NL7611269A - Inrichting voor het bestralen van een preparaat met deeltjes. - Google Patents

Inrichting voor het bestralen van een preparaat met deeltjes.

Info

Publication number
NL7611269A
NL7611269A NL7611269A NL7611269A NL7611269A NL 7611269 A NL7611269 A NL 7611269A NL 7611269 A NL7611269 A NL 7611269A NL 7611269 A NL7611269 A NL 7611269A NL 7611269 A NL7611269 A NL 7611269A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
iradiating
particulate preparation
particulate
preparation
Prior art date
Application number
NL7611269A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of NL7611269A publication Critical patent/NL7611269A/nl

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/3002—Details
    • H01J37/3007—Electron or ion-optical systems

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
NL7611269A 1975-10-17 1976-10-12 Inrichting voor het bestralen van een preparaat met deeltjes. NL7611269A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2547079A DE2547079C3 (de) 1975-10-17 1975-10-17 Verfahren zur Korpuskularbestrahlung eines Präparats

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7611269A true NL7611269A (nl) 1977-04-19

Family

ID=5959673

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7611269A NL7611269A (nl) 1975-10-17 1976-10-12 Inrichting voor het bestralen van een preparaat met deeltjes.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4136285A (nl)
JP (1) JPS5250289A (nl)
DE (1) DE2547079C3 (nl)
FR (1) FR2328281A1 (nl)
GB (1) GB1567635A (nl)
NL (1) NL7611269A (nl)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2739502C3 (de) * 1977-09-02 1980-07-03 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Verfahren zur Belichtung durch Korpuskularstrahlen-Schattenwurf und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
JPS5463681A (en) * 1977-10-29 1979-05-22 Nippon Aviotronics Kk Electron beam exposure device
JPS588130B2 (ja) * 1978-05-08 1983-02-14 ロツクウエル インタ−ナシヨナル コ−ポレ−シヨン 高分解能の微細ラインリソグラフイ構造を作るための方法
DE2837590A1 (de) * 1978-08-29 1980-03-13 Ibm Deutschland Verfahren zur schattenwurfbelichtung
DE2841124C2 (de) * 1978-09-21 1984-09-13 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum Herstellen von elektronischen Halbleiterbauelementen durch Röntgen-Lithographie
DE3138744A1 (de) * 1981-09-29 1983-04-07 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum herstellen von halbleitervorrichtungen
DE3470225D1 (en) * 1983-04-14 1988-05-05 Siemens Ag Method of reproducing electrical barrier layers (pn-junctions) in semiconductors by processing induced corpuscular beam signals within a scanning corpuscular microscope
DE3410885A1 (de) * 1984-03-24 1985-10-03 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Fehlerkorrigierte korpuskularstrahllithographie
US4757208A (en) * 1986-03-07 1988-07-12 Hughes Aircraft Company Masked ion beam lithography system and method
NL8702570A (nl) * 1987-10-29 1989-05-16 Philips Nv Geladen deeltjes bundel apparaat.
EP0732624B1 (en) * 1995-03-17 2001-10-10 Ebara Corporation Fabrication method with energy beam
AT406100B (de) * 1996-08-08 2000-02-25 Thallner Erich Kontaktbelichtungsverfahren zur herstellung von halbleiterbausteinen
US7423269B1 (en) * 2005-02-26 2008-09-09 Kla-Tencor Technologies Corporation Automated feature analysis with off-axis tilting
EP3016130A1 (en) * 2014-10-28 2016-05-04 Fei Company Composite scan path in a charged particle microscope

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3770934A (en) * 1971-10-29 1973-11-06 Machlett Lab Inc Electron beam heating apparatus
US3914608A (en) * 1973-12-19 1975-10-21 Westinghouse Electric Corp Rapid exposure of micropatterns with a scanning electron microscope
DE2446789A1 (de) * 1974-09-27 1976-09-02 Siemens Ag Korpuskularstrahloptisches geraet zur korpuskelbestrahlung eines praeparats
US3924136A (en) * 1975-02-18 1975-12-02 Stanford Research Inst Charged particle apodized pattern imaging and exposure system

Also Published As

Publication number Publication date
DE2547079A1 (de) 1977-04-21
FR2328281B1 (nl) 1980-08-22
GB1567635A (en) 1980-05-21
DE2547079B2 (de) 1979-04-12
FR2328281A1 (fr) 1977-05-13
US4136285A (en) 1979-01-23
DE2547079C3 (de) 1979-12-06
JPS5250289A (en) 1977-04-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7611199A (nl) Inrichting voor het rangschikken van voorwerpen.
BE834872A (fr) Werkwijze voor het bereiden van een verdunningsmiddel voor bloedmonsters en werkzijze voor het onderzoeken van bloedmonsters
BE848751A (fr) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een schijf met integrale schoepen,
NL7603901A (nl) Inrichting voor het veranderen van de draaistand van een snijorgaan.
NL7605706A (nl) Inrichting voor het controleren van een pijplei- ding.
NL166667C (nl) Inrichting voor het opstapelen van plaatvormige delen.
NL7701992A (nl) Inrichting voor het opstellen van een schietschijf.
NL7611269A (nl) Inrichting voor het bestralen van een preparaat met deeltjes.
NL169527C (nl) Inrichting voor het tekenen van een vector.
NL173323C (nl) Inrichting voor het teweegbrengen van een geluidseffect.
NL7501283A (nl) Inrichting voor het maken van een luier.
NL7500029A (nl) Inrichting voor het schoonhouden van een sol- out.
NL7502734A (nl) Inrichting voor het besturen van een fluidum.
NL171228C (nl) Inrichting voor het diffunderen van stoffen.
NL7605134A (nl) Inrichting voor het horizontaal houden van een voertuig.
NL7611545A (nl) Inrichting voor het verdrijven van muskieten.
NL7509360A (nl) Werkwijze voor het vormen van een vaste-fazein- richting.
NL176018C (nl) Inrichting voor het sproeidrogen van een suspensie.
NL7601987A (nl) Inrichting voor het vervaardigen van velvormige voorwerpen.
BE837799A (fr) Werkwijze voor het bereiden van een versnapering
NL7605838A (nl) Inrichting voor het vulkaniseren van slangen.
NL156952B (nl) Inrichting voor het verschaffen van een lasondersteuning.
NL7607829A (nl) Inrichting voor het doorboren van voorwerpen.
NL175582C (nl) Inrichting voor het vormen van een snede in geslacht gevogelte.
NL7413464A (nl) Inrichting voor het aanbrengen van een struc-

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed