NL2015747B1 - Inrichting voor het galvaniseren van plaatvormige substraten. - Google Patents

Inrichting voor het galvaniseren van plaatvormige substraten. Download PDF

Info

Publication number
NL2015747B1
NL2015747B1 NL2015747A NL2015747A NL2015747B1 NL 2015747 B1 NL2015747 B1 NL 2015747B1 NL 2015747 A NL2015747 A NL 2015747A NL 2015747 A NL2015747 A NL 2015747A NL 2015747 B1 NL2015747 B1 NL 2015747B1
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
rod
bath
transverse
substrates
transport
Prior art date
Application number
NL2015747A
Other languages
English (en)
Inventor
Henricus Marinus Kivits Marc
Original Assignee
Meco Equipment Eng B V
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Meco Equipment Eng B V filed Critical Meco Equipment Eng B V
Priority to NL2015747A priority Critical patent/NL2015747B1/nl
Priority to PCT/NL2016/050744 priority patent/WO2017082721A1/en
Priority to TW105136166A priority patent/TW201723238A/zh
Application granted granted Critical
Publication of NL2015747B1 publication Critical patent/NL2015747B1/nl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/06Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/004Sealing devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/02Tanks; Installations therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67712Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/6776Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H01L31/1804Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic Table
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/547Monocrystalline silicon PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

De uitvinding heeft betrekking op een inrichting voor het galvaniseren van plaatvormige substraten, omvattende een bad, omvattende een bodem, langszijwanden en kopse zijwanden, transportmiddelen voor het in bedrijf door het bad transporteren van substraten, omvattende een eindloos bandvormig transportorgaan met klemorganen om een substraat in te klemmen voor het ophangen van het substraat, en waarbij de transportmiddelen omloopwielen omvatten waaromheen het transportorgaan is geslagen, waarbij het bad een compartiment voor een galvanische oplossing omvat, waardoorheen de substraten passeren, welk compartiment aan een stroomaf- en stroomopwaarts einde ervan door een sluiselement is begrensd, waardoorheen de substraten kunnen passeren, waarbij de inrichting geleidingswielen omvat voor geleiden van het transportorgaan, en een stang waaraan de geleidingswielen roterend zijn bevestigd, waarbij het bad dwarselementen omvat die zich tussen de langszijwanden uitstrekken, waarbij de stang en de sluiselementen zodanig met dwarselementen zijn verbonden dat een dwarspositie van de stang is vastgelegd.

Description

Korte aanduiding: Inrichting voor het galvaniseren van plaatvormige substraten. Beschrijving
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een inrichting voor het galvaniseren van plaatvormige substraten, zoals glasachtige substraten voor zonnecellen.
Hoewel niet uitsluitend, richt de uitvinding zich met name op het gebruik van het transportorgaan met niet-metallische, glasachtige substraten en/of substraten van halfgeleidermateriaal zoals in het bijzonder van silicium, ten behoeve van het produceren van zonnecellen. Onder substraat wordt binnen het kader van de uitvinding verstaan een plaat vormig element, in het bijzonder een rechthoekige silicium wafer voor een zonnecel. NL 1035265 openbaart een bekende inrichting voor het, elektrolytisch, galvaniseren van substraten zoals voor zonnecellen.
Een eveneens bekende inrichting voor het, elektrolytisch, galvaniseren van substraten zoals voor zonnecellen heeft, voor het hangend door een elektrolytisch bad transporteren van een substraat, een om omloopwielen geslagen eindloos bandvormig transportorgaan. Het transportorgaan is voorzien van klemorganen voor het klemmend vasthouden van een substraat. Geleiding van het transportorgaan door het bad vindt plaats met geleidingswielen, uitgevoerd als paren van een tandwiel en een aandrukwiel waartussen het transportorgaan is geleid. Het elektrolytisch bad, dat van bijvoorbeeld een kunststof is vervaardigd, is voorzien op een frame van de inrichting. In het bad, boven de elektrolytische oplossing, strekt zich een stang uit waaraan de geleidingswielen zijn opgehangen. De stang is via haaks op de stang verlopende draagarmen opgehangen aan het frame van de inrichting. Het bad van de inrichting is onderverdeeld in een aantal afzonderlijke compartimenten waardoorheen in bedrijf de substraten achtereenvolgens passeren, welke compartimenten in transportrichting zijn begrensd door sluiselementen die elk in een afdichtschot zijn voorzien dat afgedicht met de bodem en met de twee langszijwanden van het bad is verbonden. De substraten kunnen door de sluiselementen heen passeren terwijl de elektrolytische vloeistof althans nagenoeg volledig door de sluiselementen in het compartiment van het bad wordt gehouden.
Hoewel de bovenomschreven bekende inrichting op zich goed functioneert, blijkt dat substraten, met name zeer kwetsbare substraten zoals silicium wafers voor zonnecellen, vaker dan gewenst breuk of beschadigingen vertonen nadat deze door het bad zijn getransporteerd, vanwege botsing met sluiselementen. Hierdoor komen er scherven van substraten in het bad terecht. Dit leidt tot productieverlies vanwege de noodzaak tot stilleggen van de inrichting voor het uit het bad verwijderen van dergelijke scherven.
Een doel van de onderhavige uitvinding is derhalve het verschaffen van een inrichting waarbij de kans op breuk dan wel beschadiging van substraten tijdens het transport door het bad verkleind is.
Het genoemde doel is bereikt met de inrichting volgens de uitvinding zoals gedefinieerd in conclusie 1, voor het galvaniseren van plaatvormige substraten, zoals glasachtige substraten voor zonnecellen, de inrichting omvattende - een bad, omvattende een bodem, twee tegenovergelegen langszijwanden en twee tegenovergelegen kopse zijwanden, - transportmiddelen voor het in bedrijf in een transportrichting, volgens een horizontaal transporttraject, parallel aan de langszijwanden, door het bad transporteren van achtereenvolgende substraten, waarbij de transportmiddelen een eindloos bandvormig transportorgaan omvatten dat is uitgevoerd met klemorganen die zijn ingericht om een substraat in te klemmen voor het ophangen van het substraat, en waarbij de transportmiddelen omloopwielen omvatten waaromheen het transportorgaan is geslagen, waarbij het bad, in de transportrichting, ten minste een compartiment voor een galvanische oplossing omvat, door welke oplossing in bedrijf de achtereenvolgende substraten achtereenvolgens passeren, waarbij het ten minste ene compartiment aan een stroomafwaarts en aan een stroomopwaarts einde ervan door een sluiselement is begrensd, waardoorheen de substraten kunnen passeren, waarbij de inrichting in de transportrichting op onderlinge afstand in het bad voorziene geleidingswielen omvat voor het zodanig geleiden van het transportorgaan dat de substraten door de sluiselementen passeren, de inrichting omvattende een zich in transportrichting aan een bovenzijde van het bad, bij toepassing boven de oplossing, uitstrekkende stang waaraan de geleidingswielen roterend zijn bevestigd, waarbij het bad dwarselementen omvat die zich tussen de twee langszijwanden uitstrekken en daaraan zijn bevestigd, waarbij de stang en de sluiselementen zodanig met dwarselementen zijn verbonden dat ten minste een dwarspositie, dwars op de transportrichting, van de stang ten opzichte van de sluiselementen is vastgelegd.
Een voordeel van de inrichting volgens de onderhavige uitvinding is dat door het rechtstreeks aan de langszijwanden van het bad bevestigen van de stang, dat wil zeggen door het ten opzichte van de langszijwanden vastleggen van de dwarspositie van de stang, er in bedrijf van de inrichting aanzienlijk minder breuk dan wel beschadiging van substraten blijkt op te treden. De uitvinder heeft zich gerealiseerd dat het, ondanks een, ten aanzien van uitzetting, relatief grote temperatuursafhankelijkheid van het, bij voorkeur kunststof, materiaal van het bad die in bedrijf van de inrichting aan de orde is, toch voordelig is om de stang ten opzichte van, wanden van, het bad zelf te positioneren, aangezien ook de sluiselementen ten opzichte van het bad zelf zijn gepositioneerd. In bedrijf blijven hierdoor de geleidingswielen, die aan de stang zijn bevestigd, nauwkeurig op relatieve positie ten opzichte van de sluiselementen, in hoge mate onafhankelijk van uitzetting dan wel krimp van het bad door temperatuurswisselingen in bedrijf. De geleidingswielen bepalen op die plaats de positie van het transportorgaan. Door deze in hoge mate nauwkeurige relatieve positie blijft de positie van het transportorgaan ten opzichte van de sluiselementen zodanig ongewijzigd, dat de substraten die aan het transportorgaan zijn opgehangen op een vooraf bepaalde, gewenste positie, ofwel uitlijning, gezien in dwarsrichting van het bad door de sluiselementen gaan, waardoor de kans op breuk dan wel beschadiging van substraten bij het door de sluiselementen gaan belangrijk is verminderd.
De inrichting volgens de uitvinding is bijzonder geschikt voor toepassing van het electroless, ofwel e-less, plating proces, waarbij door middel van galvaniseren bijvoorbeeld nikkel op een, bijvoorbeeld glasachtig of kunststof, substraat wordt afgezet, alsook voor toepassing van het elektrolytisch galvaniseren van plaatvormige substraten, die in het laatstgenoemde geval ieder aan ten minste één zijde daarvan elektrisch geleidend materiaal omvatten.
Onder “verticaal” wordt begrepen in een richting ten minste nagenoeg parallel aan de richting van de zwaartekracht. Het transportorgaan is in bedrijf door aandrijfmiddelen aangedreven. Bij voorkeur is ten minste een van de omloopwielen met een aandrijforgaan zoals een elektromotor verbonden, het transportorgaan beweegt in een ten minste in hoofdzaak horizontale richting door het bad, ofwel haaks op de richting van de zwaartekracht. Het transportorgaan is eindloos en als band uitgevoerd. Bij voorkeur is het transportorgaan van roestvast staal vervaardigd en flexibel.
De inrichting kan meerdere achtereenvolgende baden omvatten, elk met een of meer compartimenten. Hierbij kan het transportorgaan zich door elke van de baden uitstrekken.
In een gunstige uitvoeringsvorm betreft het ten minste ene compartiment een aantal afzonderlijke in transportrichting achtereenvolgende compartimenten waardoorheen in bedrijf de substraten passeren.
De sluiselementen hebben bij voorkeur een, bij voorkeur tegen de transportrichting in hellende, verticale spleet voor doorgang van de hangende substraten. Dankzij een hellende spleet kan ieder substraat geleidelijk in het bad worden gebracht, waarbij de bovenzijde van ieder substraat als eerste het bad binnentreedt en/of als eerste het bad weer verlaat. Hierdoor wordt de mechanische belasting op de substraten belangrijk verminderd.
De sluiselementen omvatten bij voorkeur twee met elkaar in contact zijnde drukrollen die daartussen de spleet bepalen, welke spleet gesloten is indien er geen substraat tussen de drukrollen door passeert en waarbij de drukrollen, of althans de oppervlakken ervan die met elkaar in contact zijn, door een substraat van elkaar af worden gedwongen bij het daartussendoor passeren van dat substraat. Hiertoe kunnen de drukrollen ten minste ten dele verend zijn of verend zijn opgehangen.
Bij voorkeur is hierbij het stroomafwaartse en het stroomopwaartse sluiselement van een compartiment in een respectievelijk afdichtschot voorzien dat afgedicht met de bodem en met de twee langszijwanden van het bad is verbonden. Op deze wijze zijn de verschillende compartimenten van een bad effectief gescheiden. Het is hierbij gunstig indien tussen opeenvolgende compartimenten een overstortgedeelte aanwezig is voor het afvoeren van uit de aangrenzende compartimenten tredende galvanische oplossing, hetgeen de effectieve scheiding van de compartimenten verder ten goede komt.
Bij voorkeur zijn het stroomafwaartse en het stroomopwaartse sluiselement van een compartiment in een respectievelijk afdichtschot voorzien, welk afdichtschot een dwarselement van de genoemde dwarselementen vormt en afgedicht, voor de oplossing met de bodem en met de twee langszijwanden van het bad is verbonden, bij voorkeur duurzaam verbonden zoals door een (smelt)lasverbinding.
Het is voordelig indien in de onmiddellijke nabijheid van elk sluiselement een dwarselement van de dwarselementen, bij voorkeur zijnde een afdichtschot van een sluiselement, is voorzien, waaraan de stang is bevestigd. Indien het sluiselement en de stang in eenzelfde dwarselement, gevormd door een genoemd afdichtschot, zijn voorzien, is de onderlinge positionering in bijzonder hoge mate gewaarborgd.
Het is gunstig indien de dwarselementen zich vanaf een vrije bovenrand ervan neerwaarts uitstrekkende doorgangen hebben waardoorheen de stang zich uitstrekt, welke doorgangen zijn ingericht om vormgesloten de dwarspositie van de stang vast te leggen.
Het is gunstig indien ten behoeve van elk dwarselement een klemelement is verschaft voor het neerwaarts tegen een onderste begrenzingsrand van de doorgang in dat dwarselement dwingen van de stang. Zodoende is ook de verticale positie van de stang effectief vastgelegd.
Het is hierbij gunstig indien het klemelement zich rondom de stang uitstrekt en aan een onderzijde ervan, onder de stang, is ingericht om van onderaf met het dwarselement in aangrijping te zijn.
Bij voorkeur is het klemelement zodanig ontworpen en geplaatst, dat deze een relatieve beweging parallel aan de transportrichting van de stang en het dwarselement toelaat als gevolg van een verschil in uitzettingscoëfficiënt tussen het materiaal van de stang en het bad, bij het in bedrijf van de inrichting opwarmen van de stang en het bad.
Het is hierbij verder gunstig indien één met de stang verbonden klemelement is ontworpen en geplaatst om onderlinge beweging in de transportrichting van de stang en het dwarselement te verhinderen. Zodoende ligt de positie in de transportrichting ter plaatse van het genoemde klemelement in hogere mate vast en wordt enige onderlinge beweging door temperatuurseffecten van stang en overige dwarselementen toegelaten.
Bij voorkeur is de stang, althans in de in de inrichting gemonteerde toestand, aan de onderzijde ervan V-vormig in dwarsdoorsnede en rust deze in elk van de dwarselementen in een overeenkomstige ten minste ten dele V-vormige doorgang daarin. Hierdoor kan de dwarspositie nauwkeurig worden vastgelegd.
Het is gunstig indien de stang onrond is, bij voorkeur vierkant, ruitvormig of driehoekig is, in dwarsdoorsnede. Een onronde dwarsdoorsnede vergemakkelijkt het nauwkeurig onderling positioneren van de stang en daarmee verbonden onderdelen zoals een dwarselement of een geleidingswiel.
Bij voorkeur is de stang vervaardigd van een metaal, bij voorkeur van roestvast staal of van titanium.
Het is verder gunstig indien ten minste de bodem en de langszijwanden, bij voorkeur tevens de kopse zijwanden, van het bad zijn vervaardigd van een kunststof, bij voorkeur van een polyolefine, bij verdere voorkeur van polypropyleen. De dwarselementen zijn bij voorkeur door middel van een (smelt)lasverbinding aan de tegenovergelegen zijwanden bevestigd.
Bij voorkeur zijn de klemorganen ingericht voor het vrij ophangen van het substraat.
Bij voorkeur omvat het transportorgaan een zich volgens een eindloze horizontale baan uitstrekkende flexibele band.
In geval van het elektrolytisch galvaniseren is het voordelig indien het transportorgaan elektrisch geleidend materiaal omvat, voor het in dat geval noodzakelijke kathodisch kunnen schakelen van de substraten.
Ten behoeve van het aandrijven van het transportorgaan zijn voordeligerwijze in de flexibele band op regelmatige afstand van elkaar uitsparingen voorzien en omvatten de transportmiddelen verder ten minste één aandrijvend tandwiel waarvan de tanden aangrijpen in de uitsparingen.
In het geval de uitsparingen rechthoekig zijn en de tanden in horizontale dwarsdoorsnede een althans in hoofdzaak driehoekige vorm bezitten, kan een uitermate stabiel en rechtlijnig transport van de substraten door de oplossing worden gerealiseerd zonder zelfs maar beperkte golfbewegingen van de substraten in verticale richting.
De uitvinding zal navolgend nader worden toegelicht aan de hand van de beschrijving van een voorkeursuitvoeringsvorm van de uitvinding onder verwijzing naar de navolgende figuren, waarin:
Figuur 1 in isometrisch aanzicht een deel van een voorkeursuitvoeringsvorm van een inrichting volgens de uitvinding toont, deels opengewerkt;
Figuur 2 in isometrisch aanzicht de inrichting volgens figuur 1 toont, deels opengewerkt, met diverse onderdelen weggelaten en met onderdelen in explosieweergave;
Figuur 3 in isometrisch aanzicht detail A volgens figuur 2 toont; en
Figuur 4 een dwarsdoorsnede-aanzicht van een afdichtschot met sluiselement toont, gezien in transportrichting vanuit een compartiment 3a van het bad van de inrichting;
De uitvinding wordt in het navolgende toegelicht aan de hand van een voorbeeld van een inrichting waarbij er sprake is van elektrolytisch galvaniseren. De uitvinding is echter ook toepasbaar voor het bovengenoemde e-less plating proces. In dat geval is aanwezigheid in de inrichting van een onder te noemen anode niet aan de orde.
Figuur 1 toont een deel van een inrichting 1 waarop de uitvinding betrekking heeft. De inrichting 1 is bestemd om rechthoekige plaat vormige substraten 2, elektrolytisch, te galvaniseren. Deze substraten kunnen rechthoekige siliciumpanelen zijn waarvan de zijden een lengte hebben gelegen tussen ca. 125 mm en 210 mm en waarvan de dikte gelegen is tussen 50 pm en 300 pm. Kenmerkend voor dit type materiaal is dat het uitermate kwetsbaar is en daardoor snel in stukken breekt. Dergelijke substraten worden gebruikt bij de productie van zonnecellen of bijvoorbeeld batterijen. Aan een zijde van ieder substraat 2 is, bijvoorbeeld middels opdampen of bedrukken, elektrisch geleidend materiaal aangebracht teneinde een seed layer te vormen, in casu in de vorm van twee (verticaal georiënteerde) hoofdsporen en een groter aantal (horizontaal georiënteerde) hulpsporen die ieder de hoofdsporen snijden en aldus in elektrisch geleidend contact daarmee zijn. Alternatief kan het substraat meer of minder dan twee hoofdsporen hebben. Voorafgaand aan de galvanisatie is de dikte van de seed layer maximaal 5 pm en bij voorkeur 0,02 tot 2 pm.
De uitvinding is tevens bijzonder geschikt voor toepassing met substraten met een seed layer aan zowel de voor- en achterzijde, voor substraten met een opengewerkte buitenste laag aan de voor- en of achterzijde ten behoeve van light induced plating, en voor substraten met als buitenste laag een dunne geleidende laag, metallisch van bijvoorbeeld koper of nikkel, of van een geleidende oxide, waarbij met fotolak delen van die laag die niet dienen te worden gegalvaniseerd zijn afgedekt.
Inrichting 1 omvat een bad 3 voor, althans in het onderhavige voorbeeld waarbij sprake is van het elektrolytisch galvaniseren, een elektrolytische oplossing. Het bad 3 heeft tegenover elkaar gelegen zijwanden 4, tegenover elkaar gelegen kopse wanden 5 en bodem 6. Ten behoeve van de duidelijkheid is in figuur 1 de naar de kijker toe gerichte zijwand 4 niet weergegeven, zodat het inwendige van het bad 3 zichtbaar is. Het bad 3 heeft twee in transportrichting 22 achtereenvolgende compartimenten 3a en 3b. Voor de toevoer van elektrolytische oplossing, die in bedrijf continu wordt rondgepompt door niet nader getoonde pompmiddelen, is per compartiment 3a, 3b een verticale toevoerbuis 11 voorzien die zich uitstrekt door bodem 6.
In het inwendige van bad 3 is verder een anode voorzien (in de figuren niet weergegeven) die zich parallel aan één van de zijwanden 4 uitstrekt. Anode is plaatvormig en feitelijk een rooster. De anode is anodisch geschakeld met een gelijkrichter.
Voor het transport van substraten 2 omvat inrichting 1 een nog nader te omschrijven eindloos bandvormig transportorgaan 21 waaraan de substraten 2 zijn opgehangen. Om de substraten 2 toe te kunnen laten in het bad, dat wil zeggen in de compartimenten 3a, 3b, waarbij de substraten 2 door het eindloze transportorgaan 21 in transportrichting 22, volgens een horizontaal transporttraject 9, worden getransporteerd, is in de voorste, stroomopwaartse kopse wand 5 een verticale doorgang 23 voorzien. Hetzelfde geldt voor de stroomafwaartse kopse wand 5. De inrichting 1 kan meerdere opeenvolgende baden elk met een of meer compartimenten omvatten, waarbij het transportorgaan zich door elk van de baden heen uitstrekt.
Tijdens het verblijf van een substraat 2 in een compartiment 3a, 3b van bad 3 wordt substraat 2, althans in het onderhavige voorbeeld elektrolytisch, galvanisch behandeld. Tijdens deze behandeling wordt de elektrolytische oplossing continu in het compartiment 3a, 3b rondgepompt zoals eerder reeds aangegeven. Meer specifiek treedt gezuiverde elektrolytische vloeistof het compartiment 3a, 3b van het bad 3 binnen en stroomt in hoofdzaak in de richting van de tegenover elkaar gelegen zijwanden 4 om van daaruit omhoog te stromen. Met name aan de zijde van anode kan de elektrolytische oplossing verrijkt worden met metaalionen die vanuit de anode in de elektrolytische oplossing oplossen. De elektrolytische oplossing zal metaalionen aan het substraat 2 afstaan voor aangroei van het elektrisch geleidend materiaal daarop.
Zoals voorgaand reeds aangegeven, wordt voor het transport van substraten 2 door bad 3 gebruik gemaakt van een eindloos transportorgaan 21. Het eindloze transportorgaan 21 omvat een eindloze band 51 die bijvoorbeeld geslagen is om twee omloopwielen 80 die in figuur 1 enkel schematisch zijn aangegeven en die, eventueel via een gestel, op een vaste positie ten opzichte van bad 3 roteerbaar rond een verticale as 81 zijn voorzien, waarvan er ten minste één aandrijfbaar is door middel van niet nader in de figuren getoonde aandrijfmiddelen zoals een elektromotor. De geleiding van het transportorgaan 21 in het bad 3 vindt plaats met behulp van geleidingswielen gevormd door paren van een tandwiel 75 en een aandrukwiel 76, terwijl de aandrijving van het transportorgaan plaatsvindt met behulp van aangedreven omloopwielen 80. Zoals in de figuren getoond is er in elk compartiment 3a, 3b een paar 75, 76 voorzien. De tandwielen 75 en de aandrukwielen 76 zijn vervaardigd van elektrisch isolerend materiaal. De tanden van de tandwielen 75 vormen hierbij een uitzondering en zijn, vanwege hun gunstige slijtage-eigenschappen, van een metaal zoals roestvast staal vervaardigd. Op dezelfde hoogte als tanden is in de aandrukwielen 76 een groef voorzien waar binnen tanden zich aan de naar aandrukwiel 76 gekeerde zijde van tandwiel 75 uitstrekken. Band 51 is op regelmatige afstand van elkaar voorzien van gaten waarvan de vorm is aangepast aan de vorm van de tanden en die samenwerken met de tanden van de tandwielen 75. Aldus vindt geleiding van het transportorgaan 21 plaats.
Op regelmatige afstand van elkaar omvat het eindloos transportorgaan 21 verder veerkrachtige contactorganen. Aldus is het mogelijk om ieder substraat 2 met behulp van bijvoorbeeld twee contactorganen nabij de bovenrand van het substraat 2 klemmend aan te grijpen.
De compartimenten 3a, 3b van het bad 3 zijn elk aan een stroomopwaartse en een stroomafwaartse zijde ervan door sluiselementen 40 begrensd. Elk sluiselement 40 is voorzien in een afdichtschot 51 dat afgedicht met de bodem 6 en met de twee langszijwanden 4 van het bad 3 is verbonden, het de wanden 4, 5 en bodem 6 van het bad 3 zijn vervaardigd uit polypropyleen. De afdichtende verbinding van het schot 51 en de hieronder nog genoemde schotten 52 is gerealiseerd door een (smelt)lasverbinding van het materiaal, dat eveneens polypropyleen is, van de schotten met de wanden 4 en bodem 6. Elk sluiselement 40 heeft een tegen de transportrichting 22 in hellende spleet 41 zodat de bovenzijde van een substraat 2 spleet 41 eerder passeert dan de onderzijde van het betreffend substraat 2. Aldus treedt, althans bij het stroomopwaartse sluiselement 40 van een compartiment 3a, 3b, ieder substraat 2 via spleet 41 geleidelijk tot het compartiment 3a, 3b van het bad 3 toe, waardoor de mechanische belasting op het substraat 2 beperkt blijft. De sluiselementen 40 omvatten twee drukrollen 42 die zodanig zijn ontworpen dat deze in contact zijn met elkaar indien er geen substraat 2 tussendoor passeert, waarbij dus de spleet 41 gesloten is. Bij passage van een substraat 2 worden de drukrollen 42 door het substraat 2 van elkaar af gedwongen om aldus voor het substraat 2 te wijken. De drukrollen 42 rollen daarbij af over het oppervlak, aan weerszijden, van het substraat 2. Hiervoor is het van belang dat het substraat 2 nauwkeurig in het midden van de twee drukrollen 42, ofwel ter plaatse van althans door het substraat te vormen spleet, de twee drukrollen 42 gelijktijdig raakt. Dit wordt in hoge mate bereikt dankzij de constructie volgens de uitvinding, waarbij de geleidingswielen in hoge mate uitgelijnd zijn en ook blijven ten opzichte van de sluiselementen.
Daarbij dient men zich te realiseren dat via de spleten 41 in de stroomopwaartse en stroomafwaartse sluiselementen 40 elektrolytische oplossing in het compartiment 3a, 3b van het bad 3 de neiging heeft om het compartiment te verlaten. Derhalve zijn de compartimenten 3a, 3b niet direct aansluitend op elkaar voorzien en ook niet direct aansluitend op een kopse wand 5 van het bad. Direct stroomopwaarts en stroomafwaarts van elk compartiment 3a, 3b is een overstortgedeelte 30 aanwezig. Elektrolytische oplossing die door de sluiselementen 40 passeert, of die bijvoorbeeld over een overlooprand in een afdichtschot 51 stroomt, komt terecht in een overstortgedeelte, waar het via een afvoer 31 uit het bad kan stromen.
Het bad 3 heeft verder een tussengedeelte 32, tussen het de overstortgedeelten 30 tussen de twee compartimenten, waarin de substraten aan een spoelbehandeling, met spoelelement 33, en een afblaasbehandeling, met blaaselement 34, worden onderworpen. Dergelijke behandelingen, en eventueel verdere behandelingen, kunnen ook op andere plaatsen binnen het bad 3 maar buiten de compartimenten 3a, 3b aan de orde zijn, al dan niet in een overstortgedeelte 30 zoals getoond in de figuren, voor het verder verminderen van contaminatie van het stroomafwaarts gelegen compartiment dan wel bad.
De inrichting 1 omvat een zich in transportrichting 22 aan een bovenzijde van het bad, dat wil zeggen bij toepassing boven de elektrolytische oplossing, uitstrekkende stang 50 waaraan de geleidingswielen, gevormd door tandwielen 75 en aandrukwielen 76, roterend zijn bevestigd, meer specifiek zijn opgehangen. De stang 50 is in het bad gepositioneerd onder gebruikmaking van dwarselementen die zich tussen de twee langszijwanden 4 uitstrekken en daaraan zijn bevestigd. Hierdoor is ter plaatse van iedere van de dwarselementen ten minste een dwarspositie, dwars op de transportrichting, van de stang 50 in het bad 3 vastgelegd en daarmee tevens van de geleidingswielen. De dwarselementen zijn in het onderhavige uitvoeringsvoorbeeld gevormd door schotten, zoals bovengenoemde afdichtschotten 51 waarin een sluiselement 40 is voorzien, die elk afgedicht met de bodem 6 en met de twee langszijwanden 4 van het bad 3 zijn verbonden. Ook verdere schotten 52, buiten de compartimenten 3a, 3b vormen dergelijke dwarselementen waarmee de stang 50 in het bad is gepositioneerd.
De dwarselementen, ofwel schotten 51, 52, hebben zich vanaf een vrije bovenrand ervan neerwaarts uitstrekkende doorgangen 54 waardoorheen de stang 50 zich uitstrekt, welke doorgangen 54 zijn ingericht om vormgesloten de dwarspositie van de stang 50 vast te leggen. Zie hiervoor in het bijzonder figuur 3. Een breedte, in dwarsrichting, van de doorgangen 54 is dus gelijk aan de breedte, in dwarsrichting, van de stang 50, in gemonteerde toestand. In figuur 2 en 3 is overigens onder meer in het afdichtschot 51 het sluiselement 40 niet ingetekend.
Ten behoeve van elk schot 51, 52 is een klemelement 55 verschaft voor het neerwaarts tegen een onderste begrenzingsrand 56 van de doorgang 54 dwingen van de stang 50. Het klemelement 55 strekt zich rondom de stang 50 uit en is aan een onderzijde ervan, onder de stang 50, ingericht om van onderaf met het schot 51, 52 in aangrijping te zijn. Daartoe is een lip 57 aan het klemelement voorzien, die zich onder de stang 50 parallel daaraan uitstrekt en in gemonteerde toestand haakt onder een contactvlak 58 in het betreffende schot 51, 52. Elk klemelement 55 heeft aan de bovenzijde ervan een schroefgat 59 waarin een schroef 60 kan worden aangebracht. De schroef 60 wordt tegen de bovenzijde van de stang 50 geschroefd, waardoor het klemelement 55 tegen de rand 56 wordt gedrukt en de lip 57 tegen vlak 58 wordt gedwongen. De stang 50 is aan een onderzijde ervan vrij van het klemelement 55. Dat wil zeggen dat het gat 61 in het klemelement 55 waardoorheen de stang 50 zich uitstrekt zodanig is dat de stang 50 niet met een onderste begrenzingsrand van dit gat in contact komt.
De klemelementen 55 zijn zodanig ontworpen en geplaatst, dat deze een relatieve beweging parallel aan de transportrichting van de stang 50 en het schot waaraan het element 55 is aangebracht toelaat als gevolg van een verschil in uitzettingscoëfficiënt tussen het materiaal van de stang 50 en het bad 3, bij het in bedrijf van de inrichting opwarmen van de stang en het bad 3. Dit kan doordat de lip 57 kan schuiven langs vlak 58. Eén met de stang 50 verbonden klemelement 55a is echter ontworpen en geplaatst om onderlinge beweging in de transportrichting van de stang 50 en het schot waaraan dat ene klemelement 55a is aangebracht te verhinderen. Dit ene klemelement 55a is in het meest stroomafwaartse schot van het bad 3 voorzien. Zoals getoond in figuur 1 betreft dit een schot 52. Door deze laatstgenoemde maatregel treden er in het bad geen spanningen op als gevolg van het genoemd verschil in uitzettingscoëfficiënt.
In dit kader is het alternatief gunstig indien klemelementen die de stang 50 aan afdichtschotten 51 vastklemmen, aan de naar het compartiment 3a, 3b, dat door dat afdichtschot 51 is begrensd, gelegen zijde van dat afdichtschot zijn voorzien.
De stang 50 heeft een vierkante dwarsdoorsnede en is zodanig over 45 graden ten opzichte van de verticaal gedraaid dat deze in de in de inrichting gemonteerde toestand aan de onderzijde ervan V-vormig is in dwarsdoorsnede. De onderste begrenzingsrand 56 van de doorgangen 54 is overeenkomstig V-vormig. De doorgangen 54 zijn in dwarsrichting in het midden van het bad 3 voorzien. Hierdoor is de stang 50 in dwarsrichting bijzonder nauwkeurig centraal in het bad 3 gepositioneerd.

Claims (13)

1. Inrichting voor het galvaniseren van plaatvormige substraten, zoals glasachtige substraten voor zonnecellen, de inrichting omvattende - een bad, omvattende een bodem, twee tegenovergelegen langszijwanden en twee tegenovergelegen kopse zijwanden, - transportmiddelen voor het in bedrijf in een transportrichting, volgens een horizontaal transporttraject, parallel aan de langszijwanden, door het bad transporteren van achtereenvolgende substraten, waarbij de transportmiddelen een eindloos bandvormig transportorgaan omvatten dat is uitgevoerd met klemorganen die zijn ingericht om een substraat in te klemmen voor het ophangen van het substraat, en waarbij de transportmiddelen omloopwielen omvatten waaromheen het transportorgaan is geslagen, waarbij het bad, in de transportrichting, ten minste een compartiment voor een galvanische oplossing omvat, door welke oplossing in bedrijf de achtereenvolgende substraten achtereenvolgens passeren, waarbij het ten minste ene compartiment aan een stroomafwaarts en aan een stroomopwaarts einde ervan door een sluiselement is begrensd, waardoorheen de substraten kunnen passeren, waarbij de inrichting in de transportrichting op onderlinge afstand in het bad voorziene geleidingswielen omvat voor het zodanig geleiden van het transportorgaan dat de substraten door de sluiselementen passeren, de inrichting omvattende een zich in transportrichting aan een bovenzijde van het bad, uitstrekkende stang waaraan de geleidingswielen roterend zijn bevestigd, waarbij het bad dwarselementen omvat die zich tussen de twee langszijwanden uitstrekken en daaraan zijn bevestigd, waarbij de stang en de sluiselementen zodanig met dwarselementen zijn verbonden dat ten minste een dwarspositie, dwars op de transportrichting, van de stang ten opzichte van de sluiselementen is vastgelegd.
2. Inrichting volgens conclusie 1, waarbij het ten minste ene compartiment een aantal afzonderlijke in transportrichting achtereenvolgende compartimenten betreft waardoorheen in bedrijf de substraten passeren.
3. Inrichting volgens conclusie 2, waarbij het stroomafwaartse en het stroomopwaartse sluiselement van een compartiment in een respectievelijk afdichtschot is voorzien, welk afdichtschot een dwarselement van de genoemde dwarselementen vormt en afgedicht met de bodem en met de twee langszijwanden van het bad is verbonden.
4. Inrichting volgens conclusie 1, 2 of 3, waarbij in de onmiddellijke nabijheid van elk sluiselement een dwarselement van de dwarselementen, bij voorkeur zijnde een afdichtschot van een sluiselement, is voorzien, waaraan de stang is bevestigd.
5. Inrichting volgens een of meer van de voorgaande conclusies, waarbij de dwarselementen zich vanaf een vrije bovenrand ervan neerwaarts uitstrekkende doorgangen hebben waardoorheen de stang zich uitstrekt, welke doorgangen zijn ingericht om vormgesloten de dwarspositie van de stang vast te leggen.
6. Inrichting volgens conclusie 5, waarbij ten behoeve van elk dwarselement een klemelement is verschaft voor het neerwaarts tegen een onderste begrenzingsrand van de doorgang in dat dwarselement dwingen van de stang.
7. Inrichting volgens conclusie 6, waarbij het klemelement zich rondom de stang uitstrekt en aan een onderzijde ervan, onder de stang, is ingericht om van onderaf met het dwarselement in aangrijping te zijn.
8. Inrichting volgens conclusie 7, waarbij het klemelement zodanig is ontworpen en geplaatst, dat deze een relatieve beweging parallel aan de transportrichting van de stang en het dwarselement toelaat als gevolg van een verschil in uitzettingscoëfficiënt tussen het materiaal van de stang en het bad, bij het in bedrijf van de inrichting opwarmen van de stang en het bad.
9. Inrichting volgens conclusie 8, waarbij één met de stang verbonden klemelement is ontworpen en geplaatst om onderlinge beweging in de transportrichting van de stang en het dwarselement te verhinderen.
10. Inrichting volgens een of meer van de voorgaande conclusies, waarbij de stang onrond is, bij voorkeur vierkant, ruitvormig of driehoekig is, in dwarsdoorsnede.
11. Inrichting volgens een of meer van de voorgaande conclusies, waarbij de stang, althans in de in de inrichting gemonteerde toestand, aan de onderzijde ervan V-vormig is in dwarsdoorsnede en in elk van de dwarselementen rust in een overeenkomstige ten minste ten dele V-vormige doorgang daarin.
12. Inrichting volgens een of meer van de voorgaande conclusies, waarbij de stang is vervaardigd van een metaal, bij voorkeur van roestvast staal of van titanium.
13. Inrichting volgens een of meer van de voorgaande conclusies, waarbij ten minste de bodem en de langszijwanden, bij voorkeur tevens de kopse zijwanden, van het bad zijn vervaardigd van een kunststof, bij voorkeur van een polyolefine, bij verdere voorkeur van polypropyleen.
NL2015747A 2015-11-09 2015-11-09 Inrichting voor het galvaniseren van plaatvormige substraten. NL2015747B1 (nl)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2015747A NL2015747B1 (nl) 2015-11-09 2015-11-09 Inrichting voor het galvaniseren van plaatvormige substraten.
PCT/NL2016/050744 WO2017082721A1 (en) 2015-11-09 2016-10-26 Device for galvanizing planar substrates
TW105136166A TW201723238A (zh) 2015-11-09 2016-11-07 一種用以將平坦的基材鍍覆之裝置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2015747A NL2015747B1 (nl) 2015-11-09 2015-11-09 Inrichting voor het galvaniseren van plaatvormige substraten.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2015747B1 true NL2015747B1 (nl) 2017-05-26

Family

ID=55310870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2015747A NL2015747B1 (nl) 2015-11-09 2015-11-09 Inrichting voor het galvaniseren van plaatvormige substraten.

Country Status (3)

Country Link
NL (1) NL2015747B1 (nl)
TW (1) TW201723238A (nl)
WO (1) WO2017082721A1 (nl)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020019321A1 (zh) * 2018-07-27 2020-01-30 昆山东威科技股份有限公司 垂直电镀生产线
CN113089068B (zh) * 2021-03-11 2022-09-20 深圳市鸿鑫源实业发展有限公司 连续电镀装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4401522A (en) * 1980-09-29 1983-08-30 Micro-Plate, Inc. Plating method and apparatus
NL1035265C2 (nl) * 2008-04-07 2009-10-08 Meco Equip Eng Werkwijze en inrichting voor het elektrolytisch galvaniseren van niet-metallische glasachtige substraten.
NL2011117C2 (nl) * 2013-07-08 2015-01-12 Meco Equip Eng Transportorgaan voor het transporteren van in een bad elektrolytisch te galvaniseren plaat vormige substraten, en inrichting en werkwijze voor het elektrolytisch galvaniseren van dergelijke substraten.

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4401522A (en) * 1980-09-29 1983-08-30 Micro-Plate, Inc. Plating method and apparatus
NL1035265C2 (nl) * 2008-04-07 2009-10-08 Meco Equip Eng Werkwijze en inrichting voor het elektrolytisch galvaniseren van niet-metallische glasachtige substraten.
US20110259751A1 (en) * 2008-04-07 2011-10-27 Meco Equipment Engineers B.V. Method and device for controlling uplink power
NL2011117C2 (nl) * 2013-07-08 2015-01-12 Meco Equip Eng Transportorgaan voor het transporteren van in een bad elektrolytisch te galvaniseren plaat vormige substraten, en inrichting en werkwijze voor het elektrolytisch galvaniseren van dergelijke substraten.
WO2015005767A1 (en) * 2013-07-08 2015-01-15 Meco Equipment Engineers B.V. Transport member for transporting plate-shaped substrates which are to be electrolytically galvanized in a bath, and device for and method of electrolytically galvanizing such substrates

Also Published As

Publication number Publication date
WO2017082721A1 (en) 2017-05-18
TW201723238A (zh) 2017-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1035265C2 (nl) Werkwijze en inrichting voor het elektrolytisch galvaniseren van niet-metallische glasachtige substraten.
TWI687543B (zh) 表面處理裝置
NL2015747B1 (nl) Inrichting voor het galvaniseren van plaatvormige substraten.
US9505034B2 (en) Electrode washing method and system
CN107868949B (zh) 表面处理装置和表面处理方法
NL2011117C2 (nl) Transportorgaan voor het transporteren van in een bad elektrolytisch te galvaniseren plaat vormige substraten, en inrichting en werkwijze voor het elektrolytisch galvaniseren van dergelijke substraten.
JP2017008346A (ja) 基板搬送装置および保持部
JP2012158426A (ja) 表面処理装置における薄板状被処理物の搬送装置、この搬送装置のクランプ
JP5805055B2 (ja) 水平搬送式電解メッキ装置
JP2005507975A (ja) 非常に薄く平らな被処理物の搬送並びに湿式化学的又は電解的処理のための装置
TW200916612A (en) Surface treatment device and surface treatment system, method for surface treatment, and band-shaped thin body treated thereby
JP2007056350A (ja) メッキ装置
JP5564078B2 (ja) めっき方法
JP3173836U (ja) 板状被処理物に付着する酸素ガス泡の除去手段を備えた水平電解メッキ装置
NL2030054B1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het elektrolytisch behandelen van substraten.
JP5819970B2 (ja) 平坦基板を片面電解処理する装置
JP6585797B2 (ja) 表面処理装置
JP5052368B2 (ja) めっき装置
TW201630490A (zh) 具水平生產線之除膠渣模組及用以自此除膠渣模組分離及移除除膠渣顆粒之方法
PL163862B1 (pl) Urządzenie do ciągłego nanoszenia warstw galwanicznych na powierzchnię drutu

Legal Events

Date Code Title Description
MM Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20211201