NL9100481A

NL9100481A - METHOD AND APPARATUS FOR HIGH VOLTAGE TREATMENT OF ELECTRON RADIUS TUBES.

Info

Publication number: NL9100481A
Application number: NL9100481A
Authority: NL
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1990-03-20
Filing date: 1991-03-19
Publication date: 1991-10-16
Also published as: NL192647C; KR930010600B1; DE4109032C2; NL192647B; DE4109032A1

Description

Korte aanduiding: Werkwijze en apparaat voor hoogspanningsbehandeling van elektronenstraaLbui zen.Short designation: Method and device for high-voltage treatment of electron beam tubes.

Deze uitvinding heeft betrekking op een hoogspanningsbe-handeLingswerkwijze voor elektronenstraalbuizen, waarin een hoge spanning vanaf de buisvoetpennen wordt aangeLegd om goede diëLektrische eigenschappen te verlenen, en een apparaat voor het uitvoeren van de behandeling.This invention relates to a high voltage electron beam tube treatment method, in which a high voltage is applied from the tube foot pins to impart good dielectric properties, and an apparatus for carrying out the treatment.

Fig. 13 is een aanzicht in doorsnede van de hals van een elektronenstraalbuis.Fig. 13 is a cross-sectional view of the neck of an electron beam tube.

In de figuur omvat een elektronenstraalbuis 20 een hals 1. Een vrij einde van de hals 1 is afgesloten door een buisvoet 2 en deze hals 1 herbergt een elektronenkanon 10. Het elektronenkanon 10 omvat een verwar-mingsorgaan 11, cathode 12, eerste rooster 13, tweede rooster 14, derde rooster 15 dat dient als een focusseringselektrode en vierde rooster 16, waarbij deze componenten in de genoemde volgorde zijn ingericht en op gespecificeerde intervallen worden gehouden door isolerende glazen staven 17.In the figure, an electron beam tube 20 comprises a neck 1. A free end of the neck 1 is closed by a tube foot 2 and this neck 1 houses an electron gun 10. The electron gun 10 comprises a heater 11, cathode 12, first grid 13, second grid 14, third grid 15 serving as a focusing electrode and fourth grid 16, these components being arranged in said order and held at specified intervals by insulating glass rods 17.

In bijvoorbeeld het geval van een 29" kleurenelektronen-straalbuis wordt, wanneer de elektronenstraalbuis wordt bedreven, een hoge spanning van 28 kV aan vierde rooster 16 van elektronenkanon 10 aangeLegd via inwendige geleidende film 3 en contactorganen 18 vanaf een externe (niet getoonde) anodeknop.For example, in the case of a 29 "color electron beam tube, when the electron beam tube is operated, a high voltage of 28 kV is applied to fourth grid 16 of electron gun 10 via inner conductive film 3 and contacts 18 from an external anode button (not shown).

Tegelijkertijd wordt een hoge spanning van 6,7 kV aan derde rooster 13 aangelegd via een (niet getoond) voetstuk (dat ook wel buisvoet wordt genoemd; maar deze term zal niet worden gebruikt om verwarring met de buisvoet 2 van de elektronenstraalbuis 20 te vermijden), buisvoetpen 4a van derde rooster 15 en inwendige leiding 19. Verder wordt een spanning van ongeveer 700 V aan het tweede rooster 14 aangelegd, wordt een spanning van ongeveer 150 V aan cathode 12 aangelegd en wordt normaal een spanning van 0 V aan eerste rooster 13 aangelegd.At the same time, a high voltage of 6.7 kV is applied to third grating 13 via a pedestal (not shown) (also referred to as tube base; but this term will not be used to avoid confusion with tube base 2 of electron beam tube 20) , tube base pin 4a of third grating 15 and internal lead 19. Furthermore, a voltage of about 700 V is applied to the second grating 14, a voltage of about 150 V is applied to cathode 12, and normally a voltage of 0 V is applied to first grating 13 laid out.

Onder deze bedrijfscondities wordt een potentiaalverschil van ongeveer 6 kV tussen derde rooster 15 en tweede rooster 14 ingesteld. Indien er bramen of vormnaden op het oppervlak van dat deel van het tweede rooster 14 zijn, dat ligt tegenover het derde rooster 14, die zijn voortgebracht bij het vormen (of vorm geven) van de elektrode of de vervaardiging van het elektronenkanon 10, of indien er vuil is, dat hecht aan het inwendige van de elektronenstraalbuis, kan strooi-emissie van ongewenste elektronen optreden.Under these operating conditions, a potential difference of about 6 kV between third grid 15 and second grid 14 is set. If there are burrs or seams on the surface of that part of the second grid 14 opposite the third grid 14, which have been produced in the formation (or shaping) of the electrode or the manufacture of the electron gun 10, or there is dirt adhering to the interior of the electron beam tube, scattering of unwanted electrons may occur.

Deze ongewenste elektronen lopen door het vierde rooster 16, bestralen het oppervlak van de elektronenstraalbuis en hebben tot gevolg dat deze onnoodzakelijk fluoresceert. Deze onnoodzakelijke fluorescentie treedt bovendien zelfs op, wanneer het scherm donker is en leidt tot een verslechtering van de beeldkwaliteit.These unwanted electrons pass through the fourth grid 16, irradiating the surface of the electron beam tube and causing it to fluoresce unnecessarily. Moreover, this unnecessary fluorescence occurs even when the screen is dark and leads to deterioration of the picture quality.

Teneinde deze uitzending van ongewenste elektronen te vermijden, wordt een spanning van vier tot vijf maal de bedrijfsspanning van de elektronenstraalbuis, d.w.z. een hoge spanning van ongeveer 30 kV, van buitenaf aangelegd tussen buisvoetpen 4a van derde rooster 15 en de andere buisvoetpennen 4b gedurende de vervaardiging van de elektronenstraalbuis 20, zoals in fig. 14 is getoond. Wanneer deze hoogspanningsbehandeling wordt toegepast, treedt een boogontlading tussen tweede rooster 14 en derde rooster 15 op, die vormnaden, bramen en vuil van tweede rooster 14 verwijderd en wordt daardoor de uitzending van ongewenste elektronen onderdrukt.In order to avoid this emission of unwanted electrons, a voltage of four to five times the operating voltage of the electron beam tube, ie a high voltage of about 30 kV, is applied from the outside between tube base pin 4a of third grid 15 and the other tube base pins 4b during manufacture. of the electron beam tube 20, as shown in Fig. 14. When this high voltage treatment is applied, an arc discharge occurs between second grid 14 and third grid 15, which removes form seams, burrs and debris from second grid 14 and thereby suppresses the emission of unwanted electrons.

Zoals in fig. 15 is getoond, zijn echter de buisvoetpennen 4b van tweede rooster 14 en cathoden 12 rond buisvoetpen 4a van derde rooster 15 op een zeer kleine afstand daarvan aangebracht. Als een resultaat trad wanneer een hoge spanning van vier tot vijf maat de bedrijfsspanning aan derde rooster 15 werd aangelegd, een kruipontlading tussen buisvoetpen-nen 4a en 4b op en kon geen bevredigende hoogspanningsbehandeling worden bereikt.However, as shown in Fig. 15, the tube foot pins 4b of second grid 14 and cathodes 12 are arranged around tube foot pins 4a of third grid 15 at a very small distance therefrom. As a result, when a high voltage of four to five measures the operating voltage was applied to third grid 15, a creep discharge occurred between tube foot pins 4a and 4b and a satisfactory high voltage treatment could not be achieved.

Fig. 16 is een vergroot aanzicht in perspectief van een structuur van een silo-type voet die wordt gebruikt om zo een kruipontla-ding te voorkomen. Deze omvat een sito-type voet 30 waarin de buisvoetpen 4a van het derde rooster is afgeschermd van andere buisvoetpennen door wanden die via si Liconenrubber 31 aan buisvoet 2 zijn bevestigd. Een in fig.Fig. 16 is an enlarged perspective view of a structure of a silo-type base used to prevent creep discharge. It includes a sito-type foot 30 in which the third grid tube foot pin 4a is shielded from other tube foot pins by walls attached to tube foot 2 via silicone rubber 31. One in fig.

17 getoond voetstuk wordt gebruikt voor verbinding met silo-type voet 30 van fig. 16 voor het doel van het aanleggen van een spanning aan de elektronenstraalbuis vanaf een externe voedingsbron.17 shown is used for connection to silo-type foot 30 of FIG. 16 for the purpose of applying a voltage to the electron beam from an external power source.

Onder gebruikmaking van deze silo-type voet 30 en voetstuk 32 kan de doorslagspanning tussen buisvoetpen 4a en de andere buisvoetpen-nen 4b worden verhoogd, maar zou de hoogspanningsbehandeling onder gebruikmaking van vier tot vijf maal de bedrijfsspanning nog steeds niet volledig bevrediging kunnen worden bewerkstelligd.Using this silo-type foot 30 and pedestal 32, the breakdown voltage between tube foot pin 4a and the other tube foot pins 4b can be increased, but the high voltage treatment using four to five times the operating voltage still could not be fully satisfied.

Om de bovengenoemde problemen op te lossen, zijn andere hoogspanningsbehandelingen voorgesteld, zoals die bijvoorbeeld aan de openbaarheid zijn prijsgegeven in Japanse octrooi-Kokai-publicatie nr.To solve the above-mentioned problems, other high voltage treatments have been proposed, such as those disclosed to the public in, for example, Japanese Patent Kokai Publication No.

101 255/1979, waarin een hoge spanning wordt aangelegd, terwijl ten minste buisvoet 2 van elektronenstraaLbuis 20 in een hoge drukgasatmosfeer wordt gehouden.101 255/1979, in which a high voltage is applied, while at least tube foot 2 of electron beam tube 20 is kept in a high pressure gas atmosphere.

Bij dit type hoogspanningsbehandeling wordt buisvoet 2 van elektronenstraalbuis 20 in een afgedichte houder 21 omsloten en wordt een hoge drukgas G van buitenaf aan de houder toegevoerd, zoals in fig. 18 is getoond, zodat de drempelspanning, waarop kruipontlading op buisvoetpennen 4a en 4b begint, wordt verhoogd.In this type of high voltage treatment, tube base 2 of electron beam tube 20 is enclosed in a sealed container 21 and a high pressure gas G is supplied to the container from the outside, as shown in Fig. 18, so that the threshold voltage at which creep discharge on tube base pins 4a and 4b begins, is increased.

Onder gebruikmaking van deze werkwijze kan de kruipontla-dingsdrempelspanning van ongeveer 23 kV bij de conventionele werkwijze tot ongeveer 40 kV worden verhoogd.Using this method, the creep discharge threshold voltage from about 23 kV in the conventional method can be increased to about 40 kV.

Bij de hierboven beschreven hoogspanningsbehandelingswerk-wijze onder gebruikmaking van hoge drukgas was echter de kruipontladings-drempelspanning niet altijd constant op produktielijnen die onafgebroken grote aantallen eLektronenstraalbuizen vervaardigen, en traden soms kruip-ontLadingen op de buisvoetpennen op. In dergelijke gevallen trad geen bevredigende ontlading tussen de tweede en derde roosterelektroden op, waren diëlektrische karakteristieken niet consistent en werd beschadiging van het voetstuk veroorzaakt door de energie van de ontlading.However, in the high voltage treatment method described above using high pressure gas, the creep discharge threshold voltage was not always constant on production lines that continuously produce large numbers of electron beam tubes, and creep discharges sometimes occurred on the tube foot pins. In such cases, no satisfactory discharge occurred between the second and third grid electrodes, dielectric characteristics were inconsistent, and damage to the base was caused by the energy of the discharge.

Het doel van deze uitvinding is de bovengenoemde problemen op te heffen. Zij beoogt te voorzien in een hoogspanningsbehandelingswerk-wijze voor eLektronenstraalbuizen, waarbij een stabiele kruipontLadings-drempelspanning wordt gehandhaafd. Een verder oogmerk van deze uitvinding is te voorzien in een apparaat, waardoor hoogspanningsbehandeling veilig en efficiënt in een hoge drukgasatmosfeer kan worden uitgevoerd.The object of this invention is to overcome the above-mentioned problems. It aims to provide a high voltage treatment method for electron beam tubes, wherein a stable creep discharge threshold voltage is maintained. A further object of this invention is to provide an apparatus by which high voltage treatment can be carried out safely and efficiently in a high pressure gas atmosphere.

Bij een hoogspanningsbehandelingswerkwijze voor een elek-tronenstraalbuis die een hals heeft, die één einde heeft, dat is afgesloten met een buisvoet en een elektronenkanon en buisvoetpennen voor een focusse-ringselektrode en andere elektroden van het elektronenkanon herbergt, wordt een hoge drukgasatmosfeer rond de hals tot stand gebracht en wordt een spanning, die voldoende hoger is dan de bedrijfsspanning van de elektronenstraalbuis, tussen de buisvoetpennen aangelegd, wanneer de hoge drukgasatmosfeer tot stand is gebracht. De temperatuur van een deel van de buisvoet, waar in de buisvoetpennen is voorzien, wordt boven de temperatuur van de hoge drukgasatmosfeer gehouden gedurende de spanningsaanlegging. Omdat het deel van de buisvoet, waar in de buisvoetpennen is voorzien, wordt verwarmd tot een hogere temperatuur dan die van het omgevende gas, neemt daardoor de verzadigde dampdruk in het gebied dat de hals omgeeft, toe, wordt condensatie moei Lijker en kan een consistente kruipontladingsdrempelspanning worden gehandhaafd en kan een kruipontlading tengevolge van de aan de buisvoetpen-nen aangelegde spanning worden vermeden.In a high voltage treatment method for an electron beam tube having a neck having one end closed with a tube socket and an electron gun and tube socket pins for a focusing electrode and accommodating other electrodes of the electron gun, a high pressure gas atmosphere is generated around the neck and a voltage sufficiently higher than the operating voltage of the electron beam tube is applied between the tube foot pins when the high pressure gas atmosphere is established. The temperature of a portion of the tube socket where the tube socket pins are provided is kept above the temperature of the high pressure gas atmosphere during the voltage application. Because the part of the tube foot, where the tube foot pins are provided, is heated to a higher temperature than that of the surrounding gas, this increases the saturated vapor pressure in the region surrounding the neck, makes condensation more difficult and allows a consistent creep discharge threshold voltage is maintained and a creep discharge due to the voltage applied to the tube foot pins can be avoided.

In een ander aspect van de uitvinding wordt het dauwpunt van de hoge drukgasatmosfeer op niet hoger dan 25 °C ingesteld, wordt daardoor condensatie vermeden en kan een consistente kruipontladingsdrempelspanning worden gehandhaafd en kan op gelijksoortigerwijze een kruipontla-ding tengevolge van de aan de buisvoetpennen aangelegde spanning worden vermeden.In another aspect of the invention, the dew point of the high pressure gas atmosphere is set at no higher than 25 ° C, thereby avoiding condensation, and maintaining a consistent creep discharge threshold voltage and similarly, a creep discharge due to the voltage applied to the tube foot pins will be avoided.

In een verder aspect van de uitvinding is er voorzien in een houder die één einde open heeft, die is voorzien van een voetstuk op de basis ervan en die is voorzien van een afdichtsamenstel dat een hol ringvormig afdichtonderdeel van eLastisch materiaal omvat, dat op het binnenom-treksoppervlak van de houder aan het open einde is aangebracht, wordt de houder zodanig vooruit naar de elektronenstraalbuis bewogen, dat de houder de haLs omsluit en het voetstuk in de houder met de buisvoetpennen van de hals wordt verbonden, wordt onder druk gebrachte lucht in het holle ringvormige afdichtonderdeel toegevoerd, teneinde de inwendige diameter daarvan zodanig te verminderen, dat deze tegen het buitenomtreksoppervlak van de hals wordt gedrukt, teneinde een luchtdichte afdichting tussen het buitenomtreksoppervlak van de hals en het open einde van de houder te vormen, wordt een hoge drukgas in de houder ingébracht, terwijl de luchtdichte afdichting tussen het buitenomtreksoppervlak van de hals en het open einde van de houder wordt gehandhaafd en wordt een spanning, die voldoende hoger dan de bedrijfsspanning van de elektronenstraalbuis tussen de buisvoetpen-nen voor de eerste en de tweede elektroden is, via het voetstuk aan de buisvoetpennen aangelegd, terwijl de hals door het hoge drukgas wordt omgeven.In a further aspect of the invention, there is provided a container having one end open, which is provided with a base on its base and which is provided with a sealing assembly comprising a hollow, annular sealing member of elastic material which is placed on the inside -The pulling surface of the holder is arranged at the open end, the holder is moved forward to the electron beam tube in such a way that the holder encloses the neck and the base in the holder is connected to the tube foot pins of the neck, pressurized air in the hollow annular sealing member supplied, in order to reduce its internal diameter so that it is pressed against the outer peripheral surface of the neck, in order to form an airtight seal between the outer peripheral surface of the neck and the open end of the container, a high pressure gas is inserted the container, while the airtight seal between the outer peripheral surface of the neck e The open end of the holder is maintained and a voltage sufficiently higher than the operating voltage of the electron beam tube between the tube sockets for the first and second electrodes is applied to the tube sockets through the base, while the neck passes through the high pressure gas is surrounded.

In een verder aspect van de uitvinding wordt er voorzien in een houder die één open einde heeft, is voorzien van een eerste voetstuk op de basis daarvan, dat drukcontactklemmen heeft, en is voorzien van een afdichtonderdeel van elastisch materiaal dat op het open einde is beves tigd, wordt een tweede voetstuk, dat drukcontactklemmen heeft, verbonden met de voetstukpennen op de hals van de elektronenstraalbuis, wordt de houder vooruitbewogen naar de elektronenstraalbuis, zodanig dat het afdicht-onderdeel tegen de trechter van de elektronenstraalbuis wordt gedrukt om een luchtdichte afdichting tussen het open einde van de houder en de trechter te vormen en worden drukcontactklemmen van de eerste en tweede voetstukken in contact met elkaar gebracht om een elektrische verbinding tot stand te brengen, wordt een hoge drukgas in de houder ingebracht, terwijl de luchtdichte afdichting wordt gehandhaafd, om een hoge drukgasatmosfeer rond de hals tot stand te brengen en wordt een spanning, die voldoende hoger is dan de bedrijfsspanning van de elektronenstraalbuis tussen de buisvoetpennen voor de eerste en tweede elektroden, via de drukcontactklemmen aan buisvoetpennen aangelegd, terwijl de hals wordt omgeven door het hoge drukgas.In a further aspect of the invention, there is provided a container which has one open end, is provided with a first pedestal on its base, which has pressure contact terminals, and is provided with a sealing member of elastic material secured to the open end Then, a second pedestal, which has push-button terminals, is connected to the pedestal pins on the neck of the electron beam tube, the container is advanced to the electron beam tube, such that the sealing member is pressed against the funnel of the electron beam tube to provide an airtight seal between the electron beam tube. to form the open end of the container and the funnel, and pressure contact terminals of the first and second bases are contacted to establish an electrical connection, a high pressure gas is introduced into the container, while maintaining the airtight seal, to create a high pressure gas atmosphere around the neck and become a tension, which is sufficiently higher than the operating voltage of the electron beam between the tube foot pins for the first and second electrodes, applied to the tube foot pins via the pressure contact terminals, while the neck is surrounded by the high pressure gas.

Een uitvoeringsvorm van de uitvinding zal nu.onder verwijzing naar de tekening worden beschreven, in welke tekening:An embodiment of the invention will now be described with reference to the drawing, in which drawing:

Fig. 1 een schematische voorstelling is, om een apparaat voor het uitvoeren van een hoogspanningsbehandelingswerkwijze in overeenstemming met een uitvoeringsvorm van de uitvinding te beschrijven; fig. 2 een voorstelling is, die de verzadigde dampdruk van water laat zien; fig. 3 een gedeeltelijke vergrote doorsnede is, die een specifieke inrichting van het hoogspanningselektronenstraalbuisbehande-Lingsapparaat van de uitvinding laat zien; fig. 4 en 5 schematische voorstellingen zijn om hoogspan-ningselektronenstraalbuisbehandelingswerkwijzen in verschillende uitvoeringsvormen van de uitvinding te beschrijven; fig. 6 een schematische voorstelling is, die een andere inrichting van het hoogspanningselektronenstraalbuisbehandelingsapparaat in overeenstemming met de uitvinding laat zien; fig. 7 een schematische voorstelling is om een hoogspan-ningselektronenstraalbuisbehandelingswerkwijze in een andere uitvoeringsvorm van de uitvinding te beschrijven; fig. 8 een schematische voorstelling van een experimentele inrichting is, die is gebruikt om de betrekking tussen dauwpunt en kruip-ontladingsdrempelspanning te bepalen; fig. 9 een grafiek is, die de betrekking tussen dauwpunt en kruipontladingsdrempelspanning Laat zien; fig. 10 een aanzicht in doorsnede is, dat een inrichting voor het bevestigen en Losmaken van de Luchtdichte houder aan en van de eLektronenstraaLbuis in het hoogspanningsbehandeLingsapparaat in overeenstemming met een verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding Laat zien; fig. 11 een aanzicht in doorsnede is, dat een bevesti-gings/Losmaakinrichting in overeenstemming met een verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding Laat zien; fig. 12 een aanzicht in perspectief is, dat de structuur van het voetstuk in deze uitvoeringsvorm Laat zien; fig. 13 een aanzicht in doorsnede van de haLs van een kLeureneLektronenstraaLbuis is; fig. 14 een schematische voorsteLLing van de hoogspan-ningsbehandeLingswerkwijze is; fig. 15 een voorsteLLing is, die de inrichting van buis-voetpennen in een kLeureneLektronenstraaLbuis Laat zien; fig. 16 een vergroot aanzicht in perspectief is, dat dé structuur van de siLo-type voet Laat zien; fig. 17 een vergroot aanzicht in perspectief van het voetstuk voor de siLo-type voet is; en fig. 18 een schematische voorsteLLing is, om de conventio-neLe hoogspanningsbehandeLingswerkwijze te beschrijven.Fig. 1 is a schematic diagram to describe an apparatus for performing a high voltage treatment method in accordance with an embodiment of the invention; FIG. 2 is a representation showing the saturated vapor pressure of water; FIG. 3 is a partial enlarged sectional view showing a specific arrangement of the high voltage electron beam tube treating apparatus of the invention; Figures 4 and 5 are schematic representations to describe high voltage electron beam tube treatment methods in various embodiments of the invention; FIG. 6 is a schematic diagram showing another arrangement of the high voltage electron beam tube treatment apparatus in accordance with the invention; Fig. 7 is a schematic representation to describe a high voltage electron beam tube treatment method in another embodiment of the invention; FIG. 8 is a schematic of an experimental device used to determine the relationship between dew point and creep discharge threshold voltage; FIG. 9 is a graph showing the relationship between dew point and creep discharge threshold voltage; FIG. 10 is a cross-sectional view showing an apparatus for attaching and detaching the airtight container to and from the electron beam tube in the high voltage treatment apparatus in accordance with a further embodiment of the invention; FIG. 11 is a sectional view showing a fastening / detaching device in accordance with a further embodiment of the invention; Fig. 12 is a perspective view showing the structure of the pedestal in this embodiment; FIG. 13 is a cross-sectional view of the neck of a color electron beam tube; FIG. 14 is a schematic representation of the high voltage treatment method; FIG. 15 is a view showing the arrangement of tube foot pins in a color electron beam tube; Fig. 16 is an enlarged perspective view showing the structure of the siLo-type foot; Fig. 17 is an enlarged perspective view of the base for the siLo-type base; and FIG. 18 is a schematic representation to describe the conventional high voltage treatment method.

Fig. 1 is een schematische voorsteLLing voor het toeLich-ten van een hoogspanningsbehandeLingswerkwijze voor eLektronenstraaLbuizen in overeenstemming met een uitvoeringsvorm van de uitvinding. In de figuur heeft de eLektronenstraaLbuis 20 een haLs 1 die een eLektronenkanon 10 herbergt. Een voetstuk (in het EngeLs "socket") wordt gebruikt om spanning van buitenaf aan het eLektronenkanon 10 van eLektronenstraaLbuis 20 aan te Leggen. Er is voorzien in een afgedichte houder 21 voor het vormen van een hoge drukgasatmosfeer rond haLs 1 van de eLektronenstraaLbuis 20. De manier waarop dit gebeurt, zaL Later worden beschreven. Een compressor 22 brengt onder druk gebrachte Lucht voort. Er is voorzien in een verwarmingsoven 23 met een daarin aangebracht verwarmingseLement 24.Fig. 1 is a schematic representation for explaining a high voltage treatment method for electron beam tubes in accordance with an embodiment of the invention. In the figure, the electron beam tube 20 has a hail 1 which houses an electron gun 10. A pedestal (in the English "socket") is used to apply external voltage to the electron gun 10 of electron beam tube 20. A sealed container 21 is provided for forming a high pressure gas atmosphere around haLs 1 of the electron beam tube 20. The manner in which this will be done will be described later. A compressor 22 generates pressurized air. A heating oven 23 is provided with a heating element 24 disposed therein.

De procedure van de hoogspanningsbehandeLing van deze uitvoeringsvorm zaL nu worden beschreven.The high voltage treatment procedure of this embodiment will now be described.

De hals 1 van elektronenstraalbuis 20 die Luchtledig is gemaakt, wordt zoals in fig. 1(a) is getoond, in oven 23 geplaatst en een elektrische stroom wordt door verwarmingselement 24 gestuurd, teneinde de hals te verwarmen. De omgevingstemperatuur in oven 23 wordt op 160 °C ingesteld. Door het gedurende 5 min. blootstellen van hals 1 van elektronen-straalbuis 20 aan deze hoge temperatuur wordt de oppervlaktemperatuur van de hals, in het bijzonder dat deel van de buisvoet (in het Engels "stem") waar in buisvoetpennen is voorzien, die een diameter van 29 mm heeft, tot ongeveer 90 °C verhoogd.The neck 1 of the electron beam tube 20 which has been evacuated is placed in oven 23 as shown in Fig. 1 (a) and an electric current is passed through heating element 24 to heat the neck. The ambient temperature in oven 23 is set at 160 ° C. By exposing the neck 1 of the electron beam tube 20 to this high temperature for 5 minutes, the surface temperature of the neck, in particular that part of the tube foot (in English "stem") where tube foot pins are provided, is diameter of 29 mm, increased to about 90 ° C.

Vervolgens wordt hals 1, zoals in fig. 1(b) is getoond, in afgedichte houder 21 ingebracht, en wordt hoogspanningsbehandeling in de hoge drukgasatmosfeer bewerkstelligd. Voor dit doel wordt onder druk gebrachte Lucht op ongeveer 2 atm, die door compressor 22 is voortgebracht, aan afgedichte houder 21 toegevoerd, teneinde een hoge drukgasatmosfeer van ongeveer 2 atm voort te brengen. Vervolgens wordt een hoge gelijkspanning van ongeveer 30 kV gedurende 5 min. aangelegd tussen derde roosterbuisvoetpennen 4a en buisvoetpennen 4b van andere elektroden dan het derde rooster dat als een focusseringselektrode dient.Then, neck 1, as shown in Fig. 1 (b), is introduced into sealed container 21, and high voltage treatment is effected in the high pressure gas atmosphere. For this purpose, pressurized Air at about 2 atm generated by compressor 22 is supplied to sealed container 21 to produce a high pressure gas atmosphere of about 2 atm. Then, a high DC voltage of about 30 kV is applied for 5 min between third grid tube foot pins 4a and tube foot pins 4b of electrodes other than the third grid serving as a focusing electrode.

Indien bijvoorbeeld de buitentemperatuur zo hoog als 40 °C is en de relatieve vochtigheid zo hoog als 95% is, is de vochtigheid van afgedichte houder 21 hoger dan 100% en treedt binnen houder 21 en op het oppervlak van elektronenstraalbuis 20 condensatie op. Wanneer hals 1 tot 90 °C wordt verwarmd, hetgeen veel hoger is dan de temperatuur van de atmosfeer in houder 21, is echter de relatieve vochtigheid in het gebied van hals 1 ongeveer 9%, zoals zal worden gezien in de verzadigde dampdrukkromme van fig. 2. Ofschoon de luchtdruk in houder 21 2 atm is, overschrijdt daardoor de relatieve vochtigheid 100% niet en treedt geen condensatie op.For example, if the outside temperature is as high as 40 ° C and the relative humidity is as high as 95%, the humidity of sealed container 21 is greater than 100%, and condensation occurs within container 21 and on the surface of electron beam tube 20. However, when neck 1 is heated to 90 ° C, which is much higher than the temperature of the atmosphere in container 21, the relative humidity in the region of neck 1 is about 9%, as will be seen in the saturated vapor pressure curve of FIG. 2. Although the air pressure in container 21 is 2 atm, the relative humidity thereby does not exceed 100% and no condensation occurs.

Fig. 3 is een schematische voorstelling die een specifiek voorbeeld van een apparaat laat zien, dat wordt gebruikt om de hoogspan-ningselektronenstraalbuisbehandeling van de bovengenoemde uitvoeringsvorm uitvoeren. Zoals is geïllustreerd, omvat deze een voetstuk 33, een verwar-mingsorgaan 34 dat in voetstuk 33 is geïnstalleerd, een verwarmingselement 35 dat in verwarmingsorgaan 34 is ingericht, een hoogspanningsvoedingsbron HV voor het aanleggen van hoogspanning aan de elektroden van het elektro-nenkanon via voetstuk 33 en een verwarmingsvoedingsbron 40 om element 35 te verwarmen.Fig. 3 is a schematic diagram showing a specific example of an apparatus used to perform the high voltage electron beam treatment of the above embodiment. As illustrated, it includes a base 33, a heater 34 installed in base 33, a heating element 35 mounted in heater 34, a high voltage power supply HV for applying high voltage to the electrodes of the electron gun via base 33 and a heating power source 40 to heat element 35.

De werking van deze uitvoeringsvorm zal nu worden beschreven.The operation of this embodiment will now be described.

Een elektrische stroom wordt vloeiend door verwarmingselement 35 van verwarmingsorgaan 34 in voetstuk 33 gehouden, teneinde de temperatuur binnen verwarmingsorgaan 34 op ongeveer 160 °C te houden. Vervolgens wordt hals 1 van elektronenstraalbuis 20 in afgedichte houder 21 ingébracht en wordt voetstuk 33 met buisvoetpennen 4a en 4b verbonden. Het systeem wordt dan gedurende 5 min. in deze toestand gelaten om de temperatuur van hals 1 tot ongeveer 90 °C te verhogen en wordt de atmosfeer in houder 21 een hoge drukgasatmosfeer van ongeveer 2 atm gemaakt. Door de atmosfeer in houder 21 een hoge drukatmosfeer te maken, zou condensatie gemakkelijker worden gemaakt, maar in dit apparaat is een verwarmingsorgaan aangebracht om de hals 1 te verwarmen. Daardoor neemt de verzadigde damp-druk in het gebied van hals 1 toe, treedt er geen condensatie op voetstuk 33, waaraan hoogspanning is aangelegd, op en wordt stabiele kruipontla-dingsspanning gehandhaafd.An electric current is held smoothly by heating element 35 of heater 34 in pedestal 33, to maintain the temperature within heater 34 at about 160 ° C. Then neck 1 of electron beam tube 20 is inserted into sealed container 21 and base 33 is connected to tube foot pins 4a and 4b. The system is then left in this state for 5 minutes to raise the temperature of neck 1 to about 90 ° C and the atmosphere in container 21 is made a high pressure gas atmosphere of about 2 atm. By making the atmosphere in container 21 a high pressure atmosphere, condensation would be made easier, but in this apparatus a heater is provided to heat the neck 1. As a result, the saturated vapor pressure in the region of neck 1 increases, condensation does not occur on base 33, to which high voltage is applied, and stable creep discharge voltage is maintained.

In de bovenbeschreven uitvoeringsvorm werd hals 1 door een verwarmingsorgaan 34 in oven 23 verwarmd, dat werd verwijderd voor inbren-ging van hals 1 in afgedichte houder 21. De uitvinding is echter niet tot deze inrichting beperkt.In the above-described embodiment, neck 1 was heated by a heater 34 in oven 23, which was removed prior to insertion of neck 1 into sealed container 21. However, the invention is not limited to this device.

Fig. 4 is een voorstelling die een andere uitvoeringsvorm van de uitvinding laat zien. In fig. 4(a) is er voorzien in een verwar-mingsvoedingsbron 41 voor het elektronenkanon. Een spanning vanaf de ver-warmingsvoedingsbron 41 wordt aan het verwarmingsorgaan van het elektronenkanon aangelegd. Indien bijvoorbeeLd hals 1 een diameter van 29 mm heeft, de verwarmingsorgaanspecificaties 6,3 V - 680 mA zijn en een spanning van 8 V gedurende ongeveer 5 min. aan het elektronenkanon wordt aangelegd, stijgt de oppervlakte-temperatuur van hals 1 tot ongeveer 90 °C.Fig. 4 is a representation showing another embodiment of the invention. In Fig. 4 (a), a heating power source 41 for the electron gun is provided. A voltage from the heating power source 41 is applied to the electron gun heater. For example, if neck 1 has a diameter of 29 mm, the heater specifications are 6.3 V - 680 mA, and a voltage of 8 V is applied to the electron gun for about 5 min, the surface temperature from neck 1 rises to about 90 ° C.

In de bovenstaande uitvoeringsvormen wordt hals 1 van tevoren tot onmiddellijk het plaatsen ervan in de hoge drukgasatmosfeer verwarmd. Indien de temperatuur van hals 1 geleidelijk daalt gedurende de hoogspanningsbehandeling en de behandeling gedurende een lange tijdsperiode wordt bewerkstelligd, kan geLeidelijk condensatie optreden. Indien bijvoorbeeld een hals, die tot 90 °C is verwarmd, op 25 °C in een atmosfeer op een druk van 2 atm wordt gelaten, daalt de oppervlakte-temperatuur van hals 1 tot 35 °C.In the above embodiments, neck 1 is preheated to immediately placing it in the high pressure gas atmosphere. If the temperature of neck 1 gradually drops during the high voltage treatment and the treatment is effected for a long period of time, condensation may gradually occur. For example, if a neck heated to 90 ° C is left at 25 ° C in an atmosphere at a pressure of 2 atm, the surface temperature of neck drops 1 to 35 ° C.

Fig. 5 is een voorstelling van een andere uitvoeringsvorm die beoogt het bovengenoemde nadeel op te heffen. Zoals is geïllustreerd, wordt een verwarmingsvoedingsbron 41 verbonden met het verwarmingsorgaan van het elektronenkanon gehouden zodat tegelijkertijd de hoogspanning vanaf een hoogspanningsvoedingsvoedingsborn HV aan de buisvoetpennen voor het derde rooster en andere elektroden wordt gehouden. Dienovereenkomstig is het verzekerd dat de temperatuur van de hals van de elektronenstraalbuis gedurende de hoogspanningsbehandeling op een gewenste waarde wordt gehouden.Fig. 5 is a representation of another embodiment which aims to overcome the above drawback. As illustrated, a heating power source 41 is maintained connected to the electron gun heater so that the high voltage from a high voltage supply power supply HV is simultaneously maintained at the third grid tube foot pins and other electrodes. Accordingly, it is ensured that the temperature of the electron beam neck is maintained at a desired value during the high voltage treatment.

Fig. 6 is een voorsteLLing van een andere uitvoeringsvorm van de uitvinding, waarin een verwarmingsorgaan met een verwarmingselement 35 in afgedichte houder 21 is aangebracht.Fig. 6 is a representation of another embodiment of the invention, wherein a heater with a heating element 35 is mounted in sealed container 21.

In plaats van verwarmingselement 35, dat bijvoorbeeld uit nichroomdraad bestaat (nichroom is een handelsmerk en duidt een legering op basis van nikkel aan, die chroom en ijzer bevat), kan eveneens een stra-Lingsverwarmingssysteem dat een infrarode Lamp omvat, worden gebruikt.Instead of heating element 35, which is, for example, of nichrome wire (nichrome is a trademark and designates a nickel-based alloy containing chromium and iron), a radiant heating system comprising an infrared lamp may also be used.

Verder werd in de bovengenoemde uitvoeringsvormen onder druk gebrachte lucht als het hoge drukgas gebruikt. Het gas hoeft echter niet noodzakelijkerwijs lucht te zijn, en andere gassen, bijvoorbeeld een niet-verbrandbaar gas, zoals stikstof, kan in plaats daarvan worden ge-brui kt.Furthermore, pressurized air was used as the high pressure gas in the above embodiments. However, the gas does not necessarily have to be air, and other gases, for example a non-combustible gas such as nitrogen, can be used instead.

Verder daalt, indien ontvochtiging voorafgaand aan het inbrengen van hoge drukgas in de houder wordt uitgevoerd, het dauwpunt en kan de temperatuur waartoe de hals wordt verhoogd, worden verlaagd.Furthermore, if dehumidification is performed prior to the introduction of high pressure gas into the container, the dew point drops and the temperature to which the neck is raised can be lowered.

Fig. 7 is een voorstelling om de hoogspanningsbehandeling van deze werkwijze te beschrijven. In de figuur is er voorzien in een drooginrichting 25, die is uitgerust met een molecuulzeef of dergelijke, om de onder druk gebrachte lucht te drogen, is er voorzien in een dauwpunt-hygrometer 26 om het dauwpunt van de onder druk gebrachte lucht te meten, die door drooginrichting 25 wordt geleid en is er voorzien in kleppen 27a, 27b om de stroming van het gas te sturen.Fig. 7 is a representation to describe the high voltage treatment of this method. In the figure, a drying device 25 equipped with a molecular sieve or the like is provided to dry the pressurized air, a dew point hygrometer 26 is provided to measure the dew point of the pressurized air, which is passed through dryer 25 and valves 27a, 27b are provided to control the flow of the gas.

De werking zal nu worden beschreven. Atmosferische lucht wordt tot ongeveer 2 atm onder druk gebracht door compressor 22, en waterdamp wordt verwijderd door drooginrichting 25. Onder druk gebrachte Lucht, die door drooginrichting 25 is gedroogd, wordt via klep 27b naar dauwpunt-hygrometer 26 geleid en het dauwpunt ervan wordt gemeten. Het dauwpunt wordt op atmosferische druk gemeten. Onder druk gebrachte Lucht, waarvan het dauwpunt is bevestigd niet hoger dan 25 °C te zijn door hygrometer 26 wordt via klep 27a in houder 21 geleid, en wanneer houder 21 op een hoge druk is wordt een hoge gelijkspanning van ongeveer 30 kV gedurende 4 min. aangelegd tussen het derde rooster en de andere elektroden dan het derde rooster. Wanneer het voetstuk dan wordt omgeven door een hoge drukgasatmos-feer zonder condensatie, is de kruipontladingsdrempelwaarde niet kleiner dan 35 kV. Daardoor treedt een ontlading op tussen het derde rooster en tweede rooster, worden vormnaden, bramen en vuil van het tweede rooster verwijderd en wordt een elektronenstraalbuis met bevredigende diëLektrische eigenschappen verkregen, waarin onnoodzakelijke uitzending van elektronen vanaf het tweede rooster is onderdrukt.The operation will now be described. Atmospheric air is pressurized to about 2 atm by compressor 22, and water vapor is removed by dryer 25. Pressurized Air, which has been dried by dryer 25, is passed through valve 27b to dew point hygrometer 26 and its dew point is measured . The dew point is measured at atmospheric pressure. Pressurized Air, the dew point of which is confirmed not to exceed 25 ° C by hygrometer 26, is passed through valve 27a into container 21, and when container 21 is at a high pressure, a high DC voltage of about 30 kV is applied for 4 min applied between the third grid and the electrodes other than the third grid. When the pedestal is then surrounded by a high pressure gas atmosphere without condensation, the creep discharge threshold is not less than 35 kV. Thereby, a discharge occurs between the third grating and the second grating, shaping seams, burrs and debris are removed from the second grating, and an electron beam tube with satisfactory dielectric properties, in which unnecessary electron emission from the second grating is suppressed.

De reden waarom het dauwpunt werd ingesteld om niet hoger dan 25 °C te zijn, zat vervolgens worden beschreven.The reason why the dew point was set not to exceed 25 ° C was to be described next.

De uitvinders van de onderhavige uitvinding vonden dat op massaproduktielijnen, kruipontladingsdrempelspanning in het buisvoetpen-nengebied tendeerde af te nemen, in het bijzonder gedurende het regenseizoen met hoge temperatuur en hoge vochtigheid, en dat het zeer effectief was om de hoeveelheid vocht in de hoge drukgasatmosfeer te verlagen.The inventors of the present invention found that on mass production lines, creep discharge threshold voltage tended to decrease in the tube foot pin area, especially during the high temperature and high humidity rainy season, and it was very effective to reduce the amount of moisture in the high pressure gas atmosphere. to lower.

Fig. 8 is een experimentele inrichting voor het doel van het experimenteel vaststellen van de betrekking tussen dauwpunt en kruip-ontladingsdrempelspanning. In de figuur is bevochtiger 28 voorzien van een verwarmingsorgaan 29 om de mate van bevochtiging te sturen. Het dauwpunt kan vrij worden ingesteld door het verstellen van de temperatuur van het hoge drukgas met verwarmingsorgaan 29.Fig. 8 is an experimental device for the purpose of experimentally determining the relationship between dew point and creep discharge threshold voltage. In the figure, humidifier 28 is provided with a heating member 29 to control the degree of wetting. The dew point can be set freely by adjusting the temperature of the high pressure gas with heater 29.

Fig. 9 laat de resultaten van een experimentele studie van de betrekking tussen dauwpunt en kruipontLadingsdrempelspanning in het buisvoetpennengebied onder gebruikmaking van deze experimentele inrichting zien. Zoals uit de figuur is te zien, is wanneer de kamertemperatuur 40 °C is en de druk in houder 21 2 atm is, de kruipontladingsdrempeLspanning slechts ongeveer 18 kV wanneer het dauwpunt 30 °C is. Wanneer het dauwpunt 25 °C of Lager is, neemt echter de kruipontladingsdrempelspanning toe en is deze op 20 °C of lager stabiel op: 40 kV.Fig. 9 shows the results of an experimental study of the relationship between dew point and creep discharge threshold voltage in the tubular base pin region using this experimental device. As can be seen from the figure, when the room temperature is 40 ° C and the pressure in container 21 is 2 atm, the creep discharge threshold voltage is only about 18 kV when the dew point is 30 ° C. However, when the dew point is 25 ° C or Lower, the creep discharge threshold voltage increases and at 20 ° C or lower it is stable at: 40 kV.

Verder werd, indien de druk binnen houder 21 op 4 atm werd ingesteld, het gewenste effect verkregen, wanneer het dauwpunt 15 °C of Lager was.Furthermore, if the pressure within container 21 was adjusted to 4 atm, the desired effect was obtained when the dew point was 15 ° C or lower.

Verder moest, indien de kamertemperatuur in de orde van 20 °C was, zoals in de winter, het dauwpunt 10 °C of Lager te zijn. Verder was er, indien de luchtdruk in de houder 21 op 1,3 atm werd ingesteld, er geen verbetering van kruipontladingsdrempeLspanning, zelfs indien het dauwpunt werd verlaagd.Furthermore, if the room temperature was on the order of 20 ° C, as in winter, the dew point should be 10 ° C or Lower. Furthermore, if the air pressure in the container 21 was set to 1.3 atm, there was no improvement in creep discharge threshold voltage even if the dew point was lowered.

Fig. 10 is een voorstelling, die een verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding laat zien, en betreft de bevestigings/losmaakinrich-ting voor de luchtdichte houder die de elektronenstraalbuis omsluit.Fig. 10 is a representation showing a further embodiment of the invention, and concerns the fastening / detaching device for the airtight container enclosing the electron beam tube.

In de figuur dient een samenstel 50 voor het bevestigen en losmaken van een houder 21a, en omvat dit een vooruitbeweeg/terugtrekin-richting 51 die wordt aangedreven door een aandrijfinrichting (die niet is getoond) die houder 21 voorwaarts of achterwaarts in richtingen A beweegt, een houder 21a die is bevestigd op de arm 51a van deze vooruitbeweeg/terug-trekinrichting 51 en één einde geopend heeft, een voetstuk 33 op de basis van deze houder 21a en een afdichtsamenstel 52 dat op het binnenomtreks-oppervlak van het open einde van houder 21a is ingericht. Afdichtsamenstel 52 omvat een ondersteuningsonderdeel 53 dat een cilindrische wand 53a heeft, die is bevestigd aan het binnenomtreksopperv.lak van het open einde van houder 21a, eerste en tweede flenzen 53b en 53c die zich binnenwaarts vanaf eerste en tweede (benedenste en bovenste, zoals in de figuur gezien) kanten van de ciLindrische wand 53a uitstrekken om een ringvormige opening tussen de binnenkanten van de eerste en tweede flenzen 53b en 53c te vormen. Afdichtsamenstel 52 omvat verder een hol ringvormig afdichtonderdeel 54 van elastisch materiaal, zoals rubber, dat binnen ondersteuningsonderdeel 53 is bevestigd. Er is verder voorzien in een Luchtkanaal 55 dat in verbinding staat met afdichtonderdeel 54 voor het toevoeren van onder druk gebrachte Lucht. Wanneer onder druk gebrachte Lucht in afdichtonderdeel 54 wordt toegevoerd, wordt de binnendiameter daarvan verkleind, zodat indien de hals 1 door middel van afdichtonderdeel 54 is ingestoken, afdichtonderdeel 54 tegen hals 1 drukt om een Luchtdichte afdichting tussen hen te vormen. Wanneer onder druk gebrachte lucht uit afdichtonderdeel 54 wordt verwijderd, wordt de binnendiameter daarvan vergroot, en wordt hals 1 gescheiden van afdichtonderdeel 54 en wordt de luchtdichte afdichting tussen hen verbroken.In the figure, an assembly 50 serves to attach and detach a container 21a, and includes a forward / retractor 51 driven by a drive device (not shown) that moves container 21 forward or backward in directions A, a container 21a mounted on the arm 51a of this forward / retraction device 51 and having one end opened, a base 33 on the base of this container 21a and a sealing assembly 52 mounted on the inner peripheral surface of the open end of the container 21a is furnished. Sealing assembly 52 includes a support member 53 having a cylindrical wall 53a attached to the inner circumferential surface of the open end of container 21a, first and second flanges 53b and 53c extending inwardly from first and second (bottom and top, as in seen from the figure, sides of the cylindrical wall 53a extend to form an annular gap between the insides of the first and second flanges 53b and 53c. Sealing assembly 52 further includes a hollow annular sealing member 54 of elastic material, such as rubber, which is secured within support member 53. There is further provided an Air Duct 55 which communicates with sealing member 54 for supplying pressurized Air. When pressurized Air is supplied into sealing member 54, its inner diameter is reduced so that if the neck 1 is inserted through sealing member 54, sealing member 54 presses against neck 1 to form an airtight seal between them. When pressurized air is removed from sealing member 54, its inner diameter is increased, neck 1 is separated from sealing member 54, and the airtight seal between them is broken.

De werking zal nu worden beschreven. Om de hoogspannings-behandeling uit te voeren, wordt houder 21a naar de elektronenstraalbuis 20 toe bewogen om de houder 21a te omsluiten, teneinde voetstuk 33 te verbinden met de buisvoetpennen zonder onder druk gebrachte Lucht aan afdicht-onderdeel 54 toe te voeren. Wanneer afdichtonderdeel 54 niet is opgeblazen, is insteking gemakkelijk. Dan wordt onder druk gebrachte Lucht via kanaal 55 in afdichtonderdeel 54 gezonden om afdichtonderdeel 54 op te blazen, d.w.z. de binnendiameter daarvan naar hals 1 te verkleinen en om een luchtdichte afdichting tussen en hals en onderdeel 54 te maken. Hoge drukgas wordt dan in houder 21a ingébracht. In dit proces is het wenselijk dat de luchtdruk in afdichtonderdeel 54 is ingesteld om hoger te zijn dan de hoge gasdruk in houder 21a.The operation will now be described. To perform the high voltage treatment, container 21a is moved toward the electron beam tube 20 to enclose the container 21a to connect pedestal 33 to the tube foot pins without supplying pressurized air to sealing member 54. When sealing member 54 is not inflated, insertion is easy. Then pressurized air is sent through channel 55 into sealing member 54 to inflate sealing member 54, i.e., reduce its inner diameter to neck 1 and to make an airtight seal between a neck and member 54. High pressure gas is then introduced into container 21a. In this process, it is desirable that the air pressure in sealing member 54 is set to be higher than the high gas pressure in container 21a.

Verder wordt houder 21a naar de elektronenstraalbuis gedrukt door vooruitbeweeg/terugtrekinrichting 51, zodat deze niet van de hals loskomt. Onder deze condities wordt een hoge spanning van vier tot vijf maal de bedrijfsspanning van de elektronenstraalbuis van buitenaf via voetstuk 33 aangelegd tussen derde rooster 15 en andere elektroden (waaronder tweede rooster 14 om bramen of vormnaden, die op het tweede rooster zijn gevormd, te verwijderen. Dan wordt de onder druk gebrachte Lucht in afdichtonderdeel 54 verwijderd om het onderdeel te ledigen, en wordt voor-uitbeweeg/terugtrekinrichting 51 teruggetrokken, teneinde houder 21a van elektronenstraalbuis 20 Los te maken.Furthermore, holder 21a is pushed towards the electron beam by forward / retraction device 51 so that it does not come off the neck. Under these conditions, a high voltage of four to five times the operating voltage of the electron beam from the outside is applied via pedestal 33 between third grating 15 and other electrodes (including second grating 14 to remove burrs or seams formed on the second grating Then, the pressurized Air in seal member 54 is removed to empty the member, and forward / retractor 51 is retracted to detach holder 21a from electron beam tube 20.

In deze uitvoeringsvorm hoeft houder 21a slechts voetstuk 33, buisvoet 2 en een deel van hals 1 te omsluiten. Daardoor kan het apparaat compact worden gemaakt, is de druk die op het geheel van houder 21a inwerkt kleiner en is er minder explosiegevaar.In this embodiment holder 21a need only enclose base 33, tube base 2 and part of neck 1. As a result, the device can be made compact, the pressure acting on the whole of holder 21a is smaller and there is less risk of explosion.

Verder kan het samenstel worden afgedicht of de afdichting ongedaan worden gemaakt door het toevoeren of verwijderen van onder druk gebrachte lucht naar of vanaf afdichtonderdeel 54. Daarom is bevestiging en losmaking van houder 21 gemakkelijk en zijn bewerkingen gemakkelijk uit te voeren.Furthermore, the assembly can be sealed or unsealed by supplying or removing pressurized air to or from sealing member 54. Therefore, mounting and detachment of container 21 is easy and operations are easy to perform.

Afdichtsamenstel 52 kan alternatief van zo een configuratie zijn, die gebruik maakt van een magneet voor het afdichten. Maar aangezien in dit geval de hals 1 dicht bij aardpotentiaal is, bestaat er een groot gevaar dat de halsglasisolatie zal doorslaan gedurende hoge span-ningsbehandeling. Indien onder druk gebrachte lucht wordt gebruikt, zoals in deze uitvoeringsvorm, bestaat er echter niet zo een gevaar en kan een veilig apparaat worden verkregen.Sealing assembly 52 may alternatively be of such a configuration using a magnet for sealing. However, since in this case the neck 1 is close to ground potential, there is a great danger that the neck glass insulation will break during high stress treatment. However, if pressurized air is used, as in this embodiment, there is no such danger and a safe device can be obtained.

Fig. 11 is een voorstelling van een uitvoeringsvorm van de houderbevestigings/losmaakinrichting in het hoge spanningsbehandelingsappa-raat van een verdere uitvoeringsvorm in de uitvinding en is fig. 12 een voorstelling die de structuur van het voetstuk in deze uitvoeringsvorm laat zien.Fig. 11 is a representation of an embodiment of the holder mounting / detaching device in the high voltage treatment apparatus of a further embodiment in the invention, and FIG. 12 is a representation showing the structure of the pedestal in this embodiment.

In de figuren is een afdichtonderdeel 56 gevormd van een elastisch materiaal, zoals rubber, en bevestigd aan het oppervlak van het open einde van houder 21a die door vooruitbeweeg/terugtrekinrichting 50 tegen trechter 5 van elektronenstraalbuis 20 wordt gedrukt, teneinde houder 21a luchtdicht af te dichten. Een eerste voetstuk 33a is bevestigd aan voet (in het Engels "base") 2 van elektronenstraalbuis 20, en een tweede voetstuk 33b is bevestigd aan de basis van houder 21a. Deze voetstukken zijn beide voorzien van drukcontactklemmen 33c, zodanig dat wanneer houder 21a door vooruitbeweeg/terugtrekinrichting 51 wordt gedrukt om de ruimte daartussen en trechter 5 af te dichten, tegengestelde tweetallen ..drukcontactklemmen in elektrisch contact worden gebracht, zodat vermogen via hen vanaf een externe bron kan worden toegevoerd aan de buisvoetpennen op hals 1.In the figures, a sealing member 56 is formed of an elastic material, such as rubber, and attached to the surface of the open end of container 21a which is pressed by advancing / retracting device 50 against funnel 5 of electron beam tube 20 to seal container 21a airtight. . A first pedestal 33a is attached to base (in English "base") 2 of electron beam tube 20, and a second pedestal 33b is attached to the base of holder 21a. These bases are both provided with push-button terminals 33c such that when holder 21a is pushed by forward / retractor 51 to seal the space between them and funnel 5, opposing pairs of push-button terminals are brought into electrical contact through them from an external source can be fed to the tube foot pins on neck 1.

De werking zal nu worden beschreven. Houder 21a wordt vooruitbewogen door vooruitbeweeg/terugtrekinrichting 51, teneinde hals 1 van elektronenstraalbuis 20 te omsluiten, die reeds is uitgerust met tweede voetstuk 33. Tegelijkertijd wordt afdichtonderdeel 57 tegen trechter 5 gedrukt om een luchtdichte afdichting te vormen, en worden de drukcontact-klemmen 33c van eerste voetstuk 33a en tweede voetstuk 33b in contact gebracht .The operation will now be described. Holder 21a is advanced by advancing / retracting device 51 to enclose neck 1 of electron beam tube 20, which is already equipped with second base 33. At the same time, sealing member 57 is pressed against funnel 5 to form an airtight seal, and the push-contact terminals 33c of first pedestal 33a and second pedestal 33b are brought into contact.

Hoge drukgas wordt dan aan houder 21a toegevoerd en wanneer de gespecificeerde gasdruk is bereikt, wordt een spanning van vier tot vijf maal de bedrijfsspanning van de elektronenstraalbuis tussen derde rooster 15 en andere elektroden (waaronder tweede rooster 14) via eerste voetstuk 33 aangelegd, teneinde bramen en voornaden, die op tweede rooster 14 zijn gevormd, te verwijderen. Dan wordt hoge drukgas uit houder 21a verwijderd, wordt vooruitbeweeg/terugtrekinrichting 51 teruggetrokken en wordt houder 21a losgemaakt van elektronenstraalbuis 20.High pressure gas is then supplied to container 21a, and when the specified gas pressure is reached, a voltage of four to five times the operating voltage of the electron beam between third grating 15 and other electrodes (including second grating 14) is applied through first pedestal 33 to provide burrs and removing front seams formed on second grid 14. Then, high pressure gas is removed from holder 21a, advancer / retractor 51 is withdrawn, and holder 21a is detached from electron beam tube 20.

In deze uitvoeringsvorm moet van tevoren eerste voetstuk 33a op de elektronenstraalbuis worden bevestigd. Houder 21a kan echter in een enkele bewerking aan hals 1 worden bevestigd of van hals 1 worden losgemaakt, waardoor een hoogspanningsbehandelingsapparaat wordt verkregen, dat gemakkelijk is te manipuleren.In this embodiment, first pedestal 33a must be pre-attached to the electron beam tube. Holder 21a, however, can be attached to neck 1 or detached from neck 1 in a single operation, thereby obtaining a high voltage treatment device that is easy to manipulate.

In de beschreven uitvoeringsvormen is er in het elektronenkanon van de elektronenstraalbuis voorzien in vier roosters, en wordt de hoge spanning tussen het derde rooster en de andere elektroden aangelegd.In the described embodiments, four grids are provided in the electron gun of the electron beam tube, and the high voltage is applied between the third grating and the other electrodes.

In een ander type elektronenstraalbuis is het elektronenkanon voorzien van zes roosters en zijn de derde en de vijfde roosters met elkaar verbonden om als focusseringselektroden te dienen. In zo een elektronenstraalbuis wordt de hoge spanning aangelegd tussen enerzijds de derde en de vijfde roosters en anderzijds andere elektroden.In another type of electron beam tube, the electron gun is provided with six grids and the third and fifth grids are connected together to serve as focusing electrodes. In such an electron beam tube, the high voltage is applied between the third and fifth grids on the one hand and other electrodes on the other.

De termen "eerste elektrode" en "tweede elektrode" zoals die in de aangehechte conclusies worden gebruikt, dienen niet te worden verward met het eerste rooster en het tweede rooster waarnaar in de beschrijving van de uitvoeringsvormen is verwezen.The terms "first electrode" and "second electrode" as used in the appended claims are not to be confused with the first grid and the second grid referred to in the description of the embodiments.

In een aspect van de uitvinding wordt, wanneer de hoog-spanningsbewerking wordt bewerkstelligd in de hoge drukgasatmosfeer, de temperatuur van een deel van de buisvoet waar is voorzien in de buisvoet-pennen verhoogd boven de temperatuur van het hoge drukgas. Daardoor kan de daLing van kruipontladingsdrempelspanning zeer eenvoudig worden vermeden en kan een elektronenstraalbuis met consistente kwaliteit worden verkregen. Bovendien kan beschadiging van het voetstuk worden vermeden en kan de pro-duktiviteit worden verhoogd.In one aspect of the invention, when the high voltage operation is effected in the high pressure gas atmosphere, the temperature of a portion of the tube socket where the tube socket pins are provided is raised above the temperature of the high pressure gas. Therefore, the drop of creep discharge threshold voltage can be very easily avoided and an electron beam tube of consistent quality can be obtained. In addition, damage to the base can be avoided and productivity can be increased.

In een ander aspect van de uitvinding is het dauwpunt van de hoge drukgasatmosfeer niet hoger dan 25 °C en kunnen dezelfde effecten, als die hierboven zijn beschreven, worden verkregen.In another aspect of the invention, the dew point of the high pressure gas atmosphere does not exceed 25 ° C and the same effects as those described above can be obtained.

In een verder aspect van de uitvinding is een voetstuk aangebracht op de basis van een houder met één open einde, wordt deze houder ondersteund door een vooruitbeweeg/terugtrekinrichting die deze vooruitbeweegt teneinde de hals van de elektronenstraalbuis te bedekken en de overeenkomstige buisvoetpennen in contact met het voetstuk brengt, wordt onder druk gebracht door lucht aan het holle ringvormige afdichtonderdeeL toegevoerd, dat wordt ondersteund op het binnenomtreksoppervlak van het open einde van de houder, teneinde een luchtdichte afdichting met het bui-tenomtreksoppervlak van de hals te maken en wordt hoge drukgas toegevoerd aan de houder en wordt dan hoogspanningsbehandeling uitgevoerd. Dan wordt de onder druk gebrachte lucht teruggetrokken om de afdichting te verbreken en wordt de vooruitbeweeg/terugtrekinrichting bedreven om de houder Los te maken. Dit staat efficiënte bevestiging en Losmaking van het hoogspannings-behandelingsapparaat van de hals van de elektronenstraaLbuis toe.In a further aspect of the invention, a pedestal is mounted on the base of a single-ended container, this container is supported by a forward / retractor which advances it to cover the electron beam tube neck and the corresponding tube foot pins in contact with the pedestal, is pressurized by supplying air to the hollow annular sealing member supported on the inner peripheral surface of the open end of the container to make an airtight seal with the outer peripheral surface of the neck and high pressure gas is supplied to the container and then high voltage treatment is performed. Then the pressurized air is withdrawn to break the seal and the forward / retraction device is operated to loosen the container. This allows efficient attachment and detachment of the high voltage treatment device from the electron beam tube neck.

In een verder aspect van de uitvinding is het open einde van de houder voorzien van een afdichtonderdeel, wordt de hals van de elek-tronenstraalbuis omsloten door de houder door middel van de vooruitbeweeg/-terugtrekinrichting en wordt het afdichtonderdeel tegen de trechter gedrukt, teneinde een luchtdichte afdichting te maken. Tegelijkertijd worden de buisvoetpennen en externe voedingsbron in contact gebracht via een voetstuk dat is voorzien van drukcontactklemmen. Daardoor wordt een hoogspan-ningsapparaat verkregen.In a further aspect of the invention, the open end of the container is provided with a sealing member, the neck of the electron beam tube is enclosed by the holder by means of the forward / retraction device and the sealing member is pressed against the funnel to provide a make airtight seal. At the same time, the tube foot pins and external power source are brought into contact via a pedestal fitted with push-button terminals. As a result, a high voltage device is obtained.

Claims

A high voltage treatment method for an electron beam tube having a neck having an end closed with a tube socket and housing an electron gun provided with at least first and second electrodes, and first and second tube socket pins for the first and second second electrodes, the method comprising the steps of creating a high pressure gas atmosphere around the neck, applying a voltage sufficiently higher than the operating voltage of the electron beam tube, between the first and second tube foot pins, when the high pressure gas atmosphere and maintaining a portion of the pipe socket where the first and second pipe pins are provided above the high pressure gas atmosphere temperature during the stressing step to thereby provide a creep discharge due to the first and second tubular foot pins to prevent applied voltage.

A method according to claim 1, characterized in that the step of applying a voltage serves to cause an arc discharge across the electrodes to prevent burrs, seams or debris which may be present on the electrodes. remove.

Method according to claim 1, characterized in that the applied voltage is four to five times the voltage applied to the electrodes during operation of the electron beam tube.

Method according to claim 1, characterized in that the first electrode is a focusing electrode, the electron gun comprises a number of electrodes other than the focusing electrode, the neck next to the first tubular foot has tubular feet for the other electrodes and the step of applying a voltage applies the voltage between the first tube foot and the tube feet for the other electrodes.

5. High voltage treatment method for an electron beam tube having a neck having an end closed with a tube socket and housing an electron gun having first and second electrodes, and first and second tube socket pins for the first and second electrodes the method comprising the steps of creating a high pressure gas atmosphere around the neck, applying a voltage sufficiently higher than the operating voltage of the e-electron nozzle between the first and second tube foot pins when the high pressure gas atmosphere and setting the dew point of the high pressure gas atmosphere to no higher than 25 ° C, thereby preventing creep discharge due to the voltage applied to the first and second tubular base pins.

A method according to claim 5, characterized in that the step of applying a voltage serves to cause an arc discharge across the electrodes to remove burrs, seams or debris that may be present on the electrodes.

A method according to claim 5, characterized in that the applied voltage is four to five times the voltage applied to the electrodes during operation of the electron beam tube.

A method according to claim 5, characterized in that the first electrode comprises a focusing electrode, the electron gun comprises a number of electrodes other than the focusing electrode, the neck next to the first tubular foot has tubular feet for the other electrodes and the step of applying a voltage applies the voltage between the first tube foot and the tube feet for the other electrodes.

A method according to claim 5, characterized in that the step of setting the dew point comprises heating the high pressure gas before it is supplied to the area around the neck.

Apparatus for carrying out the high voltage treatment according to any one of claims 1 to 9, comprising a holder having an end open and having a base on its base, a forward / retraction device which supports this holder and moves forward along the axis of the electron beam tube until the container encloses the neck, or backwards to release the neck from the container, a sealing assembly comprising a hollow, annular sealing member of elastic material, which is placed on the inner peripheral surface of the container at the open end is provided and has a reduced inner diameter when pressurized air is supplied to its interior, thereby being pressed against the outer peripheral surface of the neck to form an airtight seal between the outer circumferential surface of the neck and the open end of the container means for introducing a high pressure gas into the container when the lu A tight seal between the outer peripheral surface of the neck and the open end of the container is formed and means for applying a tension to the tubular foot pins through the base while the neck is surrounded by the high pressure gas.

11. High voltage treatment method for an electron beam tube having a neck having an end closed with a tube socket, and housing an electron gun provided with first and second electrodes, and first and second tube socket pins for the first and second electrodes the method comprising the steps of providing an open-ended container having a base on its base and comprising a sealing assembly comprising a hollow annular sealing member of elastic material mounted on the inner circumferential surface of the container at the open end, advancing the container toward the electron beam tube such that the container encloses the neck and the pedestal in the container is connected to the first and second tube base legs of the neck, feeding pressurized air into the hollow annular sealing member, in order to reduce its inner diameter, such that it pressed against the outer circumferential surface of the neck to form an airtight seal between the outer circumferential surface of the neck and the open end of the container, the introduction of a high pressure gas into the container, while the airtight seal between the outer circumferential surface of the neck and maintaining the open end of the container and applying a voltage to the tubular base pins through the pedestal sufficiently higher than the operating voltage of the electron tube between the first and second tubular bases, while the neck is surrounded by the high pressure gas.

A method according to claim 11, characterized in that it further comprises the step of withdrawing the holder from the electron beam tube until the holder sealing part is separated from the funnel and the push-in terminals of the first pedestal are separated from the push-in terminals of the second pedestals.

Apparatus for carrying out the high voltage treatment according to any one of claims 1 to 9, comprising a container which has one end open to allow high pressure gas to be supplied to its interior and which is provided with a base which has pressure contact clamps on its base, a sealing member of elastic material attached to the end of the container, a forward / retraction device that supports the container and moves it forward along the axis of the electron beam tube until the container sealing member against the funnel of the electron beam tube to form an airtight seal between the open end of the container and the funnel, and the pressure contact terminals, which are disposed in the container, are contacted with pressure contact terminals that are pre-connected with the tube-foot pins of the neck or backwards until the container sealing part is separated from the funnel and the pressure contact terminals of the base are separated from the pressure contact terminals connected to the tube foot pins and means for introducing a high pressure gas into the container while establishing the airtight seal and means for applying a voltage to the pressure contact terminals tube foot pins, while the neck is surrounded by the high pressure gas.

14. High voltage treatment method for an electron beam tube having a neck having one end closed with a tube socket and housing an electron gun provided with first and second electrodes, and first and second tube socket pins for the first and second electrodes the method comprising the steps of providing a container having one open end, comprising a first pedestal having pressure contact terminals on the base thereof, and comprising a sealing member of elastic material attached to the open end connecting a second pedestal having pressure contact terminals to the first and second tube foot pins on the neck of the electron beam tube, advancing the container toward the electron beam tube so that the sealing member is pressed against the funnel of the electron beam tube to provide an airtight seal between to form the open end of the container and funnel and the pressure contact valve The first and second pedestals must be brought into contact to establish an electrical connection, the introduction of a high pressure gas into the container while maintaining the airtight seal to create a high pressure gas atmosphere around the neck and applying a voltage sufficiently higher than the operating voltage of the electron beam between the first and second tube foot pins through the pressure contact terminals while the neck is surrounded by the high pressure gas.

A method according to claim 14, characterized in that it further comprises the steps of withdrawing the holder from the electron beam tube until the holder sealing part is separated from the funnel and the push-in terminals of the first pedestal are separated from the push-in terminals of the second pedestals. Eindhoven, March 1991.