NL8303868A

NL8303868A - Getterstelsel.

Info

Publication number: NL8303868A
Application number: NL8303868A
Authority: NL
Original assignee: Getters Spa
Priority date: 1982-11-11
Filing date: 1983-11-10
Publication date: 1984-06-01
Also published as: DE3340764A1; FR2536206A1; JPS59177840A; GB2131223A; US4535267A; JPH0365614B2; GB8329047D0; DE3340764C2; FR2536206B1; IT1154568B; IT8224192A0; GB2131223B

Description

* * -S

V.0.5205 Getterstelsel.

Getterstelsels zijn op zichzelf bekend. Zij worden op grote schaal toegepast in weergeefbuizen, zoals kathodestraalbuizen. Tijdens het gebruik wordt het getterstelsel tot een hoge temperatuur verhit, gewoonlijk door middel van een hoog-frequentie-inductieverhitting, waarop 5 een gettermetaal, gewoonlijk barium, van het getterstelsel kan verdampen. Het getterstelsel kan in de kathodestraalbuis in een zogenaamde antenne-positie worden opgesteld of aan de anodeknoop worden bevestigd. Onafhankelijk van de positie van het getterstelsel is dit echter normaliter in aanraking met het binnenoppervlak van het glazen omhulsel van de kathode-10 straalbuis.

Ongelukkigerwijs is de hoge temperatuur, 1000°C of meer, welke door het getterstelsel tijdens het verdampen van het gettermateriaal wordt bereikt zodanig, dat het glazen omhulsel kan scheuren. Het is derhalve gebruikelijk om een type thermische isolatie of ondersteuning tus-15 sen de gettermateriaalhouder en de glaswand aan te brengen. Men heeft daarbij gebruik gemaakt van keramische isolatoren, zoals beschreven in het Amerikaanse octrooischrift 3.381.805 of draadondersteuningen, zoals beschreven in het Amerikaanse octrooischrift 4.101.247. Een ander type ondersteuning is beschreven in het Japanse gebruiksmodel nr. 50-11453.

20 Dergelijke isolatie- of ondersteuningsorganen zijn echter duur of bezitten in hét contactpunt tussen de steun en het glazen omhulsel een te hoge temperatuur.

De uitvinding stelt zich derhalve ten doel te voorzien in een betrekkelijk goedkoop middel om ervoor te zorgen, dat de contactpunten 25 tussen het getterstelsel en de glaswand van de kathodestraalbuis tijdens het verdampen van het gettermetaal op een voldoend lage temperatuur blijven en wel zodanig, dat scheuren van het glazen omhulsel wordt vermeden.

De uitvinding zal onderstaand nader worden toegelicht onder verwijzing naar de tekening. Daarbij toont: 30 fig. 1 een schematische voorstelling van een dwarsdoorsnede van een getterstelsel volgens de uitvinding; fig. 2 een eindaanzicht beschouwd in de richting van de pijlen 2-2' van fig. 1; fig. 3 een afbeelding van een ander ondersteuningsorgaan vol-35 gens de uitvinding?

^ . -· ~ ' R

•J V -r W *> V V

* * -2- fig. 4 een onderaanzicht van een getterstelsel, waarbij gebruik wordt gemaakt van een ondersteuningsorgaan als weergegeven in fig. 3; fig. 5 een onderaanzicht van een getterstelsel, waarbij gebruik wordt gemaakt van een ander ondersteuningsorgaan volgens de uitvinding;en 5 fig. 6 een dwarsdoorsnede van het getterstelsel volgens fig. 5 over de lijnen 6-6'.

In de figuren 1 en 2, waarin overeenkomstige onderdelen van dezelfde verwijzingen zijn voorzien, vindt men een getterstelsel 10, voorzien van een ringvormige gettermateriaalhouder 12 met een buitenste 10 zijwand 14, een binnenste zijwand 16 en een bodemwand 18, welke de buitenste zijwand 14 met de binnenste zijwand 16 verbindt en waardoor derhalve een ringvormig kanaal 20 wordt bepaald. Het ringvormige kanaal 20 bevat poedervormig gettermateriaal 22, dat in het algemeen bestaat uit een mengsel van ongeveer 50% barium - 50% aluminiumlegering met een bij 15 benadering gelijk gewicht aan nikkel. De hier gebruikte uitdrukking "gettermateriaal" omvat zowel het materiaal voordat dit alswel nadat dit in de dampfase overgaat. De uitdrukking omvat voorts het materiaal in vaste vorm, zoals dit met de getterinrichting wordt verkocht, en in de vorm, waarin men het in een werkzame buis vindt, waarin de grootste 20 massa van het gettermetaal uit het betreffende materiaal is verdampt en zich in de vorm van een film op de binnenvlakken van de buis bevindt. De bovenzijde 24 van de binnenste zijwand is integraal om een schijfvormig onderdeel 26 gevormd teneinde een opstaand bodemgedeelte 28 te vormen.

25 Een liponderdeel 30 is in het midden van het schijfvormige onder deel 26 bevestigd door middel van een horizontale laszone 32. Integraal met de laszone 32 is een naar beneden afhangende zone 34, welke zich op een afstand van de binnenste zijwand 16 bevindt teneinde de warmteoverdracht naar de lip en de ondersteuning (welke laatste zal worden beschre-30 ven) tot een minimum terug te brengen.

Het liponderdeel 30 omvat voorts een zich naar buiten uitstrekkende zone 36, die zich bevindt in een vlak, dat in hoofdzaak evenwijdig is aan de bodemwand 18, ofschoon een kleine hoek kan worden toegepast ♦ om de gettermetaaldampen op een geschikte wijze te richten. De zich naar 35 buiten uitstrekkende zone 36 raakt evenwel de bodemwand 18 niet en is bij voorkeur daarvan gescheiden over een afstand, welke ten minste 0,5 mm S3 ΰ 5 Γ C 3 -3- bedraagt. Hierdoor wordt belet, dat het liponderdeel 36 warmte via de bodemwand 18 uit de gettermateriaalhouder 12 afvoert en wordt de vorming van een kouder gebied van gettermateriaal 22 tijdens het verdampen van het gettermetaal belet. De zich naar buiten uitstrekkende zone 36 strekt 5 zich uit over een afstand, welke groter is dan de straal van de buitenste zijwand 14.

Aan het liponderdeel 30 is een ondersteuningsorgaan 38 bevestigd, dat twee concave vlakken 40, 40' bezit, die naar de bodemwand 18 zijn gekeerd en gelegen zijn in een vlak, dat loodrecht staat op de zich naar 10 buiten uitstrekkende zone van het liponderdeel 30. Het ondersteuningsorgaan 38 omvat een metalen strook 42 waarin aan de uiteinden daarvan indeukingen 44, 44' zijn gevormd.

Fig. 3 toont een ander ondersteuningsorgaan 46 ten gebruike bij een getterstelsel volgens de uitvinding en dit orgaan omvat een enkele 15 sectie draad met een cirkelvormige dwarsdoorsnede. Het middengedeelte 48 is samengedrukt voor het verschaffen van een plat oppervlak voor het lassen en het liponderdeel 30 en de uiteinden van de draad zijn eerst naar beneden en daarna naar boven omgebogen.

Fig. 4 toont een onderaanzicht van een getterstelsel 50, waarin 20 het ondersteuningsorgaan 46 is bevestigd door lassen aan de zich naar buiten uitstrekkende zone 36 van het liponderdeel 30.

De figuren 5 en 6 tonen een verdere uitvoeringsvorm van een getterstelsel 52 volgens de uitvinding waarin een ondersteuningsonderdeel 54 aan de horizontale laszone 32 van het liponderdeel 30 is bevestigd.

25 Een getterinrichting,als aangegeven in fig. 3 en 4 werd in een luchtledig glazen omhulsel geplaatst en door inductiestromen verhit.

De temperatuur van het contactpunt tussen de ondersteuningsdraad en de glaswand, gemeten door een thermokoppel bedroeg ongeveer 570°C. Dezelfde meting, uitgevoerd bij een traditionele getterinrichting, als aangegeven 30 in fig. 3 van het Amerikaanse octrooischrift 4.101247, leidde tot een temperatuur van 700°C.

De lagere temperatuur, welke men verkrijgt met het getterstelsel volgens de uitvinding,zorgt ervoor, dat de glaswand van een kathode-straalbuis niet scheurt.

8 3 0 3 3 3 8

Claims

1. Getterstelsel voor een kathodestraalbuis gekenmerkt door een ringvormige gettermateriaalhouder met een buitenste zijwand, een binnenste zijwand en een boderawand,welke laatste de buitenste zijwand met de binnenste zijwand verbindt en op deze wijze een ringvormig kanaal be- 5 paalt, dat poedervormig gettermateriaal bevat, waarbij de bovenzijde van de binnenste zijwand integraal is gevormd om een schijfvormig onderdeel voor het vormen van een opstaand bodemgedeelte, een liponderdeel aan het midden van het schijf vormige onderdeel is bevestigd door middel van een horizontale laszone en het stelsel voorts is voorzien van een naar bene- 10 den afhangende zone, welke zich op een afstand van de binnenste zijwand bevindt en een zich naar buiten uitstrekkende zone, welke is gelegen in een vlak, dat in hoofdzaak evenwijdig is aan de bodemwand, zonder dat de bodemwand wordt geraakt en welke zone zich uitstrekt over een afstand, welke groter is dan de straal van de buitenwand, en een ondersteunings- 15 orgaan, dat aan het liponderdeel is bevestigd, waarbij het on'dersteu- · ningsorgaan is voorzien van ten minste twee concave vlakken, die naar de bodemwand zijn gekeerd en zijn gelegen in een vlak, dat loodrecht op de zich naar buiten uitstrekkende zone van het liponderdeel staat.

2. Getterstelsel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de 20 afstand tussen het zich naar buiten uitstrekkende gedeelte van het liponderdeel en de bodemwand ten minste 0,5 mm bedraagt.

3. Getterstelsel volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat het ondersteuningsorgaan bestaat uit een metalen strook aan de uiteinde waarvan indeukingen zijn gevormd.

4. Getterstelsel volgens conclusie 1 of 2 met het kenmerk, dat het ondersteuningsorgaan bestaat uit een enkele sectie draad met een cirkelvormige dwarsdoorsnede, waarvan het middengedeelte is samengedrukt voor het verschaffen van ten minste één plat oppervlak en waarvan de uiteinden eerst naar beneden en daarna naar boven zijn omgebogen.

5. Getterstelsel volgens een der voorgaande conclusies met het kenmerk, dat het ondersteuningsorgaan aan de zich naar buiten uitstrekkende zone van het liponderdeel is bevestigd. 8303368 Λ " Λ -5”

6. Getterstelsel volgens een der conclusies 1 tot 4, met het kenmerk, dat het ondersteuningsorgaan aan het liponderdeel in het midden van het schijfvormige onderdeel is bevestigd. 3

7 Π 7 ft W * · .p * Vr