NL8702942A - Photosensitive coating composition and method for preparing a photosensitive polymer. - Google Patents

Photosensitive coating composition and method for preparing a photosensitive polymer. Download PDF

Info

Publication number
NL8702942A
NL8702942A NL8702942A NL8702942A NL8702942A NL 8702942 A NL8702942 A NL 8702942A NL 8702942 A NL8702942 A NL 8702942A NL 8702942 A NL8702942 A NL 8702942A NL 8702942 A NL8702942 A NL 8702942A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
reaction mixture
diisocyanate
alpha
component
acid
Prior art date
Application number
NL8702942A
Other languages
Dutch (nl)
Other versions
NL190785C (en
NL190785B (en
Original Assignee
Armstrong World Ind Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Armstrong World Ind Inc filed Critical Armstrong World Ind Inc
Publication of NL8702942A publication Critical patent/NL8702942A/en
Publication of NL190785B publication Critical patent/NL190785B/en
Application granted granted Critical
Publication of NL190785C publication Critical patent/NL190785C/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/025Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon triple bonds, e.g. acetylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/035Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyurethanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F299/00Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
    • C08F299/02Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
    • C08F299/06Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyurethanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/34Carboxylic acids; Esters thereof with monohydroxyl compounds
    • C08G18/348Hydroxycarboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/671Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/672Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/671Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/672Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/6725Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen containing ester groups other than acrylate or alkylacrylate ester groups
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

e * -1-e * -1-

873078/Ba/MW873078 / Ba / MW

Lichtgevoelige bekledingssamenstelling en werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelig polymeer..Photosensitive coating composition and method for preparing a photosensitive polymer.

Deze uitvinding heeft betrekking op een lichtgevoelige bekledingssamenstelling.This invention relates to a photosensitive coating composition.

5 Meer in het bijzonder heeft de uitvinding betrekking op een lichtgevoelige harssamenstelling voor het vormen van een beschermende bekledingslaag met uitzonderlijke kenmerken die gebruikt kan worden ofwel op zich, om een lichtgevoelige kleverige laag te verschaffen; of 10 gecombineerd kan worden met een verscheidenheid aan andere typen bestanddelen zoals een verknopingsmiddel om de ver-knopingsdichtheid te doen toenemen, een hars om de kleverigheid weg te nemen, of zelfs een andere ander lichtgevoelig bestanddeel om de gevoeligheid voor licht te doen toenemen.More particularly, the invention relates to a photosensitive resin composition for forming a protective coating layer with exceptional characteristics which can be used either alone to provide a photosensitive tacky layer; or can be combined with a variety of other types of ingredients such as a cross-linking agent to increase cross-linking density, a resin to remove tackiness, or even another photosensitive component to increase sensitivity to light.

15 De toepassingen van de onderhavige fotogevoelig bekledings-materiaal omvat zodoende fotoafdektoepassingen zoals bij plateerafdekmiddelen, etsafdekmiddelen en soldeermasker-middelen.Thus, the applications of the present photosensitive coating material include photo-covering applications such as plating coaters, etch coaters, and solder masks.

Soldeermaskermiddelen worden gebruikt om gedruk-20 te bedradingsplaten te vervaardigen. De soldeermaskerfunktie is in wezen om soldeerbruggen te voorkomen, elektrische isolering tussen geleiders te behouden waardoor geleiding tussen de soldeergebieden voorkomen wordt en om corrosie van een blanke kopergeleider te voorkomen. Het is ook ge-25 wenst fotogevoelige soldeermaskers te hebben die in staat zijn een beeld vast te houden dat gebruikt kan worden als blauwdruk waarop de soldeer wordt aangebracht. Door de wenselijkheid van het verhogen van de bedradingsdichtheid, is het gewenst een soldeermasker toe te passen met een 30 nauwkeurige resolutie en bijzonder goede elektrische isoleringseigenschappen. De onderhavige fotogevoelige samenstelling kan deze voordelen verschaffen.Solder mask means are used to manufacture printed circuit board wires. The solder mask function is essentially to prevent solder bridges, maintain electrical insulation between conductors preventing conduction between the solder areas and prevent corrosion of a bare copper conductor. It is also desirable to have photosensitive solder masks capable of holding an image that can be used as a blueprint on which the solder is applied. Due to the desirability of increasing the wiring density, it is desirable to use a solder mask with an accurate resolution and particularly good electrical insulation properties. The present photosensitive composition can provide these advantages.

Soldeermaskers zijn op zich bekend en worden beschreven in het Amerikaanse octrooischrift 4.499.163 35 dat een lichtgevoelige harssamenstelling beschrijft die . 8 7 0 2 3 41’ -2- r * urethaandiacrylaat of dimethacrylaat, een lineaire polymere verbinding met een glasovergangstemperatuur tussen ongeveer 40°C en 150°C, en een sensibilisator die vrije radicalen vormt bij bestraling met energierijke straling, omvat.Solder masks are known per se and are described in U.S. Patent 4,499,163, which describes a photosensitive resin composition. 8 7 0 2 3 41 '-2-urethane diacrylate or dimethacrylate, a linear polymeric compound having a glass transition temperature between about 40 ° C and 150 ° C, and a sensitizer that forms free radicals upon irradiation with high energy radiation.

5 De beschreven lineaire polymere verbinding omvat de lineaire, polymeren of copolymeren uit de vinylserie zoals bijvoorbeeld polymeren die zijn vervaardigd uit vinylmonomeren omvattende methylmethacrylaat, butylmethacrylaat, methylstyreen, vinyltolueen en dergelijke. De sensibilisator voor het 10 vormen van vrije radicalen omvat bijvoorbeeld gesubstitueerde en ongesubstitueerde polynucleaire chinonen.The described linear polymeric compound includes the vinyl series linear, polymers or copolymers such as, for example, polymers made from vinyl monomers including methyl methacrylate, butyl methacrylate, methyl styrene, vinyl toluene and the like. The free radical generating sensitizer includes, for example, substituted and unsubstituted polynuclear quinones.

Een andere met licht uithardbare urethaan-acrylaatharssamenstelling die geschikt die ook be-schreven is als bruikbaar als blijvende beschermingslagen, beschreven 15 in het Amerikaanse octrooischrift 4.587.201. De samenstelling zoals daarin beschreven past een urethaan-acrylaathars toe die is samengesteld uit polybutadieenpolymeer. Deze hars wordt gecombineerd met een fotopolymerisatie-initiator om het blijvende beschermingsmateriaal te vormen.Another light-curable urethane-acrylate resin composition suitable also described as useful as permanent protective layers is described in U.S. Patent 4,587,201. The composition as described therein utilizes a urethane acrylate resin composed of polybutadiene polymer. This resin is combined with a photopolymerization initiator to form the permanent protective material.

20 De meeste lichtgevoelige soldeermaskers, schieten te kort in de mogelijkheid om ontwikkeld te worden in een waterige oplossing. Dit maakt gebruik van organische oplosmid-delontwikkeloplossingen noodzakelijk. Het gebruik van dergelijke organische oplosmiddelen is ongewenst geworden door 25 de milieuregels voor oplosmiddelenüitstootcontrole.20 Most photosensitive solder masks lack the ability to be developed in an aqueous solution. This necessitates the use of organic solvent development solutions. The use of such organic solvents has become undesirable due to environmental rules for solvent emission control.

Een ander nadeel dat bij soldeermaskers die organische ontwikkeloplossingen toepassen gevonden wordt is de blijvende gevoeligheid van het eindprodukt voor organische oplosmiddelen zoals methyleenchloride. In be-30 paalde toepassingen van het produkt is een dergelijke gevoeligheid bovendien ongewenst.Another drawback found in solder masks employing organic developer solutions is the residual sensitivity of the final product to organic solvents such as methylene chloride. Moreover, in certain applications of the product, such sensitivity is undesirable.

Het is daarom wenselijk een lichtgevoelige soldeer-maskerbekledingslaagsamenstellingen te ontwikkelen die ontwikkeld kunnen worden in waterige oplossing en die besten-35 dig zijn tegen organische oplosmiddelen zoals methyleenchloride. Doel van de onderhavige uitvinding is een dergelijke bekledingssamenstelling te verschaffen. Het is ook een doel van de onderhavige uitvinding om een soldeermasker-bekledingssamenstelling te verschaffen die verwijderd kan . 87 0 2 8 * ? { * -3- worden met in de handel verkrijgbare alkalische stripmid-delen.It is therefore desirable to develop a photosensitive solder mask coating layer compositions that can be developed in aqueous solution and that are resistant to organic solvents such as methylene chloride. The object of the present invention is to provide such a coating composition. It is also an object of the present invention to provide a solder mask coating composition that can be removed. 87 0 2 8 *? {* -3- with commercially available alkaline strippers.

De bovenbeschreven delen worden bereikt met de lichtgevoelige samenstelling volgens de uitvinding die 5 wordt gekenmerkt doordat deze omvat: een voor ultraviolette straling gevoelig polymeer gekozen uit de groep die bestaat uit: een gecarboxyleerd urethaandimethacrylaat, een gecarboxyleerd urethaandiacrylaat, een gecarboxyleerd urethaantriacrylaat, en een gecarboxyleerd urethaantri-10 methacrylaat; waarbij genoemde polymeer dat gevoelig is voor ÜV straling gevormd is door het laten condenseren van een reactiemengsel bestaande uit bestanddeel (a): een diisocyanaat met 6-18 koolstofatomen, bestanddeel (b): een carbonzuurpolyol met de formule 2 van het formuleblad? 15 waarin x een geheel getal van 2-5 kan zijn, en waarin Rg een lineaire of vertakte, verzadigde, onverzadigde of aromatische, koolwaterstofgroep met van 2-29 koolstofatomen is, en bestanddeel (c) een hydroxyalkyl(meth)acrylaat, waarvan de alkylgroep van 2-28 koolstofatomen bezit; op 20 voorwaarde dat bestanddeel (a) aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 30 tot ongeveer 80 gew.% van de totale hoeveelheid van het reactiemengsel; bestanddeel (b) aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 5 tot ongeveer 45 gew.% van de totale hoeveelheid van het reactiemengsel 25 met een minimum van ongeveer 0,3 milli-equivalenten zuur per gram van de totale hoeveelheid reactiemengsel, en bestanddeel (c) aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 5 tot ongeveer 50 gew.% van de totale reactiemengsel met een minimum hoeveelheid van 0,5 milli-equivalenten acry-30 laat per gram van de totale hoeveelheid van het reactiemengsel .The above-described parts are achieved with the photosensitive composition according to the invention which is characterized in that it comprises: an ultraviolet radiation-sensitive polymer selected from the group consisting of: a carboxylated urethane dimethacrylate, a carboxylated urethane diacrylate, a carboxylated urethane triacrylate, and a carboxylated urethane triacrylate -10 methacrylate; wherein said polymer sensitive to UV radiation is formed by condensing a reaction mixture consisting of component (a): a diisocyanate of 6-18 carbon atoms, component (b): a carboxylic acid polyol of the formula II? 15 wherein x may be an integer from 2-5, and wherein Rg is a linear or branched, saturated, unsaturated or aromatic, hydrocarbon group of 2-29 carbon atoms, and component (c) is a hydroxyalkyl (meth) acrylate, the alkyl group of 2-28 carbon atoms; provided that component (a) is present in an amount of from about 30 to about 80% by weight of the total amount of the reaction mixture; component (b) is present in an amount of from about 5 to about 45% by weight of the total amount of the reaction mixture 25 with a minimum of about 0.3 milliequivalents of acid per gram of the total amount of reaction mixture, and component (c ) is present in an amount of from about 5 to about 50% by weight of the total reaction mixture with a minimum amount of 0.5 milliequivalents of acrylate per gram of the total amount of the reaction mixture.

De lichtgevoelige harssamenstellingen zoals hier beschreven bezitten een buitengewoon goede resolutie, buigzaamheid, hechtingsvermogen aan metalen, oplosmid-35 delbestendigheid, bestendigheid tegen hoge temperaturen en elektrische isolatie-eigenschappen.The photosensitive resin compositions as described herein have extremely good resolution, flexibility, metal adhesion, solvent resistance, high temperature resistance, and electrical insulation properties.

Specifieke uitvoeringsvormen van de onderhavige samenstelling vormen een hoog visceus, lichtgevoelig mate- Ê-, Γ » 3 r f ' i / f i . - r * -4- riaal dat bruikbaar is als toevoegingsmiddel voor samenstellingen die zowel verdikking als de toevoeging van een lichtgevoelig bekledingsmateriaal vereisen. Op deze wijze vervullen de onderhavige lichtgevoelige materialen een 5 dubbele rol, zowel als verdikkingsmiddel als een lichtgevoelig, met licht te harden toevoegingsmiddel. Deze uitvoeringsvormen van de onderhavige samenstellingen zijn derhalve bruikbare lichtgevoelige met licht uit te harden verdikkingsmiddelen voor materialen zoals verven, inkten 10 en dergelijke.Specific embodiments of the present composition form a highly viscous, photosensitive degree, 3 r f 'i / f i. R * -4 material useful as an additive for compositions requiring both thickening and the addition of a photosensitive coating material. In this way, the present photosensitive materials perform a double role, both as a thickener and a photosensitive photosensitive additive. These embodiments of the present compositions are therefore useful photosensitive light-curable thickeners for materials such as paints, inks and the like.

Een bekledingssamenstelling die met licht uit te harden is omvat een UV gevoelige verbinding gekozen uit: gecarboxyleerd urethaandiacrylaat, gecarboxyleerd urethaantriacrylaat, gecarboxyleerd urethaandimethacrylaat 15 en gecarboxyleerd urethaantrimethacrylaat. Deze groep wordt hierna genoemd gecarboxyleerd urethaan di- (en/of) tri(meth)-acrylaat. Het zal duidelijk zijn dat (meth)-acrylaat hier bedoeld wordt acrylaat en/of methacrylaat te zijn.A light curable coating composition comprises a UV sensitive compound selected from: carboxylated urethane diacrylate, carboxylated urethane triacrylate, carboxylated urethane dimethacrylate and carboxylated urethane trimethacrylate. This group is hereinafter referred to as carboxylated urethane di- (and / or) tri (meth) acrylate. It will be clear that (meth) acrylate is meant here to be acrylate and / or methacrylate.

Deze gecarboxyleerde urethaan di- en/of tri(meth)-20 acrylaten worden bereid uit aangezuurde delen die de carboxyl-groep verschaffen. Deze samenstellingen worden bereid door condenseren van een diisocyanaat, een carbonzuurpolyol, en een hydroxyalkyl(meth)acrylaat. Het carbonzuurpolyol moet aanwezig zijn in een hoeveelheid die benodigd is om 25 tenminste ongeveer 0,3 milli-equivalenten zuur per gram van de samengevoegde hoeveelheid van de totale hoeveelheid reactiemiddelen te verschaffen; hierin afgekort als meq/g van TR (doorgaans is het totaal van de reagerende stoffen het diisocyanaat, carbonzuurpolyol, en hydroxyalkyl(meth)-30 acrylaat). Teneinde in dit produkt een geschikt lichtgevoe-ligheidsniveau te verkrijgen moet het hydroxyalkyl-(meth)acrylaat toegepast worden in een minimum hoeveelheid van ongeveer 0,5 milli-equivalenten per gram van de samengevoegde hoeveelheid van het diisocyanaat, carbonzuur di-35 of triol en hydroxyalkyl(meth)acrylaat.These carboxylated urethane di- and / or tri (meth) -20 acrylates are prepared from acidified parts providing the carboxyl group. These compositions are prepared by condensing a diisocyanate, a carboxylic acid polyol, and a hydroxyalkyl (meth) acrylate. The carboxylic acid polyol must be present in an amount necessary to provide at least about 0.3 milliequivalents of acid per gram of the pooled amount of the total amount of reactants; abbreviated herein as meq / g of TR (usually the total of the reactants is the diisocyanate, carboxylic acid polyol, and hydroxyalkyl (meth) -30 acrylate). In order to obtain an appropriate photosensitivity level in this product, the hydroxyalkyl (meth) acrylate must be used in a minimum amount of about 0.5 milliequivalents per gram of the combined amount of the diisocyanate, carboxylic acid di-35 or triol and hydroxyalkyl (meth) acrylate.

De onderhavige uitvinding omvat een verscheidenheid aan uitvoeringsvormen,verkregen door het combineren van bovengenoemd bekledingssamenstelling met andere specifiek gekozen bestanddelen. Dergelijke bestanddelen, gekozen p “7 t . 1 é W ƒ V' £. - ’"‘a , „IJ — 1~"· - | 4 .The present invention encompasses a variety of embodiments obtained by combining the above-mentioned coating composition with other specifically selected ingredients. Such constituents, selected p “7 t. 1 é W ƒ V '£. - "," a, "IJ - 1 ~" · - | 4.

-5- om een specifiek vermogen of eigenschap te verschaffen of te versterken omvatten: een bindmiddel, een verknopingsmid-del, kleurstoffen, pigmenten, thermopolymerisatieremmers, en toevoegingsmiddelen om de bekledingseigenschappen te 5 verbeteren.-5- to provide or enhance a specific ability or property include: a binder, a cross-linking agent, dyes, pigments, thermopolymerization inhibitors, and additives to enhance the coating properties.

De onderhavige, met licht uit te harden bekle-dingssamenstelling omvat het carboxyldeel, wat de organische oplosmiddelen minnende aard van het urethaan(meth)-acrylaatpolymeer verandert. Als resultaat worden de onder-10 havige bekledingssamenstellingen meer organisch oplosmiddel afstotend en zijn zodoende bestendig tegen organische oplosmiddelen zoals methyleenchloride. Voorts kunnen deze ge-carboxyleerde lichtgevoelige polymeren in grote hoeveelheden gemengd worden met andere waterminnende bindmiddelen en 15 verknopingsmiddelen. Bovendien maakt het inbrengen van het carboxyldeel de onderhavige bekledingssamenstelling oplosbaar of zwelbaar in waterige alkalische oplossingen (pH hoger dan 7,5) tot aan het blootstellen aan UV licht.The present photo-curable coating composition includes the carboxyl moiety, which changes the organic solvent-loving nature of the urethane (meth) acrylate polymer. As a result, the present coating compositions become more organic solvent repellent and thus resistant to organic solvents such as methylene chloride. Furthermore, these carboxylated photosensitive polymers can be mixed in large amounts with other water-loving binders and cross-linking agents. In addition, the introduction of the carboxyl moiety renders the present coating composition soluble or swellable in aqueous alkaline solutions (pH greater than 7.5) until exposed to UV light.

Met voordeel kan, wanneer de onderhavige samenstellingen 20 worden.toegepast om een bekledingslaag of een soldeermasker te verschaffen die met licht te harden zijn, kan de ontwik-kelstap met voordeel uitgevoerd worden in waterige alkalische oplossingen.Zodoende kan opgemerkt worden dat,hoewel het inbouwen van het carboxyldeel de aard van het urethaan(meth)-25 acrylaat verandert door het oplosbaar in waterige alkali te maken, de gevoeligheid van de verbinding voor UV licht behouden wordt. De carboxylering verbetert bovendien de hechting aan metalen. Zodoende wordt door de combinatie van een bindmiddel,een verknopingsmiddel en een gecarboxyleerd 30 urethaan di (en/of) tri(meth)acrylaat een verbeterd soldeermasker verschaft. Een voorkeurscombinatie zal gebruik maken van een copolymeer van styreen/maleïneanhydride als bindmiddel (die ook carboxylgroepen verschaft). Voorkeursver knopingsmiddel en zijn de (meth)acrylaat-, en polyfunk-35 tionele (meth)acrylaatmonomeren.Advantageously, when the present compositions are used to provide a coating or solder mask that can be cured with light, the developing step can be advantageously carried out in aqueous alkaline solutions. Thus, it can be noted that although incorporation of the carboxyl part, the nature of the urethane (meth) -25 acrylate changes by making it soluble in aqueous alkali, preserving the sensitivity of the compound to UV light. The carboxylation also improves adhesion to metals. Thus, the combination of a binder, a cross-linking agent and a carboxylated urethane di (and / or) tri (meth) acrylate provides an improved solder mask. A preferred combination will use a copolymer of styrene / maleic anhydride as a binder (which also provides carboxyl groups). Preferred crosslinking agents are the (meth) acrylate, and polyfunkial (meth) acrylate monomers.

Voorkeurs gecarboxyleerde urethaan di- (en/of) tri(meth)acrylaten volgens de onderhavige uitvinding kunnen voorgesteld worden door de formule weergegeven in de formule 1 van het formuleblad waarin n een geheel getal p ' f ‘ C & VPreferred carboxylated urethane di- (and / or) tri (meth) acrylates of the present invention can be represented by the formula shown in the formula 1 of the formula sheet where n is an integer p 'f' C & V

ψ · -βίε van 1-4; k kan zowel 0 als 1 zijn; en waarin R^,afgeleid van het acrylaatreactiebestanddeel (c), zowel een waterstofatoom als een methylgroep kan zijn; R£ eveneens verkregen uit het alkyl— (meth)acrylaatreactiebestanddeel 5 (c), een lineaire of vertakte "verzadigde" koolwaterstofgroep kan zijn met van 2-28 koolstofatomen en is afgeleid van het diisocyanaatdeel van het reactiemengsel.R^ kan een vertakte, lineaire of cyclische, verzadigde, onverzadigde of aromatische koolwaterstofgroep zijn.Rg mag van 4-20 10 koolstofatomen bezitten en bij voorkeur van 6-18 koolstofatomen. Voor andere voorkeursuitvoeringsvormen is R^ afgeleid uit het diisocyanaatreactiemiddel gekozen uit trimethylhexamethyleen, hexamethyleen, isoforon, tolyleen, 4,4-methylbis(cyclohexyl)methyleendifenyl, en tetramethyl-15 xyleendiisocyanaten. R^ is een lineaire, cyclische of vertakte, aromatische, verzadigde of onverzadigde koolwaterstof met van 2-28 koolstofatomen. R^ kan naar keuze ook een hydroxylgroep bevatten (die overblijft uit het polyol dat gebruikt wordt in de bereiding van de samen-20 stelling). R5 zal afgeleid zijn uit een reactiemengsel omvattende (a) het carbonzuurpolyol weergegeven en beschreven voor formule 2; of (b) het carbonzuurpolyol van formule 2 en uit het hydroxyldicarbonzuur weergegeven in en beschreven voor formule 3. Zodoende zal R^ altijd tenminste 25 één COOH-groep en een minimum aantal van 3 koolstofatomen bezitten. Wanneer Rj. is afgeleid van (a) (slechts uit de verbindingen van formule 2) zal het slechts één COOH-groep en een vertakte of lineaire; verzadigde, onverzadigde of aromatische structuur bij voorkeur met een totaal van 3-30 30 koolstofatomen met inbegrip van het carboxylkoolstofatoom. Wanneer R,. is afgeleid uit (b) zal de totale samenstelling R,.-groepen bezitten die afgeleid zijn van het carbonzuurpolyol van formule 2 en ook R^-groepen die zijn afgeleid van de hydroxyldicarbonzuren van formule 3. De R^-groepen 35 die zijn afgeleid van de hydroxyldicarbonzuurverbindingen van formule 3 zullen, dat zal duidelijk zijn, twee COOH-groepen bezitten en kunnen ook van 3-30 koolstofatomen bezitten met inbegrip van de twee carboxylkoolstofatomen.ψ · -βίε from 1-4; k can be either 0 or 1; and wherein R 1, derived from the acrylate reaction component (c), can be both a hydrogen atom and a methyl group; R 1 also obtained from the alkyl (meth) acrylate reaction component 5 (c), may be a linear or branched "saturated" hydrocarbon group having from 2 to 28 carbon atoms and is derived from the diisocyanate portion of the reaction mixture. or cyclic, saturated, unsaturated or aromatic hydrocarbon group. Rg may have from 4-20 carbon atoms and preferably from 6-18 carbon atoms. For other preferred embodiments, R 1 is derived from the diisocyanate reagent selected from trimethylhexamethylene, hexamethylene, isophorone, tolylene, 4,4-methylbis (cyclohexyl) methylenediphenyl, and tetramethyl-15-xylene diisocyanates. R ^ is a linear, cyclic or branched, aromatic, saturated or unsaturated hydrocarbon of from 2-28 carbon atoms. Optionally, R ^ may also contain a hydroxyl group (which remains from the polyol used in the preparation of the composition). R5 will be derived from a reaction mixture comprising (a) the carboxylic acid polyol shown and described for formula 2; or (b) the carboxylic acid polyol of formula 2 and from the hydroxyldicarboxylic acid shown in and described for formula 3. Thus, R 1 will always have at least one COOH group and a minimum number of 3 carbon atoms. When Rj. is derived from (a) (only from the compounds of formula 2) it will have only one COOH group and a branched or linear one; saturated, unsaturated or aromatic structure, preferably with a total of 3-30 carbon atoms including the carboxyl carbon atom. When R ,. is derived from (b), the total composition will have R 1 groups derived from the carboxylic acid polyol of formula 2 and also R 2 groups derived from the hydroxyldicarboxylic acids of formula 3. The R 3 groups derived of the hydroxyldicarboxylic acid compounds of formula 3, it will be appreciated, will have two COOH groups and may also have from 3-30 carbon atoms including the two carboxyl carbon atoms.

De beschrijving zoals hier gegeven voor de verbindingenThe description given here for the compounds

• o i U' £, & L• o i U '£, & L

i t -7- met formule 2 en formule 3 zal meer informatie verschaffen met betrekking tot de concentraties en voorkeursstructuren van deze R,.-groepen.t-7- of formula 2 and formula 3 will provide more information regarding the concentrations and preferred structures of these R1 groups.

Opgemerkt moet worden dat de juiste plaatsing 5 van iedere R^-groep in de polymeermolecule zal afhangen van het aantal reactieve hydroxylgroepen van de verbinding met formule 2 of formule 3 en van de enigszins willekeurige condenseringsreactie. Wanneer R^ bijvoorbeeld is afgeleid van (b) en wanneer y van formule 3 één is, zal R^ een 10 eindgroep zijn met twee COOH-groepen; tegelijkertijd zullen andere R^ groepen van hetzelfde reactiemengsel, (verkregen uit het carbonzuurpolyol van formule 2) willekeurig geplaatst zijn in de basisketen van de polymere moleculaire structuur zoals boven aangegeven in formule 1.It should be noted that the correct placement of each R 1 group in the polymer molecule will depend on the number of reactive hydroxyl groups of the compound of formula 2 or formula 3 and on the somewhat random condensation reaction. For example, when R ^ is derived from (b) and when y of formula 3 is one, R ^ will be an end group with two COOH groups; at the same time, other R groups of the same reaction mixture (obtained from the carboxylic acid polyol of formula 2) will be randomly placed in the base chain of the polymeric molecular structure as indicated above in formula 1.

15 In formule 1 bezit R2 bij voorkeur van 2-16 koolstofatomen, of met meer voorkeur, is het een groep gekozen uit de groep die bestaat uit ethyl, propyl, butyl formule 4 van het formuleblad waarin m = 1 of 2 is.In formula 1, R2 preferably has 2-16 carbon atoms, or more preferably, it is a group selected from the group consisting of ethyl, propyl, butyl formula 4 of the formula sheet wherein m = 1 or 2.

R^ is afgeleid van het gekozen polyol dat 20 toegevoegd kan worden aan het reactiemengsel. R^ zal daarom 2-28 koolstofatomen en van 2-5 zuurstofatomen bezitten.R1 is derived from the selected polyol which can be added to the reaction mixture. R 1 will therefore have 2-28 carbon atoms and 2-5 oxygen atoms.

De zuurstofatomen kunnen eventueel aanwezig zijn in een niet-gereageerd hebbende hydroxylgroep. Wanneer R^ aanwezig is, heeft het van 2-28 koolstofatomen of heeft R^ bij 25 voorkeur van 2-16 koolstofatomen; en eventueel een hydroxylgroep. Andere voorkeursuitvoeringsvormen laten R^ een verzadigde of onverzadigde koolwaterstofgroep zijn met van 2-10 koolstofatomen en van 2-5 zuurstofatomen, mogelijk als een hydroxylgroep die niet gereageerd heeft.The oxygen atoms may optionally be present in an unreacted hydroxyl group. When R 4 is present, it has from 2 to 28 carbon atoms, or preferably R 2 has from 2 to 16 carbon atoms; and optionally a hydroxyl group. Other preferred embodiments let R 1 be a saturated or unsaturated hydrocarbon group having from 2 to 10 carbon atoms and from 2 to 5 oxygen atoms, possibly as an unreacted hydroxyl group.

30 In specifieke voorbeelden van dergelijke voorkeursuitvoeringsvormen is R^ een groep gekozen uit: ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, en octyl, met 2 tot 5 zuurstofatomen van genoemde hydroxylgroepen.In specific examples of such preferred embodiments, R 4 is a group selected from: ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, and octyl, with 2 to 5 oxygen atoms of said hydroxyl groups.

4 kan ook afgeleid zijn uit glyceryl of 2-ethy1-2-(hydro-35 xymethy1)-1,3-propeen.4 may also be derived from glyceryl or 2-ethyl-1-2- (hydro-35-methylethyl) -1,3-propene.

De gecarboxyleerde urethaan di- (en/of) tri(meth)-acrylaten volgens de onderhavige uitvinding kunnen verkregen worden door het condenseren van een diisocyanaat met een carbonzuurpolyol (zie formule 2) en een hydroxyalkyl(meth)- ,t/ v L l: <2 * * -8- acrylaat in een ééntrapsreactie. Het carboxylbevattende polyol kan ieder carbonzuur zijn dat 2 of meer hydroxyl-groepen bevat. Geschikt zijn er 2 tot 5 hydroxylgroepen.The carboxylated urethane di- (and / or) tri (meth) acrylates of the present invention can be obtained by condensing a diisocyanate with a carboxylic acid polyol (see formula 2) and a hydroxyalkyl (meth) t / v L 1 : <2 * * -8- acrylate in a one-step reaction. The carboxyl-containing polyol can be any carboxylic acid containing 2 or more hydroxyl groups. Suitably there are 2 to 5 hydroxyl groups.

Bij voorkeur is het ofwel carbonzuurdiol of -triol.Preferably it is either carboxylic acid diol or triol.

5 Geschikt kan daarom het carbonzuurpolyol de formule be- zitten weergegeven in formule 2 van het formuleblad waarin x een geheel getal is van 2-5 en Rgeen vertakte, cyclische of lineaire, verzadigde, onverzadigde of aromatische koolwaterstofgroep is met 2-29 koolstofatomen. Bij 10 voorkeur heeft Rg van 2-24 koolstofatomen terwijl x 2 of 3 is (zoals in een diol of triol). Met het meeste voorkeur is x 2 en bezit Rg een vertakte of lineaire; verzadigde , onverzadigde, of aromatische, koolwaterstofstructuur met van 2-20 koolstofatomen. Een voorkeursuitvoerings-15 vorm gebruikt een alfa-alfadimethylolalkaancarbonzuur als gecarboxyleerd diol, met de meeste voorkeur met een alkyl-groep met 1-8 koolstofatomen. Andere voorkeursdiolcarbonzuren worden gekozen uit: alfa-alfadimethylolazijnzuur; alfa-alfa-dimethylolpropionzuur, alfa-alfadimethylolboterzuur, alfa-20 alfadiethylolazijnzuur; alfa-alfadiethylolpropionzuur, alfa-alfadipropylolpropionzuur; alfa-alfadipropylolboter-zuur, en 2,3-dihydroxypropaanzuur.Suitably, therefore, the carboxylic acid polyol may have the formula shown in formula 2 of the formula sheet wherein x is an integer of 2-5 and R is not a branched, cyclic or linear, saturated, unsaturated or aromatic hydrocarbon group having 2-29 carbon atoms. Preferably Rg has from 2 to 24 carbon atoms while x is 2 or 3 (as in a diol or triol). Most preferably x is 2 and Rg has a branched or linear; saturated, unsaturated, or aromatic, hydrocarbon structure of from 2 to 20 carbon atoms. A preferred embodiment uses an alpha-alpha-dimethylolalkanecarboxylic acid as a carboxylated diol, most preferably having an alkyl group of 1-8 carbon atoms. Other preferred diol carboxylic acids are selected from: alpha-alpha dimethylol acetic acid; alpha alpha dimethylol propionic acid, alpha alpha dimethylol butyric acid, alpha 20 alpha diethylol acetic acid; alpha alpha diethylol propionic acid, alpha alpha dipropylol propionic acid; alpha-alpha-dipropylol butyric acid, and 2,3-dihydroxypropanoic acid.

Naar keuze kan een polyol toegevoegd worden aan het reactiemengsel. Dit zal het moleculair gewicht van 25 het onderhavige produkt doen toenemen. De aanwezigheid van het polyol resulteert in materialen als weergegeven onder formule 1 waarin k=l.Optionally, a polyol can be added to the reaction mixture. This will increase the molecular weight of the present product. The presence of the polyol results in materials as shown under Formula 1 wherein k = 1.

Van één uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding kan bij voorkeur voordeel genomen worden wanneer een 30 hogere concentratie hydroxylgroepen aanwezig is, (zoals door het toevoegen van een polyol of door toepassing van een carbonzuur zoals getoond in formule 2 waarin x 3, 4 of 5 is). In deze uitvoeringsvorm wordt een hydroxyldicarbon-zuur toegevoegd aan het reactiemengsel. Formule 3 onder 35 stelt een formule voor van bepaalde geschikte hydroxylcarbon-zuren waarin y van 1 tot 5 kan zijn (bij voorkeur van 1 tot 3) en R^ een lineaire, cyclische, of vertakte; verzadigde, onverzadigde of aromatische koolwaterstofgroep is dat geschikt van 1-28 koolstofatomen bezit; bij voorkeur met van 1-18 f 7 Λ r / o 's*i £ V- ' i i» „Μ- ,· · -fc-yg·- * ( -9- en met meer voorkeur van 1-12 koolstofatomen. Wanneer y 2 tot 5 is ligt bij voorkeur van 2-18 koolstofatomen.Preferably, one embodiment of the present invention can be taken advantage of when a higher concentration of hydroxyl groups is present, (such as by adding a polyol or by using a carboxylic acid as shown in formula 2 wherein x is 3, 4 or 5) . In this embodiment, a hydroxyldicarboxylic acid is added to the reaction mixture. Formula 3 under 35 represents a formula of certain suitable hydroxylcarboxylic acids wherein y may be from 1 to 5 (preferably from 1 to 3) and R 1 is linear, cyclic, or branched; saturated, unsaturated or aromatic hydrocarbon group conveniently having 1-28 carbon atoms; preferably with from 1-18 f 7 Λ r / os * i £ V- 'ii »„ „-, · -fc-yg · - * (-9- and more preferably from 1-12 carbon atoms. When y is 2 to 5, it is preferably from 2-18 carbon atoms.

Deze dizuren kunnen bij voorkeur toegepast worden wanneer de hydroxylconcentratie van het totale reactiemengsel ten-5 minste ongeveer 0,3 milli-equivalenten OH per gram van de gecombineerde hoeveelheid reactiemiddelen bedraagt (het diisocyanaat, het carbonzuurpolyol, het Hydroxylalkyl(meth)-acrylaat, het hydroxyldicarbonzuur en het polyol indien aanwezig). Deze dizuren kunnen geschikt toegepast worden 10 in een hoeveelheid van ongeveer 0,3 tot ongeveer 0,7 milli-equiva lenten zuur per gram gecombineerde hoeveelheid reactiemiddelen. Bepaalde geschikte hydroxydicarbonzuren kunnen gekozen worden uit de groep die bestaat uit appelzuur, wijnsteenzuur, dihydroxywijnsteenzuur, hydroxyadipinezuur, 15 dihydroxyadipinezuur, en trihydroxyadipinezuur.These diacids can preferably be used when the hydroxyl concentration of the total reaction mixture is at least about 0.3 milliequivalents of OH per gram of the combined amount of reactants (the diisocyanate, the carboxylic acid polyol, the Hydroxylalkyl (meth) acrylate, the hydroxyldicarboxylic acid and the polyol if present). These diacids can suitably be used in an amount of from about 0.3 to about 0.7 milliequivalents of acid per gram of the combined amount of reactants. Certain suitable hydroxydicarboxylic acids can be selected from the group consisting of malic acid, tartaric acid, dihydroxy tartaric acid, hydroxyadipic acid, dihydroxyadipic acid, and trihydroxyadipic acid.

Deze dicarbonzuren kunnen toegepast worden om thermisch te harden aanhangsels of uiteinden te verschaffen.These dicarboxylic acids can be used to provide thermally curable appendages or ends.

Met voordeel kunnen deze einden ook reactieve plaatsen voor toekomstige reacties met andere materialen verschaffen.Advantageously, these ends can also provide reactive sites for future reactions with other materials.

20 Melamine en epoxy bijvoorbeeld zijn twee verbindingen of groepen die men kan laten reageren met de eindcarboxyl-groepen. Door dergelijke reacties kunnen de eigenschappen van het materiaal verder gewijzigd of verbeterd worden.For example, melamine and epoxy are two compounds or groups that can be reacted with the end carboxyl groups. Such reactions allow the properties of the material to be further modified or improved.

De gewenste specifieke eigenschappen of kwaliteiten zullen 25 afhangen van de beoogde toepassing van het materiaal.The desired specific properties or qualities will depend on the intended application of the material.

Om de onderhavige gecarboxyleerde urethaan di-(en/of) tri(meth)acrylaatbekledingssamenstelling te bereiden wordt de reactie uitgevoerd in een droge oplosmiddel oplossing die op zichzelf niet reageert met het isocyanaat.To prepare the present carboxylated urethane di- (and / or) tri (meth) acrylate coating composition, the reaction is carried out in a dry solvent solution which does not react with the isocyanate per se.

30 Geschikte voorbeelden van dergelijke oplosmiddelen zijn esters zoals ethylacetaat en propyleenglycolmonomethyl-etheracetaat; ketonen zoals methylethyl-keton, methyliso-butylketon, en N-methylpyrrolidon; aromatische koolwaterstoffen zoals tolueen, xyleen; en mengsels van bovenstaande 35 stoffen.Suitable examples of such solvents are esters such as ethyl acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and N-methyl pyrrolidone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene; and mixtures of the above 35 substances.

De reactie voor het bereiden van de onderhavige bekledingssamenstelling wordt doorgaans uitgevoerd met het vaste stof gehalte van de oplossing in het gebied van ongeveer 20 tot ongeveer 100 gew.%, bij voorkeur in het .676*842- * « -10- gebied van ongeveer 35 tot 95 gew.% en met de meeste voorkeur van ongeveer 65 tot ongeveer 85 gew.%. De reactietemperatuur ligt in het algemeen van ongeveer 50 tot ongeveer 95°C en bij voorkeur van ongeveer 65 tot 85°C. Bij voorkeur 5 wordt homopolymerisatie geremd door het toevoegen van een vrije radicaal polymerisatieremmer zoals hydrochinon, m-dinitrobenzeen, fenothiazine, en dergelijke. Met de meeste voorkeur worden zij toegepast in een hoeveelheid van ongeveer 0,005 tot ongeveer 1 gew.% gebaseerd op het ge-10 wicht aan vaste stoffen.The reaction to prepare the present coating composition is usually carried out with the solid content of the solution in the range of from about 20 to about 100% by weight, preferably in the .676 * 842- * «-10 range of about 35 to 95 wt%, and most preferably from about 65 to about 85 wt%. The reaction temperature is generally from about 50 to about 95 ° C, and preferably from about 65 to 85 ° C. Preferably, homopolymerization is inhibited by adding a free radical polymerization inhibitor such as hydroquinone, m-dinitrobenzene, phenothiazine, and the like. Most preferably they are used in an amount from about 0.005 to about 1% by weight based on the weight of solids.

Bovendien heeft het de voorkeur een condensatie-katalysator te gebruiken zoals tin- of aminekatalysatoren. Dergelijke katalysatoren kunnen gekozen worden uit de groep die bestaat uit: di-butyl tindilauraat, dimethyl tin-15 dineodecanoaat, dibutyltin-bisoctylthioglycolaat, tri- ethylamine, en triethyleendiamine. Voor de beste resultaten wordt de reactie uitgevoerd onder een droge lucht deken.In addition, it is preferable to use a condensation catalyst such as tin or amine catalysts. Such catalysts can be selected from the group consisting of: di-butyl tin dilaurate, dimethyl tin-15-dineodecanoate, dibutyltin bisoctyl thioglycolate, triethylamine, and triethylenediamine. For best results, the reaction is performed under a dry air blanket.

Het diisocyanaat kan een koolwaterstof zijn die vertakt, lineair, of cyclisch, verzadigd, onverzadigd of 20 aromatisch is. Doorgaans bezit het van 4-20 koolstofatomen bij voorkeur bezit het van 6-18 koolstofatomen. Diisocya-naten kunnen gekozen worden uit de groep die bestaat uit: xylyleendiisocyanaat; l-isocyanato-3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexaan; 3,3'-dimethyldifenylmethaan-4,4'-25 diisocyanaat; 2,4-tolyleendiisocyanaat; 2,6-tolyleendiiso-cyanaat; 2,2,4-trimethylhexamethyleendiisocyanaat, 2,4,4-trimethylhexamethyleendiisocyanaat; methyleen-bis(4-cyclo-hexylisocyanaat); hexamethyleendiisocyanaat; meta-tetra-methylxyleendiisocyanaat; paratetramethylxyleendiisocya-30 naat; methyleen-bis-fenyldiisocyanaat; 1,5-naftyleendiiso-cyanaat; metafenyleendiisocyanaat en mengsels van bovengenoemde stoffen. Diisocyanaten met de meeste voorkeur zijn: 2,6-tolyleendiisocyanaat; 2,4-tolyleendiisocyanaat; l-isocyanato-3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexaan; 35 2,2,4-trimethylhexamethyleendiisocyanaat, en 2,4,4-tri-methylhexamethyleendiisocyanaat.The diisocyanate can be a hydrocarbon that is branched, linear, or cyclic, saturated, unsaturated, or aromatic. Typically it has 4-20 carbon atoms, preferably it has 6-18 carbon atoms. Diisocyanates can be selected from the group consisting of: xylylene diisocyanate; 1-isocyanato-3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane; 3,3'-dimethyldiphenylmethane-4,4'-25 diisocyanate; 2,4-tolylene diisocyanate; 2,6-tolylene diisocyanate; 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate; methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate); hexamethylene diisocyanate; meta-tetramethylxylene diisocyanate; paratetramethylxylene diisocyanate; methylene bis-phenyl diisocyanate; 1,5-naphthylene diisocyanate; metaphenylene diisocyanate and mixtures of the above substances. Most preferred diisocyanates are: 2,6-tolylene diisocyanate; 2,4-tolylene diisocyanate; 1-isocyanato-3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane; 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate.

Wanneer een polyol bijgevoegd wordt zal het molecuul gewicht, de hardingssnelheid, en de verknopingsdicht-heid toenemen. Het polyol kan van 2-28 koolstofatomen be- ft “·? <·; ‘ · - · . υ / w J -½ -When a polyol is added, the molecular weight, cure speed, and crosslink density will increase. The polyol can be from 2-28 carbon atoms? <·; "- - ·. υ / w J -½ -

* P* P

-11- zitten. Het koolwaterstofdeel kan vertakt of lineair, verzadigd, onverzadigd of aromatisch zijn en van 2-5 hydroxyl-groepen bezitten. Bij voorkeur is het polyol een diol of triol met 2-16 koolstofatomen. Voorkeursdiolen kunnen geko-5 zen worden uit: ethyleenglycol, propyleenglycol, butaandiol, pentaandiol, hexaandiol, octaandiol, neopentylglycol, 2-methylpropaan-l,3-diol, cyclohexaandimethanol, en diethy-leenglycol. Andere voorkeurspolyolen omvatten glycerol, trimethylolpropaan, of hexaantriol dat eveneens gebruikt 10 kan worden.-11- sitting. The hydrocarbon moiety can be branched or linear, saturated, unsaturated or aromatic and have from 2-5 hydroxyl groups. Preferably, the polyol is a diol or triol with 2-16 carbon atoms. Preferred diols can be selected from: ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, pentanediol, hexanediol, octanediol, neopentyl glycol, 2-methylpropane-1,3-diol, cyclohexane dimethanol, and diethylene glycol. Other preferred polyols include glycerol, trimethylol propane, or hexanetriol which can also be used.

Het hydroxyalkyl- - (meth)acrylaat (bestand deel C) kan een alkylgroep bezitten met van ongeveer 2-28 koolstofatomen. Het alkyldeel kan eveneens lineair cyclisch of vertakt,verzadigd of onverzadigd zijn. Bij 15 voorkeur bezit de alkylgroep van het hydroxyalkyl(meth)- acrylaat van 2-12 koolstofatomen. Bepaalde voorkeurshydro-xyalkyl(meth)acrylaten kunnen gekozen worden uit: hydroxy-ethyl(meth)acrylaat, hydroxylpropyl(meth)acrylaat, hydroxy-butyl (meth)acrylaat, en verbindingen met de algemene for-20 mule^waarin m één of twee is.The hydroxyalkyl - (meth) acrylate (constituent C) may have an alkyl group having from about 2-28 carbon atoms. The alkyl moiety can also be linear cyclic or branched, saturated or unsaturated. Preferably, the alkyl group of the hydroxyalkyl (meth) acrylate has 2-12 carbon atoms. Certain preferred hydroxyalkyl (meth) acrylates can be selected from: hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxylpropyl (meth) acrylate, hydroxy-butyl (meth) acrylate, and compounds of the general formula 20 wherein m is one or two is.

Wanneer de onderhavige bekledingssamenstelling wordt bereid dienen de concentraties aan reagerende stoffen zodanig te zijn dat de totale concentratie hydroxylgroepen tenminste ongeveer gelijk is aan de hoeveelheid aanwezig 25 diisocyanaat. In het algemeen betekent dit dat de concentratie polyolen plus diolen van het dialkylolcarbonzuur plus het hydroxyalkyl(meth)acrylaat voldoende is om de verhouding van hydroxyl tot diisocyanaat tenminste op ongeveer 0,95:1 te brengen, en bij voorkeur op tenminste 30 1:1. Met de meeste voorkeur bezit het hydroxyldeel een overmaat equivalenten. Bij voorkeur moet het hydroxyl een overmaat equivalenten hebben in verhouding tot het diisocyanaat in het gebied van ongeveer 1,05:1 tot ongeveer 0,95:1; met de meeste voorkeur ligt in het gebied van 1,02:1 35 tot ongeveer 1:1.When preparing the present coating composition, the concentrations of reactants should be such that the total concentration of hydroxyl groups is at least about equal to the amount of diisocyanate present. Generally, this means that the concentration of polyols plus diols of the dialkylol carboxylic acid plus the hydroxyalkyl (meth) acrylate is sufficient to bring the ratio of hydroxyl to diisocyanate at least about 0.95: 1, and preferably at least 30 1: 1 . Most preferably, the hydroxyl moiety has an excess of equivalents. Preferably, the hydroxyl should have an excess of equivalents relative to the diisocyanate in the range from about 1.05: 1 to about 0.95: 1; most preferred is in the range of from 1.02: 1 to about 1: 1.

Het carbonzuurpolyol is een belangrijk bestanddeel van de onderhavige bekledingssamenstelling en is bij voorkeur aanwezig in een hoeveelheid die voldoende is om ongehard copolymeer oplosbaar of zwelbaar te laten 8»: * i / i. . - - -12- * * zijn in waterige alkalioplossingen. Bij voorkeur is het carbonzuurpolyol aanwezig in een minimum hoeveelheid van ongeveer 0,3 milli-equivalenten zuur/gram van de totale hoeveelheid reagerende stoffen; bij voorkeur in een hoe-5 veelheid gelijk of groter dan 0,5 milli-equivalenten zuur/-gram van de totale hoeveelheid reagerende stoffen.The carboxylic acid polyol is an important component of the present coating composition and is preferably present in an amount sufficient to leave unhardened copolymer soluble or swellable. . - - -12- * * are in aqueous alkali solutions. Preferably, the carboxylic acid polyol is present in a minimum amount of about 0.3 milliequivalents of acid / gram of the total amount of reactants; preferably in an amount equal to or greater than 0.5 milliequivalents of acid / gram of the total amount of reactants.

De polaire oplosbaarheid is zelfs hoger wanneer het carbonzuurpolyol wordt toegepast in het reactiemeng-sel in een hoeveelheid groter dan 0,8 zuur milli-equivalen-10 ten per gram van de totale hoeveelheid reagerende stoffen (meq/g van TR).The polar solubility is even higher when the carboxylic acid polyol is used in the reaction mixture in an amount greater than 0.8 of acid milli-equivalents per gram of the total amount of reactants (meq / g of TR).

Een voorkeursgebied van zuur meq/g van TR ligt van ongeveer 0,8-1,6 zuur meq/g van TR. Wanneer een hoog visceus produkt, dat buitengewoon geschikt is voor het 15 combineren met andere materialen,wordt gewenst, heeft het de voorkeur dat het reactiemengsel een minimum hoeveelheid van ongeveer één zuur meq/g van TR bevat; een gebied met de meeste voorkeur ligt van ongeveer 1 tot 1,6 zuur meq/g van TR. Het gebruik van het tweewaardig zuur van formule 20 3 van het formuleblad kan ook gebruikt worden om de hoeveel heid zuur milli-equivalenten te vergroten.A preferred range of acidic meq / g of TR is from about 0.8-1.6 acidic meq / g of TR. When a highly viscous product, which is extremely suitable for combining with other materials, is desired, it is preferred that the reaction mixture contain a minimum amount of about one acid meq / g of TR; a most preferred range is from about 1 to 1.6 acid meq / g of TR. The use of the divalent acid of formula 20 of the formula sheet can also be used to increase the amount of acid milliequivalents.

Een ander voordeel verschaft door het carboxyleren van urethaan di- en tri(meth)acrylaten is dat de ÜV gevoelige verbinding gecombineerd kan worden met waterminnende 25 harsen. Verder kan door variëren van de concentratie van de carboxylering in de urethaan di- en tri(meth)acrylaten de waterminnende aard van deze ÜV gevoelige verbinding tot op zekere hoogte geregeld worden. Dit maakt het mogelijk het waterminnende karakter voor een specifieke hars in 30 te stellen. Zodoende kan wanneer men een meer waterafstotende of minder waterminnende hars wenst te gebruiken, een lage carboxyleringsconcentratie toegepast worden in het urethaan di- en tri(meth)acrylaat om de verdraagbaar-heid met de gekozen hars te doen toenemen. Daarentegen 35 zou, wanneer men een waterminnende hars wenst te gebruiken de carboxylgroepen concentratie zodanig verhoogd worden dat de hars en het urethaan di- en tri(meth)acrylaat gemengd kunnen worden in hogere concentraties. Het carbonzuurpolyol kan aanvaardbaar gebruikt worden in het reactiemengsel r ‘ t V- ‘ ; s? s -13- in concentraties waarbij het gecarboxyleerde polyol in een hoeveelheid van ongeveer 5 tot ongeveer 45 gew.% van de totale hoeveelheid reagerende stoffen (afgekort als per gew.deel TR) aanwezig is, bij voorkeur van ongeveer 5 5 tot ongeveer 25 gew.% TR, met de meeste voorkeur van ongeveer 12 tot ongeveer 25 gew.% TR.Another advantage provided by carboxylating urethane di- and tri (meth) acrylates is that the UV sensitive compound can be combined with water-loving resins. Furthermore, by varying the concentration of the carboxylation in the urethane di- and tri (meth) acrylates, the water-loving nature of this UV sensitive compound can be controlled to a certain extent. This makes it possible to set the water-loving character for a specific resin. Thus, if one wishes to use a more water-repellent or less water-loving resin, a low carboxylation concentration can be used in the urethane di- and tri (meth) acrylate to increase compatibility with the selected resin. In contrast, if one wishes to use a water-loving resin, the carboxyl group concentration would be increased such that the resin and urethane di- and tri (meth) acrylate can be mixed at higher concentrations. The carboxylic acid polyol can be used acceptably in the reaction mixture r "t V-"; s? s -13- in concentrations where the carboxylated polyol is present in an amount of from about 5 to about 45% by weight of the total amount of reactants (abbreviated as per part by weight TR), preferably from about 5 to about 25% by weight % TR, most preferably from about 12 to about 25% by weight TR.

Wanneer eveneens een bepaald polyol ingevoerd is kan dit in het reactiemengsel gebruikt worden in een hoeveelheid van ongeveer 2 tot ongeveer 18 gew.% TR; en 10 bij voorkeur met van 2 tot ongeveer 15 gew.% TR.When a particular polyol is also introduced, it can be used in the reaction mixture in an amount of from about 2 to about 18 weight percent TR; and 10 preferably with from 2 to about 15 weight percent TR.

Voor het diisocyanaat ligt een aanvaardbaar concentratiegebied van ongeveer 30 tot ongeveer 80 gew.% TR.For the diisocyanate, an acceptable concentration range is from about 30 to about 80 weight percent TR.

Bij voorkeur strekt dit gebied zich uit van ongeveer 50 tot 75 gew.% TR.Preferably, this range ranges from about 50 to 75 wt% TR.

15 Het hydroxyalkyl(meth)acrylaat dient in het reac tiemengsel aanwezig zijn in een minimale hoeveelheid van ongeveer 0,50 meq acrylaat/g van TR om een geschikte UV gevoeligheid te verzekeren. Een geschikt gebied ligt van ongeveer 0,5 tot ongeveer 1,6 meq acrylaat/g van TR. Een 20 aanvaardbaar gewichtspercentagegebied loopt in een hoeveelheid van ongeveer 5 tot ongeveer 50 gew.% van TR en bij voorkeur wordt het toegepast in een hoeveelheid van ongeveer 10 tot ongeveer 30 gew.% van TR.The hydroxyalkyl (meth) acrylate should be present in the reaction mixture in a minimum amount of about 0.50 meq acrylate / g of TR to ensure suitable UV sensitivity. A suitable range is from about 0.5 to about 1.6 meq acrylate / g of TR. An acceptable weight percent range ranges from about 5 to about 50% by weight of TR and preferably it is used in an amount from about 10 to about 30% by weight of TR.

De onderhavige gecarboxyleerde urethaan di- (en/of) 25 tri(meth)acrylaatcopolymeer bekledingssamenstelling kan aanvaardbaar een gewichtsgemiddeld moleculair gewicht van ongeveer 500 tot ongeveer 6500 bezitten, bij voorkeur van ongeveer 800 tot ongeveer 3000 en met de meeste voorkeur van ongeveer 1000 tot ongeveer 2500 (bepaald middels 30 de gelpermeation chromatografie en gebaseerd op een standaard polystyreen ijkingskromme).The present carboxylated urethane di- (and / or) tri (meth) acrylate copolymer coating composition may acceptably have a weight average molecular weight of from about 500 to about 6500, preferably from about 800 to about 3000, and most preferably from about 1000 to about 2500 (determined by gel permeation chromatography and based on a standard polystyrene calibration curve).

In een voorkeursuitvoeringsvorm wordt de onderhavige bekledingssamenstelling gecombineerd met een bindmiddel.In a preferred embodiment, the present coating composition is combined with a binder.

De hars die hiervoor bij voorkeur wordt toegepast 35 dient een glasovergangstemperatuur (Tg) van ongeveer 155°C of hoger bezitten, en moet bij voorkeur waterminnend zijn. De hoge (Tg) zal de temperatuurbestendigheid verbeteren. Verscheidene in de handel verkrijgbare harsen kunnen toegepast worden. Verdraagbare mengsels kunnen ver- •870234? • '* -14- kregen worden met het onderhavige gecarboxyleerde urethaan di- (en/of) tri(meth)acrylaten,in het bijzonder bij geschikt variëren van de carboxylconcentratie. Aanvaardbare harsen die gebruikt kunnen worden voor dit doel zijn sty-5 reen/maleïnezuuranhydridecopolymeren, in het bijzonder die die gedeeltelijk veresterd zijn met laag moleculair gewicht alcoholen. Copolymeren van styreen/maleïnezuuranhydri-de die veresterd zijn met mengsels van alcoholen van methyl tot butyl zijn in de handel verkrijgbaar. Dergelijke copoly-10 meren zijn in een breed moleculair gewichtsgebied in de handel verkrijgbaar. Doorgaans zal het moleculaire gewicht van dit hars-bindmiddel in het gebied liggen van ongeveer 25000 tot ongeveer 300000; en met meer voorkeur van ongeveer 60000 tot ongeveer 250000. Bij voorkeur heeft het 15 gebruikte copolymeer een verhouding styreen tot maleïne-zuuranhydride in het gebied van ongeveer 1:1 tot ongeveer 2:1. Een voorkeurs (Tg) gebied voor het bindmiddel ligt van ongeveer 155°C tot ongeveer 200°C.The preferred resin for this should have a glass transition temperature (Tg) of about 155 ° C or higher, and should preferably be water-loving. The high (Tg) will improve the temperature resistance. Several commercially available resins can be used. Compatible mixtures can • 870234? • * -14- are obtained with the present carboxylated urethane di- (and / or) tri (meth) acrylates, especially when suitably varying the carboxyl concentration. Acceptable resins that can be used for this purpose are styrene / maleic anhydride copolymers, especially those partially esterified with low molecular weight alcohols. Copolymers of styrene / maleic anhydride esterified with mixtures of alcohols from methyl to butyl are commercially available. Such copolymers are commercially available in a wide molecular weight range. Typically, the molecular weight of this resin binder will range from about 25000 to about 300000; and more preferably from about 60000 to about 250000. Preferably, the copolymer used has a styrene to maleic anhydride ratio in the range of about 1: 1 to about 2: 1. A preferred (Tg) range for the binder is from about 155 ° C to about 200 ° C.

Doorgaans kan het bindmiddel gebruikt worden 20 in een hoeveelheid van ongeveer 85 tot ongeveer 25 gew.% van de totale samenstelling en bij voorkeur van ongeveer 17 tot ongeveer 60 gew.% van de totale samenstelling. Bij voorkeur wordt de gecarboxyleerde urethaan di- (en/of) tri(meth)acrylaat bekledingssamenstelling gemengd met het 25 bindmiddel zodanig dat de glasovergangstemperatuur (Tg) van een eindprodukt ligt van ongeveer 70 tot ongeveer 190°C. Bij voorkeur ligt het bindmiddelzuurgetal van ongeveer 120 tot ongeveer 280 mg KOH/g van het bindmiddel. Andere polymeren met het bovenbeschreven moleculair gewicht, Tg, 30 en zuurgetal kunnen ook gebruikt worden als bindmiddel met de onderhavige gecarboxyleerde urethaan di- (en/of) tri(meth)acrylaat bekledingssamenstelling. Geschikte polymeren voor toepassing als bindmiddelen omvatten: methyl-methacrylaat-comethacrylzuur en methylmethacrylaat-methyl-35 acrylaatmethylacrylzuur.Typically, the binder can be used in an amount of from about 85% to about 25% by weight of the total composition, and preferably from about 17% to about 60% by weight of the total composition. Preferably, the carboxylated urethane di ((and / or) tri (meth) acrylate) coating composition is mixed with the binder such that the glass transition temperature (Tg) of a final product is from about 70 to about 190 ° C. Preferably, the binder acid number is from about 120 to about 280 mg KOH / g of the binder. Other polymers of the above molecular weight, Tg, 30 and acid number can also be used as a binder with the present carboxylated urethane di (and / or) tri (meth) acrylate coating composition. Suitable polymers for use as binders include: methyl methacrylate comethacrylic acid and methyl methacrylate methyl 35 acrylate methyl acrylic acid.

Wanneer het onderhavige gecarboxyleerde urethaan di- (en/of) tri(meth)acrylaat wordt gebruikt met andere materialen zoals de boven beschreven bindmiddelen, of andere toevoegsels die als toevoeging toegelaten kunnen ,8702942When the present carboxylated urethane di- (and / or) tri (meth) acrylate is used with other materials such as the above-described binders, or other additives that may be added, 8702942

X PX P

-15- worden zoals verknopingsmiddelen, kleurstoffen,- oplosmiddelen pigmenten, fotoinitiatoren, thermische remmers, dient de concentratie van het ÜV gevoelige gecarboxyleerde bekle-dingsbestanddeel te liggen in het gebied van ongeveer 10 5 tot ongeveer 85 gew.% van de totale gecombineerde samenstelling. Bij voorkeur ligt dit in het gebied van ongeveer 15 tot ongeveer 75 gew.% en met de meeste voorkeur in het gebied van ongeveer 17 tot ongeveer 60 gew.% van de totale gecombineerde samenstelling.Such as cross-linking agents, dyes, solvent pigments, photoinitiators, thermal inhibitors, the concentration of the UV sensitive carboxylated coating component should be in the range of about 10 to about 85% by weight of the total combined composition. Preferably it is in the range from about 15 to about 75 wt%, and most preferably in the range from about 17 to about 60 wt% of the total combined composition.

10 Voorkeursverknopingsmiddelen zijn de (meth)acry- laatmonomeren. Verknopingsmiddelen worden gebruikt wanneer het wenselijk is een samenstelling te verkrijgen met een hogere verknopingsdichtheid , wat op zijn beurt de bestendigheid tegen oplosmiddelen zoals methyleenchloride verbetert.Preferred cross-linking agents are the (meth) acrylate monomers. Cross-linking agents are used when it is desirable to obtain a composition with a higher cross-linking density, which in turn improves resistance to solvents such as methylene chloride.

15 Meer voorkeur gaat uit naar polyfunktionele (meth)acrylaat-monomeren. Dergelijke polyfunktionele monomeren kunnen gekozen worden uit: trimethylolpropaantri(meth)acrylaat, trimethylpropaan geëthoxyleerd tri(meth)acrylaat, dipen-taerythritolhydroxypenta-acrylaat, en ditrimethylolpro-20 paantetra-acrylaat.More preferred are polyfunctional (meth) acrylate monomers. Such polyfunctional monomers can be selected from: trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylpropane ethoxylated tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, and ditrimethylolpro-20 tetraacrylate.

Andere verknopingsmiddelen die toegepast kunnen worden kunnen gekozen worden uit de groep die bestaat uit divinylethers, geacryleerde epoxyden, epoxyharsen, en aminoplastische harsen. De geacryleerde epoxyden bezitten 25 de voorkeur daar zij de totale warmtebestendigheid, hechting oplosmiddelbestendigheid en totalev'verbeteren.Other cross-linking agents that can be used can be selected from the group consisting of divinyl ethers, acrylated epoxides, epoxy resins, and aminoplastic resins. The acrylated epoxides are preferred as they improve overall heat resistance, solvent resistance adhesion, and total improvement.

Wanneer de onderhavige gecarboxyleerde bekle- dingssamenstelling wordt toegepast als soldeermasker wordt de samenstelling aangebracht in de laag op een geschikt 30 substraat, en gedroogd tot kleefvrije toestand. Het beklede substraat wordt van een beeld voorzien met van ongeveer 2 75-105 mJ/cm . UV straling, en kan daarna ontwikkeld worden met een waterige alkalische oplossing.Bij voorkeur is de waterige alkali-oplossing kalium of natriumcarbo-35 naat. In het algemeen wordt het belichte beklede substraat op dit moment nagekeken.When the present carboxylated coating composition is used as a solder mask, the composition is layered onto a suitable substrate and dried to tack-free state. The coated substrate is imaged at approximately 2 75-105 mJ / cm. UV radiation, and can then be developed with an aqueous alkaline solution. Preferably, the aqueous alkali solution is potassium or sodium carbonate. Generally, the exposed coated substrate is currently under review.

Wanneer de onderhavige bekledingssamenstel-ling wordt toegepast is het voordelig dat,indien gewenst, een bekleding gemakkelijk verwijderd kan worden met een ,8702542 Λ * » -16- waterige alkalische reiniger, en opnieuw behandeld kan worden. De hoeveelheid alkali die nodig is in het stripmid- del of ontwikkelingsoplossing is zeet gering. Een oplossing die 1 gew.% van de base bevat kan toegepast worden. Wanneer 5 de gewenste kwaliteit van een beeld verkregen is kan de onderhavige bekleding een naharding met UV gegeven worden 2 van 3-5 J/cm . Dit wordt gevolgd door een warmteharding bij voorkeur bij 150°C gedurende een voldoende lange hardingstijd. De onderhavige samenstellingen hebben bijzonder 10 goede resolutie-eigenschappen, buigzaamheid en hechting aan metalen.When using the present coating composition, it is advantageous that, if desired, a coating can be easily removed with an aqueous alkaline cleaner and re-treated. The amount of alkali required in the stripping agent or developing solution is very small. A solution containing 1% by weight of the base can be used. When the desired quality of an image is obtained, the present coating can be given a post-UV curing of 3-5 J / cm. This is followed by heat curing preferably at 150 ° C for a sufficiently long curing time. The present compositions have particularly good resolution properties, flexibility and adhesion to metals.

De onderhavige uitvinding kan ook eenvoudig begrepen worden uit de volgende voorbeelden. Het moet echter duidelijk zijn dat deze voorbeelden gegeven worden om de onderhavige 15 uitvinding toe te lichten en zij mogen niet gebruikt worden om de uitvinding te beperken. Alle delen en percentages zijn op gewichtsbasis tenzij anders aangegeven.The present invention can also be easily understood from the following examples. It should be understood, however, that these examples are given to illustrate the present invention and should not be used to limit the invention. All parts and percentages are by weight unless otherwise indicated.

Voorbeeld 1♦ 20 Het volgende voorbeeld verduidelijkt een bereiding van de lichtgevoelige bekledingssamenstelling.Example 1 ♦ The following example illustrates a preparation of the photosensitive coating composition.

De volgende bestanddelen werden gebracht in een 5 liter rondbodem kolf, uitgerust met een mechanische roerder, een thermometer, een condensor, een gasinlaat 25 en een verwarmingsmantel: 236,0 g (g), (ongeveer 4 equivalenten), van 1,6 hexaandiol; 268,0 g (ongeveer 4 equivalenten) dimethylolpropionzuur; 951,2 g (ongeveer 8,2 equivalenten) 2-hydroxyethylacrylaat; 0,23515 fenothiazine als een vrije radicaa1remmer; 783,8 g N-methyl-2-pyrroli-30 don als oplosmiddel; en 31,35 g (dibutyltindilauraat (T—12) als katalysator. Onder* deken van droge lucht en onder roeren werd 1,680,0 g (ongeveer 16 equivalenten) trimethylhexa-methyleendiisocyanaat in twee gelijke porties met 30 min. tussentijd in het mengsel ingebracht. Bij iedere toevoeging 35 vond een exotherme reactie plaats. De reactietemperatuur werd onder 85°C gehouden door koelen met een ijswaterbad en na de tweede toevoeging van trimethylhexamethyleen-diisocyanaat werd de reactietemperatuur op een konstante waarde van 85°c gehouden gedurende 10-12 uur totdat de O '7 A A =-: > . V { V t- t t * -17- isocyanaat infrarood absorptiepiek verdwenen wasf wat aangaf dat de reactie voltooid was.The following ingredients were placed in a 5 liter round bottom flask equipped with a mechanical stirrer, a thermometer, a condenser, a gas inlet 25 and a heating jacket: 236.0 g (g), (about 4 equivalents), of 1.6 hexanediol ; 268.0 g (about 4 equivalents) of dimethylol propionic acid; 951.2 g (about 8.2 equivalents) of 2-hydroxyethyl acrylate; 0.23515 phenothiazine as a free radical inhibitor; 783.8 g of N-methyl-2-pyrroli-30 don as a solvent; and 31.35 g (dibutyltin dilaurate (T-12) as a catalyst. Under dry air and stirring, 1,680.0 g (about 16 equivalents) of trimethylhexamethylene diisocyanate was introduced into the mixture in two equal portions at 30 minute intervals. An exothermic reaction took place with each addition 35. The reaction temperature was kept below 85 ° C by cooling with an ice water bath and after the second addition of trimethylhexamethylene diisocyanate, the reaction temperature was kept at a constant value of 85 ° C for 10-12 hours until the O '7 AA = -:>. V {V t-t * 17 -isocyanate infrared absorption peak disappeared, indicating that the reaction was complete.

Voorbeeld 2.Example 2.

5 De lichtgevoelige bekledingslaagsamensteliing die bereid was in voorbeeld 1 werd gebruikt om een lichtgevoelig soldeermasker te bereiden. Het soldeermasker werd bereid door de volgende bestanddelen in te brengen in een 500 ml rond-bodem kolf uitgevoerd met roerder,gasinlaat,thermometer 10 en condensor: 6,5 g van een laag moleculair gewicht copoly-meer ontschuimingsmiddel; 91,25 g N-methyl-2-pyrrolidon als oplosmiddel; waaraan 82,0 g van een veresterde styreen/-maleïnezuuranhydridecopolymeer werd toegevoegd als bindmiddel. (De hier gebruikte hars was Scripset 550, Monsanto).The photosensitive coating layer composition prepared in Example 1 was used to prepare a photosensitive solder mask. The solder mask was prepared by introducing the following ingredients into a 500 ml round bottom flask run with stirrer, gas inlet, thermometer 10 and condenser: 6.5 g of a low molecular weight copolymer defoamer; 91.25 g of N-methyl-2-pyrrolidone as a solvent; to which 82.0 g of an esterified styrene / maleic anhydride copolymer was added as a binder. (The resin used here was Scripset 550, Monsanto).

15 Het mengsel werd geroerd en verwarmd tot 95°C gedurende 30 min. om een troebele oplossing te verkrijgen. Hierna werd de temperatuur verlaagd tot 70°C waarna de volgende bestanddelen werden toegevoegd aan het mengsel: 0,004 g van de vrije radicaal polymeriseringsremmer, fenothiazine; 20 77,5 g van de ÜV gevoelige bekledingssamenstelling bereid volgens voorbeeld 1, en 9,0 g van een groen pigment. Terwijl het mengsel onder een stroom droge lucht werd gehouden, werd een van tevoren gemengde oplossing die de volgende stoffen bevat toegevoegd: 47,8 g trimethylolpropaantri-25 acrylaat (SR351) als verknopingsmiddel, 6,5 g isopropyl-thioxanthon (afgekort als ITX) als fotoinitiator en 8,4 g ethyl-p-dimethylaminobenzoaat (afgekort tot EPD) als sensibilisator.The mixture was stirred and heated to 95 ° C for 30 min to obtain a cloudy solution. After this, the temperature was lowered to 70 ° C, after which the following ingredients were added to the mixture: 0.004 g of the free radical polymerization inhibitor, phenothiazine; 77.5 g of the UV sensitive coating composition prepared according to example 1, and 9.0 g of a green pigment. While the mixture was kept under a stream of dry air, a pre-mixed solution containing the following substances was added: 47.8 g of trimethylolpropane triacrylate (SR351) as a cross-linking agent, 6.5 g of isopropylthioxanthone (abbreviated as ITX) as photoinitiator and 8.4 g of ethyl p-dimethylaminobenzoate (abbreviated to EPD) as sensitizer.

De bovengenoemde bestanddelen werden gemengd 30 onder droge lucht gedurende 30 min. bij 70°C, waarna het mengsel in een amberkleurige fles werd gedaan. Het aldus bereide soldeermasker werd toegepast als beschreven in voorbeeld 3.The above ingredients were mixed under dry air for 30 min at 70 ° C, after which the mixture was placed in an amber bottle. The solder mask thus prepared was used as described in Example 3.

35 Voorbeeld 3.35 Example 3.

De samenstelling,bereid in voorbeeld 2,werd aangebracht als bekledingslaag op twee 15 x 20 cm onbedekte met koper beklede epoxy onderlagen in een dikte van ongeveer 50 pm onder gebruikmaking van een 75 mesh monofilament 0 7'- * V / v Ah. V'The composition prepared in Example 2 was applied as a coating to two 15 x 20 cm uncovered copper-coated epoxy backings in a thickness of about 50 µm using a 75 mesh monofilament 0 7 * V / v Ah. V '

* V* V

-18- polyesterzeef en een rubber rakel met een durometerhardheid van 70. Deze natt.e bekledingslaag werd gedroogd tot een d/ikke laag kleefvrije 35 jum^'in een oven met gedwongen luchtcirculatie bij 100°C tijdens een periode van 12 min.Polyester sieve and a rubber squeegee with a durometer hardness of 70. This wet coating was dried to a coat of tack-free 35 µm in an oven with forced air circulation at 100 ° C over a period of 12 min.

5 Nadat deze gedroogde dunne lagen waren afgekoeld 2 tot kamertemperatuur werden zij blootgesteld aan 75 mj/cm . door een IPC (Institute for Interconnecting Packaging electronic circuits) No. B-25 negatief ontwerp met een 400 watt kwikdamplamp. De aan het licht blootgestelde dunne 10 lagen werden daarna met de hand ontwikkeld in een 1%'s oplossing van I^CO^ gedurende 45 sec. en daarna gespoeld met leidingwater.After these dried thin layers were cooled to room temperature, they were exposed to 75 mj / cm. by an IPC (Institute for Interconnecting Packaging electronic circuits) No. B-25 negative design with a 400 watt mercury vapor lamp. The light-exposed thin layers were then manually developed in a 1% solution of 10 CO 2 for 45 sec. and then rinsed with tap water.

Een uitmuntende resolutie van het IPC B-25 werd verkregen.An excellent resolution of the IPC B-25 was obtained.

15 Na dit ontwikkelen werden de platen gehard metAfter this development, the plates were cured with

2 Q2 Q

3 J/cin enbij verhoogde temperatuur gebakken bij 150 C, gedurende 1 uur als naharding.3 J / cin and baked at an elevated temperature at 150 ° C for 1 hour as post-curing.

Eén van de ondergrondplaten werd daarna gedrenkt in methyleenchloride (afgekort MeC^) gedurende 15 min.One of the substrate plates was then soaked in methylene chloride (abbreviated MeCl 2) for 15 min.

20 en er werd geen verslechtering van het masker waargenomen (oplosmiddelbestendigheidsproef).And no deterioration of the mask was observed (solvent resistance test).

De andere plaat onderging een kruissnede-hechtingstest volgens ASTM D3359-78 werkwijze B, en er werden geen hechtingsverliezen gevonden. De plaat werd 25 daarna bestreken met een harsvloeimiddel, men liet het drijven op een gesmolten soldeerpot bij 260-275°C gedurende 10 min. met de kant waarop het soldeermasker staat onder.The other plate underwent a cross-cut adhesion test according to ASTM D3359-78 Method B, and no adhesion losses were found. The plate was then coated with a resin flux, allowed to float on a molten solder pot at 260-275 ° C for 10 min with the solder mask side underneath.

Na de soldeerpotproef werd de plaat onmiddellijk schoon gewassen met 1,1,1-trichloorethaan terwijl de plaat nog 30 warm was. Een uur later onderging de plaat dezelfde kruissnede hechtingstest en er werd geen hechtingsverlies waargenomen.After the solder pot test, the plate was immediately washed clean with 1,1,1-trichloroethane while the plate was still warm. An hour later, the plate underwent the same cross cut adhesion test and no loss of adhesion was observed.

Voorbeeld 4.Example 4.

35 Met gebruikmaken van de inrichting en de alge mene werkwijze zoals beschreven in voorbeeld 1 werden ure-thaandiacrylaatoligomeren bereid die varieerden in de mate van carboxylering. Monster 4 had geen carboxylering en monster 9 had de hoogste mate aan carboxylering. Elk £ r-_ e\ n ,? ' !> t u;* iu* % 9 -19- der monsters werd bereid op basis van 80% vaste stof. De gebruikte samenstelling van ieder afzonderlijk monster wordt weergegeven in tabel 1 hieronder.Using the device and the general method as described in Example 1, urethane diacrylate oligomers were prepared which varied in the degree of carboxylation. Sample 4 had no carboxylation and Sample 9 had the highest degree of carboxylation. Each £ r-_ e \ n,? The samples were prepared on the basis of 80% solids. The composition of each individual sample used is shown in Table 1 below.

Tabel 1♦ 5 De volgende afkortingen zijn toegepast.Table 1 ♦ 5 The following abbreviations have been applied.

DMPA = dimethylolpropionzuur 2HEA = 2-hydroxyethylacrylaat TMDI = trimethylhexamethyleendiisocyanaat DTN = dimethyltindineodecanoaat 10 M-Pyrol = N-methylpyrrolidon eq. = equivalent.DMPA = dimethylolpropionic acid 2HEA = 2-hydroxyethyl acrylate TMDI = trimethylhexamethylene diisocyanate DTN = dimethyltindineodecanoate 10 M-Pyrol = N-methylpyrrolidone eq. = equivalent.

Monster 4 Monster 5 eg. gewicht eq. gewicht (g) Cg) 15 1,6 hexaandiol 8 472 7,0 413,0 DMPA - - 1,0 67,0 2HEA 8,1 939,6 8,2 951,2 TMDI 16 1680,0 16,0 1680,0 DTN - 15,46 - 15,56 20 M-pyrol - 772,9 - 777,8Monster 4 Monster 5 eg. weight eq. weight (g) Cg) 15 1.6 hexanediol 8 472 7.0 413.0 DMPA - - 1.0 67.0 2HEA 8.1 939.6 8.2 951.2 TMDI 16 1680.0 16.0 1680 .0 DTN - 15.46 - 15.56 20 M-pyrol - 772.9 - 777.8

Fenothiazine - 0,309 - 0,311Phenothiazine - 0.309-0.311

Monster 6 Monster 6 eq. Gewicht eq. Gewicht (g) (g) 25 1,6 hexaandiol 3,0 177,0 2,0 118,0 DMPA 5,0 335,0 6,0 402,0 2HEA 8,2 951,2 8,2 951,2 TMDI 16,0 1680,0 16,0 1680,0 DTN - 15,72 - 15,76 30 M-Pyrol - 785,8 - 762,8Sample 6 Sample 6 eq. Weight eq. Weight (g) (g) 25 1.6 Hexanediol 3.0 177.0 2.0 118.0 DMPA 5.0 335.0 6.0 402.0 2HEA 8.2 951.2 8.2 951.2 TMDI 16.0 1680.0 16.0 1680.0 DTN - 15.72 - 15.76 30 M-Pyrol - 785.8 - 762.8

Fenothiazine - 0,314 - 0,315Phenothiazine - 0.314 - 0.315

Monster 8 Monster 9 eq. Gewicht eq. Gewicht (g) (g) 35 1,6 hexaandiol 1,0 59,0 0 0 DMPA 7,0 469,0 8,0 536,0 2HEA 8,2 951,2 8,2 951,8 TMDI 16,0 1680,0 16,0 1680,0 DTN - 15,8 - 31,67 6- ·' rt - τ * -20- M-Pyrol - 789,8 - 791,8Monster 8 Monster 9 eq. Weight eq. Weight (g) (g) 35 1.6 Hexanediol 1.0 59.0 0 0 DMPA 7.0 469.0 8.0 536.0 2HEA 8.2 951.2 8.2 951.8 TMDI 16.0 1680.0 16.0 1680.0 DTN - 15.8 - 31.67 6- 'rt - τ * -20- M-Pyrol - 789.8 - 791.8

Fenonthiazine - 0,316 - 0,317Phenonthiazine - 0.316 - 0.317

De viscosteiten van monsters 4 tot 9 werden gemeten (in CPS) bij 24°Conder gebruikmaking van een Brookfield 5 RVT viscosimeter, $6 spindel bij 10 omw./min.The viscosity facts of samples 4 to 9 were measured (in CPS) at 24 ° C using a Brookfield 5 RVT viscometer, $ 6 spindle at 10 rpm.

Monster Φ 4 5 6 7 8 9 viscositeit 20400 22400 41600 44800 68800 86400.Sample Φ 4 5 6 7 8 9 viscosity 20 400 22 400 41 600 44 800 68 800 86 400.

Voorbeeld 5.Example 5.

10 Monsters 5-9 van de gecarboxyleerde urethaanacry- laten werden gebruikt om soldeermaskers te bereiden. Deze soldeermaskers werden daarna getest voor vergelijking van eigenschappen. Dit voorbeeld tezamen met de voorbeelden 6 en 7 die volgen, kan gebruikt worden om de eigenschap-15 pen van de gecarboxyleerde urethaanacrylaten van maskers die de niet-gecarboxyleerde urethaanacrylaten bevatten te vergelijken.Samples 5-9 of the carboxylated urethane acrylates were used to prepare solder masks. These solder masks were then tested for comparison of properties. This example, together with Examples 6 and 7 that follow, can be used to compare the properties of the carboxylated urethane acrylates of masks containing the non-carboxylated urethane acrylates.

De soldeermaskers, hierna als voorbeeld D-H aangegeven, werden bereid onder gebruikmaking van apparatuur 20 en algemene werkwijze zoals beschreven in voorbeeld 2.The solder masks, indicated below as Example D-H, were prepared using equipment 20 and general procedure as described in Example 2.

De hoeveelheid van ieder bestanddeel wordt aangegeven in de volgende tabel:The amount of each constituent is indicated in the following table:

Tabel 2.Table 2.

Een gebruikelijke soldeermasker samenstelling 25 voor monsters D-H.A common solder mask composition 25 for samples D-H.

Modaflow (een laag moleculair gewicht copolymeer) 6,5 N-methylpyrrolidon 91,25Modaflow (a low molecular weight copolymer) 6.5 N-methylpyrrolidone 91.25

Styreen/maleïnezuuranhydride (Scripset 550) 82,0Styrene / maleic anhydride (Scripset 550) 82.0

Fenothiazine 0,004 30 Gecarboxyleerd urethaanacrylaat 77,5Phenothiazine 0.004 Carboxylated urethane acrylate 77.5

Groen pigment (9G5) 9,0Green pigment (9G5) 9.0

Isopropylthioxanthon 6,5Isopropylthioxanthone 6.5

Ethyl-p-dimethylaminobenzoaat 8,4Ethyl p-dimethylaminobenzoate 8.4

Trimethylolpropayltriacrylaat (SR351) 47,8 35 Samenvatting van de eigenschappen van soldeermaskers met carboxylering.Trimethylolpropayl triacrylate (SR351) 47.8 35 Summary of properties of solder masks with carboxylation.

Soldeermasker (monster Nr.) D E F G HSolder Mask (Sample No.) D E F G H

Gecarboxy 1 eerd ur ethaan 5 6 7 8 9Carboxylated ur ethane 5 6 7 8 9

Met gebruikmaking van de soldeermaskers van monsters , ε / c 2 s -21- « ? D-H, werden kale met koper beklede epoxyplaten bekleed op de gebruikelijke wijze als beschreven in voorbeeld 3. De platen werden daarna beproefd en beoordeeld, 2Using the solder masks of samples, ε / c 2 s -21- «? D-H, bare copper-coated epoxy plates were coated in the usual manner as described in Example 3. The plates were then tested and evaluated, 2

Belichtingssnelheid - was bijzonder goed bij 75 mJ/cm 5 voor monsterd D-H.Exposure speed - was particularly good at 75 mJ / cm 5 for sample D-H.

Ontwikkeling; Voor monsters D-H in een l%fswaterige I^CO^ oplossing was bijzonder goed.Development; For samples D-H in a 1% aqueous I 2 CO 2 solution was particularly good.

Ontwikkeling in 1,1,1-trichloorethaan voor monster D-H was slecht.Evolution in 1,1,1-trichloroethane for sample D-H was poor.

10 Hechtingsbeproevingswerkwijze; ASTM-D3359-78 werkwijze B (schaal 5 = Geen hechtingsverlies) (schaal O = Volledig hechtingsverlies)10 Adhesion Testing Method; ASTM-D3359-78 method B (scale 5 = No adhesion loss) (scale O = Complete adhesion loss)

Monsternummer D E F G HSample number D E F G H

Hechting vóór gesmolten 15 soldeer 5 4-5 4-5 5 4-5Adhesion before melted 15 solder 5 4-5 4-5 5 4-5

Hechting na dat gesmolten soldeerwas toegepast 55555Adhesion after that molten solder wax was applied 55555

Voorbeeld 6.Example 6.

20 Monsters van een soldeermaskersamenstelling, met gebruikmaking van monster 4 met het niet-gecarboxyleerde materiaal, werden als volgt bereid zoals beschreven in voorbeeld 2.Samples of a solder mask composition, using Sample 4 with the uncarboxylated material, were prepared as described in Example 2 as follows.

Bestanddelen en hoeveelheden van de bestanddelen 25 zijn in de volgende tabel weergegeven:Ingredients and amounts of the components are shown in the following table:

Tabel 3Table 3

Soldeermasker SoldeermaskerSolder mask Solder mask

Samenstelling monster A Monster BSample composition A Sample B

(Ontschuimer) lr10 1,30 30 N-methylpyrrolidon 41,8 50,35(Defoamer) 1r10 1.30 30 N-methylpyrrolidone 41.8 50.35

Scripset 550 30,68 36,50Scrip set 550 30.68 36.50

Fenothiazine 0,0024 0,003Phenothiazine 0.0024 0.003

Groen pigment (9G5) 3,1 3,1Green pigment (9G5) 3.1 3.1

Monster 4 29,0 75,0 35 SR351 16,2Sample 4 29.0 75.0 35 SR351 16.2

Isopropylthioxanthon 2,25 3,0 EPD 3,1 4,0Isopropylthioxanthone 2.25 3.0 EPD 3.1 4.0

Om een vergelijking te verschaffen met gebruikmaking van een werkwijze als beschreven in voorbeeld 3 . 8 7 I-1' - :·:To provide a comparison using a method as described in Example 3. 8 7 I-1 '-: ·:

* V* V

t -22- werd elk van deze samenstellingen (A en B) beproefd en gebruikt om een kale, met koper beklede, epoxyplaat zoals aangegeven te bekleden. De resultaten worden hieronder weergegeven.t-22- each of these compositions (A and B) was tested and used to coat a bare copper clad epoxy sheet as indicated. The results are shown below.

Soldeermasker SoldeermaskerSolder mask Solder mask

Monster A Monster BMonster A Monster B

Beperkte verdraagbaar- Totale faseschei- heid dingLimited Tolerable - Total Phase Separation

Stabiliteit bij 24°C 1 maand --- 10Stability at 24 ° C 1 month --- 10

Ontwikkeling 1% waterig uitstekend --- 1,1,1-trichloorethaan slecht ---Development 1% aqueous excellent --- 1,1,1-trichloroethane poor ---

EigenschapProperty

Methyleenchloridebestendigheid was slecht door het ver-15 tonen van de inwerking van het oplosmiddel na slechts 2 min. daaraan blootgesteld te zijn.Methylene chloride resistance was poor due to showing the action of the solvent after only 2 minutes exposure.

De hechting vóór het gesmolten soldeer* 5 na het gesmolten soldeer* 5 SR351 = Trimethylolpropaantriacrylaat 20The adhesion before the molten solder * 5 after the molten solder * 5 SR351 = Trimethylolpropane triacrylate 20

ITX = Isopropylthioxanthon EPD = Ethyl-p-dimethylaminobenzoaat * Kruissnede hechting- ASTM-D3359-7B werkwijze BITX = Isopropylthioxanthone EPD = Ethyl p-dimethylaminobenzoate * Cross Cut Adhesion- ASTM-D3359-7B Method B

Schaal 5 = geen hechtingsverliesScale 5 = no adhesion loss

Schaal 5 = totaal hechtingsverlies.Scale 5 = total adhesion loss.

2525

Voorbeeld 7.Example 7.

Ook voor vergelijkingsdoeleinden werd monster 4 materiaal toegepast om een lichtgevoelig element te vervaardigen dat daarna beoordeeld werd met betrekking tot het ontwikkelen in verschillende typen oplosmiddelen. Het 30 lichtgevoelige element (monster C) werd bereid door het mengen van de bestanddelen in tabel 3, bij 50°C in een 500 ml rondbodem kolf uitgerust met een roerder, een gas- inlaat, een thermometer en een condensor.Also for comparison purposes, Sample 4 material was used to produce a photosensitive element which was then evaluated for development in different types of solvents. The photosensitive element (Sample C) was prepared by mixing the ingredients in Table 3 at 50 ° C in a 500 ml round bottom flask equipped with a stirrer, a gas inlet, a thermometer and a condenser.

De tabel hieronder geeft de hoeveelheid van elk 35 bestanddeel aan.The table below indicates the amount of each component.

,8702842 % s -23-Tabel 3.8702842% S-23 Table 3.

Een soldeermaskersamenstelling (monster C) bevattendeContaining a solder mask composition (sample C)

Niet-gecarboxyleerd urethaandiacrylaat (monster 4) 5 Samenstelling (g)Non-carboxylated urethane diacrylate (Sample 4) 5 Composition (g)

Monster 4 urethaandiacrylaat 122,5Sample 4 urethane diacrylate 122.5

Elvacite 2008 94,0 PMA 131,0Elvacite 2008 94.0 PMA 131.0

Fenothiazine 0,0044 10 Irgacure 651 6,2Phenothiazine 0.0044 10 Irgacure 651 6.2

Leuco Crystal Violet (kleurstof) 0,2Leuco Crystal Violet (dye) 0.2

Ontwikkeling.Development.

in 1,1,1-trichloorethaan uitstekend in 1% waterig ï^CO^ geen 15 Bovengebruikte afkortingen:in 1,1,1-trichloroethane excellent in 1% aqueous ï ^ CO ^ none 15 Abbreviations used above:

Elvacite 2008 = polymethylmethacrylaat (M.W.= 79000) PMA = propyleenglycolmonomethyletheracetaat Irgacure 651 = 2,2-dimethoxy-2-fenylacetofenonElvacite 2008 = polymethyl methacrylate (MW = 79000) PMA = propylene glycol monomethyl ether acetate Irgacure 651 = 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone

Het niet gecarboxyleerde urethaandiacrylaat (mon-20 ster 4) had een zeer beperkte verdraagbaarheid met de sty-reen/maleïnezuuranhydridehars (Scripset 550). Homogene mengsels van het niet gecarboxyleerde urethaandiacrylaat en de styreen/maleinezuuranhydridehars kon slechts verkregen worden gedurende een relatief korte tijdsperiode (minder 25 dan 1 maand); maar alleen dan wanneer de verhouding urethaandiacrylaat hars minder dan één was. Wanneer de verhouding toenam trad fasescheiding op (monster B).The non-carboxylated urethane diacrylate (sample 20 star 4) had very limited compatibility with the styrene / maleic anhydride resin (Scripset 550). Homogeneous mixtures of the non-carboxylated urethane diacrylate and the styrene / maleic anhydride resin could only be obtained for a relatively short period of time (less than 1 month); but only if the urethane diacrylate resin ratio was less than one. When the ratio increased, phase separation occurred (sample B).

Het gecarboxyleerde urethaan di- of tri(meth)-acrylaat kan echter verschillende carboxyleringsconcen-30 traties bezitten hetgeen het mogelijk maakt hen te men gen en te combineren in alle verhoudingen met de styreen/-maleinezuuranhydridehars en andere bindmiddelharsen. De resultaten zijn uitzonderlijk met betrekking tot de levensduur, de gelijkmatigheid en goede eigenschappen van de 35 produkten.However, the carboxylated urethane di- or tri (meth) acrylate may have different carboxylation concentrations, allowing them to be mixed and combined in all proportions with the styrene / maleic anhydride resin and other binder resins. The results are exceptional in terms of longevity, uniformity and good properties of the 35 products.

Voorbeeld 8,Example 8,

Gecarboxyleerde urethaantriacrylaatmonsters werden bereid met gebruik van de inrichting en de algemene werkwijze als beschreven in voorbeeld 1. De specifieke bestand- .8702§42 w Jr -24- del en voor ieder triacrylaatmonster worden in de tabel hier- onder gegeven.Carboxylated urethane triacrylate samples were prepared using the apparatus and the general procedure described in Example 1. The specific ingredient. 8702§42 w Jr-24- part and for each triacrylate sample are given in the table below.

Tabel 5.Table 5.

Monster 10 Monster 11 5 (eq.) (gew. in g) (eq.) gew.in g) 1,6 hexaandiol 2,0 118,0 --- ---Sample 10 Sample 11 5 (eq.) (Wt. In g) (eq.) Wt. G) 1.6 hexanediol 2.0 118.0 --- ---

Tone 0301 ---- --- 4,0 400,0Tone 0301 ---- --- 4.0 400.0

Glycerol DMPA 2,0 61,4 --- --- DMPA 4,0 268,0 4,0 268,0 10 2HEA 8,1 939,6 --- ---Glycerol DMPA 2.0 61.4 --- --- DMPA 4.0 268.0 4.0 268.0 10 2HEA 8.1 939.6 --- ---

Tone M-100 --- --- 8,2 2820,8 TMDI 16,0 1680,0 --- --- IPDI --- --- 16,0 1777,6 DTN --- --- --- 52,66 15 T-12 --- 30,67 M-Pyrol --- 766,8 1316,6Tone M-100 --- --- 8.2 2820.8 TMDI 16.0 1680.0 --- --- IPDI --- --- 16.0 1777.6 DTN --- --- - - 52.66 15 T-12 --- 30.67 M-Pyrol --- 766.8 1316.6

Fenothiazine --- 0,23 --- 0,395Phenothiazine --- 0.23 --- 0.395

In tabel gebruikte afkortingen:Abbreviations used in table:

Tone 0301 = polycaprolactontriol met moleculair gewicht 20 300.Tone 0301 = polycaprolactone triol with molecular weight 20 300.

Tone M-100 = een reactief caprolactonacrylaat.Tone M-100 = a reactive caprolactone acrylate.

IPDI = isoforondiisocyanaat = l-isocyanato-3-isocyanato-methyl-3,5,5-tri-methylcyclohexaan.IPDI = isophorone diisocyanate = 1-isocyanato-3-isocyanato-methyl-3,5,5-trimethylcyclohexane.

25 Het produkt van monsters 10 en 11 werd daarna gebruikt om soldeermaskers van resp. monsters I en J te bereiden.The product from samples 10 and 11 was then used to make solder masks of resp. prepare samples I and J.

De soldeermaskers werden bereid met behulp van de apparatuur en de algemene werkwijze als beschreven in 30 voorbeeld 2.The solder masks were prepared using the equipment and the general procedure described in Example 2.

Tabel 6Table 6

Soldeermaskersamenstellingen begaseerd op gecarboxyleerde urethaantriacrylaten. Samenstelling Monster I Monster JSolder mask compositions based on carboxylated urethane triacrylates. Composition Monster I Monster J

35 Modaflow 1,10 1,10 N-methy1 41,8 41,835 Modaflow 1.10 1.10 N-methy1 41.8 41.8

Scripset 550 30,68 30,68Scripset 550 30.68 30.68

Fenothiazine 0,0024 0,0024 (monster 10) 29,0 --- Ê* 7 Λ η λ g n ' { V: 4, b' H £.Phenothiazine 0.0024 0.0024 (Sample 10) 29.0 --- Ê * 7 Λ η λ g n '{V: 4, b' H £.

-25- (monster 11) --- 29/0-25- (sample 11) --- 29/0

Groen pigment 9G5 3rl 3,1 ITX 2,25 2,25 EPD 3/10 3,10 5 SR351 16,2 16,2Green pigment 9G5 3rl 3.1 ITX 2.25 2.25 EPD 3/10 3.10 5 SR351 16.2 16.2

Ontwikkelingseigenschappen; in 1 gew.% waterig bijzonder goed bijzonder goedDevelopmental features; in 1 wt% aqueous particularly good particularly good

MeCl2 bestendigheid 6 min. (goed) 8 min. (goed) (Beproefd door gedurende de aangegeven tijdsperiode 10 dompelen in het oplosmiddel en beoordelen van de resultaten als goed indien er geen effect te zien is, slecht indien een oplosmiddelinwerking te zien is).MeCl2 resistance 6 min (good) 8 min (good) (Tested by dipping 10 in the solvent for the specified time period and judging the results as good if no effect is seen, bad if a solvent action is seen).

Kruissnede hechtingsproef - ASTM-D3359-78 methode BCross Cut Adhesion Test - ASTM-D3359-78 Method B

Schaal 5 = geen hechtingsverlies 15 Schaal O = totaal hechtingsverliesScale 5 = no bonding loss 15 Scale O = total bonding loss

Hechting vóór gesmolten soldeer 5 4 na gesmolten soldeer 5 3Adhesion before melted solder 5 4 after melted solder 5 3

De in de bovengenoemde proeven gebruikte platen werden bereid met gebruikmaking van de monsters I en J 20 overeenkomstig de werkwijze beschreven in voorbeeld 3.The plates used in the above experiments were prepared using samples I and J 20 according to the procedure described in example 3.

8*f ft λ < *8 * f ft λ <*

Claims (13)

1. Lichtgevoelige bekledingssamenstelling, met het kenmerk, dat deze omvat: een voor ultraviolet- 5 te straling gevoelig polymeer gekozen uit de groep die bestaat uit: een gecarboxyleerd urethaandimethacrylaat, een gecarboxyleerd urethaandiacrylaat, een gecarboxyleerd urethaantriacrylaat, en een gecarboxyleerd urethaantri-methacrylaat; waarbij genoemde polymeer dat gevoelig is 10 voor UV straling gevormd is door het laten condenseren van een reactiemengsel bestaande uit bestanddeel (a): een diisocyanaat met 6-18 koolstofatomen, bestanddeel (b): een carbonzuurpolyol met de formule 2 van het formuleblad; waarin x een geheel getal van 2-5 kan zijn, en waarin 15 een lineaire of vertakte, verzadigde, onverzadigde of aromatische, koolwaterstofgroep met van 2-29 koolstofatomen is, en bestanddeel (c) een hydroxyalkyl(meth)acrylaat, waarvan de alkylgroep van 2-28 koolstofatomen bezit; op voorwaarde dat bestanddeel (a) aanwezig is in een hoeveel-20 heid van ongeveer 30 tot ongeveer 80 gew.% van de totale hoeveelheid van het reactiemengsel; bestanddeel (b) aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 5 tot ongeveer 45 gew.% van de totale hoeveelheid van het reactiemengsel met een minimum van ongeveer 0,3 milli-equivalenten zuur 25 per gram van de totale hoeveelheid reactiemengsel, en bestanddeel (c) aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 5 tot ongeveer 50 gew.% van de totale hoeveelheid reactiemengsel met een minimum hoeveelheid van 0,5 milli-equivalenten acrylaat per gram van de totale hoeveelheid van 30 het reactiemengsel.1. A photosensitive coating composition, characterized in that it comprises: an ultraviolet radiation-sensitive polymer selected from the group consisting of: a carboxylated urethane dimethacrylate, a carboxylated urethane diacrylate, a carboxylated urethane triacrylate, and a carboxylated urethane tri methacrylate; wherein said UV sensitive polymer is formed by condensing a reaction mixture consisting of component (a): a diisocyanate of 6-18 carbon atoms, component (b): a carboxylic acid polyol of the formula sheet; wherein x may be an integer from 2-5, and wherein 15 is a linear or branched, saturated, unsaturated or aromatic, hydrocarbon group having from 2-29 carbon atoms, and component (c) is a hydroxyalkyl (meth) acrylate, the alkyl group of which of 2-28 carbon atoms; provided that component (a) is present in an amount from about 30 to about 80% by weight of the total amount of the reaction mixture; component (b) is present in an amount of from about 5 to about 45% by weight of the total amount of the reaction mixture with a minimum of about 0.3 milliequivalents of acid per gram of the total amount of reaction mixture, and component (c ) is present in an amount of from about 5 to about 50% by weight of the total amount of reaction mixture with a minimum amount of 0.5 milliequivalents of acrylate per gram of the total amount of the reaction mixture. 2. Samenstelling volgens conclusie 1, m e t het kenmerk, dat deze eveneens een binder bevat.2. A composition according to claim 1, characterized in that it also contains a binder. 3. Samenstelling volgens conclusie 1, m e t het kenmerk, dat het reactiemengsel eveneens 35 een polyol met van 2-28 koolstofatomen en van 2-5 hydro-xylgroepen bevat.3. A composition according to claim 1, characterized in that the reaction mixture also contains a polyol having from 2 to 28 carbon atoms and from 2 to 5 hydroxyl groups. 4. Samenstelling volgens één of meer van de conclusies 1-3, met het kenmerk, dat het reactiemengsel eveneens omvat een dicarbonzuur met de formule ,87 0 2 i. 2 5 ' ·» -27- 3 van het formuleblad waarin y een geheel getal is van 1-5 en waarin een koolwaterstofdeel is met 1-28 koolstof atomen.Composition according to one or more of claims 1 to 3, characterized in that the reaction mixture also comprises a dicarboxylic acid of the formula, 87 0 2 i. 2 5 '-27-3 of the formula sheet wherein y is an integer from 1 to 5 and wherein is a hydrocarbon moiety with 1 to 28 carbon atoms. 5. Samenstelling volgens één of meer van de conclu-5 sies 1-4, met het kenmerk, dat bestanddeel (b) verder wordt gekozen uit de groep die bestaat uit: alfa-alfa-dimethylol-azijnzuur, alfa-alfa-dimethylolpro-pionzuur, alfa-alfa-dimethylolboterzuur, alfa-alfa-di-ethanolazijnzuur, alfa-alfa-diethylolpropionzuur en alfa-10 alfa-diethylolboterzuur.Composition according to one or more of claims 1 to 4, characterized in that component (b) is further selected from the group consisting of: alpha-alpha-dimethylol-acetic acid, alpha-alpha-dimethylolpro- pionic acid, alpha-alpha-dimethylolbutyric acid, alpha-alpha-diethanol acetic acid, alpha-alpha-diethylol propionic acid and alpha-10 alpha-diethylol butyric acid. 6. Samenstelling volgens één of meer van de conclusies 3-5, met het kenmerk, dat het bin-middel een styreen/maleïnezuuranhydridecopolymeer is met een glasovergangstemperatuur van ongeveer 155°C of hoger.Composition according to one or more of claims 3-5, characterized in that the binder is a styrene / maleic anhydride copolymer with a glass transition temperature of about 155 ° C or higher. 7. Samenstelling volgens één of meer van de con clusies 1-6, met het kenmerk, dat het reac-tiemengsel van ongeveer 0,8-1,6 milli-equivalenten zuur per gram van totale hoeveelheid van het reactiemengsel bevat.Composition according to one or more of claims 1 to 6, characterized in that the reaction mixture contains about 0.8-1.6 milliequivalents of acid per gram of the total amount of the reaction mixture. 8. Samenstelling volgens één of meer van de con clusies 1-7, met het kenmerk, dat het di-isocyanaat wordt gekozen uit de groep die bestaat uit l-isocyanato-3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexaan; xyleendiisocyanaat; 3,3'-dimethyldifenylmethaan-4,4'-di-25 isocyanaat; 2,4-tolyleendiisocyanaat; 2,6-tolyleendiisocya-naat; 2,2,4-trimethylhexamethyleendiisocyanaat; 2,4,4-tri-methylhexamethyleendiisocyanaat; methyleenbis-(4-cyclo-hexyldiisocyanaat); hexamethyleendiisocyanaat; 1,5-nafthy-leendiisocyanaat; metafenyleendiisocyanaat; metatetramethyl-30 xyleendiisocyanaat; paratetramethylxyleendiisocyanaat; en methyleenbisfenyldiisocyanaat.Composition according to one or more of claims 1 to 7, characterized in that the diisocyanate is selected from the group consisting of 1-isocyanato-3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane; xylene diisocyanate; 3,3'-dimethyldiphenylmethane-4,4'-di-25 isocyanate; 2,4-tolylene diisocyanate; 2,6-tolylene diisocyanate; 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate; 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate; methylene bis (4-cyclohexyl diisocyanate); hexamethylene diisocyanate; 1,5-naphthylene-diisocyanate; metaphenylene diisocyanate; metatetramethyl-30-xylene diisocyanate; paratetramethylxylene diisocyanate; and methylene bisphenyl diisocyanate. 9. Samenstelling volgens conclusie 8, m e t het kenmerk, dat deze eveneens een verknopings-middel bevat.9. A composition according to claim 8, characterized in that it also contains a cross-linking agent. 10. Werkwijze voor de bereiding van een polymeer dat gevoelig is voor UV straling, m e t h e t kenmerk, dat deze omvat het uitvoeren van een condensatiereactie met een reactiemengsel dat omvat: bestanddeel ia): een diisocyanaat met van 6-18 koolstof- 8 “7 A / t i ’ϋ L·. r* * * ( -28- atomen, en bestanddeel (b) een carbonzuurpolyol met de formule 2 van het formuleblad waarin x een geheel getal van 2-5 kan zijn, en waarin R, een lineaire of vertakte, O verzadigde, onverzadigde of aromatische, koolwaterstof-5 groep met van 2-29 koolstofatomen is, en bestanddeel (c) een hydroxyalkyl(meth)acrylaat waarvan de alkylgroep van 2-28 koolstofatomen bezit; op voorwaarde dat bestanddeel (a) aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 30 tot ongeveer 80 gew.% van de totale hoeveelheid van het reac-10 tiemengsel; bestanddeel (b) aanwezig is in een hoeveelheid van ongeveer 5 tot ongeveer 45 gew.% van de totale hoeveelheid van het reactiemengsel met een minimum van ongeveer 0,3 milli-equivalenten zuur per gram van de totale hoeveelheid reactiemengsel, en bestanddeel (c) aan-15 wezig is in een hoeveelheid van ongeveer 5 tot ongeveer 50 gew.% van de totale hoeveelheid reactiemengsel met een minimum hoeveelheid van 0,5 milli-equivalenten acrylaat per gram van de totale hoeveelheid van het reactiemengsel .A process for the preparation of a polymer sensitive to UV radiation, characterized in that it comprises conducting a condensation reaction with a reaction mixture comprising: component ia): a diisocyanate with 6-18 carbon-8 "7 A / ti 'ϋ L ·. r * * * (-28- atoms, and component (b) a carboxylic acid polyol of the formula 2 wherein x can be an integer from 2-5, and wherein R is a linear or branched, O saturated, unsaturated or an aromatic hydrocarbon-5 group having from 2-29 carbon atoms, and component (c) is a hydroxyalkyl (meth) acrylate whose alkyl group has from 2-28 carbon atoms, provided that component (a) is present in an amount of about 30 up to about 80% by weight of the total amount of the reaction mixture; component (b) is present in an amount of from about 5 to about 45% by weight of the total amount of the reaction mixture with a minimum of about 0.3 milliequivalents of acid per gram of the total amount of reaction mixture, and component (c) is present in an amount of about 5 to about 50% by weight of the total amount of reaction mixture with a minimum amount of 0.5 milliequivalents acrylic per gram of the t total amount of the reaction mixture. 11. Werkwijze volgens conclusie 10, met het kenmerk, dat de temperatuur van het reactiemengsel in het gebied van ongeveer 50 tot 95°C ligt.Process according to claim 10, characterized in that the temperature of the reaction mixture is in the range of about 50 to 95 ° C. 12. Werkwijze volgens één of meer van de conclusies 10-11, met het kenmerk, dat het reac- 25 tiemengsel eveneens een vrije radicaal polymerisatierem-mer en een condensatiekatalysator omvat.12. Process according to one or more of claims 10-11, characterized in that the reaction mixture also comprises a free-radical polymerization inhibitor and a condensation catalyst. 13. Werkwijze volgens één van de conclusies 10-12, met het kenmerk, dat het reactiemengsel onder droge lucht gehouden wordt tijdens de reactie. 30 -------- s 7 f o ^ » Ö t i· X- l.Process according to any of claims 10-12, characterized in that the reaction mixture is kept under dry air during the reaction. 30 -------- s 7 f o ^ »Ö t i · X- l.
NL8702942A 1986-12-08 1987-12-07 Photosensitive coating composition and method for preparing a photosensitive polymer. NL190785C (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US93960486A 1986-12-08 1986-12-08
US93960486 1986-12-08
US4546487A 1987-05-04 1987-05-04
US4546487 1987-05-04

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL8702942A true NL8702942A (en) 1988-07-01
NL190785B NL190785B (en) 1994-03-16
NL190785C NL190785C (en) 1994-08-16

Family

ID=26722797

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8702942A NL190785C (en) 1986-12-08 1987-12-07 Photosensitive coating composition and method for preparing a photosensitive polymer.

Country Status (13)

Country Link
KR (1) KR910001523B1 (en)
CN (1) CN1031227C (en)
BR (1) BR8706609A (en)
CA (1) CA1332093C (en)
CH (1) CH680622A5 (en)
DE (1) DE3741385C2 (en)
FR (1) FR2607820B1 (en)
GB (1) GB2199335B (en)
HK (1) HK60692A (en)
IT (1) IT1233418B (en)
MX (1) MX168832B (en)
NL (1) NL190785C (en)
SG (1) SG61192G (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR910021456A (en) * 1990-02-20 1991-12-20 우메모토 요시마사 Water-soluble photocurable polyurethane poly (meth) acrylates, adhesives containing them and methods of making laminated articles
CA2040097A1 (en) * 1990-04-12 1991-10-13 Wako Yokoyama Urethane polymers for printing plate compositions
US5341799A (en) * 1991-12-23 1994-08-30 Hercules Incorporated Urethane polymers for printing plate compositions
BR0014422A (en) * 1999-09-30 2002-06-11 Basf Ag Aqueous dispersion of u.v. and heat, and, use of polyurethane dispersion
TW201220974A (en) * 2010-05-21 2012-05-16 Nano Terra Inc Stencils for high-throughput micron-scale etching of substrates and processes of making and using the same
CN104193944A (en) * 2014-08-21 2014-12-10 苏州瑞红电子化学品有限公司 Controllable-acid-value photosensitive alkali-soluble polyurethane acrylate resin and photoresist composition thereof

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4153778A (en) * 1978-03-30 1979-05-08 Union Carbide Corporation Acrylyl capped urethane oligomers
NL8401785A (en) * 1984-06-04 1986-01-02 Polyvinyl Chemie Holland PROCESS FOR PREPARING AN AQUEOUS DISPERSION OF URETHAN ACRYLATE ENTCOPOLYMERS AND STABLE AQUEOUS DISPERSION THUS OBTAINED.
AU597257B2 (en) * 1985-05-17 1990-05-31 M And T Chemicals Inc. Aqueous alkaline developable, uv curable urethane acrylate compounds and compositions useful for forming solder mask coatings

Also Published As

Publication number Publication date
GB8728631D0 (en) 1988-01-13
SG61192G (en) 1992-09-04
IT8722899A0 (en) 1987-12-04
KR910001523B1 (en) 1991-03-15
CN87107321A (en) 1988-06-22
FR2607820B1 (en) 1994-06-10
CH680622A5 (en) 1992-09-30
CN1031227C (en) 1996-03-06
BR8706609A (en) 1988-07-19
KR880014415A (en) 1988-12-23
DE3741385A1 (en) 1988-06-09
MX168832B (en) 1993-06-10
NL190785C (en) 1994-08-16
HK60692A (en) 1992-08-21
GB2199335A (en) 1988-07-06
NL190785B (en) 1994-03-16
FR2607820A1 (en) 1988-06-10
IT1233418B (en) 1992-03-31
DE3741385C2 (en) 1996-06-05
GB2199335B (en) 1991-01-09
CA1332093C (en) 1994-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5089376A (en) Photoimagable solder mask coating
US4283480A (en) Photopolymerizable compositions, methods for their preparation, and methods for their use in coating substrates
US5942371A (en) Aqueous acrylic photopolymerisable compositions
US20090042126A1 (en) Photosensitive resin composition and cured article thereof
TW200921272A (en) Photocurable resin composition and cured product thereof
JPS6156247B2 (en)
DE69227982T2 (en) Plasticizers containing carboxyl groups in photopolymerizable dry film compositions
JPH0756336A (en) Resin composition
US5102774A (en) Photoimagable coating compositions which are developable in aqueous alkaline solutions and can be used for solder mask compositions
JPH0397717A (en) Reaction product, its manufacture, and radiation-sensitive material obtained by using it
NL8702942A (en) Photosensitive coating composition and method for preparing a photosensitive polymer.
JP2003277437A (en) Functionalized polymer
JPS62290705A (en) Photopolymerizable composition
CA1048328A (en) Photo-processable coatings
WO2005121897A1 (en) Negative acting photoresist with improved blocking resistance
KR20010051093A (en) Photoimageable composition having photopolymerizeable binder oligomer
JPH0527435A (en) Alkali developing type photosensitive resin composition
JPH04270345A (en) Resin composition and solder resist resin composition and their hardened product
JP2001166470A (en) Photosensitive resin composition for photoresist and resist pattern forming method
KR20010051082A (en) Photoimageable composition containing flexible oligomer
JPH0267558A (en) Photosensitive and negative forming printing film
JPH0141185B2 (en)
JPH01163274A (en) One-component coating composition
JPH0132868B2 (en)
JPH07140652A (en) Photosensitive resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20000701