soluble and which is miscible with the ethylenically unsaturated material. The photosensitizer can preferably be introduced into the ethylenically unsaturated material in the form of a solution in such a diluent.
I henhold til en ytterligere utførelsesform av oppfinnelsen tilveiebringes en fremgangsmåte for fremstilling av et polymert materiale, omfattende bestråling av en fotopolymeriserbar blanding som her beskrevet, med bestråling med en bølgelengde som kan absorberes av fotosensibilisatoren slik at fotosensibilisatoren omdannes til stimulert tilstand. According to a further embodiment of the invention, a method for the production of a polymeric material is provided, comprising irradiation of a photopolymerizable mixture as described here, with irradiation of a wavelength that can be absorbed by the photosensitizer so that the photosensitizer is converted into a stimulated state.
Bestrålingen kan foregå med synlig lys eller ultrafiolette stråler eller stråler som i sitt sprekkspektrum inkluderer stråler med både synlige og ultrafiolette bølgelengder. Strålene kan gjerne ha en bølgelengde i området 230 mu - 600 mu. Sollys kan anvendes som strålekilde, selv om bølgelengden til strålene som anvendes, vil være bestemt av den spesielle fotosensibilisator i blandingen, idet strålene som er av en slik bølgelengde som absorberes av fotosensibilisatoren for å omdanne fotosensibilisatoren til stimulert tilstand. Eri egnet bølge-lengde kan velges ved hjelp av enkle forsøk, f.eks. ved måling av det elektroniske åbsorbsjonsspektrum for fotosensibilisatoren. The irradiation can take place with visible light or ultraviolet rays or rays which in their crack spectrum include rays with both visible and ultraviolet wavelengths. The rays may preferably have a wavelength in the range 230 mu - 600 mu. Sunlight can be used as a radiation source, although the wavelength of the rays used will be determined by the particular photosensitizer in the mixture, the rays being of such a wavelength being absorbed by the photosensitizer to convert the photosensitizer into a stimulated state. A suitable wavelength can be selected using simple experiments, e.g. by measuring the electronic absorption spectrum of the photosensitizer.
Generelt skrider polymerisasjonen av det etylenisk umettede materiale lett frem ved omgivelsestemperatur når blandingen bestråles med stråler av en bølgelengde som omdanner fotosensibilisatoren til stimulert tilstand. Imidlertid kan poly-merisas jonshastigheten generelt økes ved at polymerisasjonen utføres ved en temperatur over omgivelsestemperatur. In general, the polymerization of the ethylenically unsaturated material proceeds readily at ambient temperature when the mixture is irradiated with rays of a wavelength which converts the photosensitizer to the stimulated state. However, the polymerization rate can generally be increased by the polymerization being carried out at a temperature above ambient temperature.
Oppfinnelsen tilveiebringer fotopolymeriserbare blandinger som kan fremkalles (dvs. at ueksponerte områder fjernes) ved behandling med vann eller en vandig væske, og blandingen kan f.eks. anvendes ved fremstilling av belagte arkmaterialer som bærer et sjikt av blandingen. Slike arkmaterialer kan f.eks. anvendes som trykkeplater. Andre anvendelser,for blandingene inkluderer lysmotstandsdyktige anvendelser. The invention provides photopolymerizable compositions which can be developed (ie unexposed areas are removed) by treatment with water or an aqueous liquid, and the composition can e.g. is used in the production of coated sheet materials that carry a layer of the mixture. Such sheet materials can e.g. used as printing plates. Other uses for the compounds include lightfast applications.
I henhold til et annet aspekt ved oppfinnelsen tilveiebringes derfor en bærer som har avsatt på seg en fotopolymeriserbar blanding som her beskrevet.Bæreren vil fortrinnsvis være et ark sammen med et sjikt av blandingen deponert på minst én overflate derav. En spesiell anvendelse av et slikt arkprodukt er ved fremstilling av rélieffplater som etter egnet forarbeid-else kan anvendes både for direkte eller offset-boktrykning, flexo printing, eller som mønsterplater, som fullstendig beskrevet i belgisk patentskrift nr. 820.404, og følgelig tilveiebringer et annet aspekt ved oppfinnelsen en fremgangsmåte for fremstilling av relieffplater ved selektivt å eksponere en blanding i henhold til oppfinnelsen for passende bestråling, f.eks. gjennom et negativ, og fremkalling av den eksponerte blanding (gjerne i form av et ark på et underlag).. According to another aspect of the invention, a carrier is therefore provided which has deposited on it a photopolymerizable mixture as described here. The carrier will preferably be a sheet together with a layer of the mixture deposited on at least one surface thereof. A special application of such a sheet product is in the production of relief plates which, after suitable processing, can be used both for direct or offset book printing, flexo printing, or as pattern plates, as fully described in Belgian patent document no. 820,404, and consequently provides another aspect of the invention a method for producing relief plates by selectively exposing a mixture according to the invention to suitable irradiation, e.g. through a negative, and development of the exposed mixture (preferably in the form of a sheet on a substrate)..
Oppfinnelsen skal i det følgende illustreres ved eksempler. In the following, the invention will be illustrated by examples.
Eksempel 1Example 1
Fremstilling av polymerProduction of polymer
En blanding av 100 g vinylacetat, 100 g vinylpyrrolidon, 4 g dimetylaminoetylmetakrylat og 2 g azobisisobutyro-nitril ble tilsatt til tilbakeløpende metylert industrisprit (160 g).Blandingen ble kokt under tilbakeløpskjøling i nitrogen- atmosfære i ialt 14 timer. Det ble oppnådd en viskøs, halm-farvet løsning. A mixture of 100 g of vinyl acetate, 100 g of vinyl pyrrolidone, 4 g of dimethylaminoethyl methacrylate and 2 g of azobisisobutyronitrile was added to refluxing methylated industrial alcohol (160 g). The mixture was boiled under reflux in a nitrogen atmosphere for a total of 14 hours. A viscous, straw-colored solution was obtained.
Fremstilling av trykkeplater som omfatter polymerenProduction of printing plates comprising the polymer
100 g av ovennevnte løsning ble blandet med 11 g etylenglykoldimetakrylat, 1,65 g benzil og 5,5g dimetylftalat. Blandingen ble bredt ut over et stålark og tørket ved oppvarm-ning ved 60°C i 1 time og 85°C i 1 time slik at man fikk et 0,5 mm tykt belegg. 100 g of the above solution was mixed with 11 g of ethylene glycol dimethacrylate, 1.65 g of benzyl and 5.5 g of dimethyl phthalate. The mixture was spread over a steel sheet and dried by heating at 60°C for 1 hour and 85°C for 1 hour so that a 0.5 mm thick coating was obtained.
Den tørkede plate ble eksponert gjennom et negativ for ultrafiolett bestråling i 5 minutter og deretter vasket i 4 minutter med en vanndusj slik at man fikk et relieffbilde. Etter tørkning ved 105°C i 10 minutter var platen egnet for anvendelse som boktrykkplate. Platen var ganske fleksibel og kunne etter forarbeidelsen formes rundt en valse med diameter 4 cm. The dried plate was exposed through a negative to ultraviolet irradiation for 5 minutes and then washed for 4 minutes with a water shower to obtain a relief image. After drying at 105°C for 10 minutes, the plate was suitable for use as a letterpress plate. The plate was quite flexible and after processing could be shaped around a roller with a diameter of 4 cm.
Eksempel 2Example 2
167 deler av 60% løsning av kopoly(vinylacetat/vinylpyrrolidon), fremstilt ved polymerisering av en blanding av like vektdeler vinylpyrrolidon og. vinylacetat i metylert industrisprit, ble blandet med 20 deler etylenglykoldimetakrylat, 10 deler di-metylf talat, 2 deler dimetylaminoetylmetakrylat og 2 deler benzil. En del av løsningen.ble anvendt for fremstilling av en trykke-plate som beskrevet i eksempel 1. Etter eksponering og utvask-ing sprakk platen da den ble formet rundt en valse med diameter 4 cm. 167 parts of a 60% solution of copoly(vinyl acetate/vinylpyrrolidone), prepared by polymerizing a mixture of equal parts by weight of vinylpyrrolidone and. vinyl acetate in methylated spirits, was mixed with 20 parts ethylene glycol dimethacrylate, 10 parts dimethyl phthalate, 2 parts dimethylaminoethyl methacrylate and 2 parts benzyl. Part of the solution was used to produce a printing plate as described in example 1. After exposure and washing, the plate cracked when it was shaped around a roller with a diameter of 4 cm.
Eksempler 3- 11Examples 3-11
Det ble fremstilt plater som beskrevet i eksempel 1 under anvendelse av forskjellige fotoinitiatorer ved forskjellige konsentrasjoner i følgende basisblanding: Plates were produced as described in example 1 using different photoinitiators at different concentrations in the following base mixture:
De tørkedé plater ble eksponert for UV-bestråling gjennom et "By Chrome" "screen tint" negativ. Eksponerings-tidene som er angitt, er de som var nødvendige for å bevare de 5% prikker på platen etter forarbeidelsen som beskrevet i eksempel 1. 12 Det ble laget en plate under anvendelse av vinylpyrrolidon:vinylacetat-kopolymer (50:50) istedenfor kopolymeren i blandingen i henhold til eksempel 11. En eksponering på 12 minutter viste seg å være nødvendig for å bevare de 5% prikker. The dried plates were exposed to UV radiation through a "By Chrome" "screen tint" negative. The exposure times indicated are those required to preserve the 5% dots on the plate after processing as described in Example 1. A plate was made using vinyl pyrrolidone:vinyl acetate copolymer (50:50) instead of the copolymer in the mixture according to Example 11. An exposure of 12 minutes was found to be necessary to preserve the 5% dots.
Eksempler 13- 17Examples 13-17
Det ble laget plater som beskrevet i eksempel 1, men under anvendelse av polymer med forskjellige mengder av reduserende middel i blandingen. Plates were made as described in example 1, but using polymer with different amounts of reducing agent in the mixture.
Platene ble eksponert for UV-bestråling gjennom et "By Chrome" "screen tint" negativ, og den eksponeringstid som er angitt, er den som er nødvendig for å bevare de 5% prikker på platen etter forarbeidelsen. The plates were exposed to UV radiation through a "By Chrome" "screen tint" negative, and the exposure time indicated is that required to preserve the 5% dots on the plate after processing.
Eksempel 18Example 18
Det ble laget en plate som beskrevet i eksempel 1, men ved å erstatte etylenglykoldimetakrylat med polyetylenglykol-dimetakrylat ("Sartomer" 210 - fra Sartomer Resins, Inc). Den forarbeidede plate viste god fleksibilitet og kunne formes rundt en valse med diameter 4 cm. A plate was made as described in Example 1, but by replacing ethylene glycol dimethacrylate with polyethylene glycol dimethacrylate ("Sartomer" 210 - from Sartomer Resins, Inc). The processed plate showed good flexibility and could be shaped around a roller with a diameter of 4 cm.
Eksempel 19Example 19
Det ble laget en plate under anvendelse av den polymer som er beskrevet i eksempel 1. Sammensetningen var: A plate was made using the polymer described in example 1. The composition was:
Platen ble eksponert gjennom et negativ for UV-bestråling i 5 minutter. De ueksponerte områder av polymer ble fjernet ved vasking med en vanndusj i 4 minutter. Etter tørking ble platen brukt på en avispapir-rotasjonspresse. Etter 300.000 avtrykk var trykkene fremdeles av god kvalitet. The plate was exposed through a negative to UV irradiation for 5 minutes. The unexposed areas of polymer were removed by washing with a water shower for 4 minutes. After drying, the plate was applied to a newsprint rotary press. After 300,000 impressions, the prints were still of good quality.
Claims (7)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB12676/75A GB1547998A (en) | 1975-03-26 | 1975-03-26 | Photopolymersisable compositions |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO761006L true NO761006L (en) | 1976-09-28 |
Family
ID=10009084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO761006A NO761006L (en) | 1975-03-26 | 1976-03-22 |
Country Status (20)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS51120802A (en) |
AT (1) | AT354084B (en) |
AU (1) | AU1234276A (en) |
BE (1) | BE840110A (en) |
CA (1) | CA1079561A (en) |
CH (1) | CH603745A5 (en) |
DE (1) | DE2612525A1 (en) |
DK (1) | DK131876A (en) |
ES (1) | ES446395A1 (en) |
FI (1) | FI760797A (en) |
FR (1) | FR2305443A1 (en) |
GB (1) | GB1547998A (en) |
LU (1) | LU74634A1 (en) |
MC (1) | MC1098A1 (en) |
NL (1) | NL7603121A (en) |
NO (1) | NO761006L (en) |
NZ (1) | NZ180383A (en) |
PT (1) | PT64948B (en) |
SE (1) | SE7603634L (en) |
ZA (1) | ZA761700B (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4454219A (en) * | 1981-04-27 | 1984-06-12 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition comprised of a polymer obtained from an aliphatic amino group-containing monomer as a comonomer |
DE3215513C3 (en) * | 1981-04-27 | 1994-07-14 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPH066603B2 (en) * | 1984-08-13 | 1994-01-26 | 日本合成化学工業株式会社 | Curable resin composition |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3961961A (en) * | 1972-11-20 | 1976-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Positive or negative developable photosensitive composition |
-
1975
- 1975-03-26 GB GB12676/75A patent/GB1547998A/en not_active Expired
-
1976
- 1976-03-19 ZA ZA761700A patent/ZA761700B/en unknown
- 1976-03-22 NZ NZ180383A patent/NZ180383A/en unknown
- 1976-03-22 NO NO761006A patent/NO761006L/no unknown
- 1976-03-24 LU LU74634A patent/LU74634A1/xx unknown
- 1976-03-24 DE DE19762612525 patent/DE2612525A1/en not_active Withdrawn
- 1976-03-25 FR FR7608729A patent/FR2305443A1/en active Granted
- 1976-03-25 SE SE7603634A patent/SE7603634L/en unknown
- 1976-03-25 MC MC761184A patent/MC1098A1/en unknown
- 1976-03-25 FI FI760797A patent/FI760797A/fi not_active Application Discontinuation
- 1976-03-25 NL NL7603121A patent/NL7603121A/en not_active Application Discontinuation
- 1976-03-25 PT PT64948A patent/PT64948B/en unknown
- 1976-03-25 AU AU12342/76A patent/AU1234276A/en not_active Expired
- 1976-03-25 DK DK131876A patent/DK131876A/en unknown
- 1976-03-26 AT AT224576A patent/AT354084B/en not_active IP Right Cessation
- 1976-03-26 CH CH382176A patent/CH603745A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-03-26 CA CA249,121A patent/CA1079561A/en not_active Expired
- 1976-03-26 JP JP51033430A patent/JPS51120802A/en active Pending
- 1976-03-26 BE BE165629A patent/BE840110A/en unknown
- 1976-03-26 ES ES446395A patent/ES446395A1/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NZ180383A (en) | 1978-09-20 |
ATA224576A (en) | 1979-05-15 |
DK131876A (en) | 1976-09-27 |
CH603745A5 (en) | 1978-08-31 |
ES446395A1 (en) | 1977-06-16 |
ZA761700B (en) | 1977-04-27 |
NL7603121A (en) | 1976-09-28 |
FI760797A (en) | 1976-09-27 |
AT354084B (en) | 1979-12-27 |
PT64948A (en) | 1976-04-01 |
FR2305443A1 (en) | 1976-10-22 |
BE840110A (en) | 1976-09-27 |
AU1234276A (en) | 1977-10-20 |
GB1547998A (en) | 1979-07-04 |
LU74634A1 (en) | 1977-05-06 |
FR2305443B1 (en) | 1980-04-30 |
CA1079561A (en) | 1980-06-17 |
PT64948B (en) | 1977-08-25 |
JPS51120802A (en) | 1976-10-22 |
DE2612525A1 (en) | 1976-10-14 |
SE7603634L (en) | 1976-09-27 |
MC1098A1 (en) | 1977-02-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0081280B1 (en) | Photopolymerisable materials for use in producing stencils for screen printing | |
JP2509288B2 (en) | Polymerizable compound, radiation-polymerizable mixture containing the same, and radiation-polymerizable recording material | |
NO142915B (en) | PHOTOPOLYMERIZABLE MIXTURE CONTAINING AT LEAST ONE POLYMERIZABLE, ETHYLENIC Saturated COMPOUND AND A PHOTOSENSITIVE CATALYST | |
JP2007256445A (en) | Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate material | |
DE2055157A1 (en) | Photopolymerizable mass | |
NO761006L (en) | ||
JPH01170601A (en) | Black curable resin composition | |
TW201229667A (en) | Colored photosensitive resin composition | |
JPS60247637A (en) | Photosensitive resin composition | |
JPS61228002A (en) | High-sensitivity photo-setting resin composition | |
CA1064755A (en) | Photopolymerizable composition containing n-vinyl pyrrolidone and vinyl acetate as polymeric blend or copolymer thereof | |
JP4126793B2 (en) | Resin composition for color filter | |
JP4190158B2 (en) | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material | |
JP2923348B2 (en) | Photocurable coloring composition | |
JPS6010244A (en) | Photosensitive resin composition | |
DE2166551C3 (en) | Copolymers with ethylenically unsaturated side chains and their use | |
JPH0267558A (en) | Photosensitive and negative forming printing film | |
JPH11338128A (en) | Photosensitive resinous composition | |
JP3109868B2 (en) | Photocurable coloring composition | |
JPH0273810A (en) | Photopolymerizable resin composition | |
JP3686494B2 (en) | Photopolymerizable composition for color filter | |
JPH09211853A (en) | Photosensitive colored composition | |
JPS62161812A (en) | Optical or electron radiation crosslinking type resin composition | |
JP6681527B2 (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive film, screen printing plate material, screen printing stencil and photosensitive resist film, and methods for producing the same | |
CN114647151A (en) | Photocurable negative photoresist composition, lithographic plate and application thereof |