NL8901507A - Vluchtige aardkalimetaal-organische verbindingen en werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen met aardkalimetaaloxiden of -fluoriden uit deze verbindingen. - Google Patents
Vluchtige aardkalimetaal-organische verbindingen en werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen met aardkalimetaaloxiden of -fluoriden uit deze verbindingen. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8901507A NL8901507A NL8901507A NL8901507A NL8901507A NL 8901507 A NL8901507 A NL 8901507A NL 8901507 A NL8901507 A NL 8901507A NL 8901507 A NL8901507 A NL 8901507A NL 8901507 A NL8901507 A NL 8901507A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- alkaline earth
- earth metal
- organic compounds
- compounds according
- volatile
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 9
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 title 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 title 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims abstract 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 20
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001618 alkaline earth metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910001422 barium ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims 1
- RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N diazene Chemical compound N=N RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000071 diazene Inorganic materials 0.000 claims 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 claims 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- -1 glycol ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 18-crown-6 Chemical compound C1COCCOCCOCCOCCOCCO1 XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRAJNWYBUCUFBD-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylheptane-3,5-dione Chemical compound CC(C)(C)C(=O)CC(=O)C(C)(C)C YRAJNWYBUCUFBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CCCC(*(CC)ONC)O*** Chemical compound CCCC(*(CC)ONC)O*** 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001553 barium compounds Chemical class 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Inorganic materials [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043430 calcium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000001674 calcium compounds Chemical class 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 1
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/404—Oxides of alkaline earth metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F3/00—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table
- C07F3/003—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table without C-Metal linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/408—Oxides of copper or solid solutions thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/22—Complex oxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
Vluchtige aardalkalimetaal-organische verbindingen en werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen met aardalkalimetaaloxyden of -fluoriden uit deze verbindingen.
De uitvinding heeft betrekking op vluchtige aardalkalimetaal-organische verbindingen.
Dergelijke verbindingen zijn bekend.
P.H.Dickinson» A.Sanjurjo, T.H.Geballe» D.Hildenbrand, G.Craig» M.Zisk, J.Collman» S.A.Banning en R.E.Sievers bijvoorbeeld beschrijven in Appl.Phys.Letters» 1989» in druk» het gebruik van de E,2,6»6,-te-tramethyl-3,5-heptaandion (thd) verbinding van onder meer Ba (Ba(thd)s) als uitgangsstof (precursor) voor zogenoemde Chemical vapour deposition (CVD) processen. Deze verbinding blijkt tijdens de verdamping gedeeltelijk te dissociëren» waardoor de concentratie ervan in de dampfase afneemt als functie van de tijd» bij een constante temperatuur van de bron, i.c. Ba(thd)a in vaste fase.
Ook andere vluchtige aardalkalimetaal-IJ-diketonaten zijn bekend, bijvoorbeeld uit het werk van J.E. Gchwarzberg, R.E. Sievers en R.W. Moshier, in Anal .Chem.^tS (1970) 182B. Gebleken is echter dat bij verhitting van deze verbindingen tot temperaturen van 200°C en hoger, noodzakelijk om deze van de vaste fase in de gasfase te brengen, met name bij Ca-, Sr- en Ba-(S-diketonaten een snelle ontleding optreedt.
Aardalkal imetaal-|S-diketonaten worden beschreven o.a. door D.E. Fenton in "Comprehensive Coordination Chemistry", Editor in Chief G.Wilkinson, in Volume 3, Hoofdstuk 23.^.1, pagina 25 e.v.
Gevonden werd nu, dat de tot nu toe ondervonden problemen met bekende vluchtige verbindingen overwonnen kunnen worden door toepassing van bepaalde combinaties van aardalkalimetaal-|S-diketonaten en coördinerende liganden.
De uitvinding heeft derhalve betrekking op vluchtige aardalkalimetaal-organische verbindingen, daardoor gekenmerkt, dat deze bestaan uit het complex van een aardalkalimetaal-|3-diketonaat en een of meer coöi— dinerende liganden.
De algemene structuurformule van een verbinding volgens de uitvinding is gegeven op het formuleblad. In deze structuurformule stelt M
een aardalkalimetaal-ion met valentie S voor, R’ en R" de zijketens van het diketonaat, L het coördinerend ligand en m het aantal coördinerende liganden.
Complexen van aardalkalimetaal-|S-diketonaten volgens de uitvinding bezitten een veel hogere vluchtigheid en thermische stabiliteit dan de overeenkomstige aardalkalimetaal-(l-diketonaten zonder complexerend ligand.
De uitvinding is in het bijzonder van belang wanneer het aardalka-lï-ion een calcium-, een strontium- of een barium-ion is, omdat zoals hierboven al is aangehaald de β-diketDnaten van genoemde metalen zonder complexerend ligand thermisch instabiel zijn. Met calcium-, strontium-of barium-(S-diketonaat-ligandcomplexen volgens de uitvinding kunnen condities worden gerealiseerd onder welke, bijvoorbeeld in een CVD-proces, gedurende een langere periode (meerdere uren) een transport van een constante massa calcium-, strontium- of barium-verbindingen per tijdseenheid in stand kan worden gehouden.
In uitvoeringsvoorbeelden van verbindingen volgens de uitvinding wordt tenminste een coördinerend ligand gevormd door een neutraal zuurstof- dan wel een neutraal stikstof-donorligand.
Geschikte neutrale zuurstof-donor1iganden zijn: ethers met de algemene formules R’OR”, waarbij R’ en R" een C1-CB groep voorstellen, bijv. diethylether, dibutylether en andere cyclische ethers, (CHR)r,0, <(CHR)nO)m, R=H» gesubstitueerd alkyl, n,m=l-5» bijv. tetrahydrofuraan, dioxaan, kroonethers en andere; glycolethers, R’-(DCHeCHa)n-QH en R’-(OCHeCHe)„-0R”, waarin R’ en R’^fgesubstitueerdl-alkyl, n=l-6, bijv. glym, diglym, triglym, tetra-glym; alcoholen, RGH, HO(CHR’)„OH, H0((CHR’)π0)„Η; ketonen R’-C(0)-R", bijv. CH3C(0)CH3, CH3-C(G)t-Bu, CHaC(0)CHsCHaC(0)CH3; aldehydes, RC(Q)H; anhydrides (RC(0))e0; amides, R’R"NCOH, bijv. dimethylformamide.
Geschikte neutrale stikstof-donorliganden zijn: nitrillen, RCN, bijv. CH3CN; dinitrillen NC(CR’R")nCN, bijv. (gesubstitueerde) malodinitrillen amines R’R"R“N, R’, R", R"=H, Ci-Ce groep di- en poly-amines, bijv. tetramethylethyleendiamine pyridines, di-pyridines, phenonthrolines, imines, di-imines.
De synthese van de aardalkalimetaal-|3-diketonaat-ligand complexen verloopt via een reactie van de vereiste hoeveelheid complexerend li-gand met het betreffende aardalkalimetaal-ft-diketonaat in een inert oplosmiddel, zoals benzeen of tolueen.
Gevonden is dat de stabiliteit van de verbindingen verder wordt verbeterd wanneer tenminste een van de de zijketens R’ en R" van het (3-diketonaat een fluor-gesubstitueerde alkyl- en/of aryl-groep bevat.
In een voorkeursuitvoering van de uitvinding bestaat tenminste een van de zijketens R’ en R" uit de alkyl-groepen -CFa en/of n-CaF7.
Met verbindingen volgens deze voorkeursuitvoering worden de bij verhoogde temperatuur en/of verlaagde druk meest stabiele vluchtige aardalkal imetaal-|3-diketonaat-ligand complexen gevormd.
De volgende structuurformules geven een aantal representatieve voorbeelden van barium-, strontium-, en calcium-verbindingen volgens de ui tvinding.
1. Ba(CF3C(0)CHC<0)CF3)e. 2(CH30CHaCHs0CH3).
2. Ba<CF3C(0)CHC<0)CF3>a · 3((CH3)sNC(0)H).
3. Ba<CF3C<0)CHC(0)CF3)H . 2(<CH3)aNCHaCHaN(CH3)a). f». Ba<CF3C(0)CHC(0)CF3)a . 2<CH3QCHECHa0CHsCHE0CHa>.
5. Ba(CF3C(0>CHC<0>CF3)a . <CH30CHaCHE0CHaCHEQCHaCHE0CH3>· 6. Ba(CF3C<0)CHC<0>CF3)a . <CH3OCHaCHaQCHaCHEQCHsCHaOCHBCH&OCH3>.
7. Ba(CF3C(0)CHC(0)CF3)a . ((CHaCHaQ)&>.
8. Sr < CF3C(0)CHC(0)CF3)a . 2(CH3OCHaCHaOCH3).
9. Ca(CF3C(0)CHC(0)CFa)a . 2(CH3OCHaCHaOCH3).
De vluchtigheid van deze verbindingen en van de daarmee overeenkomende aardalkalimetaal-(3-diketonaten is weergegeven in tabel I. Zoals uit de tabel blijkt sublimeren deze verbindingen onder een verlaagde druk (0,02-0,5 mm Hg) bij temperaturen tussen 85°C en 165°C. Dit betekent dat ze bijzonder geschikt zijn als uitgangsstof ('precursor’) voor zogenoemde metal-organic Chemical vapour deposition (MO-CVD) van de corresponderende metalen bevattende materialen.
De uitvinding heeft tevens betrekking op een werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen die een of meer aardalkalimetaaloxy-den dan wel -fluoriden bevatten, door middel van een depositie-tech- niek.
Een dergelijke werkwijze is bekend» bijvoorbeeld uit de hierboven aangehaalde publikatie van Dickinson en medeauteurs.
Met de bekende werkwijzen, in het bijzonder MO-CVD, stuit men bij de depositie van sommige aardalkalimetaal bevattende gelaagde structuren op problemen, als gevolg van de geringe vluchtigheid en de snelle decompositie van het uitgangsmateriaal (de precursor) van waaruit de depositie plaats moet vinden.
De uitvinding heeft tot doel deze problemen op te heffen, en verschaft daartoe een werkwijze, die wordt gekenmerkt doordat bij de depo-sitie-techniek wordt uitgegaan van met de betreffende aardalkalimetaal-oxyden dan wel -fluoriden corresponderende vluchtige aardalkalimetaal-organische verbindingen volgens de hierboven beschreven uitvinding.
Zonder andere depositie-technieken, zoals metaal-organische sproei-pyrolyse, uit te sluiten, is de werkwijze volgens de uitvinding in het bijzonder geschikt wanneer deze wordt toegepast bij de MO-CVD.
Door bij MO-CVD als uitgangsmateriaal (precursor) vluchtige en stabiele verbindingen volgens de uitvinding te gebruiken, kunnen thans met de MO-CVD-techniek op eenvoudige wijze bijvoorbeeld barium-, calcium- en strontiumoxyde bevattende materialen worden gesynthetiseerd. De toepasbaarbaarheid van MO-CVD voor dergelijke materialen is met name van belang bij synthese en onderzoek van recentelijk ontdekte bij relatief hoge temperaturen supergeleidende metaaloxyden.
In een voorkeursuitvoering van de werkwijze volgens de uitvinding worden de aardalkalimetaal-organische verbindingen tijdens het MO-CVD proces gevormd onder toevoeging van coördinerend ligand in vloeistof-dan wel dampfase aan het aardalkal imetaal-|3-diketonaat. De voordelen van de uitvoering zijn evident: de in situ synthese van de verbindingen werkt tijd- en kostenbesparend. Tevens kan hiermee de vluchtigheid van de complexen worden verhoogd en het constante massatransport worden bevorderd.
Voorbeeld 1
Ba(CF3C(0)CHC(0)CF3>g . 2<CH30CHaCHe0CH3) - U>
In een droge atmosfeer wordt bij kamertemperatuur, onder roeren 0,4 ml dimethoxyethaan (CHs0CHaCHeQCH3) toegevoegd aan een suspensie van 0,54 g (0,9B mmol) Ba(CF3C(Q)CHC(0)CF3)e in 15 ml tolueen. Het licht troebele reactiemengsel wordt nog gedurende ca. 0,5 uur nageroerd en vervolgens gefiltreerd. Het heldere filtraat wordt bij 30°C onder verminderde druk ingedampt. De aldus verkregen beige gekleurde vaste stof wordt nog gedurende 4 uur bij kamertemperatuur vacuüm gezogen. Opbrengst: 0,6 g i (84,5%);
Smeltpunt: 45°-47°C.
1H-NMR in C^D^: $(CH3) 3,01 ppm(s) i(CHaCHs) 2,87 ppm(s> 5<CH) 6,18 ppm(s)
Elementanalyses: gevonden (berekend) <%) C 29,14 (29,54); H 3,00 (3,01); F 30,16 (31,18)
Voorbeeld 2
Ba(CF3C(0)CHC(G)CF3)s . 3<(CH3>bNC(0)H). (2)
In een droge atmosfeer wordt bij kamertemperatuur onder roeren 0,58 g (7,98 mmol) CCH3}aNC(0)H (DMF) toegedruppeld aan een suspensie van 0,55 g (0,99 mmol) Ba(CF3C(0>CHC(0)CF3)s in 15 ml tolueen. Het heldere reactiemengsel wordt nog gedurende ca. 0,5 uur nageroerd en vervolgens bij 30°C onder verminderde druk ingedampt. Het residu wordt weer opgelost in 20 ml tolueen en de aldus verkregen oplossing wordt bij 30°C onder verminderde druk ingedampt. Het beigekleurige residu (een stroop) wordt gedurende 4 uur bij kamertemperatuur in vacuüm gedroogd.
Opbrengst: 0,56 g 2 (73,6%) lH-NMR in CJ)*: tf(CH3) 2,11 en 2,49 ppm(s) i(CH-DMF) 7,76 ppm(s) i(CH) 6,09 ppm(s).
Elementanalyses: gevonden (berekend) (%).
C 29,40 (29,60); H 2,94 (2,99); N 4,98 (5,45).
Voorbeeld 3
Ba(CF3C(0)CHC(0)CF3)e . 2((CH3)sNCHeCHeN(CH3)e). (3)
In een droge atmosfeer wordt bij kamertemperatuur onder roeren 0,36 g (3,12 mmol) (CH3>sNCHaCHaN(CH3>B (TMED) toegedruppeld aan een suspensie van 0,43 g (0,78 mmol) Ba(CF3C(0)CHC(0)CF3>s in 15 ml tolueen. Het heldere reactiemengsel wordt nog gedurende ca. 0,5 uur nage roerd en vervolgens bij 30®C onder verminderde druk ingedampt. De aldus verkregen beige gekleurde vaste stof wordt nog gedurende 4 uur bij kamertemperatuur in vacuüm gedroogd.
Opbrengst: 0,57 g 3 (93,4*/.)
Smeltpunt: 11B°-120°C.
1H-NMR in CfeDé,: £(CHa> 1,94 ppm(s) i(CHsCHa) 1,84 ppm(s) i(CH> 6,28 ppm
Element analyses: gevonden (berekend) (*/.) C 33,64 (33,70); H 4,43 (4,34); N 7,02 (7,15)
Voorbeeld 4
Ba(CFaC(0)CHC(0)CF3)a . 2(CH30CHaCHs0CHaCHa0CH3). (4)
In een droge atmosfeer wordt bij kamertemperatuur onder roeren 0,41 g <3,05 mmol) ΟΗ3ΟΟΗεΟΗεΟΟΗεΟΗεΟΟΗ3 (diglym) toegedruppeld aan een suspensie van 0,84 g (1,52 mmol) Ba(CF3C(0)CHC(0)CF3)e in 15 ml tolueen. Het licht troebele reactiemengsel wordt nog gedurende ca. 1 uur nageroerd en vervolgens gefiltreerd. Het filtraat wordt bij 30°C onder verminderde druk ingedampt. De aldus verkregen kleurloze vaste stof wordt gedurende 4 uur bij kamertemperatuur in vacuüm gedroogd. Opbrengst: 1,16 g 4 (93,6*/.)
Smeltpunt: 1100-112°C.
1H-NMR in 0ώ0ώ: i(CHs> 3,06 ppm(s) <S(CHsCHa) 3,14 ppm(m) tf(CH) 6,22 ppm.
Voorbeeld 5
Ba(CF3C(0)CHC(0)CF3)a . (CHaOCHsCHaOCHsCHsDCHaCHsOCHs) (5)
In een droge atmosfeer wordt bij kamertemperatuur onder roeren 0,24 g (1,36 mmol) CHsOCHaCHsOCHaCHsOCHsCHsOCH3 (triglym) toegedruppeld aan een suspensie van 0,75 g (1,36 mmol) Ba<CF3C(0)CHC(0)CF3>e in 20 ml tolueen. Het vrijwel heldere reactiemengsel wordt nog gedurende ca. 1 uur nageroerd en vervolgens gefiltreerd. Het heldere filtraat wordt bij 40°C onder verminderde druk ingedampt en de aldus verkregen kleurloze vaste stof wordt omgekristalliseerd uit een tolueen/pentaan mengsel en vervolgens gedurende 4 uur bij kamertemperatuur in vacuüm gedroogd.
Opbrengst: 0,51 g 5 (51,5*/.)
Smeltpunt: l05e-107°C.
1H-NMR in C^D*: i(CHa) 3,0 ppm(s) i(CHsCHe> 2,94 ppm(m) £(CH) 6,20 ppm(s)
Voorbeeld 6
Ba(CFaC(O)CHC< O)CF3)ε . (CHaOCHaCHeOCHaCHaOCHaCHaOCHsCHeOCHs). (6) In een droge atmosfeer wordt bij kamertemperatuur onder roeren 0,43 g (1,94 mml) CHgOCHaCHaOCHaCHaOCHaCHeOCHaCHeDCHa aan een suspensie van 1,07 g (1,94 mmol) Ba<CF3C<0)CHC<0)CF3)a in 20 ml tolueen. Het licht troebele reactiemengsel wordt nog gedurende ca. 1 uur nageroerd en vervolgens gefiltreerd. Het heldere filtraat wordt bij 30°C onder verminderde druk ingedampt. De aldus verkregen kleurloze vaste stof wordt gedurende 4 uur bij kamertemperatuur in vacuüm gedroogd. Opbrengst: 1,42 g 6 (94,7*/.)
Smeltpunt: 145°-147°C.
1H-NMR in C6D&: f(CH3> 3,1B ppm(s) i(CHsCHs> 2,87 ppm(s) en 3,18 ppm(m> i(CH) 6,23 ppm
Voorbeeld 7
Ba(CFaC(0)CHC< 0)CF3 > Ξ . ((CHaCHaOU). (2)
In een droge atmosfeer wordt bij kamertemperatuur onder roeren een oplossing van 0,306 g (1,16 mmol) (CHeCHeü)* (18-Crown-6) in 7 ml tolueen toegedruppeld aan een suspensie van 0,64 g (1,16 mmol) Ba(CF3C(0)CHC<0)CFa)a in 15 ml tolueen. Het nu licht troebele reactiemengsel wordt nog gedurende ca.l uur geroerd en vervolgens gefiltreerd. Het heldere filtraat wordt bij 30°C onder verminderde druk ingedampt en de aldus verkregen kleurloze vaste stof wordt gedurende 4 uur bij kamertemperatuur in vacuüm gedroogd.
Opbrengst: 0,88 g 2 <93,0'/.).
Smeltpunt: 234°-236°C.
1H-NMR in C^D*: <S(CH2CHa) 3,20 ppm(s) <S(CH) 6,23 ppm(s)
Elementanalyses: gevonden (berekend) (¾) C 32,½ (32,38); Η 3,36 (3,19).
Voorbeeld 8
Sr(CF3C(0)CHC(0)CF3)e . 2(CH3QCHeCHs0CH3). (8)
In een droge atmosfeer wordt bij kamertemperatuur onder roeren 0,54 ml CH30CHeCHs0CH3 (dimethoxyethaan) toegedruppeld aan een suspensie van 0,66 g (1,32 mmol) Sr(CF3C(0)CHC(Q)CF3)e in 15 ml tolueen. Het vrijwel heldere reactiemengsel wordt nog gedurende ca. 0,5 uur nageroerd en vervolgens gefiltreerd. Het heldere filtraat wordt bij 30°C onder verminderde druk ingedampt en de aldus verkregen kleurloze vaste stof wordt gedurende 4 uur bij kamertemperatuur in vacuüm gedroogd. Opbrengst: 0,84 g B (94,4%).
Smeltpunt: 80°-82°C.
1H-NMR in C^D*,: <S(CH3> 3,08 ppm(s) S(CHaCHa) 2,81 ppm(s) tf(CH) 6,27 ppm(s)
Elementanalyses: gevonden (berekend) (%) C 31,66 (31,69); H 3,27 (3,32); F 33,51 (33,45).
Voorbeeld 9
Ca(CF3C(0)CHC(0)CF3)s . 2(CH30CHECHe0CH3). (9)
In een droge atmosfeer wordt bij kamertemperatuur onder roeren 1,2 ml CH30CHBCHs0CH3 (dimethoxyethaan) toegedruppeld aan een suspensie van 1,31 g (2,88 mmol) Ca(CF3C(0)CHC(0)CF3)s in 15 ml tolueen. Het vrijwel heldere reactiemengsel wordt nog gedurende ca. 0,5 uur nageroerd en vervolgens gefiltreerd. Het heldere filtraat wordt bij 30°C onder verminderde druk ingedampt en de aldus verkregen kleurloze vaste stof wordt gedurende 4 uur bij kamertemperatuur in vacuüm gedroogd. Opbrengst: 1,74 g 9 (95,1%).
Smeltpunt: B0°-82°C.
1H-NMR in C^D*: i(CH3) 3,11 ppm(s) i(CHsCHs) 2,8 ppm(s) i(CH) 6,21 ppm(5)
Elementanalyses: gevonden (berekend) (%) C 33,52 (34,07); H 3,53 (3,47); F 35,36 (35,96).
Voorbeeld 10
Sublimatie van Ba-» Sr- en Ca-(l-diketonaat-ligandcomplexen. Sublimatie van diverse Ba-» Sr- en Ca-(3-diketonaat-ligand complexen is uitgevoerd bij verminderde druk <0,5-0,0E mm Hg) en temperaturen van B5®-165°C. Resultaten worden gepresenteerd in Tabel I.
Voorbeeld 11
Coëvaporatie van Be(CFaC(0)CHC(0>CF3)E met dimethoxyethaan <CH30CHaCHa0CHa) als coördinerend ligand.
Ba(CF3C(0)CHC(0)CF3)a <100 mg) is gedurende 3 uur verhit op E£5°C waarbij een droge Ns stroom <6 liter/uur) werd doorgeleid. Deze werd vervolgens door een koude val <-B0°C) geleid» met het doel» daarin met de Ns stroom meegevoerde Ba-verbinding te condenseren. Na afloop van het experiment bleek echter geen barium aantoonbaar in de koude val. Wordt nu i.p.v. droge Ns een bij E5°C met dimethoxyethaan, CHaOCHgCHsOCHa, verzadigde Ns stroom (6 liter/uur) gedurende 3 uur over Ba<CFaC(0)CHC(0)CF3)s <100 mg) geleid, dan blijkt het in de koude val opgevangen condensaat 5 mg Ba te bevatten. In een zelfde experiment echter nu uitgevoerd bij een Ba<CF3C<0)CHC(0)CF3>s temperatuur van 145°C blijkt na E uur het condensaat ca. 1 mg Ba te bevatten.
Tabel I
Vluchtigheid van enkele verbindingen volgens de uitvinding en van enkele daarmee corresponderende aardalkalimetaal-/5-dike-tonaten.
De nummers verwijzen naar de nummers van de structuurformules in de inleidende beschrijving.
Claims (9)
1. Vluchtige aardalkalimetaal-organische verbindingen» met het kenmerki dat deze bestaan uit het complex van een aardalkalimetaal -|S-diketonaat en een of meer coördinerende liganden. E. Aardalkalimetaal-organische verbindingen volgens conclusie 1» met het kenmerk, dat het aardalkalimetaal-ion een calcium-» een stron-tium- of een barium-ion is.
3. Aardalkalimetaal-organische verbindingen volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk» dat tenminste een coördinerend ligand wordt gevormd door een neutraal zuurstof- dan wel een neutraal stikstof-donorligand.
4. Aardalkalimetaal-organische verbindingen volgens conclusie 3, met het kenmerk; dat een neutraal zuurstof-donor1igand een lineaire ether» een cyclische ether, een glycolether, een alcohol, een keton, een aldehyde, een anhydride of een amide is, en een neutraal stikstof-donorligand een nitril» een dinitril, een amine, een di-amine, een poly-amine, een pyridine, een bi-pyridine, een phenanthroline, een imine of een di-imine is.
5. Aardalkalimetaal-organische verbindingen volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat de cyclische ether (CHeCHE0)& is, de glycolether CH3-<OCHeCHs)„-OCH3 is, waarin n=l,S,3,4,5 of 6, het amide (CHa>sNC(0)H is en het di-amine (CHalaNCHaCHaNlCHa)ε is.
6. Aardalkalimetaal-organische verbindingen volgens een der conclusies 1 t/m 5» met het kenmerk, dat het β-diketonaat een al dan niet gesubstitueerde alkyl-groep en/of een al dan niet gesubstitueerde aryl-groep bevat.
7. Aardalkalimetaal-organische verbindingen volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat een gesubstitueerde alkyl-groep en/of een gesubstitueerde aryl-groep een of meer fluor-atomen bevatten. B. Aardalkalimetaal-organische verbindingen volgens conclusie 7, met het kenmerk, dat een gesubstitueerde alkyl-groep -CF3 dan wel n-CsFv is.
9. Werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen die een of meer aardalkalimetaaloxyden dan wel -fluoriden bevatten, door middel van een depositie-techniek, met het kenmerk» dat bij de depositie-techniek wordt uitgegaan van met de aardalkalimetaalDxyden corresponderende vluchtige aardalkalimetaal-organische verbindingen volgens een der conclusies 1 t/m B, dan wel van met de aardalkalimetaalfluoriden corresponderende vluchtige aardalkali-metaal-orgenische verbindingen volgens een der conclusies 7 of B.
10. Werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen volgens conclusie 9» met het kenmerkt dat de depositie-techniek de zogenoemde metal-Drganic Chemical vapour deposition (MO-CVD) is.
11. Werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen volgens conclusie 10, met het kenmerk, dat de aardalkalimetaal-organische verbindingen tijdens het MO-CVD proces worden gevormd onder toevoeging van coördinerend ligand in vloeistof- dan wel dampfase aan het aardalkalimetaal-(ï-dike-tonaat.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8901507A NL8901507A (nl) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | Vluchtige aardkalimetaal-organische verbindingen en werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen met aardkalimetaaloxiden of -fluoriden uit deze verbindingen. |
US07/533,539 US5248787A (en) | 1989-06-14 | 1990-06-05 | Volatile organic barium, strontium and calcium compounds |
DE69033617T DE69033617T2 (de) | 1989-06-14 | 1990-06-11 | Flüchtige organische Barium-, Strontium- und Kalzium-Verbindungen und ein Verfahren zur Herstellung geschichteter Materialien, die Oxide oder Fluoride von Barium, Strontium oder Kalzium aus diesen Verbindungen enthalten |
EP90201485A EP0405634B1 (en) | 1989-06-14 | 1990-06-11 | Volatile organic barium, strontium and calcium compounds and method for the preparation of layered materials with barium, strontium or calcium oxides or fluorides from these compounds |
EP99203746A EP0982309A3 (en) | 1989-06-14 | 1990-06-11 | Volatile organic barium, strontium and calcium compounds and method for the preparation of layered materials with barium, strontium or calcium oxides or fluorides from these compounds |
AT90201485T ATE195943T1 (de) | 1989-06-14 | 1990-06-11 | Flüchtige organische barium-, strontium- und kalzium-verbindungen und ein verfahren zur herstellung geschichteter materialien, die oxide oder fluoride von barium, strontium oder kalzium aus diesen verbindungen enthalten |
JP02156618A JP3132822B2 (ja) | 1989-06-14 | 1990-06-14 | 揮発性有機バリウム、ストロンチウム及びカルシウム化合物、及びこれらの化合物からのバリウム、ストロンチウムもしくはカルシウム酸化物もしくはフッ化物を用いる層状物質の製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8901507 | 1989-06-14 | ||
NL8901507A NL8901507A (nl) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | Vluchtige aardkalimetaal-organische verbindingen en werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen met aardkalimetaaloxiden of -fluoriden uit deze verbindingen. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL8901507A true NL8901507A (nl) | 1991-01-02 |
Family
ID=19854835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL8901507A NL8901507A (nl) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | Vluchtige aardkalimetaal-organische verbindingen en werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen met aardkalimetaaloxiden of -fluoriden uit deze verbindingen. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5248787A (nl) |
EP (2) | EP0405634B1 (nl) |
JP (1) | JP3132822B2 (nl) |
AT (1) | ATE195943T1 (nl) |
DE (1) | DE69033617T2 (nl) |
NL (1) | NL8901507A (nl) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8901507A (nl) * | 1989-06-14 | 1991-01-02 | Tno | Vluchtige aardkalimetaal-organische verbindingen en werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen met aardkalimetaaloxiden of -fluoriden uit deze verbindingen. |
US5225561A (en) * | 1990-07-06 | 1993-07-06 | Advanced Technology Materials, Inc. | Source reagent compounds for MOCVD of refractory films containing group IIA elements |
US7323581B1 (en) | 1990-07-06 | 2008-01-29 | Advanced Technology Materials, Inc. | Source reagent compositions and method for forming metal films on a substrate by chemical vapor deposition |
US5280012A (en) * | 1990-07-06 | 1994-01-18 | Advanced Technology Materials Inc. | Method of forming a superconducting oxide layer by MOCVD |
US5840897A (en) * | 1990-07-06 | 1998-11-24 | Advanced Technology Materials, Inc. | Metal complex source reagents for chemical vapor deposition |
US6218518B1 (en) | 1990-07-06 | 2001-04-17 | Advanced Technology Materials, Inc. | Tetrahydrofuran-adducted group II β-diketonate complexes as source reagents for chemical vapor deposition |
US5711816A (en) * | 1990-07-06 | 1998-01-27 | Advanced Technolgy Materials, Inc. | Source reagent liquid delivery apparatus, and chemical vapor deposition system comprising same |
GB9117562D0 (en) * | 1991-08-14 | 1991-10-02 | Ass Octel | Group ii metal betadiketonates |
US5319118A (en) * | 1991-10-17 | 1994-06-07 | Air Products And Chemicals, Inc. | Volatile barium precursor and use of precursor in OMCVD process |
US6010969A (en) * | 1996-10-02 | 2000-01-04 | Micron Technology, Inc. | Method of depositing films on semiconductor devices by using carboxylate complexes |
ES2339306T3 (es) * | 1996-11-15 | 2010-05-18 | Cytokine Pharmasciences, Inc. | Guanilhidrazonas utiles en el tratamiento de las enfermedades asociadas con la activacion de las celulas t. |
US5876503A (en) * | 1996-11-27 | 1999-03-02 | Advanced Technology Materials, Inc. | Multiple vaporizer reagent supply system for chemical vapor deposition utilizing dissimilar precursor compositions |
US5719417A (en) * | 1996-11-27 | 1998-02-17 | Advanced Technology Materials, Inc. | Ferroelectric integrated circuit structure |
US6248392B1 (en) | 1996-12-20 | 2001-06-19 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Ondersoek Tno | Method for manufacturing a fiber-reinforced bioactive ceramic implant |
NL1004867C2 (nl) * | 1996-12-20 | 1998-06-23 | Tno | Met vezels versterkt bio-keramisch composietmateriaal. |
US5980983A (en) * | 1997-04-17 | 1999-11-09 | The President And Fellows Of Harvard University | Liquid precursors for formation of metal oxides |
US5923970A (en) * | 1997-11-20 | 1999-07-13 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method of fabricating a ferrolelectric capacitor with a graded barrier layer structure |
US6284654B1 (en) | 1998-04-16 | 2001-09-04 | Advanced Technology Materials, Inc. | Chemical vapor deposition process for fabrication of hybrid electrodes |
US6111122A (en) * | 1998-04-28 | 2000-08-29 | Advanced Technology Materials, Inc. | Group II MOCVD source reagents, and method of forming Group II metal-containing films utilizing same |
JP2002527528A (ja) * | 1998-10-21 | 2002-08-27 | プレジデント・アンド・フェロウズ・オブ・ハーバード・カレッジ | アルカリ土類金属を含有する材料を形成するための液体化合物 |
EP1961755A1 (en) * | 2007-02-21 | 2008-08-27 | L'AIR LIQUIDE, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Strontium silylamides, adducts thereof with Lewis bases, preparation thereof and deposition of strontium thin films |
US8247617B2 (en) * | 2007-05-16 | 2012-08-21 | Air Products And Chemicals, Inc. | Group 2 metal precursors for depositing multi-component metal oxide films |
US20080286464A1 (en) * | 2007-05-16 | 2008-11-20 | Air Products And Chemicals, Inc. | Group 2 Metal Precursors For Depositing Multi-Component Metal Oxide Films |
EP2468754A1 (en) * | 2010-12-07 | 2012-06-27 | L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Novel diazacrown barium and strontium precursors for vapor phase deposition of thin film |
EP2468753A1 (en) * | 2010-12-07 | 2012-06-27 | L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Strontium precursors for vapor phase deposition of thin films |
CN115838186B (zh) * | 2022-10-26 | 2024-05-28 | 东部超导科技(苏州)有限公司 | 一种锶掺杂钡源及其制备方法与在制备高温超导带材中的应用 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4558144A (en) * | 1984-10-19 | 1985-12-10 | Corning Glass Works | Volatile metal complexes |
JPS6281464A (ja) * | 1985-10-04 | 1987-04-14 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | インキの鮮明度向上剤 |
NL8901507A (nl) * | 1989-06-14 | 1991-01-02 | Tno | Vluchtige aardkalimetaal-organische verbindingen en werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen met aardkalimetaaloxiden of -fluoriden uit deze verbindingen. |
-
1989
- 1989-06-14 NL NL8901507A patent/NL8901507A/nl not_active Application Discontinuation
-
1990
- 1990-06-05 US US07/533,539 patent/US5248787A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-06-11 EP EP90201485A patent/EP0405634B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-06-11 EP EP99203746A patent/EP0982309A3/en not_active Withdrawn
- 1990-06-11 AT AT90201485T patent/ATE195943T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-06-11 DE DE69033617T patent/DE69033617T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-06-14 JP JP02156618A patent/JP3132822B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0405634A3 (en) | 1991-05-29 |
JPH03115245A (ja) | 1991-05-16 |
EP0982309A3 (en) | 2001-10-04 |
DE69033617D1 (de) | 2000-10-05 |
ATE195943T1 (de) | 2000-09-15 |
DE69033617T2 (de) | 2001-04-26 |
EP0405634A2 (en) | 1991-01-02 |
EP0405634B1 (en) | 2000-08-30 |
US5248787A (en) | 1993-09-28 |
JP3132822B2 (ja) | 2001-02-05 |
EP0982309A2 (en) | 2000-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL8901507A (nl) | Vluchtige aardkalimetaal-organische verbindingen en werkwijze voor de bereiding van gelaagde materialen met aardkalimetaaloxiden of -fluoriden uit deze verbindingen. | |
KR101912127B1 (ko) | 산화몰리브덴을 함유하는 박막의 제조방법, 산화몰리브덴을 함유하는 박막의 형성용 원료 및 몰리브덴아미드 화합물 | |
EP1849789A1 (en) | Metal complexes of polydentate beta-ketoiminates | |
US4950790A (en) | Volatile fluorinated β-ketoimines and associated metal complexes | |
KR20040077733A (ko) | 원자층 증착에 의한 구리막 증착용 휘발성 구리(ⅱ) 착물 | |
US5028724A (en) | Synthesis of volatile fluorinated and non-fluorinated metal-beta-ketonate and metal-beta-ketoiminato complexes | |
US6669990B2 (en) | Atomic layer deposition method using a novel group IV metal precursor | |
EP0178786A1 (en) | Volatile metal complexes | |
Miehr et al. | Lewis base adduct stabilized organogallium azides: synthesis and dynamic NMR spectroscopic studies of novel precursors to gallium nitride and role of ammonia as reactive carrier gas | |
JP5214191B2 (ja) | 薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法 | |
JP2005531619A (ja) | 新規アルカリ土類金属錯体及びその使用 | |
JP2005535706A (ja) | 銅金属の析出のための銅のピロリル錯体 | |
Karakovskaya et al. | Synthesis, structure and thermal investigation of a new volatile iridium (I) complex with cyclooctadiene and methoxy-substituted β-diketonate | |
US5008415A (en) | Volatile fluorinated β-ketoimines and associated metal complexes | |
WO2001068580A1 (fr) | COMPLEXE β-DICETONATOCUIVRE(I) CONTENANT UN COMPOSE ALLENE EN LIGAND ET PROCEDE DE PRODUCTION | |
KR880002306B1 (ko) | 휘발성 금속 착화합물 부가체의 제조방법 | |
JPS59139339A (ja) | 無水フツ素含有1,3−ジケトネ−ト−金属錯化合物の製造方法 | |
Zharkova et al. | X-ray diffraction study of volatile complexes of dimethylgold (III) derived from symmetrical β-diketones | |
NL9302030A (nl) | Vluchtige yttrium-organische verbindingen en werkwijze voor de bereiding van yttrium-bevattende gelaagde materialen uit deze verbindingen. | |
Ahn et al. | Reactions of “in‐Situ” Generated Cr (CO) 5CN–C (Cl)–PR3 (R= Ph, NMe2) with Potential Dipolarophiles. New Examples of [3+ 2] Cycloadditions with Concomitant Interligand CC Bond Formation [1] | |
EP0373513B1 (en) | Fluorinated beta-ketoimines and beta-ketoiminato metal complexes | |
RU2146260C1 (ru) | Полифторированные дииминаты металлов в качестве предшественников для металлизации различных твердых поверхностей и для получения металлических зеркал | |
Blake | Modification of N-heterocyclic carbene scaffolds: insights into reactivity and electronic properties | |
Spange | Phosphane and Phosphite Silver (I) Complexes: Synthesis, Reaction Chemistry and their Use as CVD Precursors | |
Djiele Ngameni | Phosphane and phosphite silver (I) complexes: synthesis, reaction chemistry and their use as CVD precursors |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1B | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |