NL7412533A - Werkwijze voor het diffunderen van een dote- ringsmateriaal in een halfgeleidermateriaal. - Google Patents

Werkwijze voor het diffunderen van een dote- ringsmateriaal in een halfgeleidermateriaal.

Info

Publication number
NL7412533A
NL7412533A NL7412533A NL7412533A NL7412533A NL 7412533 A NL7412533 A NL 7412533A NL 7412533 A NL7412533 A NL 7412533A NL 7412533 A NL7412533 A NL 7412533A NL 7412533 A NL7412533 A NL 7412533A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
diffusing
procedure
doping
semiconductive
semiconductive material
Prior art date
Application number
NL7412533A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Rca Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rca Corp filed Critical Rca Corp
Publication of NL7412533A publication Critical patent/NL7412533A/xx

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/22Diffusion of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, into or out of a semiconductor body, or between semiconductor regions; Interactions between two or more impurities; Redistribution of impurities
    • H01L21/223Diffusion of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, into or out of a semiconductor body, or between semiconductor regions; Interactions between two or more impurities; Redistribution of impurities using diffusion into or out of a solid from or into a gaseous phase
    • H01L21/2233Diffusion into or out of AIIIBV compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/40AIIIBV compounds wherein A is B, Al, Ga, In or Tl and B is N, P, As, Sb or Bi
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B31/00Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor
    • C30B31/06Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor by contacting with diffusion material in the gaseous state
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B31/00Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor
    • C30B31/06Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor by contacting with diffusion material in the gaseous state
    • C30B31/18Controlling or regulating
    • C30B31/185Pattern diffusion, e.g. by using masks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00Metal treatment
    • Y10S148/113Nitrides of boron or aluminum or gallium
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S438/00Semiconductor device manufacturing: process
    • Y10S438/909Controlled atmosphere

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Led Devices (AREA)
NL7412533A 1973-09-24 1974-09-23 Werkwijze voor het diffunderen van een dote- ringsmateriaal in een halfgeleidermateriaal. NL7412533A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US399822A US3865655A (en) 1973-09-24 1973-09-24 Method for diffusing impurities into nitride semiconductor crystals

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7412533A true NL7412533A (nl) 1975-03-26

Family

ID=23581095

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7412533A NL7412533A (nl) 1973-09-24 1974-09-23 Werkwijze voor het diffunderen van een dote- ringsmateriaal in een halfgeleidermateriaal.

Country Status (9)

Country Link
US (1) US3865655A (enExample)
JP (1) JPS5144381B2 (enExample)
CA (1) CA1037840A (enExample)
CH (1) CH595134A5 (enExample)
DE (1) DE2444107A1 (enExample)
FR (1) FR2245082B1 (enExample)
GB (1) GB1473400A (enExample)
IT (1) IT1020224B (enExample)
NL (1) NL7412533A (enExample)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4102715A (en) * 1975-12-19 1978-07-25 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for diffusing an impurity into a semiconductor body
FR2361744A1 (fr) * 1976-08-10 1978-03-10 Ibm Procede pour l'obtention d'une conductivite de type p dans un materiau semi-conducteur auto-compense et dispositifs semi-conducteurs en resultant
DE2738329A1 (de) * 1976-09-06 1978-03-09 Philips Nv Elektrolumineszierende galliumnitridhalbleiteranordnung und verfahren zu deren herstellung
US4095331A (en) * 1976-11-04 1978-06-20 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Fabrication of an epitaxial layer diode in aluminum nitride on sapphire
SU773795A1 (ru) * 1977-04-01 1980-10-23 Предприятие П/Я А-1172 Светоизлучающий прибор
EP0979883A4 (en) * 1997-12-25 2003-10-15 Japan Energy Corp METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING SINGLE CRYSTALS OF COMPOSITE SEMICONDUCTORS AND SINGLE CRYSTALS OF COMPOSITE SEMICONDUCTORS
AU2002252566A1 (en) * 2001-03-30 2002-10-15 Technologies And Devices International Inc. Method and apparatus for growing submicron group iii nitride structures utilizing hvpe techniques
US6613143B1 (en) * 2001-07-06 2003-09-02 Technologies And Devices International, Inc. Method for fabricating bulk GaN single crystals
US20060011135A1 (en) * 2001-07-06 2006-01-19 Dmitriev Vladimir A HVPE apparatus for simultaneously producing multiple wafers during a single epitaxial growth run
US7501023B2 (en) * 2001-07-06 2009-03-10 Technologies And Devices, International, Inc. Method and apparatus for fabricating crack-free Group III nitride semiconductor materials
US20070032046A1 (en) * 2001-07-06 2007-02-08 Dmitriev Vladimir A Method for simultaneously producing multiple wafers during a single epitaxial growth run and semiconductor structure grown thereby
US6936357B2 (en) * 2001-07-06 2005-08-30 Technologies And Devices International, Inc. Bulk GaN and ALGaN single crystals
US8647435B1 (en) 2006-10-11 2014-02-11 Ostendo Technologies, Inc. HVPE apparatus and methods for growth of p-type single crystal group III nitride materials
DE102007017080A1 (de) 2007-04-10 2008-10-16 Basf Se Verfahren zur Beschickung eines Längsabschnitts eines Kontaktrohres

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3540952A (en) * 1968-01-02 1970-11-17 Gen Electric Process for fabricating semiconductor laser diodes
US3554818A (en) * 1968-04-25 1971-01-12 Avco Corp Indium antimonide infrared detector and process for making the same
US3592704A (en) * 1968-06-28 1971-07-13 Bell Telephone Labor Inc Electroluminescent device
US3603833A (en) * 1970-02-16 1971-09-07 Bell Telephone Labor Inc Electroluminescent junction semiconductor with controllable combination colors
US3683240A (en) * 1971-07-22 1972-08-08 Rca Corp ELECTROLUMINESCENT SEMICONDUCTOR DEVICE OF GaN
US3764414A (en) * 1972-05-01 1973-10-09 Ibm Open tube diffusion in iii-v compunds

Also Published As

Publication number Publication date
FR2245082B1 (enExample) 1979-03-16
JPS5144381B2 (enExample) 1976-11-27
IT1020224B (it) 1977-12-20
JPS5061182A (enExample) 1975-05-26
AU7342574A (en) 1976-03-25
FR2245082A1 (enExample) 1975-04-18
CA1037840A (en) 1978-09-05
DE2444107A1 (de) 1975-04-03
US3865655A (en) 1975-02-11
CH595134A5 (enExample) 1978-01-31
GB1473400A (en) 1977-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL161302C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL167040C (nl) Inrichting voor het opwekken van een referentie- spanning.
NL187735C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een georienteerd polymeermateriaal.
NL7414079A (nl) Inrichting voor het vormen van moffen.
NL7413808A (nl) Inrichting voor het aereren van een vloeistof.
NL7412533A (nl) Werkwijze voor het diffunderen van een dote- ringsmateriaal in een halfgeleidermateriaal.
NL7410858A (nl) Inrichting voor het vormen van nagalm.
BE814729A (nl) Inrichting voor het transporteren van een langgerekte materiaalstrook
BE817595A (fr) Werkwijze en inrichting voor het in een groep opsporen van een lichamelijke afwijking
NL7410518A (nl) Inrichting voor het nat-lassen van thermoplastisch materiaal.
NL7501966A (nl) Inrichting voor het automatisch met fluidum- achtig materiaal vullen van een verwerkings- machine.
NL7510352A (nl) Inrichting voor het aftasten van een schijfvormige typendrager.
NL7416366A (nl) Inrichting voor het behandelen van boogvormig materiaal met een in tegengestelde draaizin ro- terende borstelinrichting.
NL7412217A (nl) Werkwijze voor het diffunderen van aktieve verontreinigingen in halfgeleidermaterialen.
NL7413758A (nl) Inrichting voor het vervaardigen van copieen.
NL7413673A (nl) Machine voor het aanbrengen van een voorwerp- drager.
NL163081C (nl) Inrichting voor delta-modulatie met aanpassing.
NL7512270A (nl) Inrichting voor het over een zone verdelen van fijnverdeeld materiaal.
NL7416127A (nl) Inrichting voor het verdampen van een ontwik- kelmedium in ontwikkelinrichtingen voor diazo- typiemateriaal.
NL7416031A (nl) Inrichting voor het plaatsen van draden in een werkgebied.
NL7407985A (nl) Werkwijze voor het vormen van een patroon en patroon vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL168392B (nl) Inrichting voor het instellen van een roentgenstraal- buis.
NL7509360A (nl) Werkwijze voor het vormen van een vaste-fazein- richting.
BE812979A (fr) Inrichting voor het aftasten van een oppervlak en micro-endoscoop voorzien van een dergelijke inrichting
NL7413890A (nl) Inrichting voor het geleiden van een ketting.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed