NL2010217A - Source collector apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method. - Google Patents

Source collector apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method. Download PDF

Info

Publication number
NL2010217A
NL2010217A NL2010217A NL2010217A NL2010217A NL 2010217 A NL2010217 A NL 2010217A NL 2010217 A NL2010217 A NL 2010217A NL 2010217 A NL2010217 A NL 2010217A NL 2010217 A NL2010217 A NL 2010217A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
tin
radiation
fuel
plasma
porous
Prior art date
Application number
NL2010217A
Other languages
English (en)
Inventor
Johannes Franken
Antonius Kempen
Maarten Kampen
Wilbert Mestrom
Original Assignee
Asml Netherlands Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asml Netherlands Bv filed Critical Asml Netherlands Bv
Priority to NL2010217A priority Critical patent/NL2010217A/en
Publication of NL2010217A publication Critical patent/NL2010217A/en

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Claims (1)

  1. Een lithografieinrichting omvattende: een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel; een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel; een substraattafel geconstmeerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
NL2010217A 2013-01-31 2013-01-31 Source collector apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method. NL2010217A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2010217A NL2010217A (en) 2013-01-31 2013-01-31 Source collector apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method.

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2010217A NL2010217A (en) 2013-01-31 2013-01-31 Source collector apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2010217 2013-01-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2010217A true NL2010217A (en) 2013-03-19

Family

ID=48484851

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2010217A NL2010217A (en) 2013-01-31 2013-01-31 Source collector apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method.

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL2010217A (nl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6487519B2 (ja) リソグラフィ装置用の汚染トラップ
JP5162546B2 (ja) 放射源及びリソグラフィ装置
JP5070264B2 (ja) ソースモジュール、放射ソースおよびリソグラフィ装置
JP4563930B2 (ja) リソグラフィ装置、照明系、及びフィルタ・システム
US20120327381A1 (en) Radiation Source, Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method
US20140375974A1 (en) Source-collector device, lithographic apparatus, and device manufacturing method
JP6174605B2 (ja) 燃料流生成器、ソースコレクタ装置、及び、リソグラフィ装置
JP2010062560A5 (nl)
US20140253894A1 (en) Radiation Source
NL2009358A (en) Radiation source.
NL2011663A (en) Radiation source and method for lithography.
NL2004816A (en) Euv radiation generation apparatus.
US20120006258A1 (en) Hydrogen radical generator
JP6326126B2 (ja) 放射コレクタ、放射源及びリソグラフィ装置
JP6395832B2 (ja) 放射源用コンポーネント、関連した放射源およびリソグラフィ装置
NL2010217A (en) Source collector apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method.
WO2013127587A2 (en) Source collector apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
NL2012129A (en) Radiation source that jets up liquid fuel to form plasma for generating radiation and recycle liquid fuel.
NL2011773A (en) Component for a radiation source, associated radiation source and lithographic apparatus.
NL2008962A (en) Radiation source, lithographic apparatus and method of producing radiation.
NL2004969A (en) Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2010575A (en) Contamination trap for a lithographic apparatus.
NL2009622A (en) Particle trap for euv source.
NL2006551A (en) Hydrogen radical generator.
NL2007628A (en) Lithographic apparatus and method.

Legal Events

Date Code Title Description
WDAP Patent application withdrawn

Effective date: 20130724