KR100244715B1

KR100244715B1 - Method of cleaning a cathode ray tube

Info

Publication number: KR100244715B1
Application number: KR1019960043039A
Authority: KR
Inventors: 박건우
Original assignee: 김영남; 오리온전기주식회사
Priority date: 1996-09-30
Filing date: 1996-09-30
Publication date: 2000-02-15
Also published as: KR19980023545A

Abstract

본 발명은 음극선관의 배기공정중에 수행하는 고주파 유도가열 및 라이팅인가 등을 통하여 관내의 수포이나 가스분자 등의 이물을 제거하는 방법에 관한 것으로, 통상 먼저 고주파 유도가열 작업을 진행한 후에 이들을 RF유도 가열과 라이팅인가를 동시에 병행하여 처리하던 것을 라이팅인가를 먼저 한 후 RF유도가열을 행하면서 이들 공정을 반복하여 재차 수행하도록 하는 것으로 이를 통상적인 방법에 의하여 발생되던 관의 내압품위의 저하와 공정상의 손실을 효과적으로 방지할 수 있는 특징이 있는 것이다.[0001] The present invention relates to a method for removing foreign matters such as water blast and gas molecules through a high frequency induction heating and a lighting application performed during an exhaust process of a cathode ray tube, The heating and the application of the lighting are performed simultaneously. The lighting is first applied, and then the RF induction heating is carried out, and these steps are repeated to perform again. This is because the conventional method has lowered the pressure resistance of the tube, There is a feature that can effectively prevent loss.

Description

Foreign body removal method of cathode ray tube

본 발명은 음극선관의 이물제거방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 배기공정중에 행하여지는 관내의 먼지, 수분, 가스분자 등의 이물을 제거하기 위하여 사용되는 고주파 유도가열과 음극물질을 가열하여 활성화 시키는 라이팅(ligthing)인가 공정을 변경하여 제2그리드 전극에서 집중적으로 발생하던 스트레이 이미션 현상과, 베이스리그, 그리드전극 사이에서 발생되는 누설전류 등을 방지할 수 있도록 한 음극선관의 이물제거방법에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a high frequency induction heating method for removing foreign substances such as dust, moisture, and gas molecules in a tube during an exhaust process, The present invention relates to a method of removing a foreign matter of a cathode ray tube which can prevent a stray phenomenon that has been intensively generated in a second grid electrode by changing a ligthing application process and a leakage current generated between a base league and a grid electrode will be.

일반적으로 음극선관은 제1도에 도시한 바와 같이, 부분적인 결합상태를 이룬 구성부품들이 조립처리되면서 씰링머신에 로딩(10)되어 각 포지션 들을 이동하면서 마운트의 스뎀글라스와 벌브의 네크글라스가 융착되면서 봉합하여지는 씰링공정이 수행되고 난 후에 배기공정이 진행되는 바, 먼저 제1그리드 전극쪽의 이물들을 제거하고자 고주파 유도가열(70)을 통하여 관내 이물들을 소각시키면서 로터리 펌프에 의하여 펌핑으로 1차적인 배기를 행하며 약간의 오프타임(off time)가진 후에 동일 포지션에서 음극 물질층 부위인 캐소드 주변의 이물들을 제거하고자 캐소드에 정격 전류의 140% 정도를 인가하여 캐소드를 활성화 시키면서 산소 및 기타의 이물들이 방출됨과 동시에 고주파 유도가열(80)을 병행하여 처리하면서 2차 펌프인 확산 펌프를 가동시켜 배기를 완료하면서 관내가 소망하는 정도의 진공도에 도달하면 팁오프(tip off)시켜 배기를 종료하고 있었다.Generally, as shown in FIG. 1, a cathode-ray tube is loaded (10) on a sealing machine while assembling components having a partially joined state, and the neck glass of the bulb and the stem glass of the mount are welded The exhaust process is performed. First, in order to remove the foreign materials on the first grid electrode, the inside of the pipe is incinerated through the high frequency induction heating 70, The cathode is activated by applying about 140% of the rated current to the cathode in order to remove the foreign substances around the cathode which is the cathode material layer portion in the same position after having a little off time and oxygen and other foreign substances The high-frequency induction heating 80 is processed in parallel and the diffusion pump, which is a secondary pump, is operated When the inside of the pipe reaches the desired degree of vacuum while completing the exhaust, the exhaust is terminated by tip off.

그런데, 이와 같은 방법에 의하여 배기공정을 진행하게 되면 약간의 오프타임 후에 동일포지션에서 라이팅 인가(80)와 고주파 유도가열(80)이 동시에 진행되므로 먼저 라이팅인가(80)에 따라 캐소드가 활성화 되면서 방출되는 음극물질이 고주파 가열에 의한 열에 의하여 저전극 그리드에 고착되기 때문에 완성된 튜브로서의 음극선관에 규정치의 전압을 인가 하게 되면 캐소드 외에 저전극 그리드에 고착되었던 음극물질에서 전자방출이 발생되어 화질이 저하됨과 아울러 내전압 품위가 저하되어 잔상이 생기는 스트레이에미션 현상과, 마운트의 제2그리드 전극과 제3그리드 전극 사이로 규정치의 전류가 흘러야 정상적인 동작이 행하여 지는데 이러한 부위에 라이팅인가와 더블어 고주파 유로 가열이 진행되면서 고착된 이물들에 의하여 리크(leak) 전류가 발생되어 내전압이 약 3∼5kv정도 떨어지는 불량을 초래하였다.However, when the exhaust process is performed by this method, the lighting application 80 and the high frequency induction heating 80 proceed simultaneously at the same position after a short off time. Therefore, the cathode is activated according to the lighting application 80, The cathode material is fixed to the low electrode grid by the heat generated by the high frequency heating. Therefore, when a predetermined voltage is applied to the cathode ray tube as a finished tube, electron emission occurs in the cathode material adhered to the low electrode grid outside the cathode, A normal operation is performed between the second grid electrode and the third grid electrode of the mount when a stray emittance phenomenon occurs in which the withstanding voltage is lowered and a residual image is generated and a normal operation is performed. The leakage currents The occurrence resulted in poor withstand voltage drops of about 3~5kv degree.

뿐만 아니라, 상술한 공정이 수행될 때에는 스템부위에 실리콘이 도포되어 씰링된 후에 일정한 온도와 습도가 가해져 어느정도 경화된 상태이므로 이때에 본 공정을 수행하기 위하여 제3그리드 전극으로 통하는 급전핀에 고전압을 인가시키게 되면 실리콘으로 도포되어 씰링된 부위가 열을 받아 기포나 혹은 이물등이 발생되면서 점열이 파괴되어 카본(Carbon)이 생성되는 베이스리크(Base leak)불량이 발생되었다.In addition, when the above-described process is performed, silicon is applied to the stem portion, and then the silicon substrate is sealed to some extent after being subjected to a certain temperature and humidity. Thus, in order to perform this process, a high voltage is applied to the feed pin passing through the third grid electrode When the sealant is applied, it is coated with silicone, and the sealed region receives heat and bubble or foreign matter is generated, so that a base leak is generated in which the breakdown is broken and carbon is produced.

본 발명은 상술한 바와 같은 제반문제를 감안하여 이를 해소하고자 안출한 것으로, 본 발명의 목적은 음극선관의 배기공정 중에 행하여지는 고주파유도가열과 라이팅인가를 이용한 이물제거방법의 공정순서를 개선하여 스트레이 에미션과 저전극 그리드의 누설전류 및 베이스 리크(Base leak) 현상들을 방지하고 내전압 품위도 향상 시킬 수 있는 그러한 음극선관의 이물제거방법을 제공하고자 함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and it is an object of the present invention to improve the process sequence of a foreign body removing method using high frequency induction heating and lighting applied during an exhaust process of a cathode ray tube, And to provide a method for removing such foreign matter in a cathode ray tube which is capable of preventing leakage current and base leakage phenomena of the emission and low electrode grid and improving the withstand voltage.

상기한 목적을 실현하기 위한 본 발명에 따른 음극선관의 이물제거방법의 특징은, 음극선관의 배기공정중에 수행되는 이물제거방법의 일환인 캐소드를 가열활성화 시키는 라이팅인가 후에 2분간의 오프타임을 갖도록 한 다음 고주파유도가열을 통하여 1차적인 이물제거를 완료 하면서 또다시 2분간의 오프타임을 가진후에 재차 라이팅인가, 오프타임, 고주파 유도가열을 수행하는데 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method for removing a foreign object from a cathode ray tube, comprising: Then, after performing the primary dehumidification through the high frequency induction heating and again having the off-time of 2 minutes, the lighting is performed again, and the off-time and the high-frequency induction heating are performed.

제1도는 종래기술에 따른 음극선관의 배기공정중에 수행하는 이물제거방법을 개략적으로 도시한 블럭도.FIG. 1 is a block diagram schematically illustrating a method for removing foreign matter during an exhaust process of a conventional cathode ray tube.

제2도는 본 발명에 따른 음극선관의 배기공정중에 수행하는 이물제거방법을 개략적으로 도시한 블럭도이다.FIG. 2 is a block diagram schematically illustrating a method for removing foreign objects during an exhaust process of a cathode ray tube according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS

20,40,80 : 라이팅인가 22,32,42 : 오프타임20,40,80: With lighting 22,32,42: Off time

30,50,70,80 : 고주파유도가열30, 50, 70, 80: High frequency induction heating

이하, 본 발명에 따른 음극선관의 이물제거방법의 바람직한 일 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a preferred embodiment of a method for removing a foreign substance from a cathode ray tube according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도면을 보아 잘 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 이물제거방법은 먼저 벌브가 로딩(10)되어 수행되는 스템글라스와 마운트 글라스가 융착하여 봉하여지는 씰링공정이 끝나고나면 벌브가 그 다음의 배기공정을 수행하기 위한 포지션으로 이동된다.As can be seen from the attached drawings, the method of removing foreign matter according to the present invention is characterized in that the bulb is loaded (10) and the stem glass and the mount glass to be performed are fused and sealed. After the sealing process is finished, And moves to the position for carrying out the process.

이렇게 배기공정 수행을 위해 이송된 벌브는 먼저 600∼800℃ 의 고온의 열이 제 3 그리드 전극에 인가(20)된 전류에 의해 발열되는 캐소드구조체의 히터로부터 발생되는 바, 이는 음극물질을 활성화시켜 1차적인 캐소드구조체가 내장한 이물들을 방출하면서 배기펌프를 이용하여 제거시키는 것이다.The bulbs transferred for the exhaust process are first generated from the heater of the cathode structure which is heated by a current (20) applied to the third grid electrode at a high temperature of 600 to 800 ° C, which activates the cathode material The primary cathode structure is to remove the built-in foreign matter by using an exhaust pump while discharging the built-in foreign matter.

그런 다음, 약 2분간의 오프타임(Off time)(22)을 갖으면서 히터의 발열로 인한 각 그리드 전극, 특히 제1그리드 전극쪽에 방출된 음극물질에 고착되지 못하도록 식힌 후에 각 그리드전극 사이를 집중적으로 고주파에 의한 유도가열(30)을 실시하는 것이다.Then, after having cooled to prevent sticking to the respective grid electrodes due to heat generation of the heater, particularly, the negative electrode material discharged to the first grid electrode side, with an off time (22) of about 2 minutes, The induction heating 30 is performed by high frequency.

여기에서, 상술한 바와 같은 라이팅인가, 약 2분간의 오프타임, 고주파 유도가열의 방법으로 진행되는 일련의 싸이클이 한 번더 반복되는데, 이때 고주파 유도가열을 수행하기 전과 수행한 후에는 반드시 약 2분간의 오프타임(32)(42)을 두어야 하는 것이다.In this case, a series of cycles that are performed by the above-described lighting, the off-time of about 2 minutes, and the method of high-frequency induction heating are repeated once. After the high-frequency induction heating is performed, The off-time 32 (42) of FIG.

다시말하면, 벌브가 씰링머신의 각 포지션을 돌면서 해당공정을 수행하다가 배기공정의 이물제거 포지션에 돌입하게 되면, 먼저 라이팅 인가(20)와 더불어 캐소드구조체가 활성화되면서 방출된 음극물질 및 내장된 가스나 이온 등이 적정 열에 의해 보다 쉽게 고착되기 전에 약간의 오프타임(22)을 둔 다음 곧 바로 고주파 유도가열(30)에 의한 이물질을 소각시켜 펌핑으로 제거시킨 후에 다시 약 2분간의 오프타임(32)을 두고 연이어 라이팅인가(40)를 재차 실행하면서 캐소드구조체가 내장된 가스나 이물등이 제거되면서 규정치의 전자빔을 방출할 수 있도록 유도한 다음, 다시 약 2분간의 오프타임(42)이 있은 후에 곧바로 고주파 유도가열(50)에 의한 최종 소각에 의한 이물제거와 더불어 디퓨젼펌프에 의한 펌핑작용으로 배기를 완료하면서 팁 오프시켜 다음 공정을 수행하도록 벌브가 언로딩(60)되는 것이다.In other words, when the bulb moves along each position of the sealing machine to perform the process and enters the foreign object removal position of the exhaust process, first, the cathode structure is activated together with the lighting application 20, After the off-time 22 is set before the ion or the like is more easily fixed by the appropriate heat, the foreign substance by the high-frequency induction heating 30 is immediately burned and removed by pumping, and then the off- The cathode structure is evacuated so as to release a predetermined value of the electron beam while the cathode structure is being removed, and then immediately after the off-time 42 of about 2 minutes, In addition to the removal of the foreign matter by the final incineration by the high-frequency induction heating (50), the pumping operation by the diffusion pump completes the exhaust and tips off It will be the unloading bulb 60 to carry out the process.

이러한 배기공정중의 이물제거 방법은 종래의 경우처럼 라이팅인가와 동시에 처리되던 고주파 유도가열에 의하여 활성화된 캐소드의 방출된 음극물질이 고주파 유도가열에 의한 높은 열로인해 전부다 제대로 방출되어 화면쪽으로 날아가지 못하고 일부는 각 그리드전극들 사이에 고착되어 불량을 초래하던 것이 캐소드의 충분한 방출로 인하여 이미 캐소드의 음극물질에 내장되어 있던 산소가스나 이물등이 소망하는 정도의 시간동안 제3그리드 전극에 고전류의 인가로 인하여 충분히 음극물질과 함께 제거될 수 있고 또한 오프 타임이 약 2분간 지속되므로 완전한 활성화가 이루어진 다음에 고주파 유도가열에 의한 이물소각이 진행되며, 아울러 재차 실시되므로 상술한 현상을 방지토록 작용하는 것이다.In this method of removing foreign matter during the exhaust process, the cathode material discharged from the cathode activated by the high-frequency induction heating, which has been treated simultaneously with the application of lighting, is completely discharged due to the high heat generated by the high frequency induction heating, Some of them are adhered between the grid electrodes to cause defects. Due to the sufficient discharge of the cathode, the oxygen gas, which is already embedded in the cathode material of the cathode, is applied to the third grid electrode for a desired period of time Can be removed together with the cathode material sufficiently and the off-time can be maintained for about 2 minutes, so that the complete activation is performed, then the incineration of the object by the high-frequency induction heating proceeds and the operation is performed again to prevent the above-mentioned phenomenon .

이상의 설명은 본 발명에 따른 특정한 실시예의 설명에 불과할 뿐이며, 당업계에 종사하는 통상의 지식을 가진 자라면 이를 쉽게 변용할 수 있음을 쉽게 이해할 수 있을 것이다.It is to be understood that the above description is only a description of a specific embodiment according to the present invention, and those skilled in the art will readily understand that the present invention can be easily changed.

본 발명은 캐소드의 충분한 방출과 이물제거가 이루어질 수 있도록 라이팅인가나 고주파 유도가열 방법을 분리하여 별도로 진행하되 고주파 유도가열 전 후에서 소정시간 만큼의 오프타임을 줌으로써 각 그리드전극에 고착되는 음극물질이나 기타 이물들을 현격하게 줄일 수 있으므로 스트레이 에미션이나 각 그리드 전극에서의 누설전류에 의한 화질의 불량 뿐만 아니라 베이스 리크현상 또한 방지 할 수 있는 효과가 있는 것이다.In the present invention, the cathode material and the high-frequency induction heating method are separated from each other so that the cathode can be sufficiently discharged and removed, and the cathode material and the cathode material adhered to each grid electrode It is possible to prevent not only the image quality due to the stray emission and the leakage current in each grid electrode, but also the bass leak phenomenon.

Claims

A method for removing foreign objects during an exhaust process of a cathode ray tube,

Wherein the high frequency induction heating and the lighting application for generating the emission material by applying heat to the cathode are separated and proceeded.

The method according to claim 1,

Wherein the foreign matter removing method is performed in the order of lighting, off time, high frequency induction heating, off time, lighting, off time, and high frequency induction heating.

3. The method of claim 2,

Wherein the off-time is at least two minutes.