NO147227B - Trykk-knappvelgerinnretning for telefonapparat el.l. - Google Patents
Trykk-knappvelgerinnretning for telefonapparat el.l. Download PDFInfo
- Publication number
- NO147227B NO147227B NO792062A NO792062A NO147227B NO 147227 B NO147227 B NO 147227B NO 792062 A NO792062 A NO 792062A NO 792062 A NO792062 A NO 792062A NO 147227 B NO147227 B NO 147227B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- zirconium
- silicon
- halogenation
- zircon
- particles
- Prior art date
Links
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 16
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 claims description 15
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 14
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 12
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000003245 coal Substances 0.000 claims description 6
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 5
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- 239000000571 coke Substances 0.000 claims description 3
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims 1
- UVGLBOPDEUYYCS-UHFFFAOYSA-N silicon zirconium Chemical compound [Si].[Zr] UVGLBOPDEUYYCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 5
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000519 Ferrosilicon Inorganic materials 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910026551 ZrC Inorganic materials 0.000 description 1
- OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N [C].[Zr] Chemical compound [C].[Zr] OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIFVJYNWLCNYGB-UHFFFAOYSA-N [Si]=O.[Zr] Chemical class [Si]=O.[Zr] YIFVJYNWLCNYGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04M—TELEPHONIC COMMUNICATION
- H04M1/00—Substation equipment, e.g. for use by subscribers
- H04M1/02—Constructional features of telephone sets
- H04M1/23—Construction or mounting of dials or of equivalent devices; Means for facilitating the use thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Telephone Set Structure (AREA)
Description
Fremgangsmåte for halogenering av zirkon.
Foreliggende oppfinnelse angår en fremgangsmåte for halogenering av zirkon under fremstilling av zirkonium- og silisium-tetrahalogenider.
Zirkoniumtetrahalogenider har betydning, for eksempel ved fremstilling av zirkoniumdioksyd eller ved fremstilling av zirkonium-metall. Zirkoniumtetrahalogenider har også betydning som rutiliserende middel ved fremstilling av titandioksydpigmenter ved dampfaseoksydering av titantetrahalogenider.
Silisiumtetrahalogenider er verdifulle ved. fremstilling av silisium-dioksyd, særlig i findelt form for benyttelse som fyll-masse i elastomerer, som for eksempel gummi.
Råstoff for både zirkonium- og silisium-tetrahalogenider er zirkonium-silisium-oksydf<p>rbindelser hvorav zirkon er best kjent. Zirkon (ZrSiO^) er lett og billig tilgjengelig i store mengder,
for eksempel som biprodukt ved bergverksdrift, og i passende form, d.v.s. som små partikler med omtrent samme storrelse som vanlig sand*
Zirkon kan halogeneres i nærvær av et .reduksjonsmiddel, hvorved „ det oppstår ekvimolekylære mengder av zirkonium- og silisium-tetrahalogenider, men dette er en lite tilfredsstillende prosess som gir lavt utbytte og dårlig halogenutnyttelse.
Av denne grunn har det hittil vært nddvendig å fremstille zirkoniumforbindelser ved enten forst å omdanne zirkon til zirkoniumcyanonitrid i en elektrisk ovn og deretter klorere zirkoniumcyanonitridet til zirkoniumtetråklorid, eller forst foreta en alkalisk ekstrahering av zirkon fulgt av utfelling av zirkoniumdioksyd og deretter klorere dette til zirkoniumtetråklorid. Begge disse fremgangsmåter er kompliserte og kostbare.
Formålet er derfor å skaffe tilveie en forbedret og relativt billig fremgangsmåte for halogenering av zirkonium-silisiumholdig material som for eksempel zirkon, hvorved det oppnås et storre utbytte og en hoy grad (for eksempel minst 90%) halogenutnyttelse.
Foreliggende oppfinnelse vedrorer således en fremgangsmåte for halogenering av zirkon, hvor zirkon-partikler halogeneres i et fluidisert lag i nærvær av et reduksjonsmiddel, og det særegne ved fremgangsmåten i henhold til oppfinnelsen er at halogeneringen foretas i nærvær av et alkalimetallklorid, fortrinnsvis kaliumklo- . rid, i katalytiske mengder på bare 0,1 til 5 vekt# og fortrinnsvis 0,5 til 2 vekt# av totalvekten av zirkon og reduksjonsmidlet, og dannet zirkonium-tetrahalogenid og silisium-tetrahalogenid utvinnes fra reaksjonsgassene.
Andre trekk ved fremgangsmåten fremgår av patentkravene.
Fluor og fluorider egner seg ikke for halogeneringen og betegnelsene "halogenid", "halogen", "halogenere" og "halogenering" skal i dette tilfelle ikke omfatte fluorid, fluor, fluorere og fluorering.
Det foretrukne halogen er klor, selv om andre halogener som brom eller jod også kan være egnet. Det foretrukne alkalimetall-halogenid er et klorid, særlig kaliumklorid.
Halogeneringen utfores i et fluidisert lag. Det zirkonium-silisiumholdige material benyttes da i form av fluidiserbare partikler av zirkon.
For å oppnå tilfredsstillende halogenering må zirkoniumsilisium-materialet selvfolgelig bringes i intim kontakt med reduksjonsmidlet. Det foretrukne reduksjonsmiddel er et findelt fast stoff som for eksempel kull, for eksempel i form av koks, men reduserende gasser for eksempel karbonmono-oksyd kan også brukes.
Ved at halogeneringen utfores i et fluidisert lag, bor det zirkonium-sili siumholdige material bestå av partikler med en diameter på fra 50 til 2000 mikron, fortrinnsvis 75-250 mikron. Dersom reduksjonsmidlet er kull, bor også det foreligge i form av fluidiserbare partikler. Siden karbonpartiklene har mindre spesifikk vekt enn zirkonium-silisiumpartiklene, bor kullpartiklene være storst. Diameteren av kullpartiklene bor helst være dobbelt så stor som diameteren av zirkoniumsilisiumpartiklene. Dersom prosessen utfores kontinuerlig tilfores zirkonium-silisium- og karbonpartiklene kontinuerlig til det fluidiserte lag, enten separat eller som en passende blanding med styrt hastighet.
Alkalimetallhalogenidet kan tilfores til reaksjonssonen på forskjellige måter. En måte består i å behandle det zirkonium-silisiumholdige material med en ldsning av halogenidet, hvorpå
den resulterende blanding torkes. En annen måte består i å tilfore
halogenidet som et partikkelformet fast stoff sammen med en strom av halogen til reaksjonssonen. Dette kan være særlig fordelaktig i og med at halogeneringen utfores i et fluidisert lag.
En tredje måte består i å benytte en todelt fluidisert lag-reaktor av den type som er beskrevet i Britisk Patentskrift nr. 835.^39• I dette tilfelle tilfores zirkonium-silisium-materialet, reduksjonsmidlet og altéLimetallhalogenidet til den.fluidiserte lag-reaktor gjennom et ror som har en nedoverrettet del fulgt av en oppoverrettet del, idet den siste står i forbindelse med den fluidiserte lag-reaktoren. En fluidiserende gass fores inn i det partikkelformede material i denne anorning, idet nivået av materialet i den nedoverrettede del holdes hoyere enn nivået av materialet i den annen del. Zirkonium-silisium-materialet, reduksjonsmidlet og det faste halogenid kan herved tilfores til anordningen hver for seg i de onskede "forhold.
Det er mulig at alkalimetallhalogenidet kan dannes in situ,
for eksempel ved at zirkonium-silisium-materialet tilsettes et alkalimetall eller en-forbindelse av et sådant (f.eks. kalium-karbonat) som halogeneres av halogeneringsmidlet for zirkonium-silisium-materialet, for eksempel klor. Alkalimetallet eller alkalimetallforbindelsen kan tilsettes i form av et urent material med hoyt innhold av et slikt metall eller en slik forbindelse, for eksempel i form av et slagg.
Den temperatur som egner seg for halogeneringsprosessen ligger innenfor området 900-1^00°C, fortrinnsvis 1050-1150°C.
Det kan være vanskelig å opprettholde slike temperaturer uten tilforsel av varme, men den nødvendige varmetilforsel kan oppnås ved å tilsette kull eller andre reduksjonsmidler i storre mengder enn det som trengs for å redusere zirkonium-silisium-materialet og brenne dette material i en avpasset mengde oksygen eller luft som tilfores reaktoren.
Også andre materialer kan tilsettes til reaktoren for å gi tilstrekkelig varme til å opprettholde reaksjonen, for eksempel slike materialer som reagerer sterkt eksotermisk med halogenet, forutsatt at disse, under betingelsene i reaktoren, ikke danner gassformede produkter som kan forurense det zirkoniumtetrahalogenid og silisiumtetrahalogenid som fremstilles i reaktoren. Eksempler på egnede forbindelser er silisiumkarbid, zirkoniumkarbid og ferrosilisium. Tillejgsvarme kan også tilfores fra ytre varme-kilder, for eksempel ved oppvarming av halogenet og/eller andre gasser som tilfores reaktoren, eller ved elektrisk oppvarming av reaktoren for eksempel ved hjelp av en elektrisk ovn på utsiden av reaktoren eller ved å varme opp det zirkonium-silisiumholdige. material for det tilsettes til reaktoren.
Ved at det benyttes et fluidisert lag er det selvfdlgelig vesentlig at gassen tilfores i den nedre del av laget med en hastighet som er tilstrekkelig til å holde laget i fluidisert tilstand. Dette kan skje ved at halogenet tilfores med tilstrekkelig stor hastighet eller ved at halogenet tilfores sammen med en annen gass (som kan være oppvarmet på forhånd), hvorunder hastigheten av gassblandingen blir tilstrekkelig til å opprettholde fluidiseringen av laget.
Gassene tilfores fortrinnsvis gjennom en bunnplate med flere åpninger. Diameteren av disse åpninger og hastigheten av gassen velges slik at trykktapet over åpningene er minst halvparten av trykktapet gjennom 'laget når laget er fluidisert, helst bor disse trykktap være omtrent like store.
De gasser som forlater laget ledes gjennom en separator, som for eksempel en syklon, for å fjerne partikler som rives med, hvoretter gassen avkjdles for å kondensere tetrahalogenidene. Zirkonium-tetrahalogenidet kondenseres forst (ved en temperatur innenfor området 275-150°C) og dette samles opp. Silisiumtetrahalogenidet kan deretter kondenseres fra den gjenværende gass, for eksempel ved en temperatur i området 20° til -20°C. De kondenserte tetrahalogenider kan deretter renses, for eksempel ved destillering.
Eksempel
Et ror med diameter på ca. 5 cm med en gassgjennomtrengelig
bunnplate i den nederste ende "ble montert loddrett og omgitt av en elektrisk varmeinnretning.
Over bunnplaten ble det dannet et lag som inneholdt 22 g
kaliumklorid, 2250 g av en blanding av zirkon (partikkelstorrelse
-20 + 200 B.S.S.) og koks (partikkelstorrelse -60 + 100 B.S.S.) i vektforholdet 7:3.
Den resulterende blanding ble oppvarmet og det ble ledet inn klor gjennom bunnplaten med en hastighet på 3 1 Pr- minutt, hvorved laget ble fluidisert. Temperaturen av det fluidiserte lag ble holdt på ca. 1l8o°C ved hjelp av reaksjonsvarmen og varmen fra den elektriske varmeinnretning.
Mengdene av dannet zirkoniumtetraklorid og silisiumtetraklorid
ble bestemt, og det viste seg at 98$ av klorgassen som ble fort inn i laget raskt reagerte til å danne en blanding av zirkoniumtetraklorid og silisiumtetraklorid.
Som et motstykke til dette eksempel ble det utfort et lignende
forsok uten anvendelse av kaliumklorid. I dette tilfelle reagerte bare 85$ av klorgassen, som ble tilfort til laget, under dannelse av zirkoniumtetraklorid og silisiumtetraklorid.
Claims (5)
1. Fremgangsmåte for halogenering av zirkon, hvor zirkon-partikler halogeneres i et fluidisert lag i nærvær av et reduksjonsmiddel, karakterisert ved at halogeneringen foretas i nærvær av et alkalimetallklorid, fortrinnsvis kaliumklorid, i katalytiske mengder på bare 0,1 til 5 vekt% og fortrinnsvis 0,5 til 2 vekt$ av totalvekten av zirkon og reduksjonsmidlet, og dannet zirkonium-tetrahalogenid og silisium-tetrahalogenid utvinnes fra reaksjonsgassene. 1
2. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at det som reduksjonsmiddel anvendes kull-partikler, fortrinnsvis i form av koks.
3. Fremgangsmåte som angitt i krav 2, karakter! s er t ved at det benyttes kull-partikler med en gjennomsnitlig diameter som er minst dobbelt så stor som den gjennomsnitlige diameter av zirkon-partiklene. k-.
Fremgangsmåte som angitt i krav 1-3, karakterisert ved at alkalimetallhalogenidet dannes in situ ved halogenering av et alkalimetall, fortrinnsvis kalium, eller en halogenerbar alkaliforbindelse, fortrinnsvis et alkalikarbonat.
5. Fremgangsmåte som angitt i krav 1-<*>f, karakterisert vedat det som halogeneringsmiddel anvendes klor.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
AT450778A AT356185B (de) | 1978-06-21 | 1978-06-21 | Drucktasten-waehleinrichtung fuer telephon- apparate od.dgl. |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO792062L NO792062L (no) | 1979-12-27 |
NO147227B true NO147227B (no) | 1982-11-15 |
NO147227C NO147227C (no) | 1983-02-23 |
Family
ID=3564923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO792062A NO147227C (no) | 1978-06-21 | 1979-06-20 | Trykk-knappvelgerinnretning for telefonapparat el.l. |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
AT (1) | AT356185B (no) |
NO (1) | NO147227C (no) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE8016058U1 (de) * | 1980-06-18 | 1980-09-25 | Dieter Graesslin Feinwerktechnik, 7742 St Georgen | Elektrischer Tastenkontakt |
-
1978
- 1978-06-21 AT AT450778A patent/AT356185B/de not_active IP Right Cessation
-
1979
- 1979-06-20 NO NO792062A patent/NO147227C/no unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NO792062L (no) | 1979-12-27 |
ATA450778A (de) | 1979-09-15 |
NO147227C (no) | 1983-02-23 |
AT356185B (de) | 1980-04-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2486912A (en) | Process for producing titanium tetrachloride | |
US2657976A (en) | Process for producing iron oxide and titanium tetrachloride from titaniferous iron ores | |
US3591333A (en) | Method of chlorinating titanium-bearing materials | |
US4140746A (en) | Recovery of chlorine values from iron chloride by-produced in chlorination of ilmenite and the like | |
NO180645B (no) | Fremgangsmåte ved gjenvinning av titan fra en kompleks titan-nitrid-matriks | |
US3376112A (en) | Production of chlorine through oxidation of film of ferric chloride salt complex | |
US4854972A (en) | Nitrogen-free process for chloride-route TiO2 pigment manufacture | |
NO165337B (no) | Fremgagnsmaate ved en nedstroemmedrivningsprosess for klorering av fint, titanholdig materiale. | |
US4046853A (en) | Production of titanium tetrachloride | |
CA1162745A (en) | Low-temperature fluid-bed chlorination of titaniferous ore | |
NO147227B (no) | Trykk-knappvelgerinnretning for telefonapparat el.l. | |
US4055621A (en) | Process for obtaining titanium tetrachloride, chlorine and iron oxide from ilmenite | |
GB1565220A (en) | Production of aluminum chloride and silicon chloride from clay | |
GB716681A (en) | Process for the production of titanium tetrachloride | |
CA1113225A (en) | Recovery of chlorine values | |
US3149911A (en) | Process for producing titanium tetrachloride | |
US2928724A (en) | Method for producing titanium tetrachloride | |
US4179489A (en) | Chlorination of iron-containing materials | |
US2928721A (en) | Method for producing thorium tetrachloride | |
KR790001615B1 (ko) | 메탄을 옥시염소화 시키는 방법 | |
US3295921A (en) | Production of halides | |
US4259298A (en) | Recovery of chlorine values from iron chloride by-product in chlorination of aluminous materials | |
US4624843A (en) | Recovery of chlorine | |
US3647383A (en) | Method for producing titanium dioxide | |
GB776295A (en) | Improvements in the chlorination of titaniferous ores |