NL192647C

NL192647C - Method and device for high-voltage treatment of electron beam tubes.

Info

Publication number: NL192647C
Application number: NL9100481A
Authority: NL
Inventors: Kinjiro Sano; Wataru Imanishi; Yoshihisa Nakajima; Masaaki Kinoshita
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1990-03-20
Filing date: 1991-03-19
Publication date: 1997-11-04
Also published as: NL9100481A; DE4109032C2; DE4109032A1; KR930010600B1; NL192647B

Description

1 1926471 192647

Werkwijze en apparaat voor hoogspanningsbehandeling van elektronenstraalbuizenMethod and device for high-voltage treatment of electron beam tubes

De uitvinding heeft betrekking op een hoogspanningsbehandelingswerkwijze voor een elektronenstraalbuis die een hals heeft, die een einde heeft, dat is afgesloten met een buisvoet, en een elektronenkanon 5 herbergt, dat is voorzien van ten minste eerste en tweede elektroden, en eerste en tweede buisvoetpennen voor de eerste en tweede elektroden, waarbij de werkwijze de stappen omvat van het tot stand brengen van een hoge drukgasatmosfeer rond de hals, en het aanleggen van een spanning, die voldoende hoger dan de bedrijfsspanning van de elektronenstraalbuis is, tussen de eerste en tweede buisvoetpennen, wanneer de hoge drukgasatmosfeer tot stand is gebracht.The invention relates to a high voltage treatment method for an electron beam tube having a neck having an end closed with a tube socket, and housing an electron gun 5 provided with at least first and second electrodes, and first and second tube socket pins for the first and second electrodes, the method comprising the steps of creating a high pressure gas atmosphere around the neck, and applying a voltage sufficiently higher than the operating voltage of the electron beam tube between the first and second tube foot pins, when the high pressure gas atmosphere is established.

10 Een dergelijke werkwijze is bekend uit Japanse Kokai-octrooipublicatie nr. 101 255/1979. Onder gebruikmaking van deze werkwijze kan de kruipontladingsdrempelspanning van ongeveer 23 kV bij de conventionele werkwijze tot ongeveer 40 kV worden verhoogd.Such a method is known from Japanese Kokai patent publication No. 101 255/1979. Using this method, the creep discharge threshold voltage can be increased from about 23 kV to about 40 kV in the conventional method.

Bij de hierboven beschreven hoogspanningsbehandelingswerkwijze onder gebruikmaking van hoge drukgas was echter de kruipontladingsdrempelspanning niet altijd constant op productielijnen die onafgebro-15 ken grote aantallen elektronenstraalbuizen vervaardigen, en traden soms kruipontladingen op de buisvoetpennen op. In dergelijke gevallen trad geen bevredigende ontlading tussen de tweede en derde roosterlekt-roden op, waren diëlektrische karakteristieken niet consistent en werd beschadiging van het voetstuk veroorzaakt door de energie van de ontlading.However, in the high voltage treatment method described above using high pressure gas, the creep discharge threshold voltage was not always constant on production lines that continuously produce large numbers of electron beam tubes, and creep discharges sometimes occurred on the tube foot pins. In such cases, no satisfactory discharge occurred between the second and third grating leaks, dielectric characteristics were inconsistent, and damage to the base was caused by the energy of the discharge.

Het doel van deze uitvinding is de bovengenoemde problemen op te heffen. Zij beoogt te voorzien in een 20 hoogspanningsbehandelingswerkwijze voor elektronenstraalbuizen, waarbij een stabiele kruipontladingsdrempelspanning wordt gehandhaafd.The object of this invention is to overcome the above-mentioned problems. It aims to provide a high voltage electron beam tube treatment method, wherein a stable creep discharge threshold voltage is maintained.

Daartoe voorziet de uitvinding in een werkwijze van de in de aanhef genoemde soort, met het kenmerk, dat de werkwijze de verdere stap omvat van het gedurende de spanningsaanlegstap boven de temperatuur van de hoge drukgasatmosfeer houden van een deel van de buisvoet, waar is voorzien in de eerste en 25 tweede buisvoetpennen.To this end, the invention provides a method of the type mentioned in the opening paragraph, characterized in that the method comprises the further step of keeping a part of the tube base above the temperature of the high pressure gas atmosphere during the voltage application step, where provision is made for the first and second tubular foot pins.

Omdat het deel van de buisvoet, war in de buisvoetpennen is voorzien, wordt verwarmd tot een hogere temperatuur dan die van het omgevende gas, neemt daardoor de verzadigde dampdruk in het gebied dat de hals omgeeft, toe, wordt condensatie moeilijker en kan een consistente kruipontladingsdrempelspanning worden gehandhaafd en kan een kruipontlading tengevolge van de aan de buisvoetpennen aangelegen 30 spanning worden vermeden.Because the section of the tube foot, which is provided in the tube foot pins, is heated to a higher temperature than that of the surrounding gas, thereby increasing the saturated vapor pressure in the region surrounding the neck, making condensation more difficult and allowing a consistent creep discharge threshold voltage are maintained and a creep discharge due to the stress applied to the tubular foot pins can be avoided.

De uitvinding berust op het inzicht dat om kruipontlading te voorkomen condensatie moet worden voorkomen.The invention is based on the insight that condensation must be prevented to prevent creep discharge.

Berustend op hetzelfde inzicht en ter verwezenlijking van hetzelfde doel, voorziet de uitvinding verder in een werkwijze van de in de aanhef genoemde soort, die het kenmerk heeft, dat de werkwijze de verdere 35 stap omvat van het op niet hoger dan 25ec instellen van het dauwpunt van de hoge drukgasatmosfeer.Based on the same insight and to achieve the same object, the invention further provides a method of the type mentioned in the preamble, characterized in that the method comprises the further step of setting the dew point at no higher than 25 ° C of the high pressure gas atmosphere.

Doordat het dauwpunt van de hoge drukgasatmosfeer op niet hoger dan 25°C wordt ingesteld, wordt condensatie vermeden en kan een consistente kruipontladingsdrempelspanning worden gehandhaafd en kan op gelijksoortigerwijze een kruipontlading tengevolge van de aan de buisvoetpennen aangelegde spanning worden vermeden.By setting the dew point of the high pressure gas atmosphere to no higher than 25 ° C, condensation is avoided and a consistent creep discharge threshold voltage can be maintained and similarly a creep discharge due to the voltage applied to the tubular base pins can be avoided.

40 Een verder oogmerk van deze uitvinding is te voorzien in een apparaat, waardoor hoogspanningsbehandeling veilig en efficiënt in een hoge drukgasatmosfeer kan worden uitgevoerd.A further object of this invention is to provide an apparatus which allows high voltage treatment to be carried out safely and efficiently in a high pressure gas atmosphere.

De uitvinding heeft dan ook verder betrekking op een apparaat voor het uitvoeren van een hoogspanningsbehandeling, omvattende een houder die een einde open heeft en die is aangebracht om de hals te omsluiten en een voetstuk heeft, een afdichtsamenstel dat is aangebracht om een luchtdichte 45 afdichting tussen het buitenomtreksoppervlak van de hals en het open einde van de houder te vormen, middelen voor het inbrengen van een hogedrukgas in de houder, wanneer de luchtdichte afdichting tussen het buitenomtreksoppervlak van de hals en het open einde van de houder is gevormd en middelen voor het via het voetstuk aan de buisvoetpennen aanleggen van een spanning, terwijl de hals door het hogedrukgas wordt omgeven.The invention therefore further relates to an apparatus for carrying out a high voltage treatment, comprising an open-ended container arranged to enclose the neck and having a base, a sealing assembly arranged to provide an airtight seal between form the outer peripheral surface of the neck and the open end of the container, means for introducing a high pressure gas into the container when the airtight seal is formed between the outer peripheral surface of the neck and the open end of the container and means for apply a tension to the base of the tube foot pins, while the neck is surrounded by the high-pressure gas.

50 Een dergelijk apparaat is bekend uit de hierboven genoemde publicatie.Such an apparatus is known from the above-mentioned publication.

Ter verwezenlijking van het hierboven genoemde oogmerk en het uitvoeren van de hoogspanningsbe-handelingswerkwijze volgens de uitvinding, heeft het genoemde apparaat het kenmerk, dat het voetstuk is aangebracht op de basis van de houder, het apparaat verder is voorzien van een vooruitbeweeg/ terugtrekinrichting die deze houder ondersteunt en deze voorwaarts langs de as van de elektronenstraalbuis 55 beweegt totdat de houder de hals omsluit, of achterwaarts om de hals vrij van de houder te maken, en het afdichtsamenstel een hol ringvormig afdichtonderdeel van elastisch materiaal omvat, dat op het binnen-omtreksoppervlak van de houder bij het open einde is aangebracht en een verkleinde binnendiameter heeft, 192647 2 wanneer onder druk gebrachte lucht aan het inwendige daarvan wordt toegevoerd, en daardoor tegen het buitenomtreksoppervlak van de hals wordt gedrukt, teneinde de luchtdichte afdichting te vormen.In order to achieve the above-mentioned object and to carry out the high-voltage treatment method according to the invention, the said device is characterized in that the base is arranged on the base of the holder, the device is further provided with a forward / retraction device holder and moves it forward along the axis of the electron beam tube 55 until the holder encloses the neck, or backward to release the neck from the holder, and the sealing assembly comprises a hollow annular sealing member of elastic material, which is on the inner peripheral surface of the container is arranged at the open end and has a reduced inner diameter, 192647 2 when pressurized air is supplied to its interior, thereby being pressed against the outer peripheral surface of the neck to form the airtight seal.

Tenslotte heeft de uitvinding in dit verband voorts betrekking op een apparaat voor het uitvoeren van een hoogspanningsbehandeling, omvattende een houder die één einde open heeft, en het toestaat dat een 5 hogedrukgas aan het inwendige daarvan wordt toegevoerd en een voetstuk heeft, middelen voor het inbrengen van een hogedrukgas in de houder, terwijl de luchtdichte afdichting tot stand wordt gebracht, en middelen voor het via de drukcontactklemmen aanleggen van een spanning aan de buisvoetpennen, terwijl de hals door het hogedrukgas wordt omgeven.Finally, the invention further relates in this regard to an apparatus for carrying out a high voltage treatment, comprising a container which has one end open and which allows a high pressure gas to be supplied to its interior and has a base, means for insertion of a high pressure gas in the container while the airtight seal is being established, and means for applying a voltage to the tubular foot pins through the pressure contact terminals while the neck is surrounded by the high pressure gas.

Ook een dergelijk apparaat is bekend uit de genoemde publicatie.Such an apparatus is also known from the said publication.

10 Ter verwezenlijking van het hierboven genoemde oogmerk, en voor het uitvoeren van de hoogspanningsbehandeling volgens de uitvinding, heeft het apparaat het kenmerk, dat het voetstuk is aangebracht op de basis van de houder en drukcontactklemmen heeft, waarbij het apparaat verder is voorzien van een afdichtonderdeel van elastisch materiaal dat is bevestigd op het einde van de houder, en vooruitbeweeg/ terugtrekinrichting die de houder ondersteunt en deze langs de as van de elektronenstraalbuis voorwaarts 15 beweegt, totdat het houderafdichtonderdeel tegen de trechter van de elektronenstraalbuis wordt gedrukt om een luchtdichte afdichting tussen het open einde van de houder en de trechter te vormen en de drukcontactklemmen, die in de houder zijn aangebracht, in contact worden gebracht met drukcontactklemmen die van tevoren met de buisvoetpennen van de hals zijn verbonden, of achterwaarts totdat het houderafdichtonderdeel van de trechter is gescheiden en de drukcontactklemmen van het voetstuk zijn gescheiden van 20 de drukcontactklemmen die met de buisvoetpennen zijn verbonden.In order to achieve the above-mentioned object, and to carry out the high-voltage treatment according to the invention, the device is characterized in that the base is arranged on the base of the holder and has pressure contact terminals, the device further comprising a sealing part of elastic material attached to the end of the container, and a forward / retraction device that supports the container and moves it forward along the axis of the electron beam tube until the container sealing member is pressed against the electron beam tube funnel to provide an airtight seal between the electron beam tube open end of the container and funnel, and the pressure contact clips, which are mounted in the container, are brought into contact with pressure contact clips previously connected to the tubular base pins of the neck, or backward until the container sealing member is separated from the funnel, and the pressure contact terminals of the v The connector is separated from the push-button terminals connected to the tubular foot pins.

Een uitvoeringsvorm van de uitvinding zal nu onder verwijzing naar de tekening worden beschreven, in welke tekening:An embodiment of the invention will now be described with reference to the drawing, in which drawing:

Figuur 1 een schematische voorstelling is, om een apparaat voor het uitvoeren van een hoogspannings-25 behandelingswerkwijze in overeenstemming met een uitvoeringsvorm van de uitvinding te beschrijven; figuur 2 een voorstelling is, die de verzadigde dampdruk van water laat zien; figuur 3 een gedeeltelijke vergrote doorsnede is, die een specifieke inrichting van het hoogspanningselek-tronenstraalbuisbehandelingsapparaat van de uitvinding laat zien; figuren 4 en 5 schematische voorstellen zijn om hoogspanningselektronen-30 straalbuisbehandelingswerkwijzen in verschillende uitvoeringsvormen van de uitvinding te beschrijven; figuur 6 een schematische voorstelling is, die een andere inrichting van het hoogspanningselektronen-straalbuisbehandelingsapparaat in overeenstemming met de uitvinding laat zien; figuur 7 een schematische voorstelling is om een hoogspanningselektronen-straalbuisbehandelingswerkwijze in een andere uitvoeringsvorm van de uitvinding te beschrijven; 35 figuur 8 een schematische voorstelling van een experimentele inrichting is, die is gebruikt om de betrekking tussen dauwpunt en kruipontladingsdrempelspanning te bepalen; figuur 9 een grafiek is, die de betrekking tussen dauwpunt en kruipontladingsdrempelspanning laat zien; figuur 10 een aanzicht in doorsnede is, dat een inrichting oor het bevestigen en losmaken van de luchtdichte houder aan en van de elektronenstraalbuis in het hoogspanningsbehandelingsapparaat in 40 overeenstemming met een verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding laat zien; figuur 11 een aanzicht in doorsnede is, dat een bevestigings/losmaakinrichting in overeenstemming met een verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding laat zien; figuur 12 een aanzicht in perspectief is, dat de structuur van het voetstuk in deze uitvoeringsvorm laat zien; 45 figuur 13 een aanzicht in doorsnede van de hals van een kleurenelektronenstraalbuis is; figuur 14 een schematische voorstelling van de hoogspanningsbehandelingswerkwijze is; figuur 15 een voorstelling is.d ie de inrichting van buisvoetpennen in een kleurenelektronenstraalbuis laat zien; figuur 16 een vergroot aanzicht in perspectief is, dat de structuur van de silo-type voet laat zien; 50 figuur 17 een vergroot aanzicht in perspectief van het voetstuk voor de silo-type voet is; en figuur 18 een schematische voorstelling is, om de conventionele hoogspanningsbehandelingswerkwijze te beschrijven.Figure 1 is a schematic representation for describing an apparatus for performing a high voltage treatment method in accordance with an embodiment of the invention; Figure 2 is a representation showing the saturated vapor pressure of water; Figure 3 is a partial enlarged cross-sectional view showing a specific arrangement of the high voltage electron beam tube treating apparatus of the invention; Figures 4 and 5 are schematic proposals for describing high voltage electron-beam tube treatment methods in various embodiments of the invention; Figure 6 is a schematic representation showing another arrangement of the high voltage electron beam tube treatment apparatus in accordance with the invention; Figure 7 is a schematic representation to describe a high voltage electron beam tube treatment method in another embodiment of the invention; Figure 8 is a schematic of an experimental device used to determine the relationship between dew point and creep discharge threshold voltage; Figure 9 is a graph showing the relationship between dew point and creep discharge threshold voltage; Figure 10 is a cross-sectional view showing a device for attaching and detaching the airtight container to and from the electron beam tube in the high voltage treatment apparatus in accordance with a further embodiment of the invention; Figure 11 is a cross-sectional view showing an attachment / detachment device in accordance with a further embodiment of the invention; Figure 12 is a perspective view showing the structure of the pedestal in this embodiment; Fig. 13 is a cross-sectional view of the neck of a color electron beam tube; Figure 14 is a schematic representation of the high voltage treatment method; Figure 15 is a representation showing the arrangement of tube foot pins in a color electron beam tube; Figure 16 is an enlarged perspective view showing the structure of the silo-type foot; Figure 17 is an enlarged perspective view of the base for the silo-type base; and Figure 18 is a schematic for describing the conventional high voltage treatment method.

Deze uitvinding heeft betrekking op een hoogspanningsbehandelingswerkwijze voor elektronenstraalbuizen, 55 waarin een hoge spanning vanaf de buisvoetpennen wordt aangelegd om goede diëlektrische eigenschappen te verlenen, en een apparaat voor het uitvoeren van de behandeling.This invention relates to a high voltage electron beam tube treatment method, 55 in which a high voltage is applied from the tube foot pins to impart good dielectric properties, and an apparatus for carrying out the treatment.

Figuur 13 is een aanzicht in doorsnede van de hals van een elektronenstraalbuis.Figure 13 is a cross-sectional view of the neck of an electron beam tube.

3 1926473 192647

In de figuur omvat een elektronenstraalbuis 20 een hals 1. Een vrij einde van de hals 1 is afgesloten door een buisvoet 2 en deze hals 1 herbergt een elektronenkanon 10. Het elektronenkanon 10 omvat een verwarmingsorgaan 11, cathode 12, eerste rooster 13, tweede rooster 14, derde rooster 15 dat dient als een focusseringselektrode en vierde rooster 16, waarbij deze componenten in de genoemde volgorde zijn 5 ingericht en op gespecificeerde intervallen worden gehouden door isolerende glazen staven 17.In the figure, an electron beam tube 20 comprises a neck 1. A free end of the neck 1 is closed by a tube foot 2 and this neck 1 houses an electron gun 10. The electron gun 10 comprises a heating element 11, cathode 12, first grid 13, second grid 14, third grid 15 serving as a focusing electrode and fourth grid 16, these components being arranged in said order and held at specified intervals by insulating glass rods 17.

In bijvoorbeeld het geval van een 74 cm (29") kleurenelektronenstraalbuis wordt, wanneer de elektronenstraalbuis wordt bedreven, een hoge spanning van 28 kV aan vierde rooster 16 van elektronenkanon 10 aangelegd via inwendige geleide film 3 en contactorganen 18 vanaf een externe (niet getoonde) anodeknop.For example, in the case of a 74 cm (29 ") color electron beam tube, when the electron beam tube is operated, a high voltage of 28 kV is applied to fourth grating 16 of electron gun 10 via internal guided film 3 and contact members 18 from an external (not shown) anode button.

Tegelijkertijd wordt een hoge spanning van 6,7 kV aan derde rooster 15 aangelegd via een (niet 10 getoond) voetstuk (dat ook wel buisvoet wordt genoemd; maar deze term zal niet worden gebruikt om verwarring met de buisvoet 2 van de elektronenstraalbuis 20 te vermijden), buisvoetpen 4a van derde rooster 15 en inwendige leiding 19. Verder wordt een spanning van ongeveer 700 V aan het tweede rooster 14 aangelegd, wordt een spanning van ongeveer 150 V aan cathode 12 aangelegd en wordt normaal een spanning van O V aan eerste rooster 13 aangelegd.At the same time, a high voltage of 6.7 kV is applied to third grating 15 via a pedestal (not shown 10) (also known as tube base; however, this term will not be used to avoid confusion with tube base 2 of electron beam tube 20 ), tubular base pin 4a of third grid 15 and internal conduit 19. Furthermore, a voltage of about 700 V is applied to the second grid 14, a voltage of about 150 V is applied to cathode 12, and normally a voltage of OV is applied to first grid 13 laid out.

15 Onder deze bedrijfscondities wordt een potentiaalverschil van ongeveer 6 kV tussen derde rooster 15 en tweede rooster 14 ingesteld. Indien er bramen of vormnaden op het oppervlak van dat deel van het tweede rooster 14 zijn, dat ligt tegenover het derde rooster 15, die zijn voortgebracht bij het vormen (of vorm geven) van de elektrode of de vervaardiging van het elektronenkanon 10, of indien er vuil is, dat hecht aan het inwendige van de elektronenstraalbuis, kan strooi-emissie van ongewenste elektronen optreden.Under these operating conditions, a potential difference of about 6 kV is set between third grid 15 and second grid 14. If there are burrs or seams on the surface of that part of the second grid 14 opposite to the third grid 15 produced in the formation (or shaping) of the electrode or the manufacture of the electron gun 10, or there is dirt adhering to the interior of the electron beam tube, scattering of unwanted electrons may occur.

20 Deze ongewenste elektronen lopen door het vierde rooster 16, bestralen het oppervlak van de elektronenstraalbuis en hebben tot gevolg dat deze ongewenst fluoresceert. Deze ongewenste fluorescentie treedt bovendien zelfs op, wanneer het scherm donker is en leidt tot een verslechtering van de beeldkwaliteit.These unwanted electrons pass through the fourth grid 16, irradiate the surface of the electron beam tube and cause it to fluoresce undesirably. Moreover, this undesired fluorescence occurs even when the screen is dark and leads to a deterioration of the picture quality.

Teneinde deze uitzending van ongewenste elektronen te vermijden, wordt een spanning van vier tot vijf maal de bedrijfsspanning van de elektronenstraalbuis, d.w.z. een hoge spanning van ongeveer 30 kV, van 25 buitenaf aangelegd tussen buisvoetpen 4a van derde rooster 15 en de andere buisvoetpennen 4b gedurende de vervaardiging van de elektronenstraalbuis 20, zoals in figuur 14 is getoond. Wanneer deze hoogspanningsbehandeling wordt toegepast, treedt een boogontiading tussen tweede rooster 14 en derde rooster 15 op, die vormnaden, bramen en vuil van tweede rooster 14 verwijdert en wordt daardoor de uitzending van ongewenste elektronen onderdrukt.In order to avoid this emission of unwanted electrons, a voltage of four to five times the operating voltage of the electron beam tube, ie a high voltage of about 30 kV, is applied from the outside between tube base pin 4a of third grid 15 and the other tube base pins 4b during the manufacture of the electron beam tube 20 as shown in Figure 14. When this high voltage treatment is applied, an arc discharge occurs between second grid 14 and third grid 15, which removes form seams, burrs and debris from second grid 14 and thereby suppresses the emission of unwanted electrons.

30 Zoals in figuur 15 is getoond, zijn echter de buisvoetpennen 4b van tweede rooster 14 en cathoden 12 rond buisvoetpen 4a van derde rooster 15 op een zeer kleine afstand daarvan aangebracht. Als een resultaat trad wanneer een hoge spanning van vier tot vijf maal de bedrijfsspanning aan derde rooster 15 werd aangelegd, een kruipontlading tussen buisvoetpennen 4a en 4b op en kon geen bevredigende hoogspanningsbehandeling worden bereikt.However, as shown in Figure 15, the tube foot pins 4b of second grid 14 and cathodes 12 are arranged around tube foot pins 4a of third grid 15 at a very small distance therefrom. As a result, when a high voltage of four to five times the operating voltage was applied to third grating 15, a creep discharge occurred between tube foot pins 4a and 4b and a satisfactory high voltage treatment could not be achieved.

35 Figuur 16 is een vergroot aanzicht in perspectief van een structuur van een silo-type voet die wordt gebruikt om zo een kruipontlading te voorkomen. Deze omvat een silo-type voet 30 waarin de buisvoetpen 4a van het derde rooster is afgeschermd van andere buisvoetpennen door wanden die via siliconenrubber 31 aan buisvoet 2 zijn bevestigd. Een in figuur 17 getoond voetstuk wordt gebruikt voor verbinding met silo-type voet 30 van figuur 16 voor het doel van het aanleggen van een spanning aan de elektronenstraal-40 buis vanaf een externe voedingsbron.Figure 16 is an enlarged perspective view of a structure of a silo-type base used to prevent creep discharge. It includes a silo-type base 30 in which the third grid tube base pin 4a is shielded from other tube base pins by walls attached to tube base 2 via silicone rubber 31. A base shown in Figure 17 is used to connect to silo-type base 30 of Figure 16 for the purpose of applying voltage to the electron beam 40 from an external power source.

Onder gebruikmaking van deze silo-type voet 30 en voetstuk 32 kan de doorslagspanning tussen buisvoetpen 4a en de andere buisvoetpennen 4b worden verhoogd, maar zou de hoogspanningsbehandeling onder gebruikmaking van vier tot vijf maal de bedrijfsspanning nog steeds niet volledig bevrediging kunnen worden bewerkstelligd.Using this silo-type foot 30 and pedestal 32, the breakdown voltage between tube foot pin 4a and the other tube foot pins 4b can be increased, but the high voltage treatment using four to five times the operating voltage still could not be fully satisfied.

45 Om de bovengenoemde problemen op te lossen, zijn andere hoogspanningsbehandelingen voorgesteld, zoals die bijvoorbeeld aan de openbaarheid zijn prijsgegeven in het hiervoor genoemde octrooi-Kokai-publicatie nr. 101 255/1979, waarin een hoge spanning wordt aangelegd, terwijl ten minste buisvoet 2 van elektronenstraalbuis 20 in een hoge drukgasatmosfeer wordt gehouden.45 To solve the above-mentioned problems, other high voltage treatments have been proposed, such as those disclosed, for example, in the aforementioned Kokai Publication No. 101 255/1979, in which a high voltage is applied, while at least tube 2 of electron beam tube 20 is kept in a high pressure gas atmosphere.

Bij dit type hoogspanningsbehandeling wordt buisvoet 2 van elektronenstraalbuis 20 in een afgedichte 50 houder 21 omsioten en wordt een hoge drukgas G van buitenaf aan de houder toegevoerd, zoals in figuur 18 is getoond, zodat de drempelspanning, waarop kruipontlading op buisvoetpennen 4a en 4b begint, wordt verhoogd.In this type of high voltage treatment, tube base 2 of electron beam tube 20 is enclosed in a sealed container 21 and a high pressure gas G is supplied to the container from the outside, as shown in Figure 18, so that the threshold voltage at which creep discharge on tube bases 4a and 4b begins, is increased.

Figuur 1 is een schematische voorstelling voor het toelichten van een hoogspanningsbehandeiingswer-kwijze voor elektronenstraalbuizen in overeenstemming met een uitvoeringsvorm van de uitvinding. In de 55 figuur heeft de elektronenstraalbuis 20 een hals 1 die een elektron en kanon 10 herbergt. Een voetstuk (in het Engels "socket”) wordt gebruikt om spanning van buitenaf aan het elektronenkanon 10 van elektronenstraalbuis 20 aan te leggen. Er is voorzien in een afgedichte houder 21 voor het vormen van een hoge 192647 4 drukgasatmosfeer rond hals 1 van de elektronenstraalbuis 20. De manier waarop dit gebeurt, zal later worden beschreven. Een compressor 22 brengt onder druk gebrachte lucht voort. Er is voorzien in een verwarmingsoven 23 met een daarin aangebracht verwarmingselement 24.Figure 1 is a schematic representation for explaining a high voltage electron beam tube treatment method in accordance with an embodiment of the invention. In the figure 55, the electron beam tube 20 has a neck 1 which houses an electron and a gun 10. A base (in English "socket") is used to apply external voltage to the electron gun 10 of electron beam tube 20. A sealed container 21 is provided to form a high 192647 4 pressure gas atmosphere around neck 1 of the electron beam tube 20. The manner in which this occurs will be described later A compressor 22 produces pressurized air A heating furnace 23 with a heating element 24 disposed therein is provided.

De procedure van de hoogspanningsbehandeling van deze uitvoeringsvorm zal nu worden beschreven.The high voltage treatment procedure of this embodiment will now be described.

5 De hals 1 van elektronenstraalbuis 20 die luchtledig is gemaakt, wordt zoals in figuur 1 (a) is getoond, in oven 23 geplaatst en een elektrische stroom wordt door verwarmingselement 24 gestuurd, teneinde de hals te verwarmen. De omgevingstemperatuur in oven 23 wordt op 160°C ingesteld. Door het gedurende 5 ’ blootstellen van hals 1 van elektronenstraalbuis 20 aan deze hoge temperatuur wordt de oppervlakte-temperatuur van de hals, in het bijzonder dat deel van de buisvoet (in het Engels ’’stem") waar in buisvoet-10 pennen is voorzien, die een diameter van 29 mm heeft, tot ongeveer 90°C verhoogd.The neck 1 of the electron beam tube 20 which has been evacuated is placed in oven 23 as shown in Figure 1 (a) and an electric current is passed through heating element 24 to heat the neck. The ambient temperature in oven 23 is set at 160 ° C. By exposing the neck 1 of the electron beam tube 20 to this high temperature for 5 ', the surface temperature of the neck, in particular that part of the tube socket (in English "stem") where tube socket-10 pins is provided , which has a diameter of 29 mm, is raised to about 90 ° C.

Vervolgens wordt hals 1, zoals in figuur 1(b) is getoond, in afgedichte houder 21 ingebracht, en wordt hoogspanningsbehandeling in de hoge drukgasatmosfeer bewerkstelligd. Voor dit doel wordt onder druk gebrachte lucht op ongeveer 2 atm, die door compressor 22 is voortgebracht, aan afgedichte houder 231 toegevoerd, teneinde een hoge drukgasatmosfeer van ongeveer 2 atm, voort te brengen. Vervolgens wordt 15 een hoge gelijkspanning van ongeveer 30 kV gedurende 5' aangelegd tussen derde roosterbuisvoetpennen 4a en buisvoetpennen 4b van andere elektroden dan het derde rooster dat als een focusseringselektrode dient.Then, neck 1, as shown in Figure 1 (b), is introduced into sealed container 21, and high voltage treatment is effected in the high pressure gas atmosphere. For this purpose, pressurized air at about 2 atm generated by compressor 22 is supplied to sealed container 231 to produce a high pressure gas atmosphere of about 2 atm. Then, a high DC voltage of about 30 kV for 5 'is applied between third grid tube foot pins 4a and tube foot pins 4b of electrodes other than the third grid serving as a focusing electrode.

Indien bijvoorbeeld de buitentemperatuur zo hoog als 40°C is en de relatieve vochtigheid zo hoog als 95% is, is de vochtigheid van afgedichte houder 21 hoger dan 100% en treedt binnen houder 21 en op het 20 oppervlak van elektronenstraalbuis 20 condensatie op. Wanneer hals 1 tot 90°C wordt verwarmt, hetgeen veel hoger is dan de temperatuur van de atmosfeer in houder 21, is echter de relatieve vochtigheid in het gebied van hals 1 ongeveer 9%, zoals zal worden gezien in de verzadigde dampdrukkromme van figuur 2. Ofschoon de luchtdruk in houder 21 2 atm is, overschrijdt daardoor de relatieve vochtigheid 100% niet en treedt geen condensatie op.For example, if the outside temperature is as high as 40 ° C and the relative humidity is as high as 95%, the humidity of sealed container 21 is greater than 100%, and condensation occurs inside container 21 and on the surface of electron beam tube 20. However, when neck 1 is heated to 90 ° C, which is much higher than the temperature of the atmosphere in container 21, however, the relative humidity in the region of neck 1 is about 9%, as will be seen in the saturated vapor pressure curve of Figure 2 Although the air pressure in container 21 is 2 atm, the relative humidity thereby does not exceed 100% and no condensation occurs.

25 Figuur 3 is een schematische voorstelling die een specifiek voorbeeld van een apparaat laat zien, dat wordt gebruikt om de hoogspanningselektronenstraalbuisbehandeling van de bovengenoemde uitvoeringsvorm uitvoeren. Zoals is geïllustreerd, omvat deze een voetstuk 33, een verwarmingsorgaan 34 dat in voetstuk 33 is geïnstalleerd, een verwarmingselement 35 dat in verwarmingsorgaan 34 is ingericht, een hoogspanningsvoedingsbron HV voor het aanleggen van hoogspanning aan de elektroden van het 30 elektronenkanon via voetstuk 33 en een verwarmingsvoedingsbron 40 om element 35 te verwarmen.Figure 3 is a schematic diagram showing a specific example of an apparatus used to perform the high voltage electron beam tube treatment of the above embodiment. As illustrated, it includes a base 33, a heater 34 installed in base 33, a heating element 35 arranged in heater 34, a high voltage power supply HV for applying high voltage to the electrodes of the electron gun through base 33 and a heating power source 40 to heat element 35.

De werking van deze uitvoeringsvorm zal nu worden beschreven.The operation of this embodiment will now be described.

Een elektrische stroom gaat door verwarmingselement 35 van verwarmingsorgaan 34 in voetstuk 33, teneinde de temperatuur binnen verwarmingsorgaan 34 op ongeveer 160°C te houden. Vervolgens wordt hals 1 van elektronenstraalbuis 20 in afgedichte houder 21 ingébracht en wordt voetstuk 33 met buisvoet-35 pennen 4a en 4b verbonden. Het systeem wordt dan gedurende 5' in deze toestand gelaten om de temperatuur van hals 1 tot ongeveer 90°C te verhogen en wordt de druk in houder 21 op ongeveer 2 atm gebracht. Door in houder 21 een hoge druk tot stand te brengen, zou condensatie gemakkelijker worden gemaakt, maar in dit apparaat is een verwarmingsorgaan aangebracht om de hals 1 te verwarmen.An electric current passes through heating element 35 of heater 34 in base 33 to maintain the temperature within heater 34 at about 160 ° C. Then, neck 1 of electron beam tube 20 is inserted into sealed container 21 and base 33 is connected to tube socket 35 pins 4a and 4b. The system is then left in this state for 5 'to raise the temperature of neck 1 to about 90 ° C and the pressure in container 21 is brought to about 2 atm. By creating a high pressure in container 21, condensation would be made easier, but in this device a heater is provided to heat the neck 1.

Daardoor neemt de verzadigde dampdruk in het gebied van hals 1 toe, treedt er geen condensatie op 40 voetstuk 33 waaraan hoogspanning is aangelegd, op en wordt stabiele kruipontladingsspanning gehandhaafd.As a result, the saturated vapor pressure in the region of neck 1 increases, condensation does not occur on 40 base 33 to which high voltage is applied, and stable creep discharge voltage is maintained.

In de bovenbeschreven uitvoeringsvorm werd hals 1 door een verwarmingsorgaan 34 in oven 23 verwarmd, dat werd verwijderd voor inbrenging van hals 1 in afgedichte houder 21. De uitvinding is echter niet tot deze inrichting beperkt.In the above-described embodiment, neck 1 was heated by a heater 34 in oven 23, which was removed for insertion of neck 1 into sealed container 21. However, the invention is not limited to this device.

45 Figuur 4 is een voorstelling die een andere uitvoeringsvorm van de uitvinding laat zien. In figuur 4(a) is er voorzien in een verwarmingsvoedingsbron 41 voor het elektronenkanon. Een spanning vanaf de verwarmingsvoedingsbron 41 wordt aan het verwarmingsorgaan van het elektronenkanon aangelegd Indien bijvoorbeeld hals 1 een diameter van 29 mm heeft, de verwarmingsorgaanspecificaties 6,3 V - 680 mA en een spanning van 8 V gedurende ongeveer 5' aan het elektronenkanon wordt aangelegd, stijgt de 50 oppervlakte-temperatuur van hals 1 tot ongeveer 90°C.Figure 4 is a representation showing another embodiment of the invention. In Figure 4 (a), a heating power source 41 for the electron gun is provided. A voltage from the heating power source 41 is applied to the electron gun heater If, for example, neck 1 has a diameter of 29 mm, the heater specifications are 6.3 V - 680 mA and a voltage of 8 V is applied to the electron gun for about 5 ', the surface temperature of neck 1 rises to about 90 ° C.

In de bovenstaande uitvoeringsvormen wordt hals 1 van tevoren tot onmiddellijk het plaatsen ervan in de hoge drukgasatmosfeer, verwarmd. Indien de temperatuur van hals 1 geleidelijk daalt gedurende de hoogspanningsbehandeling en de behandeling gedurende een lange tijdsperiode wordt bewerkstelligd, kan geleidelijk condensatie optreden. Indien bijvoorbeeld een hals, die tot 90°C is verwarmd, op 25°C in een 55 atmosfeer op een druk van 2 atm wordt gelaten, daalt de oppervlakte-temperatuur van hals 1 tot 35°C. Figuur 5 is een voorstelling van een andere uitvoeringsvorm die beoogt het bovengenoemde nadeel op te heffen. Zoals is geïllustreerd, wordt een verwarmingsvoedingsbron 41 verbonden met het verwarmings- orgaan van het elektronenkanon gehouden zodat tegelijkertijd de hoogspanning vanaf een hoogspannings-voedingsbron HV aan de buisvoetpennen voor het derde rooster en andere elektroden wordt gehouden. Dienovereenkomstig is het verzekerd dat de temperatuur van de hals van de elektronenstraalbuis gedurende de hoogspanningsbehandeling op een gewenste waarde wordt gehouden.In the above embodiments, neck 1 is preheated to immediately placing it in the high pressure gas atmosphere. If the temperature of neck 1 gradually drops during the high voltage treatment and the treatment is effected over a long period of time, condensation may gradually occur. For example, if a neck heated to 90 ° C is left at 25 ° C in a 55 atmosphere at a pressure of 2 atm, the surface temperature of neck drops 1 to 35 ° C. Figure 5 is a representation of another embodiment which aims to overcome the above drawback. As illustrated, a heating power source 41 is maintained connected to the electron gun heater so that the high voltage from a high voltage power supply HV is simultaneously maintained at the third grid tube foot pins and other electrodes. Accordingly, it is ensured that the temperature of the electron beam neck is maintained at a desired value during the high voltage treatment.

5 Figuur 6 is een voorstelling van een andere uitvoeringsvorm van de uitvinding, waarin in een verwarmingsorgaan met een verwarmingselement 35 in afgedichte houder 21 is aangebracht.Figure 6 is a representation of another embodiment of the invention, in which a heating member with a heating element 35 is arranged in sealed container 21.

In plaats van verwarmingselement 35, dat bijvoorbeeld bestaat uit een legering op basis van nikkel, die chroom en ijzer bevat, kan eveneens een stralingsverwamningssysteem dat een infrarode lamp omvat, worden gebruikt.Instead of heating element 35, which for example consists of a nickel-based alloy containing chromium and iron, a radiant heating system comprising an infrared lamp can also be used.

10 Verder werd in de bovengenoemde uitvoeringsvormen onder druk gebrachte lucht als het hoge drukgas gebruikt. Het gas hoeft echter niet noodzakelijkerwijs lucht te zijn, en andere gassen, bijvoorbeeld een niet-verbrandbaar gas, zoals stikstof, kan in plaats daarvan worden gebruikt.Furthermore, pressurized air was used as the high pressure gas in the above embodiments. However, the gas does not necessarily have to be air, and other gases, for example a non-combustible gas such as nitrogen, can be used instead.

Verder daalt, indien ontvochtiging voorafgaand aan het inbrengen van hoge drukgas in de houder wordt uitgevoerd, het dauwpunt en kan de temperatuur waartoe de hals wordt verhoogd, worden verlaagd.Furthermore, if dehumidification is performed prior to the introduction of high pressure gas into the container, the dew point drops and the temperature to which the neck is raised can be lowered.

15 Figuur 7 is een voorstelling om de hoogspanningsbehandeling van deze werkwijze te beschrijven. In de figuur is er voorzien in een drooginrichting 25, die is uitgerust met een molecuulzeef of dergelijke, om de onder druk gebrachte lucht te drogen, is er voorzien in een dauwpunt-hygrometer 26 om het dauwpunt van de onder druk gebrachte lucht te meten, die door drooginrichting 25 wordt geleid en is er voorzien in kleppen 27a, 27b om de stroming van het gas te sturen.Figure 7 is a representation to describe the high voltage treatment of this method. In the figure, a drying device 25 equipped with a molecular sieve or the like is provided to dry the pressurized air, a dew point hygrometer 26 is provided to measure the dew point of the pressurized air, which is passed through dryer 25 and valves 27a, 27b are provided to control the flow of the gas.

20 De werking zal nu worden beschreven. Atmosferische lucht wordt tot ongeveer 2 atm onder druk gebracht door compressor 22, en waterdamp wordt verwijderd door drooginrichting 25. Onder druk gebrachte lucht, die door drooginrichting 25 is gedroogd, wordt via klap 27b naar dauwpunt-hygrometer 26 geleid en het dauwpunt ervan wordt gemeten. Het dauwpunt wordt op atmosferische druk gemeten. Onder druk gebrachte lucht, waarvan het dauwpunt is bevestigd niet hoger dan 25°C te zijn door hygrometer 26 25 wordt via klep 27a in houder 21 geleid, en wanneer houder 21 op een hoge druk is wordt een hoge gelijkspanning van ongeveer 30 kV gedurende 4' aangelegd tussen het derde rooster en de andere elektroden dan het derde rooster. Wanneer het voetstuk dan wordt omgeven door een hoge drukgas-atmosfeer zonder condensatie, is de kruipontladingsdrempelwaarde niet kleiner dan 35 kV. Daardoor treedt een ontlading op tussen het derde rooster en tweede rooster, worden vormnaden, bramen en vuil van het 30 tweede rooster verwijderd en wordt een elektronenstraalbuis met bevredigende diëlektrische eigenschappen verkregen, waarin ongewenste uitzending van elektronen vanaf het tweede rooster is onderdrukt.The operation will now be described. Atmospheric air is pressurized to about 2 atm by compressor 22, and water vapor is removed by dryer 25. Pressurized air, which has been dried by dryer 25, is passed via blow 27b to dew point hygrometer 26 and its dew point is measured . The dew point is measured at atmospheric pressure. Pressurized air, the dew point of which is confirmed not to exceed 25 ° C by hygrometer 26, is passed through valve 27a into container 21, and when container 21 is at a high pressure, a high DC voltage of about 30 kV for 4 applied between the third grid and the electrodes other than the third grid. When the pedestal is then surrounded by a high pressure gas atmosphere without condensation, the creep discharge threshold is not less than 35 kV. Thereby, a discharge occurs between the third grating and the second grating, forming seams, burrs and debris are removed from the second grating and an electron beam tube with satisfactory dielectric properties is obtained, in which undesired electron emission from the second grating is suppressed.

De reden waarom het dauwpunt niet hoger dan 25° werd ingesteld, zal vervolgens worden beschreven.The reason why the dew point was not set higher than 25 ° will be described next.

De uitvinders van de onderhavige uitvinding vonden dat op massaproduktielijnen, de kruipontladings-drempelspanning in het buisvoetpennengebied tendeerde af te nemen, in het bijzonder gedurende het 35 regenseizoen met hoge temperatuur en hoge vochtigheid, en dat het zeer effectief was om de hoeveelheid vocht in de hoge drukgasatmosfeer te verlagen.The inventors of the present invention found that on mass production lines, the creep discharge threshold voltage tended to decrease in the tubular foot pin region, especially during the high temperature and high humidity rainy season, and it was very effective to reduce the amount of moisture in the high pressure gas atmosphere.

Figuur 8 is een experimentele inrichting voor het doel van het experimenteel vaststellen van de betrekking tussen dauwpunt en kruipontladingsdrempelspanning. In de figuur is bevochtiger 28 voorzien van een verwarmingsorgaan 29 om de mate van bevochtiging te sturen. Het dauwpunt kan vrij worden ingesteld 40 door het verstellen van de temperatuur van het hoge drukgas met verwarmingsorgaan 29.Figure 8 is an experimental device for the purpose of experimentally determining the relationship between dew point and creep discharge threshold voltage. In the figure, humidifier 28 is provided with a heating member 29 to control the degree of wetting. The dew point can be set freely 40 by adjusting the temperature of the high pressure gas with heater 29.

Figuur 9 laat de resultaten van een experimentele studie van de betrekking tussen dauwpunt en kruipontladingsdrempelspanning in het buisvoetpennengebied onder gebruikmaking van deze experimentele inrichting zien. Zoals uit de figuur is te zien, is wanneer de kamertemperatuur 40°C is en de druk in houder 21 2 atm is, de kruipontladingsdrempelspanning slechts ongeveer 18 kV wanneer het dauwpunt 30°C is.Figure 9 shows the results of an experimental study of the relationship between dew point and creep discharge threshold voltage in the tube foot pin region using this experimental device. As can be seen from the figure, when the room temperature is 40 ° C and the pressure in container 21 is 2 atm, the creep discharge threshold voltage is only about 18 kV when the dew point is 30 ° C.

45 Wanneer het dauwpunt 25°C of lager is, neemt echter de kruipontladingsdrempelspanning toe en is deze op 20°C of lager stabiel op: 40 kV.45 However, when the dew point is 25 ° C or lower, the creep discharge threshold voltage increases and is stable at 20 ° C or lower at: 40 kV.

Verder werd, indien de druk binnen houder 21 op 4 atm werd ingesteld, het gewenste effect verkregen, wanneer het dauwpunt 15°C of lager was.Furthermore, if the pressure within container 21 was adjusted to 4 atm, the desired effect was obtained when the dew point was 15 ° C or lower.

Verder moest, indien de kamertemperatuur in orde van 20°C was, zoals in de winter, het dauwpunt 10eC 50 of lager zijn. Verder was er, indien de luchtdruk in de houder 21 op 1,3 atm werd ingesteld, geen verbetering van kruipontladingsdrempelspanning, zelfs indien het dauwpunt werd verlaagd.Furthermore, if the room temperature was in the order of 20 ° C, as in winter, the dew point should be 10eC 50 or lower. Furthermore, if the air pressure in the container 21 was set to 1.3 atm, there was no improvement in creep discharge threshold voltage even if the dew point was lowered.

Figuur 10 is een voorstelling, die een verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding laat zien, en betreft de bevestigings/losmaakinrichting voor de luchtdichte houder die de elektronenstraalbuis omsluit.Figure 10 is a representation showing a further embodiment of the invention, and relates to the airtight container mounting / detaching device enclosing the electron beam tube.

in de figuur dient een samenstel 50 voor het bevestigen en losmaken van een houder 21a, en omvat dit 55 een vooruitbeweegAerugtrekinrichting 51 die wordt aangedreven door een aandrijfinrichting (die niet is getoond) die houder 21 voorwaarts of achterwaarts in richtingen A beweegt, een houder 21a die is bevestigd op de arm 51a van deze vooruitbeweeg/terugtrekinrichting 51 en één einde geopend heeft, een I9CD4ƒ 6 voetstuk 33 op de basis van deze houder 21 a en een afdichtsamenstel 52 dat op het binnenomtreksopper-vlak van het open einde van houder 21a is ingericht. Afdichtsamenstel 52 omvat een ondersteunings-onderdeel 53 dat een cilindrische wand 53a heeft, die is bevestigd aan het binnenomtreksoppervlak van het open einde van houder 21a, eerste en tweede flenzen 53b en 53c die zich binnenwaarts vanaf eerste en 5 tweede (benedenste en bovenste, zoals in de figuur gezien) kanten van de cilindrische wand 53a uitstrekken om een ringvormige opening tussen de binnenkanten van de eerste en tweede flenzen 53b en 53c te vormen. Afdichtsamenstel 52 omvat verder een hol ringvormig afdichtonderdeel 54 van elastisch materiaal, zoals rubber, dat binnen ondersteuningsonderdeel 53 is bevestigd. Er is verder voorzien in een luchtkanaal 55 dat in verbinding staat met afdichtonderdeel 54 voor het toevoeren van onder druk gebrachte lucht.in the figure, an assembly 50 serves to attach and detach a container 21a, and 55 comprises a forward-moving retraction device 51 which is driven by a drive device (not shown) that moves container 21 forward or backward in directions A, a container 21a mounted on the arm 51a of this forward / retraction device 51 and having one end open, a 9CD4F 6 base 33 on the base of this container 21a and a sealing assembly 52 which is on the inner peripheral surface of the open end of container 21a furnished. Sealing assembly 52 includes a support member 53 having a cylindrical wall 53a attached to the inner circumferential surface of the open end of container 21a, first and second flanges 53b and 53c inwardly from first and second (bottom and top, such as (seen in the figure) sides of the cylindrical wall 53a extend to form an annular gap between the inner sides of the first and second flanges 53b and 53c. Sealing assembly 52 further includes a hollow annular sealing member 54 of elastic material, such as rubber, which is secured within support member 53. There is further provided an air channel 55 which communicates with sealing member 54 for supplying pressurized air.

10 Wanneer onder druk gebrachte lucht in afdichtonderdeel 54 wordt toegevoerd, wordt de binnendiameter daarvan verkleind, zodat indien de hals 1 door middel van afdichtonderdeel 54 is ingestoken, afdichtonderdeel 54 tegen hals 1 drukt om een luchtdichte afdichting tussen hen te vormen. Wanneer onder druk gebrachte lucht uit afdichtonderdeel 54 wordt verwijderd, wordt de binnendiameter daarvan vergroot, en wordt hals 1 gescheiden van afdichtonderdeel 54 en wordt de luchtdichte afdichting tussen hen verbroken. 15 De werking zal nu worden beschreven. Om de hoogspanningsbehandeling uit te voeren, wordt houder 21a naar de elektronenstraalbuis 20 toe bewogen om de houder 21a te omsluiten, teneinde voetstuk 33 te verbinden met de buisvoetpennen zonder onder druk gebrachte lucht aan afdichtonderdeel 54 toe te voeren. Wanneer afdichtonderdeel 54 niet is opgeblazen, is insteking gemakkelijk. Dan wordt onder druk gebrachte lucht via kanaal 55 in afdichtonderdeel 54 gezonden om afdichtonderdeel 54 op te blazen, d.w.z. de 20 binnendiameter daarvan naar hals 1 te verkleinen en om een luchtdichte afdichting tussen en hals en onderdeel 54 te maken. Hoge drukgas wordt dan in houder 21a ingebracht. In dit proces is het wenselijk dat de luchtdruk in afdichtonderdeel 54 is ingesteld om hoger te zijn dan de hoge gasdruk in houder 21a.When pressurized air is supplied into sealing member 54, the inner diameter thereof is reduced so that if the neck 1 is inserted through sealing member 54, sealing member 54 presses against neck 1 to form an airtight seal between them. When pressurized air is removed from sealing member 54, its inner diameter is increased, neck 1 is separated from sealing member 54, and the airtight seal between them is broken. 15 The operation will now be described. To perform the high voltage treatment, container 21a is moved toward the electron beam tube 20 to enclose the container 21a to connect pedestal 33 to the tube foot pins without supplying pressurized air to sealing member 54. When sealing member 54 is not inflated, insertion is easy. Then pressurized air is sent through channel 55 into sealing member 54 to inflate sealing member 54, i.e., reduce its inner diameter to neck 1 and to make an airtight seal between a neck and member 54. High pressure gas is then introduced into container 21a. In this process, it is desirable that the air pressure in sealing member 54 is set to be higher than the high gas pressure in container 21a.

Verder wordt houder 21a naar de elektronenstraalbuis gedrukt door vooruitbeweegAerugtrekinrichting 51, zodat deze niet van de hals loskomt. Onder deze condities wordt een hoge spanning van vier tot vijf maal 25 de bedrijfsspanning van de elektronenstraalbuis van buitenaf via voetstuk 33 aangelegd tussen derde rooster 15 en andere elektroden (waaronder tweede rooster 14 om bramen of vormnaden, die op het tweede rooster zijn gevormd, te verwijderen. Dan wordt de onder druk gebrachte lucht in afdichtonderdeel 54 verwijderd om het onderdeel te ledigen, en wordt vooruitbeweeg/terugtrekinrichting 51 teruggetrokken, teneinde houder 21a van elektronenstraalbuis 20 los te maken.Furthermore, holder 21a is pushed toward the electron beam by advancing retractor 51 so that it does not detach from the neck. Under these conditions, a high voltage of four to five times the operating voltage of the electron beam tube is applied from the outside via pedestal 33 between third grating 15 and other electrodes (including second grating 14 to form burrs or seams formed on the second grating. Then, the pressurized air in sealing member 54 is removed to empty the member, and advancing / retracting device 51 is retracted to detach holder 21a from electron beam tube 20.

30 In deze uitvoeringsvorm hoeft houder 21a slechts voetstuk 33, buisvoet 2 en een deel van hals 1 te omsluiten. Daardoor kan het apparaat compact worden gemaakt, is de druk die op het geheel van houder 21a inwerkt kleiner en is er minder explosiegevaar.In this embodiment holder 21a need only enclose pedestal 33, tube foot 2 and part of neck 1. As a result, the device can be made compact, the pressure acting on the whole of holder 21a is smaller and there is less risk of explosion.

Verder kan het samenstel worden afgedicht of de afdichting ongedaan worden gemaakt door het toevoeren of verwijderen van onder druk gebrachte lucht naar of vanaf afdichtonderdeel 54. Daarom is 35 bevestiging en losmaking van houder 21 gemakkelijk en zijn bewerkingen gemakkelijk uit te voeren.Furthermore, the assembly can be sealed or unsealed by supplying or removing pressurized air to or from sealing member 54. Therefore, mounting and detachment of container 21 is easy and operations are easy to perform.

Afdichtsamenstel 52 kan alternatief van zo een configuratie zijn, die gebruik maakt van een magneet voor het afdichten. Maar aangezien in dit geval de hals 1 dicht bij aardpotentiaal is, bestaat er een groot gevaar dat de halsglasisolatie zal doorslaan gedurende hoge spanningsbehandeling. Indien onder druk gebrachte lucht wordt gebruikt, zoals in deze uitvoeringsvorm, bestaat er echter niet zo een gevaar en kan 40 een veilig apparaat worden verkregen.Sealing assembly 52 may alternatively be of such a configuration using a magnet for sealing. However, since in this case the neck 1 is close to ground potential, there is a great danger that the neck glass insulation will break down during high stress treatment. However, if pressurized air is used, as in this embodiment, there is no such danger and a safe device can be obtained.

Figuur 11 is een voorstelling van een uitvoeringsvorm van de houderbevestigings/losmaakinrichting in het hoge spanningsbehandelingsapparaat van een verdere uitvoeringsvorm in de uitvinding en is figuur 12 een voorstelling die de structuur van het voetstuk in deze uitvoeringsvorm laat zien.Figure 11 is a representation of an embodiment of the holder fastening / detachment device in the high voltage treatment apparatus of a further embodiment in the invention and Figure 12 is a representation showing the structure of the pedestal in this embodiment.

In de figuren is een afdichtonderdeel 56 gevormd van een elastisch materiaal, zoals rubber, en bevestigd 45 aan het oppervlak van het open einde van houder 21a die door voortbeweegAerugtrekinrichting 50 tegen trechter 5 van elektronenstraalbuis 20 wordt gedrukt, teneinde houder 21 a luchtdicht af te dichten. Een eerste voetstuk 33a is bevestigd aan voet (in het Engels "base") 2 van elektronenstraalbuis 20, en een tweede voetstuk 33b is bevestigd aan de basis van houder 21a. Deze voetstukken zijn beide voorzien van drukcontactklemmen 33c, zodanig dat wanneer houder 21a door vooruitbeweegAerugtrekinrichting 51 wordt 50 gedrukt om de ruimte daartussen en trechter 5 af te dichten, tegengestelde tweetallen drukcontactklemmen in elektrisch contact worden gebracht, zodat vermogen via hen vanaf een externe bron kan worden toegevoerd aan de buisvoetpennen op hals 1.In the figures, a sealing member 56 is formed of an elastic material, such as rubber, and attached 45 to the surface of the open end of container 21a which is pushed by advancing retractor 50 against funnel 5 of electron beam 20 to airtightly seal container 21a. . A first pedestal 33a is attached to base (in English "base") 2 of electron beam tube 20, and a second pedestal 33b is attached to the base of holder 21a. These pedestals are both provided with push-button terminals 33c such that when holder 21a is pushed by advancing Retractor 51 to seal the space therebetween and hopper 5, opposing pairs of push-button terminals are brought into electrical contact so that power can be supplied from them from an external source supplied to the tube foot pins on neck 1.

De werking zal nu worden beschreven. Houder 21a wordt vooruitbewogen door vooruitbeweeg/ terugtrekinrichting 51, teneinde hals 1 van elektronenstraalbuis 20 te omsluiten, die reeds is uitgerust met 55 tweede voetstuk 33. Tegelijkertijd wordt afdichtonderdeel 57 tegen trechter 5 gedrukt om een luchtdichte afdichting te vormen, en worden de drukcontactklemmen 33c van eerste voetstuk 33a en tweede voetstuk 33b in contact gebracht.The operation will now be described. Holder 21a is advanced by advancing / retracting device 51 to enclose neck 1 of electron beam tube 20, which is already equipped with 55 second base 33. At the same time, sealing member 57 is pressed against funnel 5 to form an airtight seal, and the pressure contact terminals 33c of first pedestal 33a and second pedestal 33b brought into contact.

Claims

7 192647 High pressure gas is then supplied to container 21a, and when the specified gas pressure is reached, a voltage of four to five times the operating voltage of the electron beam tube is applied between third grating 15 and other electrodes (including second grating 14) through first pedestal 33, to remove burrs and pre-seams formed on second grid 14. Then, high pressure gas is removed from holder 21a, advancing retractor 51 is retracted, and holder 21a is detached from electron beam tube 20. In this embodiment, first pedestal 33a must be pre-attached to the electron beam. Holder 21a, however, can be attached to neck 1 or detached from neck 1 in a single operation, thereby obtaining a high voltage treatment apparatus which is easy to manipulate. In the described embodiments, four grids are provided in the electron gun of the electron beam tube, and the high voltage is applied between the third grating and the other electrodes. In another type of electron beam tube, the electron gun is provided with six grids and the third and fifth grids are connected together to serve as focusing electrodes. In such an electron beam tube, the high voltage is applied between the third and fifth gratings on the one hand and other electrodes on the other hand. The terms "first electrode" and "second electrode" as used in the appended claims should not be are confused with the first grid and the second grid referred to in the description of the embodiments. In one aspect of the invention, when the high voltage operation is effected in the high pressure gas atmosphere, the temperature of a portion of the tube socket where the tube socket pins are provided is raised above the temperature of the high pressure gas. Therefore, the drop of creep discharge threshold voltage can be very easily avoided and an electron beam tube of consistent quality can be obtained. In addition, damage to the base can be avoided and productivity can be increased. In another aspect of the invention, the dew point of the high pressure gas atmosphere does not exceed 25 ° C and the same effects as those described above can be obtained. In a further aspect of the invention, a pedestal is mounted on the base of a single-ended container, this container is supported by a forward retractor which moves it forward to cover the electron beam tube neck and the corresponding tube foot pins in contact with the pedestal, pressurized by air is supplied to the hollow annular sealing member, which is supported on the inner peripheral surface of the open end of the container, to make an airtight seal with the outer peripheral surface of the neck, and high pressure gas is supplied to the holder and high voltage treatment is then carried out. Then, the pressurized air is withdrawn to break the seal and the advancing retractor is operated to release the container. This allows efficient attachment and detachment of the high voltage treatment device from the electron beam neck. In a further aspect of the invention, the open end of the container is provided with a sealing member, the neck of the electron beam tube is enclosed by the holder by means of the 40 forward retraction device and the sealing member is pressed against the funnel to make an airtight seal . At the same time, the tubular foot pins and external power source are brought into contact via a pedestal equipped with pressure contact germs. As a result, a high-voltage device is obtained. 45

A high voltage treatment method for an electron beam tube having a neck having an end closed with a tube socket and housing an electron gun provided with at least 50 first and second electrodes, and first and second tube socket pins for the first and second electrodes, the method comprising the steps of creating a high pressure gas atmosphere around the neck, and applying a voltage sufficiently higher than the operating voltage of the electron beam tube between the first and second tube foot pins when the high pressure gas atmosphere is accomplished, characterized in that the method comprises the further step of maintaining a portion of the tube socket above the temperature of the high pressure gas atmosphere above the temperature of the high pressure gas atmosphere, where the first and second tube socket pins are provided.

2. High-voltage treatment method for an electron beam tube having a neck having an end 192647 8 closed with a tube socket and housing an electron gun provided with first and second electrodes, and first and second tube socket pins for the first and second electrodes the method comprising the steps of creating a high pressure gas atmosphere around the neck, and applying a voltage sufficiently higher than the operating voltage of the electron beam tube 5 between the first and second tube foot pins when the high pressure gas atmosphere The process comprises the further step of setting the dew point of the high pressure gas atmosphere to no higher than 25 ° C.

An apparatus for performing the high voltage treatment according to claim 1 or 2, comprising an open-ended container arranged to enclose the neck and having a base, a sealing assembly arranged to provide an airtight seal between the outer peripheral surface of the neck and the open end of the container, means for introducing a high pressure gas into the container when the airtight seal is formed between the outer peripheral surface of the neck and the open end of the container and means for passing through applying a tension to the base of the tube foot pins, while the neck is surrounded by the high-pressure gas, characterized in that the base is arranged on the base of the holder, the device is further provided with a forward / retracting device supporting this holder and moves it forward along the axis of the electron beam tube until the holder encloses the neck, or backward about the hall s, and the sealing assembly comprises a hollow annular sealing member of elastic material, which is applied to the inner peripheral surface of the container at the open end and has a reduced inner diameter when pressurized air is applied to its interior fed, and thereby pressed against the outer peripheral surface of the neck to form the airtight seal.

Apparatus for carrying out the high-voltage treatment according to claim 1 or 2, comprising a container which has one end open and which allows a high-pressure gas to be supplied to the interior thereof and has a base, means for introducing a high-pressure gas into the container, while the airtight seal is being established, and means for applying a tension to the tubular foot pins via the pressure contact terminals, while the neck is surrounded by the high-pressure gas, characterized in that the base is arranged on the base of the holder and pressure contact terminals, the device further comprising an elastic member sealing member mounted on the end of the container, and a forward retracting device supporting the container and moving it forward along the axis of the electron beam tube until the container sealing member is against the funnel of the electron beam tube is pressed to make an air seal to form a seal between the open end of the container and the funnel and the pressure contact clips disposed in the container are brought into contact with pressure contact terminals previously connected to the neck tube pins of the neck, or backward until the container sealing member of the funnel is separated and the push-button terminals of the base are separated from the push-button terminals connected to the tubular foot pins. With 15 sheets of drawing