NO127265B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- NO127265B NO127265B NO05213/68A NO521368A NO127265B NO 127265 B NO127265 B NO 127265B NO 05213/68 A NO05213/68 A NO 05213/68A NO 521368 A NO521368 A NO 521368A NO 127265 B NO127265 B NO 127265B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- image
- solvent
- plasticizable
- Prior art date
Links
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 31
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 16
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 230000005012 migration Effects 0.000 claims description 9
- 238000013508 migration Methods 0.000 claims description 9
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 238000011161 development Methods 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 5
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N Methyl ethyl ketone Natural products CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MBLUWALPEKUVHJ-UHFFFAOYSA-N [Se].[C] Chemical group [Se].[C] MBLUWALPEKUVHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 238000007600 charging Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000007786 electrostatic charging Methods 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003319 Araldite® Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- CCDWGDHTPAJHOA-UHFFFAOYSA-N benzylsilicon Chemical compound [Si]CC1=CC=CC=C1 CCDWGDHTPAJHOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N cadmium sulfide Chemical compound [Cd]=S CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLATXDOZXBEBJX-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-);sulfide Chemical compound [S-2].[Se-2].[Cd+2].[Cd+2] JLATXDOZXBEBJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K calcium;sodium;phosphate Chemical compound [Na+].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 235000013351 cheese Nutrition 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- RWYFURDDADFSHT-RBBHPAOJSA-N diane Chemical compound OC1=CC=C2[C@H]3CC[C@](C)([C@](CC4)(O)C#C)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1.C1=C(Cl)C2=CC(=O)[C@@H]3CC3[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@](C(C)=O)(OC(=O)C)[C@@]1(C)CC2 RWYFURDDADFSHT-RBBHPAOJSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007581 slurry coating method Methods 0.000 description 1
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- WCLDITPGPXSPGV-UHFFFAOYSA-N tricamba Chemical compound COC1=C(Cl)C=C(Cl)C(Cl)=C1C(O)=O WCLDITPGPXSPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G17/00—Electrographic processes using patterns other than charge patterns, e.g. an electric conductivity pattern; Processes involving a migration, e.g. photoelectrophoresis, photoelectrosolography; Processes involving a selective transfer, e.g. electrophoto-adhesive processes; Apparatus essentially involving a single such process
- G03G17/10—Electrographic processes using patterns other than charge patterns, e.g. an electric conductivity pattern; Processes involving a migration, e.g. photoelectrophoresis, photoelectrosolography; Processes involving a selective transfer, e.g. electrophoto-adhesive processes; Apparatus essentially involving a single such process using migration imaging, e.g. photoelectrosolography
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Description
Fremgangsmåte for avbildning og billeddel
for anvendelse ved fremgangsmåten.
Den foreliggende oppfinnelse vedrører en fremgangsmåte for avbildning, omfattende frembringelse av et preliminært bilde som er fremstilt ved dannelse av et latent elektrostatisk bilde på overflaten av en billeddel flom omfatter et underlag som inneholder et lag av elektrisk ledende materiale, et mykgjørbart lag som inneholder et løsningsmiddelsløselig, mykgjørbart materiale og som er anbrakt på underlaget samt et lag av partikkel fornuft eller oppdelbart migreringsmateriale ved den overflate av det mykgjørbare lag som vender bort fra underlaget og fremkalling av bildet ved å mykg.jøre det mykgjørbare materiale og løse det i et flytende løsningsmiddel som kan i det vesentlige løse det løs-ningsmiddelsløselige, mykgjørbare materiale, mens andre delec av billeddelen er i det vesentlige uløselige i løsningsmidlet, idet det partikkel f ormete migreringsmater iale ai i gr e re r/'b i 11 e dk o a f i - gara o j d o u i. 1 unde r la ge t.
Viaere vedrører oppfinnelsen en billeddel for anvendelse ved fremgangsmåten.
Det er nylig utviklet et migreringsavbildningssystem som gjør det mulig å fremstille høykval i. te tsbilder med høy dekkraft, kontinuerlig tone og høy billedoppløsning. Dette system er beskrevet i fransk patent nr. 1.466.349".
I en typisk utførelsesform for nevnte avbildningssystem av-bildes en avbildningsstruktur som omfatter et ledende underlag hvorpå er anbrakt et lag mykgjørbart eller oppløselig materiale som inneholder fot oføls omme partikler på følgende måte: Et latent bilde dannes p°: den f otof øls omme overflate, for eksempel ved jevn elektrostatisk ladning og eksponering for et mønster av aktiverende elektromagnetisk bestråling. Det mykgjørbare lag blir deretter fremkalt ved å utsette platen for et oppløsningsmiddel som bare løser det mykgjørbare lag. De fotofølsomme partikler som har vært utsatt for b-ost rål ing, migrerer gjennom dat mykgjørbare lag når dette or myknet og oppløst, og etterlater et bilde, av fotofølsomme partikler på det ledende underlag, hvilket bilde er konformt med et negativ av originalen. Dette er kjent som positiv til negativ avbildning. Ved bruken av forskjellig teknikk kan det fremstilles enten positive til positive eller positive til negative bilder i avhengighet av de anvend~e materialer og ladningspolariteter. De deler av det fotofølsomme lag som ikke migrerer til det ledende underlag, kan vaskes bort ved hjelp av løsningsmidlet sammen med det mykgjørbare lag.
Migreringsavbildningsprosessen omfatter en kombinasjon av prosesstrinn som består av ladning, eksponering og fremkalling med et løsningsmiddel. Egenskapene.til disse bilder er avhengig av slike prosesstrinn som potensial, eksponering og fremkalling, så vel som spesielle kombinasjoner av prosesstrinn. Høy dekkraft, kontinuerlig tone og høy billedoppløsning er noen av de mulige fotografiske egenskaper. Dette bilde er karakterisert som et fiksert eller ikke-fiksert, fotoledende pulverbilde som kan brukes for en rekke formål, som mikrofilm, hardkopi og optisk maske ved anvendelse av bindemiddelmaterialer. Alternative utførelses-former av dette system er beskrevet i ovennevnte franske patent
■nr. 1.466.349.
Formålet-med den foreliggende oppfinnelse er å frembringe en fremgangsmåte som muliggjør ytterligere bedring av billed-kontrast ig dekkraft og gir enten en positiv eller negativ reproduksjon av et originalbilde.
Dette oppnås ifølge oppfinnelsen ved en fremgangsmåte som kjennetegnes vad at det anvendes et underla-g som, i kontakt med det.mykgjørbare. lag, er utstyrt med et karboninneholdende lag -innleiret mellom det mykgjørbare lag og laget av elektrisk ledende materiale, og at det ledende lag samt eventuelt'de migrerte partikler vaskes bort etter migreringen med et annet løsnings-middel som løser det ledende lag slik ab en del av karbonlaget som eventuelt kan være belagt med de migrerte partikler, gjenstår på underlaget i billedkonfigurasjon.
■Billeddelen ifølge oppfinnelsen kjennetegnes ved at underlaget i kontakt me.d det mykgjørbare lag' inneholder et karboninneholdende lag innle.iret mellom det mykgjørbare lag og laget av elektrisk ledende materiale.
Mens det er foretrukket at det oppdelbare materiale er partikkelformet, og spesielt med partikler i størrelses området fra 0,02 tLI 2,0 mikron, kan det omfatte hvilket som helst kontinue-lig eller halv-kontinuerlig (som sveitserostmønster) oppdelbart lag som kan brytes i stykker under det første fremkallingstrinn som beskrevet i det følgende, og muliggjøre at deler kan migrere til karbonlaget i billedform.
Dat mykgjørbare lag kan for eksempel inneholde partikkelformet selenglass ved sin øvre,, utsatte overflate'. Denne billeddel blir først avbildet ved den teknikk som er beskrevet i det ovennevnte franske patentskrift som omfatter dannelse av et latent bilde på den fotoledende overflate ved jevn elektrostatisk ladning fulgt av eksponering for et selektivt strålingsmønster som danner det.latente, elektrostatiske bilde.
Dette bilde blir så fremkalt ved 'dypping i et flytende løs-ningsmiddel for det, mykgjørbare lag som resulterer i dannelsen
av et bilde som består av migrerte selenpar tikler i billedform som dekker karbonlaget i de lyseksponerte områder, mens selen-partlklene i de ikke-eksponerte områder vaskes bort med det øvrige av det mykgjørbare lag og bare karbonpartiklene blir til-'-' bake. Billeddelen utsettes deretter for et andre fremkallingstrinn som omfatter dypping i et løsningsmiddel i minst flere sekunder opp til minutter og resulterer i avhengighet ;iv konsentrasjonen av det andre løsningsmiddel'enten i at selen-karbondelen
vaskes bort, eller at karbonlaget i de ikke-eksponerte områder vaskes bort og etterlater et endelig bilde som omfatter enten et tett karbonlag på det bærende underlag, eller.en kombinasjon av selen-.karbonlaget på underlaget. Det endelige bilde, enten det er karbon i form av et positivt bilde eller en sammensetning av kar-bo n-se len i form av et negativt bilde, har overordentlig stor
dekkraft, bedre enn hva som hittil er oppnådd under anvendelse av vanlige fotoledende materialer alene, slik som for eksempel selea.
Fordelene ved denne fremgangsmåte vil fremgå av den etter-følgende beskrivelse av oppfinnelsen,' spesielt sett' i sammenheng med den medfølgende tegning, hvori: Fig. 1 viser en skjematisk illustrasjon av en utførelses-form av en typisk billeddel for anvendelse ved fremgangsmåten ifølge den foreliggende oppfinnelse.
Fig. 2 illustrerer ladning av billeddelen i fig. 1.
Fig. 3 viser eksponering av den ladete billeddel for et aktiverende bestrålingsmønster.
Fig. 4 viser fremkalling av billeddelen. i fig. 3.
Fig. 5 viser et andre fremkallings trinn.
Fig. 6 viser en annen utførelsesform av det andre fremkallingstrinn. I fig. 1 er vist en utførelsesform av- en billeddel som omfatter en avbildningsplate eller -film 10. Bil Leddelens underlag kan omfatte hvilken som helst egnet elektrisk leder. Typiske underlager aluminium., ti.nnoksyd og indium.. Underlaget kan ha hvilken som helst form, som for eksempel et metallbånd, -ark, -folie, -sylinder, -trommel eller liknende, Om ønskes kan det ledende underlag 12 være belagt i form av en tynn film på en iso-lator 11, slik som papir, glass eller et plastmateriale som er uoppløselig i løsningsmidlene som brukes under fremkallingen. Et eksempel på denne type underlag er "KESA"-glass som er et delvis gjennomsiktig tinnoksyd-belagt glass. Et annét typisk underlag er aluminisert "Mylar" som er fremstilt av en "Mylar"-polyester-film som har et tynt halvgjennomsiktig aluminiumsbelegg.
Et lag 13 omfatter et karbon- eller karbonholdig lag i det vesentlige fremstilt av partikkelformet karbon i en tykkelse av fra 0,1 til 3 mikron. Karbonet kan brukes i hvilken som helst egnet form. Typiske formec omfatter grafitt, trekull, koks, kjøn-røk, "carbon black" og aktivert karbon. Størrelsen av karbonpartiklene kan variere opp til 1 mikron, men bør fortrinnsvis ligge i området fra 0,01 til 0-, 5 "mikron..".Denne partikkelstørrelse er kritisk i den forstand at partikler i-dette størrelses område opp-vise r . utmerke t adhesjon til underlaget og muliggjør omhyggelig regulering av. karbonlagets tykkelse. En spesielt foretrukket kar-bonkilde består av en vandig, kollb.idal suspensjon av karbon (22$ kolloidal grafitt.) tilgjengelig under vare betegnelsen "Aquadag". Karbonlaget dannes ved jevn be legn ing av. det 'bære.nde underlag med nevnte suspensjon i en passende tykkelse, hvoretter laget tørkes enten i luft eller ved svak oppvarming. Andre måter for dannelse av karbonlaget kan også anvendes. Eksempelvis kan laget dannes ved dryssing eller kaskade-påføring av elementært karbon i partikkelform på det bærende underlag.
Det mykgjørbare. plastlag 14 kan bestå av vilkårlig egnet materiale som er- oppløselig i hvilket som helst egnet løsnings-middel og -dessuten-er'i det vesentlige elektrisk isolerende under avbildnings- og fremkallingssyklusen. Materialtyper, som faller innenfor denne definisjon omfatter polystyrener, alkydsubstituerte polystyrener, polyolefiner, styren-akryl-kopolymerer, styren-ole-finkopolymerer, silikonharpikser, fenolharpikser og organiske, amorfe glassarter,. Typiske materialer er "Staybelite Ester 10" som er en delvis hydrert kolofoniumester, "Fbral Ester" som er en hydrert kolofohiumtrié.ster-, og "Neolyné 25" som er en al.kyd-harpiks, "SR 82" og "SR 84"" som er silikonharpikser, sukrosebenzo-aty "Velsicol X-37" som er en pelyester-olefinkopolymer, "Hydro-genated Piccopale 100", et sterkt forgre-net polyolef in ."HP-100", hydrert -"Piccopale 100", "Piccotex 100", en kopolymer av metyl-styren og vinyltoluen, "Piccolastic A-75, -100 og -129', alle polystyrener, "Piccodiene 2215", en polystyren-olefinkopolymer, "Araldite 6060 og 6071", epoksyharpikser "Amoeo 13", et poly-alfametyIstyren, "ET-693" og "AmberoT ST", fenolformaldehydhar-pikser, etyloellulose og "Dow 04" , et mefcylfenylsil ikon, "M-140", et vanlig syntetisert' styren-co-n-butylmetakrylat, ■ "R5061 A"-, • en fenylmetylsilikonharpLks, "Epon 1001" en bisfenol A-epiklor-hydrinepoksy.harpi.ks og "PS-2" og "PS-3", begge polystyrener, og "ET-693", en fenolformaldehydharpiks, og en vanlig syntetisert 80/20 molprosent kopolymer av styren og heksylmetakrylat som har en egenviskositet på 0,179 dl/g..
Generelt bør det mykgjørbare oll.er løselige lag ha en tyk^ keise på fra 0,5 til 16 mikron og kunne fremstilles ved hvilken som helst egnet teknikk. Typiske metoder for fremstillingen er dyppebelegning,■ rullbelegning,- skrapebelegning eller overfløm— mingsbelegning, idet bedre,kontroll, og jevnere, resultater oppnås ved dyppe- eller rullbe legnings teknikk. Tykkelser under. 0,5 mikron, gir ikke . tilstrekkelig dybde f or partikkelmigiier ingsavb.ildning. Tykkere lag krever generelt et høyere ladningspotensial,.og generelt er tykkelser fra 1 til .5. mikron funnet å gi' spesielt gode resultater...
Ovennevnte ..gruppe jmaterialer er.,.ikke ment å være begren-sende men bare illustrerende,,-f or-egnete ;materialer til det. myk-gjørbare pla st lag. :"; , ,;;
Materialet i. laget 1 5 . kan, være hvilket som helst egnet.--.upr-ganisk eller organisk-,,,f otofølspmt .materiale ...Typiske uorganiske materialer er.selenglass, selenglass legert t.med- arsen, :tellur, antimon .eller vismut etc ., v kadmiumsulf id , sink oksyd, kadmium-sulfoselenid og., mange . andre .: I„ US-patentskrif t. 3 .121 .006 er, nevnt-.-en.;.rekke typiske., uorganiske pigmenterresnet for .foreliggende oppfinnelse ..Typiske . organiske,-materialer er "Watchung.Red B!», et, ■■ bariu.rjisalt.--av 1-(4 '-metyl--5' rklorazpbenzen-2 '-sulf onsyre )-2-hydro.ksy-3-naftensyre , :C. I .:;N.o. 1 586 5-, >„',! lcd of as t Double,-. Scariet, Toner" , ■■ et. pyrantrbnp-igraent, "Quinao Magenta: Ry-6803" , et. kina-kri-■ Qonpigme.nt', kinakriaoner som "MonastralrRed B.!'.>:. ";0yan Blue , GT \'F", betaformén av kobberftalocya.nin.,' 0.1. v Mo.; - 74 J 6Q;-, -"Konolite. Fast. Blue' GS" ,' al fa-f ormen-' av me.tallfri f tal-ocyania,.. C .1.--Ko .-...•74100-, "Diane 'Blue!',- 3-, 3 ! -me t b.kny-4 -, 4' -d: fe nyl-b is (1 ' -'-azo-2 ' '.-hydroksy-3' '-na f ta nil id), .0 .1, - No '.:-2 VI80 ■ og "Alg,ol. G.C'..",, polyyinylkarba-zol,- .1 ,2,5,6--di(D,D'-difenyl).-tiazola.ntrakinon,; CI. ¥o. 67300..... , . Ovennevnte oppgave over organiske og•uorganiske, fotofølsomme materialer er. illustrerende for noen av de typiske materialer og må ikke tas som en fullstendig, oppgave. -laget 15 av fotofølsomme partikler kan formes ved hvilken som helst egnet fremgangsaiåte. Typiske fremgangsmåter omfatter vakuumpådampning, kas.kadepåføring av materialet, idet det bæres på glasskuler eller-andre egnete- bærere, over det løselige lag 14 som er blitt myknet med løsningsmiddeldamp og/eller varme, flytende fremkallingsteknikk, pulverskyfremkallingsteknikk, -ved oppslemmingo-belegningsteknikk, eller ganske enkelt ved å drysse partiklene(av fotofølsomt materiale over det svakt myknete, løse-lige materiale.
I tillegg til den lagdelte utforming vist i fig. 1 kan det anvendes modikasjoner avflagdelte strukturer. En slik modifikasjon omfatter en belagt, lagdelt' struktur, hvori et lag fotofølsomme partikler er "sandwiched" mellom to eller flere lag mykgjørbart materiale anbrakt på det ledende underlag. En annen modifikasjon omfatter en bindemiddelstruktur hvori de fotofølsomme partikler er dispergert i det mykgjørbare lag.
Tykkelsen av partikkel laget og størrelsen av de fotoledende partikler er vanligvis mindre enn 1 mikron, idet partikkelstørrel-sen kan variere fra 0,01 opp til 2,0 mikron. Partikler større enn 2 mikron gir ikke gunstig billedoppløsning og viser også en minskning i dekkraft sammenliknet med bilder som består av partikler som er mindre enn 2 mikron. •Strukturen eller platen 10 i fig.' 1 kan påføres ved jevn elektrostatisk ladning av overflaten med en koronautladnings inn-retning 16, slik som illustrert i fig. 2. Det påtrykte elektriske felt for strukturene varierer fra noen få volt opp til atskillige hundre volt pr. mikron mykgjørbart plastlag 14. Det vil forståes-at annen ladningsteknikk kjent på området også kan brukes ved ut-førelsen av foreliggende oppfinnelse. Typiske fremgangsmåter omfatter fcoronautladning gjennom en maske eller sjablon, eller dannelse av et latent bilde direkte gjennom bruken av en elektrode eller stiftmatrise.
Den ladete plate blir deretter eksponert for et mønster av aktiverende stråler 17, slik som lys, som vist i fig. 3. Platen fremkalles deretter i et flytende løsningsmiddel 18'som først .mykner og løser opp det. løselige lag 14, og resulterer i dannelsen av et bilde sammensatt av belyste, fotofølsomme partikler 15 i billedform på karbonlaget 13 som vist i fig. 4. Løsnings-midlet kan omfatte hvilket som helst egnet løsningsmiddel for det mykgjørbare plastlag 14 hvori de øvrige materialer i avbild-ningsstruktureh (underlag, ledende film, karbonlag og fotoføl-somt lag) er tilnærmet uoppløselige. Typiske løsningsmidler er angitt i fransk patentskrift 1.466.349 og omfatter uten begrens-ning cykloheksan, trikloretylen, xylen, toluen, pentan, trikloretylen, - metyletylketon, me tyle rikl pr id., karbontetraklorid og tio-fen. -Strukturen ifølge fig. 4 blir så ytterligere behandlet ved å utsette .-den for et fortynnet løsningsmiddel 19 som illustrert i fig. 5. Behandlingen utføres minst gjennom flere sekunder opp til atskillige minutter og -resulterer i bo.rtvasking av det sam-mensatte fotoledende karbonbildy, og etterlater et bilde som be-
står av bare karbonlaget i form av et positivt bilde vist i fig. 5. Hvis et.konsentrert løsningsmiddel 20 brukes, fjeraes det rene karbonlag og en kombinasjon av fotofølsomme partikler over karbonlaget i form av et negativt bilde blir igjen, som vist i fig. 6.
Det. vil sees at den andre fremkalling eller løsningsmiddel-behandling illustrert i figurene 5 og 6 resulterer i at det tynne ledende belegg 12 løses fullstendig eller vaskes bort uan-sett løsningsmidlets konsentrasjon. Det antas at fjerningen av den ledende film er vesentlig ved dannelse av bilder ved den foreliggende oppfinnelse, og derfor bør løsningsmidlet brukt ved den andre fremkalling kunne løse den ledende film 12. Tabellen nedenfor .viser typiske kombinasjoner av ledende filmer og frem-kallingsløsningsmidler som er egnet for billeddannelse slik som illustrert, i figurene 5 og 6.. Typiske løsningsmidler omfatter sy-rer og sterke baser. Fortynnete løsningsmidler resulterer i dannelsen av et positivt bilde som består av karbon som illustrert i fig^ 5, mens konsentrerte løsningsmidler/i dannelsen av et negativt bilde som består av en sammensetning av fotofølsomme partikler over et karbonlag, som vist i fig. 6.
Et spesielt foretrukket fremkallingsløsningsmiddel 19 eller 20 for den andre løsni.ngsmiddelbehandling omfatter hvilken som helst egnet alkalisk oppløsning. Typiske oppløsninger er natriumhydroksyd, kaliumhydroksyd, natriumsulfid, og kalsium-hydroksyd. Relativt fortynnete løsningsmidler som 1 normal,3 normal, 6 normal, resulterer i dannelsen av det positive bilde, mens oppløsninger som har en høyere konsentrasjon, slik som omkring 50%, resulterer i dannelsen av det negative- bilde. G-enerelt kan hvilken som helst alkalisk oppløsning av passende konsentrasjon, til fjerning, av enten de eksponerte eller ikke-eksponerte deler av det løsningsmiddelf re-mkalte område som illustrert i fig. 4, anvendes i det andre og endelige fremkallingstrinn, som illustrert i figurene 5 og 6.
De følgende eksempler beskriver foretrukne utførelsesformer av den foreliggende oppfinnelse. De i eksemplene angitte deler og prosenter er på basis av vekt hvis ikke annet spesielt er nevnt. Eksemplene er ment å illustrere forskjellige foretrukne utførelsesformer for avbildning ifølge oppfinnelsen.
EKSEMPEL I.
En avbildningsfilm eller -plate, ca. 2,5 x 7,5 cm i stør-relse, slik som den illustrert i fig. 1, ble laget ved å belegge 10 ml av en vandig kolloidal suspensjon av 22% karbon, "Aquadag"
(som var ytterligere fortynnet i 100 ml vann) med en 950 gravyr-rull på et 0,076 mm aluminisert "Mylar"-underlag. "Rotoproofer Analox Rollers",levert av Pamarco Inc. Roselle, N.J., betegnes med størrelsene 550 til 2.000. Belegningsprosessen ble utført for å danne et 2 mikrons belegg av karbon tørket i 2 timer i varm luft ved 100°C. Karbonbelegget ble så belagt med et mykgjør-bart plastlag ved.å lage en 20 vektsprosent oppløsning av "Staybelite Ester 10" i toluen.
Ved å anvende gravyrruller ble blandingen deretter rullbe lagt over karbonlaget. Belegget ble påført slik at når det fikk lufttørke i omtrent 2 timer ved 50°0 for å tillate fordamp-ning av toluenet, ble det dannet en avbildningsplate som inneholdt et 2 mikron tykt lag av "Staybelite Ester" på karbonlaget. Deretter ble et tynt lag av partikkelformet glassaktig selen med omtrent 0,5 mikron tykkelse avsatt på "Staybelite"-overflaten ved inertgass-avsetning under anvendelse av fremgangsmåten som beskrevet i fransk patentskrift 1.466.349.
EKSEMPEL II.
Tre ytterligere plater eller filmer ble laget på samme måxe som i eksempel I. Det ble herunder anvendt for forming av karbonlaget gravyrruller av størrelser henholdsvis 720, 1200 og 2000, som resulterte i karbonlag som varierte i tykkelse fra 3 mikron for 720-rullen ned til 0,5 mikron for 2000-rullen.
EKSEMPEL ill.'
Alle fire filmene fremstilt i eksemplene I og II ble ladet ved å benytte et positivt potensial'på fra 60 til 70 volt med en koronautladningsinnretning, slik som"den som er beskrevet i US-patentskrift 2.588.699. Pilmen ble deretter eksponert for'et lysmønster med energien i de belyste områder lik 0,005 int.lumen/ cm 2/sek ved hjelp av en wolframlampe. Filmene ble fremkalt ved å dyppe dem i et bad.av flytende cykloheksan i ca. 2 sekunder.Hver film oppviste en utmerket reproduksjon av det originale'~lysmøns-ter i form av selenpartikler avsatt på karbonlaget i de områder som var truffet av lys, mens i de områder som ikke var eksponert av lys, ble der igjen et karbonlag over "Mylar"-underlaget.
Denne form ér illustrert r'fig. 4 på tegningen.
EKSEMPEL IV.
Hver av de fire filmene fra eksempel III ble skåret i to like deler, ca. 2,5 x 3,8 cm, idet hver del inneholdt en del av et fremkalt bilde, slik som illustrert i fig. 4. En del av hver av filmene ble så fremkalt ved å dyppe den i 5 sekunder i en 1 normal natriumhydroksyd.oppløsning. Hver av de fire delene oppviste et karb.onbilde som representerte et positivt bilde av en original hvor bare et karbonbilde var blitt igjen på "Mylar"-underlaget i de områder som ikke var eksponert av lys. Denne form er vist i fig. 5.
Den.andre del av hver av de fire filmene ble dyppet i en 50% natriumhydroksydoppløsning i ca. 5 sekunder.- Denne fremkalling resulterte i dannelsen av et negativt bilde på hve i: av de : fire prøver som besto av en kombinasjon av selenpartikler som lå over karbonlaget i de områder som tidligere var blitt eksponert av lys. Denne utforming er vist på fig. 6 på tegningen.
Fra de ovennevnte eksempler vil det sees at den andre opp-løsningsmiddelbehandling resulterer i selektiv dannelse'av enten et positivt eller et negativt bilde med høy dekkraft, idet det brukes relativt svake eller fortynnete løsningsmidler for dannelsen av et positivt bilde og mer konsentrerte løsningsmidler for dannelsen av et negativt bilde. De andre i tabellen nevnte, løs-ningsmidler kan anvendes på samme måte som alkalioppløsningene anvendt i eksemplene..
Claims (6)
1. Fremgangsmåte for avbildning,'omfattende frembringelse av-et preliminært bilde som er fremstilt ved dannelse av e t latent elektrostatisk'bilde på overflaten av en billeddel som omfatter' et underlag som inneholder et lag av elektrisk ledende materiale, et mykgjørbart lag som inneholder et' løsningsmiddelsløselig, myk-gjørbart materiale og som er anbrakt på underlaget samt et lag av partikkelformet eller opp'délbart: migreringsmateriale ved den overflate av det mykgjørbare lag som vender bort fra underlaget' og fremkalling av bildet ved å mykgjøre det mykgjørbare materiale og løse det i et flytende" løsningsmiddel som kan i det vesentlige løse det løsningsmiddelsløsélIgé, mykgjørbare materiale, mens andre deler av billeddelen er i det"Vesentlige uløselige i løs-ningsmidlet, idet det partikkelformete migreringsmateriale migrerer i billedkonfigurasjon til underlaget, karakteri-sere ved at det anvendes et underlag som, i kontakt med det mykgjørbare lag, er utstyrt med et karboninneholdende lag ' innleiret mellom det mykgjørbare lag ;og laget'av: elektrisk; le'-- ""- '\,\ dende materiale, bg at det ledende lag samt eventuelt de migrerte partikler vaskes bort etter migreringen med et annet løs-ningsmiddel som løser det ledende lag slik at en del av karbonlaget som eventuelt kan være belagt med de migrerte partikler, gjenstår på underlaget i billedkonfigurasjon.
2. Fremgangsmåte i samsvar med krav 1, karakterisert ved at det anvendes et annet løsningsmiddel som består av et kjemisk sett basisk løsningsmiddel med høyere pH enn 7 og som fortrinnsvis består av en natriumhydroksydoppløs-ning .
3. Fremgangsmåte i samsvar med krav 2, karakterisert ved at konsentrasjonen av det kjemisk sett basiske løsningsmiddel er høyst 6N og fortrinnsvis høyst 1N til dannelse av et optisk positivt karboninneholdende bilde på underlaget.
4. Fremgangsmåte i samsvar med krav 2, karakterisert ved at konsentrasjonen av det kjemisk sett basiske løsningsmiddel er større enn 6N til dannelse av et optisk negativt karboninneholdende bilde på underlaget.
5. Billeddel for anvendelse ved fremgangsmåten ifølge krav- 1, omfattende et underlag-som . inneholder et lag av elektrisk ledende materiale, et mykgjørbart lag inneholdende løsningsmiddelsløselig, mykg jørbart, materiale, anbrakt over underlaget og et lag av par-tikkelf ormet eller oppdelbart migreringsmateriale ved den overflate av .det mykgjørbare lag som, vender bort fra underlaget, karakterisert ved at underlaget i kontakt med det mykgjørbare lag inneholder et karboninneholdende lag innleiret mellom det mykgjørbare lag og laget av elektrisk ledende materiale.
6. Billeddel i samsvar med krav 5, karakterisert ved at det karboninneholdende lag har en tykkelse i størrel-sesorden mellom 0,1 og 3 mikron.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US69490668A | 1968-01-02 | 1968-01-02 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO127265B true NO127265B (no) | 1973-05-28 |
Family
ID=24790745
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO05213/68A NO127265B (no) | 1968-01-02 | 1968-12-28 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3615400A (no) |
AT (1) | AT306509B (no) |
BE (1) | BE726279A (no) |
CH (1) | CH512755A (no) |
DE (1) | DE1817221A1 (no) |
DK (1) | DK129015B (no) |
ES (2) | ES161931Y (no) |
FR (1) | FR1598889A (no) |
GB (1) | GB1261360A (no) |
LU (1) | LU57703A1 (no) |
NL (1) | NL6900048A (no) |
NO (1) | NO127265B (no) |
SE (2) | SE372829B (no) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE755599A (fr) * | 1969-09-02 | 1971-03-02 | Xerox Corp | Systeme de formation d'image par migration |
JPS519837A (en) * | 1974-07-15 | 1976-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Hoshasenkirokuhoho |
US4015985A (en) * | 1975-04-09 | 1977-04-05 | Xerox Corporation | Composite xerographic photoreceptor with injecting contact layer |
-
1968
- 1968-01-02 US US694906A patent/US3615400A/en not_active Expired - Lifetime
- 1968-12-27 SE SE7210413A patent/SE372829B/xx unknown
- 1968-12-27 LU LU57703D patent/LU57703A1/xx unknown
- 1968-12-27 FR FR1598889D patent/FR1598889A/fr not_active Expired
- 1968-12-27 SE SE17861/68A patent/SE353968B/xx unknown
- 1968-12-27 DE DE19681817221 patent/DE1817221A1/de active Pending
- 1968-12-28 NO NO05213/68A patent/NO127265B/no unknown
- 1968-12-30 DK DK641568AA patent/DK129015B/da unknown
- 1968-12-30 BE BE726279D patent/BE726279A/xx unknown
- 1968-12-31 AT AT1272468A patent/AT306509B/de not_active IP Right Cessation
- 1968-12-31 ES ES1968161931U patent/ES161931Y/es not_active Expired
- 1968-12-31 CH CH1945168A patent/CH512755A/de not_active IP Right Cessation
- 1968-12-31 GB GB61835/68A patent/GB1261360A/en not_active Expired
-
1969
- 1969-01-02 NL NL6900048A patent/NL6900048A/xx unknown
-
1970
- 1970-05-29 ES ES380191A patent/ES380191A1/es not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE726279A (no) | 1969-06-30 |
ES161931U (es) | 1970-11-16 |
SE353968B (no) | 1973-02-19 |
SE372829B (no) | 1975-01-13 |
FR1598889A (no) | 1970-07-06 |
DK129015B (da) | 1974-08-05 |
DK129015C (no) | 1975-01-13 |
LU57703A1 (no) | 1969-08-04 |
NL6900048A (no) | 1969-07-04 |
DE1817221A1 (de) | 1969-08-07 |
CH512755A (de) | 1971-09-15 |
AT306509B (de) | 1973-04-10 |
GB1261360A (en) | 1972-01-26 |
ES380191A1 (es) | 1972-08-16 |
ES161931Y (es) | 1971-06-16 |
US3615400A (en) | 1971-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE941767C (de) | Photoelektrisch sensibilisierbares Material | |
US3010883A (en) | Electrolytic electrophotography | |
US3520681A (en) | Photoelectrosolography | |
NO125887B (no) | ||
US3909262A (en) | Imaging migration member employing a gelatin overcoating | |
US3174855A (en) | Method for a production of a xerographic plate | |
DE1804475A1 (de) | Abbildungsverfahren | |
US3975195A (en) | Migration imaging system | |
NO127265B (no) | ||
DE3422378C2 (de) | Flachdruckplatte | |
US3653885A (en) | Process of stabilizing a migration image comprising selenium particles | |
US3967959A (en) | Migration imaging system | |
JPH0246945B2 (no) | ||
DE2436676B2 (de) | Verfahren zur herstellung eines elektrophotographischen aufzeichnungsmaterials | |
US4101321A (en) | Imaging system | |
JPS5825263B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
US3010884A (en) | Electrophotosensitive copy-sheet | |
US3127331A (en) | Reverse current electrolytic process | |
US3096260A (en) | Two-step electrophotography | |
US3317409A (en) | Electrolytic electrophotography | |
US4537846A (en) | Multiconductive layer electrophotographic photosensitive device and method of manufacture thereof | |
US3918969A (en) | Migration imaging method employing a uniform exposure step | |
US3257304A (en) | Process of electrodepositing insulative material on photoconductive copysheet | |
US4029502A (en) | Imaging system containing agglomerable material | |
NO128084B (no) |