NL2027307B1 - A charged particle lens assembly and a charged particle beam apparatus provided with such charged particle lens assembly. - Google Patents
A charged particle lens assembly and a charged particle beam apparatus provided with such charged particle lens assembly. Download PDFInfo
- Publication number
- NL2027307B1 NL2027307B1 NL2027307A NL2027307A NL2027307B1 NL 2027307 B1 NL2027307 B1 NL 2027307B1 NL 2027307 A NL2027307 A NL 2027307A NL 2027307 A NL2027307 A NL 2027307A NL 2027307 B1 NL2027307 B1 NL 2027307B1
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- charged particle
- lens assembly
- permanent magnet
- temperature
- magnet system
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/143—Permanent magnetic lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/14—Lenses magnetic
- H01J2237/1405—Constructional details
- H01J2237/1415—Bores or yokes, i.e. magnetic circuit in general
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Claims (11)
1. Een lenssamenstel voor geladen deeltjes voor het focusseren van een bundel van geladen deeltjes die zich voortplant langs een bundelweg in een magnetisch veld, waarbij het lenssamenstel voor geladen deeltjes bestaat uit: ten minste één magneetsysteem gepositioneerd rond de bundelweg en ingericht in het genereren van het magnetische veld voor het focusseren van de bundel van geladen deeltjes; waarbij het ten minste ene magneetsysteem een permanent magneetsysteem is, en het lenssamenstel voor geladen deeltjes verder omvat: een temperatuurregelsysteem dat in warmtewisselend contact staat met het ten minste ene permanente magneetsysteem voor het regelen van de temperatuur van het ten minste ene permanente magneetsysteem tijdens het focusseren van de bundel van geladen deeltjesbundel die zich voortplant langs de bundelweg.
2. Het lenssamenstel voor geladen deeltjes volgens conclusie 1, waarbij het temperatuurregelsysteem een warmtewisselaar en ten minste één temperatuursensor omvat, waarbij de temperatuursensor is ingericht om de temperatuur van het ten minste ene permanente magneetsysteem te meten, waarbij het temperatuurregeling systeem is ingericht om de warmtewisselaar te regelen als reactie van de gemeten temperatuur.
3. Het lenzenstelsel voor geladen deeltjes volgens conclusie 2, waarbij de warmtewisselaar een thermische koelplaat omvat die in warmtewisselend contact staat met het tenminste ene permanent magneetsysteem.
4. Het lenssamenstel voor geladen deeltjes volgens conclusie 2 of 3, waarbij de warmtewisselaar een thermische verwarmingsplaat omvat die in warmtewisselend contact staat met het tenminste ene permanent magneetsysteem.
5. Het lenssamenstel voor geladen deeltjes volgens een van de voorgaande conclusies, waarbij het temperatuurregelsysteem is ingericht om de warmtewisselaar te regelen, zodanig dat de temperatuur van ten minste één permanent magneetsysteem overeenkomt met een vooraf ingestelde temperatuurniveau.
6. Het lenssamenstel voor geladen deeltjes volgens een van de voorgaande conclusies, waarbij het permanent magneetsysteem een coaxiaal ten opzichte van elkaar aangebracht binnenste juk en een buitenste juk omvat, met tenminste één ringvormig magneetelement coaxiaal aangebracht tussen het binnenste juk en het buitenste juk.
7. Het lenzensamenstel voor geladen deeltjes volgens conclusie 6, waarbij de tenminste ene temperatuursensor is aangebracht aan een eerste zijde van het tenminste ene ringvormige magneetelement en waarbij de warmtewisselaar is geplaatst aan een verdere, tegenoverliggende zijde van het ten minste één ringvormig magneetelement.
8. Het lenssamenstel voor geladen deeltjes volgens conclusie 7, waarbij het permanent magneetsysteem een verder ringvormig magneetelement omvat, op afstand geplaatst van het ene ringvormige magneetelement en coaxiaal geplaatst tussen het binnenste juk als het buitenste juk, waarbij de warmtewisselaar is voorzien tussen beide ringvormige magneetelementen en waarbij een temperatuursensor, elk is aangebracht aan de eerste zijde van een van de ringvormige magneetelementen.
9. Het lenssamenstel voor geladen deeltjes volgens conclusie 8, waarbij de warmtewisselaar tegen het binnenste juk is geplaatst.
10. Het lenssamenstel voor geladen deeltjes volgens een van de voorgaande conclusies, verder omvattende een afschermende huls die coaxiaal rond het permanente magneetsysteem is aangebracht.
11. Een geladen deeltjes bundelinrichting omvattende een geladen deeltjes genereerinrichting voor het genereren van geladen deeltjes en voor het uitzenden van de geladen deeltjes als een geladen deeltjes bundel langs een bundelweg in de richting van een doellocatie, evenals ten minste één lenssamenstel voor geladen deeltjes voor het focusseren van de bundel van geladen deeltje die zich voortplant langs de bundelweg in een magnetisch veld volgens een van de voorgaande conclusies.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL2027307A NL2027307B1 (en) | 2021-01-13 | 2021-01-13 | A charged particle lens assembly and a charged particle beam apparatus provided with such charged particle lens assembly. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL2027307A NL2027307B1 (en) | 2021-01-13 | 2021-01-13 | A charged particle lens assembly and a charged particle beam apparatus provided with such charged particle lens assembly. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL2027307B1 true NL2027307B1 (en) | 2022-07-25 |
Family
ID=74557238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL2027307A NL2027307B1 (en) | 2021-01-13 | 2021-01-13 | A charged particle lens assembly and a charged particle beam apparatus provided with such charged particle lens assembly. |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| NL (1) | NL2027307B1 (nl) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4318542A3 (en) * | 2022-07-15 | 2024-04-10 | IMS Nanofabrication GmbH | Adjustable permanent magnetic lens having thermal control device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60221933A (ja) * | 1985-03-27 | 1985-11-06 | Hitachi Ltd | ブラウン管装置 |
| GB2341448A (en) * | 1998-09-11 | 2000-03-15 | Oxford Magnet Tech | Temperature dependent magnetic field control system |
| US20130134322A1 (en) * | 2010-10-27 | 2013-05-30 | Param Corporation | Electron lens and the electron beam device |
-
2021
- 2021-01-13 NL NL2027307A patent/NL2027307B1/en active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60221933A (ja) * | 1985-03-27 | 1985-11-06 | Hitachi Ltd | ブラウン管装置 |
| GB2341448A (en) * | 1998-09-11 | 2000-03-15 | Oxford Magnet Tech | Temperature dependent magnetic field control system |
| US20130134322A1 (en) * | 2010-10-27 | 2013-05-30 | Param Corporation | Electron lens and the electron beam device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4318542A3 (en) * | 2022-07-15 | 2024-04-10 | IMS Nanofabrication GmbH | Adjustable permanent magnetic lens having thermal control device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5148014B2 (ja) | 電子レンズおよび電子ビーム装置 | |
| NL2027307B1 (en) | A charged particle lens assembly and a charged particle beam apparatus provided with such charged particle lens assembly. | |
| JP5437449B2 (ja) | 荷電粒子ビーム用軌道補正器、及び荷電粒子ビーム装置 | |
| US8044368B2 (en) | Lens coil cooling of a magnetic lens | |
| US7067820B2 (en) | Particle-optical apparatus with a permanent-magnetic lens and an electrostatic lens | |
| WO2012110465A4 (en) | System for magnetic shielding | |
| US20190393014A1 (en) | Charged-Particle Beam Device | |
| KR100282600B1 (ko) | 원뿔형 극편이 구비되어 있는 복합 동심-갭 자기렌즈 및 디플렉터 | |
| EP1239509A1 (en) | Lens assembly for electron beam column | |
| US6914248B2 (en) | Particle-optical apparatus and method for operating the same | |
| JP2019102250A (ja) | 荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置における撮像条件調整方法 | |
| NL2010432C2 (en) | Particle optical device with magnet assembly. | |
| US4639597A (en) | Auger electron spectrometer capable of attaining a high resolution | |
| US6307312B1 (en) | Immersion lens and electron beam projection system using the same | |
| US20080135786A1 (en) | Adjustable aperture element for particle beam device, method of operating and manufacturing thereof | |
| US9666322B2 (en) | X-ray source assembly | |
| CN103187223A (zh) | 带电粒子束系统中的漂移控制 | |
| JPH05198490A (ja) | 荷電粒子ビーム露光装置 | |
| JP2000077017A (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の制御方法 | |
| KR100590574B1 (ko) | 전자기장 포커싱 장치 및 이를 채용한 전자빔 리소그라피시스템 | |
| Zhao et al. | A design of transmission-type multi-target X-ray tube based on electric field modulation | |
| US20240212969A1 (en) | Charged particle optical system and charged particle apparatus | |
| GB2067348A (en) | A deflecting objective for corpuscular radiation apparatus | |
| JP7382299B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JP3955447B2 (ja) | 荷電粒子ビーム制御装置及びそれを用いた荷電粒子ビーム光学装置、ならびに荷電粒子ビーム欠陥検査装置 |