NL2001256C2 - Vloeistofafdichtingseenheid en onderdompeling fotolithografie-inrichting, die de vloeistofafdichtingseenheid bevat. - Google Patents

Description

Korte aanduiding: Vloeistofafdichtingseenheid en onderdompeling fotolithografie-inrichting, die de vloeistofafdichtingseenheid bevat.

1. Gebied van de uitvinding

De uitvinding heeft betrekking op een onderdompeling fotolithografie-inrichting en meer in het bijzonder op een vloeistofafdichtingseenheid en onderdompeling fotolithografie-inrichting, die de vloeistofafdichtingseenheid bevat, die in staat is vervuiling van een onder-5 dompeling optisch-projectiesysteem te voorkomen.

2. Beschrijving van de stand van de techniek

In het algemeen worden halfgeleiderinrichtingen door middel van verschillende eenheidsprocessen vervaardigd. De eenheidsprocessen kunnen een depositieproces voor het 10 vormen van een materiaaiiaag, zoais een isolerende laag, een geleidende laag of een halfge-leiderlaag, op een halfgeleiderwafel, fotolithografie- en etsprocessen voor het in patroon vormen van de materiaaiiaag, een ionenimplantatieproces voor het doteren van voorafbepaalde gebieden van de materiaaiiaag of de halfgeleiderlaag met onzuiverheden, een uitgloeiproces voor het activeren van de onzuiverheden, een chemisch-mechanisch polijstproces voor het vlak 15 maken van een oppervlak van de materiaaiiaag, en een reinigingsproces voor het verwijderen van vervuilingen, die op een oppervlak van de uit de bovenstaande processen resulterende wafel zijn achtergebleven, omvatten. In het bijzonder beïnvloedt het fotolithografieproces van de eenheidsprocessen rechtstreeks de integratie van de halfgeleiderinrichtingen.

Het halfgeleiderproces wordt uitgevoerd onder gebruikmaking van een fotolithografie-20 inrichting, die een optisch systeem heeft. Het optische systeem kan een lensmoduul en een hoofdlichtbron voor het uitzenden van op het lensmoduul invallend licht bevatten. Het invallende licht van de hoofdlichtbron wordt via het lensmoduul op een wafeltafel gericht. De resolutie R van het optische systeem kan door de volgende Formule 1 worden gerepresenteerd.

RJA/NA (1) 25 Hierin representeert λ een golflengte van het door de hoofdlichtbron uitgezonden in vallende licht en representeert NA een numerieke apertuur van het lensmoduul.

De numerieke apertuur NA is bij benadering evenredig aan een diameter van het lensmoduul en bij benadering omgekeerd evenredig aan een brandpuntsafstand van het lensmoduul. De numerieke apertuur NA kan door de volgende Formule 2 worden gerepresen-30 teerd.

NA = nSsin(O) (2) 2001256 -2-

Hierin representeert N een brekingsindex van een medium tussen het lensmoduul en de wafeltafel en representeert Θ een brekingshoek, d.w.z., een hoek tussen een centrale verticale as van het lensmoduul en het naar een brandpunt van het lensmoduul vanaf de omtrek van het lensmoduul gerichte licht.

5 Zoals blijkt uit formules 1 en 2 kan de resolutie R van het optische systeem worden verbeterd door het vergroten van de brekingshoek Θ van het lensmoduul en de brekingsindex N van het medium tussen het lensmoduul en de wafeltafel.

Hierna zal onder verwijzing naar fig. 1 een conventionele fotolithografie-inrichting, dat het optische systeem bevat, worden beschreven.

10 Onder verwijzing naar fig. 1 bevat de conventionele fotolithografie-inrichting 10 een onderdompelingslensdeel voor het opslaan van een vloeistof onder een projectielensdeel (niet weergegeven).

Het onderdompelingslensdeel bevat een opslagvat 12 voor het opslaan van een vloeistof 11. Het opslagvat 12 heeft een opslagruimte voor het daarin opslaan van de vloeistof, bo-15 ven- en onderoppervlakken, die aan de omgeving zijn blootgesteld. Bovendien heeft de ruimte een dwarsdoorsnede, die zich vanaf een bovenste deel naar een onderste deel daarvan versmalt.

Het projectielensdeel is aangebracht op het onderdompelingslensdeel.

Een wafeltafel WT is onder het onderdompelingslensdeel aangebracht. De wafeltafel 20 WT bevat een eerste montagedeel, waarop een wafel W is gemonteerd, en een tweede mon-tagedeel, aangrenzend aan het eerste montagedeel, waarop een afsluitschijf 15 is gemonteerd. Hier hebben de afsluitschijf 15 en de wafeltafel WT bovenoppervlakken, die in hoofdzaak in hetzelfde vlak zijn aangebracht. Hoewel niet weergegeven, kan de wafeltafel WT lateraal in een rechte richting worden bewogen.

25 Hierna zal de werking van de fotolithografie-inrichting met de bovenstaande vorm wor den beschreven.

Een wafel W wordt door middel van een transporteenheid (niet weergegeven) op het eerste montagedeel van de wafeltafel WT geladen. De wafel W wordt door beweging van de wafeltafel WT onder het onderdompelingslensdeel gepositioneerd. Op dit moment is een on-30 derdompelingsvloeistof reeds opgeslagen in het opslagvat 12 van het onderdompelingslensdeel. Vervolgens gaat door een lichtbron uitgestraald licht via een sjabloon (niet weergegeven) door het projectielensdeel heen en de resolutie vai^ het licht wordt door de vloeistof 11 in het onderdompelingslensdeel vergroot, teneinde op de wafel W te worden geprojecteerd. Nadat het op de wafel W uitgevoerde fotolithografieproces is voltooid, kan de wafel W door beweging 35 van de wafeltafel WT worden verwijderd.

Op dit moment kan een bovenoppervlak van de afsluitschijf 15 door beweging van de wafeltafel WT onder het onderdompelingslensdeel worden aangebracht. Hoewel niet weerge- -3- geven, kan vervolgens de afsluitschijf 15 naar een onderoppervlak van het opslagvat worden gezogen door een via een vacuümzuigopening van het onderdompelingslensdeel gegenereerde vacuümzuigkracht. Aangezien het bovenoppervlak van de afsluitschijf 15 het onderoppervlak van de opslagruimte van het opslagvat ten opzichte van de omgeving kan afdichten, is het 5 daardoor mogelijk om lekkage van de vloeistof 11 in de opslagruimte via zijn onderste deel te voorkomen.

Wanneer de aan het fotolithografieproces onderworpen wafel W wordt verwijderd en een nieuwe wafel W op het eerste montagedeel wordt geladen, dient de afsluitschijf 15 vervolgens naar zijn beginpositie te worden teruggevoerd. Op dit moment wordt de via de vacuüm-10 zuigopening gegenereerde vacuümzuigkracht verwijderd om de afsluitschijf 15 in staat te stellen op het tweede montagedeel te worden geplaatst. Daarom wordt het onderoppervlak van de opslagruimte van het opslagvat 12 aan de omgeving blootgesteld. Vervolgens wordt de nieuwe wafel W door beweging van de wafeltafel WT onder het onderdompelingslensdeel gepositioneerd en wordt de afsluitschijf 15 naar de beginpositie teruggevoerd.

15 Aangezien het onderoppervlak van de opslagruimte van het opslagvat 12 wordt ge sloten of geopend onder gebruikmaking van de afsluitschijf 15, kan een procestijd echter worden verlengd als gevolg van een werkingstijd van de afsluitschijf 15.

Aangezien de afsluitschijf 15 wordt vastgezogen aan of wordt gescheiden van het onderoppervlak van het opslagvat 12, afhankelijk van de aanwezigheid van de extern toegepaste 20 vacuümzuigkracht, wordt bovendien de afsluitschijf 15 herhaaldelijk in contact gebracht met het onderoppervlak van het opslagvat 12. Als gevolg hiervan kunnen krassen in het onderoppervlak van het opslagvat 12 en het bovenoppervlak van de afsluitschijf 15 worden veroorzaakt.

Verder kunnen vervuilingen, zoals stof, in de krassen en in de in het opslagvat opgeslagen vloeistof 11 worden neergeslagen. Verder kunnen de vervuilingen werken als deeltjes 25 op een bovenoppervlak van de wafel W, waarop een patroon wordt gevormd.

Wanneer de vervuilingen in de vloeistof 11 of op de wafel W worden neergeslagen, zoals hierboven is beschreven, kunnen de vervuilingen werken als deeltjes op een door de vloeistof 11 afgebogen en op de wafel W geprojecteerd beeld, of kunnen werken als vervuilingen van een op de wafel W afgebeeld patroon, waardoor een inferieur patroon op de wafel W 30 wordt gevormd, hetgeen de opbrengst sterk verlaagt.

Volgens aspecten van de uitvinding zijn een vloeistofafdichtingseenheid en een onderdompeling fotolithografie-inrichting verschaft, die dezelfde capaciteit van het in hoofdzaak voorkomen van vervuilingen in de vloeistof in een opslagvat en defecten in een op een wafel geprojecteerd patroon heeft, en die de kwaliteit van producten verbetert.

35 Volgens aspecten van de uitvinding zijn ook een vloeistofafdichtingseenheid en een onderdompeling fotolithografie-inrichting verschaft, die dezelfde capaciteit van het reduceren -4- van een tijd voor het afdichten van de vloeistof in een opslagvat ten opzichte van de omgeving heeft om een fotolithografische procestijd van de wafel te verminderen.

Volgens nog andere aspecten van de uitvinding zijn een vloeistofafdichtingseenheid en een onderdompeling fotolithografie-inrichting verschaft, die dezelfde capaciteit van het vor-5 men van een overgang met de vloeistof in een opslagvat heeft om de vloeistof ten opzichte van de omgeving snel af te dichten.

Volgens één aspect van de uitvinding is een vloeistofafdichtingseenheid verschaft, die een opslagvat omvat, welk vat is ingericht om een vloeistof te bevatten en een daarin gevormd optisch mondstukgat heeft, dat is ingericht om lichtoverdracht daardoorheen mogelijk te maken, 10 en een afdichtingsdeel omvat, dat is ingericht om een vloeistof in contact met de in de optische tuitholte opgenomen vloeistof te bevatten.

Hier kan het afdichtingsdeel een bad hebben, dat is ingericht om een voorafbepaalde hoeveelheid fluïdum op te slaan.

Bovendien kan het afdichtingsdeel verder een reinigingsdeel omvatten, dat is ingericht 15 om de vloeistof te reinigen. Het reinigingsdeel kan een niveauhandhavingseenheid omvatten, welke eenheid is ingericht om de in de optische tuitholte opgenomen vloeistof op een vooraf bepaald niveau te houden, en een circulatie-eenheid omvatten, die is ingericht om het in het bad opgeslagen fluïdum te circuleren.

De niveauhandhavingseenheid kan omvatten: een sensor, die is ingericht om het ni-20 veau van de in de optische tuitholte opgeslagen vloeistof te meten, een fluïdumdoorgang, die in het opslagvat is aangebracht om in verbinding te staan met de optische tuitholte om de vloeistof te doen stromen, een eerste pomp in verbinding met de fluïdumdoorgang, een vloeistofop-slagvat in verbinding met de eerste pomp om de vloeistof op te slaan, en een eerste stuureen-heid, die elektrisch is verbonden met de sensor, om de eerste pomp te besturen teneinde het 25 gemeten niveau van de vloeistof in hoofdzaak gelijk te houden aan een vooraf ingesteld refe-rentieniveau. Verder kan de circulatie-eenheid een tussen één zijde van het bad en een andere zijde van het bad gevormde circulatiedoorgang, een in de circulatiedoorgang geïnstalleerd filter, een in de circulatiedoorgang geïnstalleerde tweede pomp en een tweede stuureenheid, die elektrisch is verbonden met de tweede pomp om de werking van de tweede pomp te besturen, 30 omvatten.

De eerste stuureenheid en de tweede stuureenheid kunnen in een hoofdstuureenheid zijn opgenomen.

Het afdichtingsdeel kan zijn ingericht om de vloeistof in een overgangsvlak van de optische tuitholte af te dichten door het fluïdum tegen de vloeistof aan te drukken met een tweede 35 druk, die correspondeert met een door de vloeistof geleverde eerste druk, waarin de tweede druk wordt geleverd door het contact van het fluïdum met een oppervlak van de aan het overgangsvlak blootgestelde vloeistof.

-5-

Het fluïdum kan in hoofdzaak dezelfde specifieke dichtheid als de vloeistof hebben.

Het fluïdum kan een specifieke dichtheid groter dan die van de vloeistof hebben.

Het afdichtingsdeel kan een bad hebben, dat is ingericht om een vooraf bepaalde hoeveelheid van het fluïdum op te slaan, waarin een gedeelte van het opslagvat wordt onder-5 gedompeld.

Het afdichtingsdeel kan verder een niveauhandhavingseenheid omvatten, welke eenheid is ingericht om een niveau van de in de optische tuitholte opgeslagen vloeistof te handhaven. De niveauhandhavingseenheid kan omvatten: een sensor, die is ingericht om het niveau van de in de optische tuitholte opgeslagen vloeistof te meten, een fluïdumdoorgang, die in het 10 opslagvat is aangebracht om in verbinding te staan met de optische tuitholte om de vloeistof te doen stromen, een eerste pomp in verbinding met de fluïdumdoorgang, een vloeistofopslagvat in verbinding met de eerste pomp en ingericht om de vloeistof op te slaan, en een eerste stuur-eenheid, die elektrisch is verbonden met de sensor, om de eerste pomp te besturen teneinde het gemeten niveau van de vloeistof in hoofdzaak gelijk te houden aan een vooraf ingesteld 15 referentieniveau.

Het afdichtingsdeel kan verder een ultrasone reinigingsinrichting omvatten.

Volgens een ander aspect van de uitvinding is een onderdompeling fotoIithografie-in-richting met een vloeistofafdichtingseenheid verschaft. De onderdompeling fotolithografie-in-richting omvat een opslagvat, dat is ingericht om een vloeistof te bevatten en dat een daarin 20 gevormde optische tuitholte heeft, welke holte is ingericht om een lichtoverdracht daardoorheen mogelijk maken, een wafeltafel, die is ingericht om een wafel te ontvangen, waarbij de wafelta-fel beweegbaar is naar een onderste deel van het opslagvat, een afdichtingsdeel, dat is ingericht om een fluïdum in contact met de in de optische tuitholte opgenomen vloeistof te bevatten onder het opslagvat, en een bewegingsdeel, dat is ingericht om het afdichtingsdeel naar het 25 onderste deel van het opslagvat te bewegen.

Hier kan het afdichtingsdeel een bad hebben, dat is ingericht om een voorafbepaalde hoeveelheid fluïdum op te slaan.

Het afdichtingsdeel kan verder een reinigingsdeel omvatten, dat is ingericht om de vloeistof te reinigen. Het reinigingsdeel kan een niveauhandhavingseenheid omvatten, welke 30 eenheid is ingericht om de in de optische tuitholte opgenomen vloeistof op een vooraf bepaald niveau te houden, en een circulatie-eenheid omvatten, die is ingericht om het in het bad opgeslagen fluïdum te circuleren.

De niveauhandhavingseenheid kan omvatten: een sensor, die is ingericht om het niveau van de in de optische tuitholte opgeslagen vloeistof te meten, een fluïdumdoorgang, die in 35 het opslagvat is aangebracht om in verbinding te staan met de optische tuitholte om de vloeistof te doen stromen, een eerste pomp in verbinding met de fluïdumdoorgang, een vloeistofopslagvat in verbinding met de eerste pomp om de vloeistof op te slaan, en een eerste stuureen- -6- heid, die elektrisch is verbonden met de sensor, om de eerste pomp te besturen teneinde het gemeten niveau van de vloeistof in hoofdzaak gelijk te houden aan een vooraf ingesteld refe-rentieniveau. De circulatie-eenheid kan een tussen één zijde van het bad en een andere zijde van het bad gevormde circulatiedoorgang, een in de circulatiedoorgang geïnstalleerd filter, een 5 in de circulatiedoorgang geïnstalleerde tweede pomp en een tweede stuureenheid, die elektrisch is verbonden met de tweede pomp om de werking van de tweede pomp te besturen, omvatten.

Het afdichtingsdeel kan zijn ingericht om de vloeistof in een overgangsvlak van de optische tuitholte af te dichten door het fluïdum tegen de vloeistof aan te drukken met een tweede 10 druk, die correspondeert met een door de vloeistof geleverde eerste druk. Hier kan de tweede druk worden geleverd door het contact maken van het fluïdum met een oppervlak van de aan het overgangsvlak blootgestelde vloeistof.

Het fluïdum kan in hoofdzaak dezelfde specifieke dichtheid als de vloeistof hebben.

Het fluïdum kan een specifieke dichtheid groter dan die van de vloeistof hebben.

15 Het afdichtingsdeel kan een bad hebben, dat is ingericht om een vooraf bepaalde hoeveelheid van het fluïdum op te slaan, waarin een gedeelte van het opslagvat wordt ondergedompeld.

Het afdichtingsdeel kan verder een niveauhandhavingseenheid omvatten, welke eenheid is ingericht om een niveau van de in de optische tuitholte opgeslagen vloeistof te handha-20 ven. De niveauhandhavingseenheid kan omvatten: een sensor, die is ingericht om het niveau van de in de optische tuitholte opgeslagen vloeistof te meten, een fluïdumdoorgang, die in het opslagvat is aangebracht om in verbinding te staan met de optische tuitholte om de vloeistof te doen stromen, een eerste pomp in verbinding met de fluïdumdoorgang, een vloeistofopslagvat in verbinding met de eerste pomp om de vloeistof op te slaan, en een eerste stuureenheid, die 25 elektrisch is verbonden met de sensor, om de eerste pomp te besturen teneinde het gemeten niveau van de vloeistof in hoofdzaak gelijk te houden aan een vooraf ingesteld referentieniveau.

Het afdichtingsdeel kan verder een ultrasone reinigingsinrichting omvatten.

De uitvinding zal duidelijker worden in het licht van de bijgevoegde tekeningen en bijgaande gedetailleerde beschrijving. De daarin getoonde uitvoeringsvormen zijn bij wijze van 30 voorbeeld, en niet bij wijze van beperking, verschaft, waarbij dezelfde verwijzingscijfers verwijzen naar dezelfde of soortgelijke elementen. De tekeningen zijn niet noodzakelijkerwijs op schaal, maar de nadruk is gelegd op het illustreren van aspecten van de uitvinding.

Fig. 1 is een gedeeltelijk dwarsdoorsnedeaanzicht van een conventionele onderdompeling fotolithografie-inrichting.

35 Fig. 2 is een dwarsdoorsnedeaanzicht van een voorbeeld van een uitvoeringsvorm van een vloeistofafdichtingseenheid volgens een aspect van de uitvinding voordat de eenheid is aangestuurd.

-7-

Fig. 3 is een dwarsdoorsnedeaanzicht van de vloeistofafdichtingseenheid van fig. 2 volgens een aspect van de uitvinding nadat de eenheid is aangestuurd.

Fig. 4 is een blokschema van een voorbeeld van een uitvoeringsvorm van een vloeistofafdichtingseenheid volgens een aspect van de uitvinding.

5 Fig. 5 is een dwarsdoorsnedeaanzicht van een ander voorbeeld van een uitvoerings vorm van een vloeistofafdichtingseenheid volgens aspecten van de uitvinding nadat de eenheid is aangestuurd.

Fig. 6 is een dwarsdoorsnedeaanzicht van een voorbeeld van een uitvoeringsvorm van een onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens een aspect van de uitvinding voordat de 10 inrichting is aangestuurd.

Fig. 7 is een dwarsdoorsnedeaanzicht van de onderdompeling fotolithografie-inrichting van fig. 6 volgens een aspect van de uitvinding nadat de inrichting is aangestuurd.

Fig. 8 is een blokschema van een voorbeeld van een uitvoeringsvorm van een onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens een aspect van de uitvinding.

15 Hierna za! een vloeistofafdichtingseenheid en een onderdompeling fotoiithografie-in- richting, die de vloeistofafdichtingseenheid bevat, volgens aspecten van de uitvinding worden beschreven onder verwijzing naar de bijgaande tekeningen.

Het zal duidelijk zijn dat, hoewel de termen, eerste, tweede, enz. hierin worden gebruikt om verschillende elementen te beschrijven, deze elementen niet door deze termen wor-20 den beperkt. Deze termen worden gebruikt om één element van een ander element te onderscheiden, maar niet om een vereiste sequentie van elementen te impliceren. Bijvoorbeeld kan een eerste element een tweede element worden genoemd en overeenkomstig kan een tweede element een eerste element worden genoemd zonder het kader van de uitvinding te verlaten. Zoals hierin gebruikt, omvat de term "en/of' enige en alle combinaties van één of meer van de 25 bijbehorende opgesomde items.

Het zal duidelijk zijn dat, wanneer naar een element wordt verwezen als zijnde "op" of "verbonden met" of "gekoppeld aan" een ander element, dit element zich direct op het andere element kan bevinden of direct is verbonden met of direct is gekoppeld aan het andere element of dat tussenkomende elementen aanwezig kunnen zijn. Wanneer naar een element wordt 30 verwezen als zijnde "direct op" of "direct verbonden met" of "direct gekoppeld aan" een ander element, zijn er daarentegen geen tussenkomende elementen aanwezig. Voor het beschrijven van de relatie tussen elementen gebruikte andere woorden dienen op een dergelijke wijze te worden opgevat (bijv., "tussen" versus "direct tussen", "aangrenzend" versus "direct aangrenzend", enz.).

35 De hierin gebruikte terminologie heeft tot doel het slechts beschrijven van bijzondere uitvoeringsvormen en is niet bedoeld om de uitvinding te beperken. Zoals hierin gebruikt, zijn de enkelvoudsvormen "een", "de" en "het" bedoeld om ook de meervoudsvormen te omvatten, -8- tenzij de context duidelijk anders aangeeft. Het zal verder duidelijk zijn, dat de termen "omvat", "omvattende", "bevattende” en/of "bevat" bij gebruik hierin de aanwezigheid van genoemde kenmerken, stappen, bewerkingen, elementen en/of componenten specificeren, maar niet de aanwezigheid of aanvulling van één of meer andere kenmerken, stappen, bewerkingen, ele-5 menten, componenten en/of groepen daarvan uitsluitend.

Eerst zal een voorbeeld van een uitvoeringsvorm van een vloeistofafdichtingseenheid volgens een aspect van de uitvinding worden beschreven.

Fig.2 is een dwarsdoorsnedeaanzicht van een voorbeeld van een uitvoeringsvorm van een vloeistofafdichtingseenheid volgens een aspect van de uitvinding voordat de eenheid wordt 10 aangestuurd, fig. 3 is een dwarsdoorsnedeaanzicht van de vloeistofafdichtingseenheid van fig.

2 volgens een aspect van de uitvinding nadat de eenheid is aangestuurd en fig. 4 is een blok-schema van een voorbeeld van een uitvoeringsvorm van een vloeistofafdichtingseenheid volgens een aspect van de uitvinding.

Onder verwijzing naar fig. 2 tot 4 bevat de uitvoeringsvorm van een vloeistofafdich-15 tingseenheid een opslagvat 100 voor het opslaan van een vloeistof en een onder het opslagvat 100 aangebracht afdichtingsdeel 200.

Het opslagvat 100 heeft een optische tuitholte 110, die in het midden daarvan is gevormd en waardoorheen licht kan worden doorgelaten. Een vooraf bepaalde hoeveelheid vloeistof 111 is in de optische tuitholte 110 opgenomen.

20 Het afdichtingsdeel 200 heeft een bad 210. Een vooraf bepaalde hoeveelheid fluïdum 211 is in het bad 210 opgenomen. Het fluïdum 211 kan in contact met de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 worden gebracht. Hier kan het fluïdum een fluïdum of fluï-daal matenaal zijn en de term fluïdaal materiaal kan een in een vloeibaar gemaakte toestand, bijv., een vloeistof, beweegbaar materiaal betekenen.

25 Het afdichtingsdeel 200 kan verder een reinigingsdeel 300 bevatten. Het reinigings- deel 300 kan de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 reinigen.

Het reinigingsdeel 300 kan een niveauhandhavingseenheid 310 bevatten, welke eenheid is ingericht voor het op een vooraf ingesteld niveau handhaven van de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111, en een circulatie-eenheid 320 bevatten, die is ingericht 30 voor het circuleren van het in het bad 210 opgeslagen fluïdum 211.

In het bijzonder kan de niveauhandhavingseenheid 310 een sensor 311, die is ingericht om een niveau van de in de optische tuitholte 110 opgeslagen vloeistof 111 te meten, een fluïdumdoorgang 312, die is aangebracht in het opslagvat 100 om in verbinding te staan met de optische tuitholte 110 en om stroming van de vloeistof 111 daar naartoe mogelijk te maken, 35 een eerste pomp 313 in verbinding met de fluïdumdoorgang 312 via een buis 312', een vloei-stofopslagvat 314 in verbinding met de eerste pomp 313 via de buis 312', welk opslagvat is ingericht om de vloeistof 111 op te slaan, en een eerste stuureenheid 315, die elektrisch is ver- -9- bonden met de sensor 311 en die is ingericht om de eerste pomp 313 zodanig te besturen, dat een referentieniveau vooraf wordt ingesteld en het gemeten niveau gelijk aan het referentieni-veau wordt gehouden, bevatten.

De circulatie-eenheid 320 kan een circulatiedoorgang 321 voor het mogelijk maken 5 van een verbinding tussen één zijde van het bad 210 en de andere zijde van het bad 210, waarbij de circulatiedoorgang 321 een eerste circulatiedoorgang 321a en een tweede circulatiedoorgang 321b kan bevatten, bevatten. Bovendien is een tweede stuureenheid 324 elektrisch verbonden met de tweede pomp 323 en is deze tweede stuureenheid ingericht om de werking van de tweede pomp 323 te besturen om daardoor circulatie van het fluïdum 211 door 10 de circulatiedoorgang 321 te besturen.

De eerste stuureenheid 315 en de tweede stuureenheid 324 kunnen in een hoofd-stuureenheid M (zie fig. 4) zijn opgenomen.

Ondertussen is het bad 210 met het bewegingsdeel 400 verbonden. Het bewegings-deel 400 kan een met het bad 210 verbonden rechte rail 410, een met de rechte rail 410 ver-15 bonden motor 420 om de rechte rail 410 heen en weer te bewegen, en een cilinder 430, die op de rechte rail 410 is aangebracht om het bad 210 verticaal te bewegen, bevatten. De cilinder 430 bevat een liftschacht 431, die met het bad 210 of met de rechte rail 410 kan zijn verbonden.

Ondertussen kan het afdichtingsdeel 200 verder een ultrasone reinigingsinrichting 250 20 bevatten. De ultrasone reinigingsinrichting 250 heeft als functie het verwijderen van in het in het bad 210 opgenomen fluïdum 211 aanwezige deeltjes. De ultrasone reinigingsinrichting 250 is elektrisch verbonden met de hoofdstuureenheid M en is ingericht om afhankelijk van een signaal van de hoofdstuureenheid M te worden aangestuurd.

Hierna zal de werking van de vloeistofafdichtingseenheid volgens deze voorbeelduit-25 voeringsvorm worden beschreven.

Onder verwijzing naar fig. 2 tot 4, is een voorafbepaalde hoeveelheid vloeistof 111 opgenomen in de optische tuitholte 110 van het opslagvat 100.

De eerste stuureenheid 315 bestuurt de eerste pomp 313. De eerste pomp 313 pompt de in het vloeistofopslagvat 314 opgeslagen vloeistof 111 om de vloeistof 111 via de eerste 30 vloeistofdoorgang 312a aan de optische tuitholte 110 te leveren. De optische tuitholte 110 kan met de vloeistof 111 worden gevuld. Wanneer de optische tuitholte 110 met de vloeistof 111 is gevuld, zodat de tweede vloeistofdoorgang 312b is ondergedompeld, kan de vloeistof 111 bovendien via de tweede vloeistofdoorgang 312b naar het vloeistofopslagvat 314 stromen. Wanneer een voorafbepaalde hoeveelheid vloeistof 111 in de optische tuitholte 110 is opgenomen, 35 kan de eerste stuureenheid 315 vervolgens de werking van de eerste pomp 313 stopzetten.

Daardoor kan de voorafbepaalde hoeveelheid vloeistof 111 in de optische tuitholte 110 worden gehandhaafd.

-10-

Ondertussen kan een voorafbepaalde hoeveelheid fluïdum 211 in het bad 210 zijn opgenomen, welk bad met een voorafbepaalde afstand van het opslagvat 100 gescheiden kan zijn.

Vervolgens kan het bad 210 naar een onderste deel van het opslagvat 100 bewegen 5 door middel van het bewegingsdeel 400. Dit wil zeggen, dat de motor 420 de rechte rail 410 aandrijft om het op de rechte rail 410 geïnstalleerde bad tot onder het opslagvat 100 te verplaatsen. Bovendien kan het bad 210 omhoog worden geheven naar een voorafbepaalde hoogte door middel van een liftwerking van de cilinder 430. Dit wil zeggen, dat de liftschacht 431 van de cilinder 430 met het bad 210 kan zijn verbonden om het bad 210 omhoog te heffen, 10 of met de rechte rail 410 kan zijn verbonden om de rechte rail 410 omhoog te heffen.

Wanneer het bad 210 naar een voorafbepaalde hoogte omhoog is geheven, kan het opslagvat 100 gedeeltelijk in de in het bad 210 opgenomen vloeistof 211 worden ondergedompeld, zoals hierboven beschreven.

In het bijzonder kan de in de optische tuitholte 110 van het opslagvat 100 opgenomen 15 vloeistof 111 via een aan een onderste deel van de optische tuitholte 110 gevormd blootliggend oppervlak in contact zijn met het in het bad 210 opgenomen fluïdum 211. Hier kan het blootliggende oppervlak een overgangsvlak "a" zijn, waarin de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 in contact is met het in het bad 210 opgeslagen fluïdum 211.

In deze toestand kan het reinigingsdeel 300 volgens deze uitvoeringsvorm functione-20 ren om deeltjes te verwijderen, welke deeltjes rond de optische tuitholte 110 kunnen zijn gevormd alsmede om de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 te reinigen.

Een uitvoeringsvorm van de werking van het reinigingsdeel 300 zal hieronder in detail worden beschreven.

De tweede stuureenheid 324 bestuurt de tweede pomp 323. De tweede pomp 323 25 pompt het in het bad 210 opgeslagen fluïdum 211 om het fluïdum 211 in de eerste circulatie-doorgang 321a in te brengen. Het in de eerste circulatiedoorgang 321a ingebrachte fluïdum 211 gaat door het filter 322. Het filter 322 kan deeltjes, die zich in het fluïdum 211 bevinden, uitfilteren. Het door het filter 322 doorgelaten fluïdum 211 kan via de tweede circulatiedoorgang 321b weer aan het bad 210 worden afgegeven.

30 Daardoor kan het in het bad 210 opgeslagen fluïdum 211 door de tweede pomp 323 worden gecirculeerd. Aangezien de tweede stuureenheid 324 de pompcapaciteit van de tweede pomp 323 kan aanpassen, kan bovendien een circulatiesnelheid van het fluïdum 211 in evenredigheid zijn met de pompcapaciteit van de tweede pomp 323.

Op dit moment kan de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111, die in 35 contact staat met het fluïdum 211, in het in het bad 210 gecirculeerde fluïdum 211 worden gezogen. Als resultaat hiervan kan de vloeistof 111 met het fluïdum 211 worden gemengd en daarmee worden gecirculeerd.

-11 -

Wanneer deeltjes aanwezig zijn in de vloeistof 111, kunnen daardoor de deeltjes in het fluïdum 211 worden opgenomen en daarmee worden gecirculeerd om door het filter 322 te worden gefilterd. Wanneer deeltjes worden gevormd onder het opslagvat 100, d.w.z., rond de optische tuitholte 110, kunnen de deeltjes bovendien in het fluïdum 211 worden opgenomen en 5 daarmee worden gecirculeerd om door het filter 322 te worden gefilterd.

Ondertussen kan de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 door de ni-veauhandhavingseenheid 310 op een bepaald niveau worden gehouden.

In het bijzonder meet de sensor 311 het niveau van de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 en zendt het gemeten niveau naar de eerste stuureenheid 315. De eer-10 ste stuureenheid 315 bestuurt de eerste pomp 313 om de vloeistof 111 door de eerste en tweede fluïdumdoorgangen 312a en 312b te circuleren. Bovendien kan de eerste stuureenheid 315 de eerste pomp 313 zodanig besturen, dat het gemeten niveau gelijk is aan een vooraf ingesteld referentieniveau. Het is daardoor mogelijk om de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 op een bepaald niveau te handhaven. Dit wil zeggen, dat een bepaalde 15 noeveeiheia vloeistof 111 in de optische iuiinoite 110 kan worden vastgehouden.

Verder kan een filter 316 in de eerste en tweede fluïdumdoorgangen 312a en 312b zijn geïnstalleerd om deeltjes, die in de vloeistof 111 opgenomen kunnen zijn, te filteren. Het filter 316 kan hetzelfde filter zijn als het in de eerste circulatiedoorgang 321a geïnstalleerde filter 322.

20 Aangezien het afdichtingsdeel 200 verder een ultrasone reinigingsinrichting 350 kan bevatten, is het bovendien mogelijk om de in het fluïdum 211 en de vloeistof 111, die worden gecirculeerd zoals hierboven beschreven, opgenomen deeltjes gemakkelijker te verwijderen.

De ultrasone reinigingsinrichting 250 is elektrisch verbonden met de hoofdstuureenheid M en wordt aangestuurd door een van de hoofdstuureenheid M afkomstig signaal.

25 Daardoor worden de deeltjes, die in het fluïdum 211 en de vloeistof 111 kunnen zijn opgenomen, gecirculeerd zoals hierboven beschreven om door de filters 316 en 322 te worden gefilterd en door de in het bad 210 werkende ultrasone reinigingsinrichting 250 gemakkelijk te worden verwijderd.

Wanneer de bovenstaande werking is voltooid, beëindigt de tweede stuureenheid 324 30 de werking van de tweede pomp 323. Vervolgens voert het bewegingsdeel 400 het bad 210 naar zijn beginpositie terug. Op dit moment kan de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 door de niveauhandhavingseenheid 110 op een bepaald niveau worden gehandhaafd.

Hierna zal een andere voorbeelduitvoeringsvorm van een vloeistofafdichtingseenheid 35 volgens aspecten van de uitvinding worden beschreven.

-12-

Fig. 5 is een dwarsdoorsnedeaanzicht van de andere voorbeelduitvoeringsvorm van een vloeistofafdichtingseenheid volgens aspecten van de uitvinding nadat de eenheid is aangestuurd.

Onder verwijzing naar fig. 5 bevat de vloeistofafdichtingseenheid een opslag vat 100 en 5 een afdichtingsdeel 200, zoals in de uitvoeringsvorm van fig. 2 en 3.

Het opslagvat 100 kan bijvoorbeeld dezelfde constructie als de in fig. 2 tot 4 weergegeven uitvoeringsvorm hebben.

Het afdichtingsdeel 200 kan het fluïdum 211 bevatten voor het afdichten van de vloeistof 111 in het overgangsvlak "a" van de optische tuitholte 110 door middel van het uitoefenen 10 van een tweede druk P2, die correspondeert met een eerste druk P1 als gevolg van de vloeistof 111.

De tweede druk P2 kan worden geleverd door het fluïdum 211 met een oppervlak van de aan het overgangsvlak "a” blootgestelde vloeistof 111 in contact te brengen. Hier kan het fluïdum 211 dezelfde specifieke dichtheid als de vloeistof 111 hebben. In andere uitvoerings-15 vormen kan het fluïdum 211 een specifieke dichtheid, die groter is dan die van de vloeistof 111, hebben.

Hier heeft het afdichtingsdeel 200 het bad 210 voor het opslaan van een bepaalde hoeveelheid fluïdum 211, waarin een gedeelte van het opslagvat wordt ondergedompeld.

Bovendien kan het afdichtingsdeel 200 verder de niveauhandhavingseenheid 310 be-20 vatten, die is ingericht voor het uniform handhaven van het niveau van de in de optische tuitholte 110 opgeslagen vloeistof 111. De niveauhandhavingseenheid 310 kan dezelfde constructie hebben als die is weergegeven in de in fig. 2 tot 4 weergegeven uitvoeringsvorm, zodat de beschrijving daarvan niet zal worden herhaald.

Bovendien kan het afdichtingsdeel 200 verder de ultrasone reinigingsinrichting 250 25 bevatten. De ultrasone reinigingsinrichting 250 heeft als functie het verwijderen van in het fluïdum 211 in het bad 210 opgenomen deeltjes. De ultrasone reinigingsinrichting 350 is elektrisch verbonden met de hoofdstuureenheid M en wordt aangestuurd door een van de hoofdstuur-eenheid M afkomstig signaal.

Hierna zal de werking van de vloeistofafdichtingseenheid volgens deze voorbeelduit-30 voeringsvorm worden beschreven.

Onder verwijzing naar fig. 5, is een bepaalde hoeveelheid vloeistof 111 opgenomen in de optische tuitholte 110 van het opslagvat 100. De vloeistof 111 kan op dezelfde wijze worden geleverd als in de uitvoeringsvorm van fig. 2 tot 4. Zoals hierboven is beschreven, heeft de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 een bepaald gewicht. Dit gewicht kan als 35 een voorafbepaalde grootte van de eerste druk P1 op het overgangsvlak "a" van de optische tuitholte 110 worden uitgeoefend.

-13-

In deze toestand kan het bad 210 door het bewegingsdeel 400 tot onder het opslagvat 100 worden verplaatst en omhoog naar het bad 210 worden geheven.

Daardoor kan een onderste deel van het opslagvat 100 in het in het bad 210 opgenomen fluïdum 211 worden ondergedompeld en kan de in de optische tuitholte 110 opgenomen 5 vloeistof 111 in contact worden gebracht met het fluïdum 211. Op dit moment heeft het fluïdum 211 een tweede druk P2, die dezelfde grootte heeft als de eerste druk P1 ter plaatse van het overgangsvlak "a" van de optische tuitholte 110. De tweede druk P2 kan in een richting tegengesteld aan de eerste druk P1 worden uitgeoefend.

Aangezien een punt van uitoefening van de eerste druk P1 en de tweede druk P2 in 10 het overgangsvlak "a" van de optische tuitholte 110 wordt gevormd, kan het fluïdum 211 de functie hebben van het bedekken van de vloeistof 111 in het overgangsvlak "a" van de optische tuitholte 110.

Hier kan de vloeistof 111 dezelfde specifieke dichtheid als het fluïdum 211 hebben. In andere uitvoeringsvormen kan het fluïdum 211 een specifieke dichtheid hebben, die groter is 15 dan die van de vloeistof 111. In beide gevallen heeft het fluïdum 211 de functie van het eenvoudig afdichten van de vloeistof 111 ten opzichte van de omgeving in het overgangsvlak "a" van de optische tuitholte 110.

Aangezien het afdichtingsdeel 200 verder een ultrasone reinigingsinrichting 250 bevat, is het in deze toestand mogelijk om de in het onderoppervlak van het opslagvat 100, dat in op-20 pervlaktecontact met het fluïdum 211 staat, rond de optische tuitholte 110 en in het blootliggende oppervlak van de vloeistof 111 (bijv., een oppervlak van de vloeistof 111, dat in het overgangsvlak "a" is gepositioneerd) opgenomen deeltjes eenvoudiger te verwijderen. De ultrasone reinigingsinrichting 250 is elektrisch verbonden met de hoofdstuureenheid M om door een van de hoofdstuureenheid M afkomstig signaal te worden aangestuurd.

25 Vervolgens kan het bad 210 door het bewegingsdeel 400 van het opslagvat 100 wor den gescheiden.

Op dit moment kan de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 gedeeltelijk in het bad 210 met het fluïdum 211 worden gezogen. Aangezien de hoeveelheid vanuit de optische tuitholte 110 geëvacueerde vloeistof door de niveauhandhavingseenheid 310 wordt 30 aangevuld in de optische tuitholte 110, is het echter mogelijk om een bepaalde hoeveelheid vloeistof 111 in de optische tuitholte 110 op te nemen om het referentieniveau te handhaven.

Hierna zal een fotolithografie-inrichting met een vloeistofafdichtingseenheid volgens aspecten van de uitvinding worden beschreven.

Fig. 6 is een dwarsdoorsnedeaanzicht van een uitvoeringsvorm van een onderdompe-35 ling fotolithografie-inrichting volgens aspecten van de uitvinding voordat de inrichting wordt aangestuurd, fig. 7 is een dwarsdoorsnedeaanzicht van de onderdompeling fotolithografie-in- - 14- richting van fig. 6 nadat de inrichting is aangestuurd en fig. 8 is een blokschema van een onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens een voorbeelduitvoeringsvorm van de uitvinding.

Onder verwijzing naar fig. 6 tot 8, bevat de uitvoeringsvorm van een onderdompeling fotolithografie-inrichting een optisch projectiesysteem 500, dat is ingericht voor het projecteren 5 van naar de omgeving uitgestraald licht, een opslagvat 100 voor het opnemen van vloeistof 111, welk opslagvat een optische tuitholte 110 heeft, via welke het geprojecteerde licht door de vloeistof 111 heen gaat om met een zekere brekingsindex te worden afgebogen, een wafeltafel 600, waarop een wafel W is geplaatst, welke wafeltafel onder het opslagvat 100 beweegbaar is, een afdichtingsdeel 200 voor het opnemen van fluïdum 211 in contact met de in de optische 10 tuitholte 110 in een onderste deel van het opslagvat 100 opgenomen vloeistof 111, en een be-wegingsdeel 400 voor het bewegen van het afdichtingsdeel 200 naar een onderste deel van het opslagvat 100.

De wafeltafel 600 kan met een bewegingseenheid 620, zoals een rail, zijn verbonden. De wafeltafel 600 is door middel van de bewegingseenheid 620 in een rechte lijn beweegbaar. 15 De bewegingseenheid 620 kan door een elektrisch signaal van de hoofdstuureenheid M, bijv., omvattende eerste en tweede stuureenheden 315, 324 (zie fig. 8), worden aangestuurd.

De optische tuitholte 110 is in het midden van het opslagvat 100 aangebracht, waardoorheen licht wordt doorgelaten. Een bepaalde hoeveelheid vloeistof 111 is in de optische tuitholte 110 opgenomen.

20 Het afdichtingsdeel 200 bevat een bad 210. Een bepaalde hoeveelheid fluïdum 211 is in het bad 210 opgenomen. Het fluïdum 211 kan in contact met de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 worden gebracht.

Het afdichtingsdeel 200 kan verder een reinigingsdeel 300 bevatten. Het reinigings-deel 300 kan de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 reinigen.

25 Het reinigingsdeel 300 kan een niveauhandhavingseenheid 310 bevatten, welke ni- veauhandhavingseenheid is ingericht voor het op een vooraf bepaald niveau handhaven van de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111, en een circulatie-eenheid 320 bevatten, die is ingericht voor het circuleren van het in het bad 210 opgenomen fluïdum 211.

In het bijzonder kan de niveauhandhavingseenheid 310 in hoofdzaak dezelfde zijn als 30 de in fig. 2 weergegeven eenheid, en een sensor 311, die is ingericht voor het meten van het niveau van de in de optische tuitholte 110 opgeslagen vloeistof 111, een vloeistofdoorgang 312, die in het opslagvat 100 is aangebracht om in verbinding met de optische tuitholte 110 te staan en die is ingericht voor het daardoorheen doen stromen van de vloeistof 111, een eerste pomp 313 in verbinding met de vloeistofdoorgang 312 via buis 312', een vloeistofopslagvat 314 in 35 verbinding met de eerste pomp 313 via de buis 312', welk vloeistofopslagvat 314 de vloeistof 111 opslaat, en een eerste stuureenheid 315, die elektrisch is verbonden met de sensor 311 en - 15- die de eerste pomp 313 zodanig bestuurt, dat een referentieniveau vooraf is ingesteld en het gemeten niveau gelijk is aan het referentieniveau, bevat.

De circulatie-eenheid 320 kan een circulatiedoorgang 321 voor het verbinden-van één zijde van het bad 210 met de andere zijde van het bad 210, een in de circulatiedoorgang 321 5 geïnstalleerd filter 322, een in de circulatiedoorgang 321 geïnstalleerde tweede pomp 323 en een tweede stuureenheid 324, die elektrisch is verbonden met de tweede pomp 323 en die de werking van de tweede pomp 323 bestuurt, bevatten.

De eerste stuureenheid 315 en de tweede stuureenheid 324 kunnen in een hoofd-stuureenheid M zijn opgenomen.

10 Ondertussen is het bad 210 met het bewegingsdeel 400 verbonden.

Het bewegingsdeel 400 kan een rechte rail 410, die met het bad 210 is verbonden, een met de rechte rail 410 verbonden motor 420 voor het heen en weer doen gaan van de rechte rail 410 en een cilinder 430, die op de rechte rail 410 is aangebracht om het bad 210 verticaal te bewegen, zoals in fig. 2, bevatten. De cilinder 430 bevat een liftschacht 431, die met 15 het bad 210 of met de rechte rail 410 kan zijn verbonden.

Het afdichtingsdeel 200 kan verder een ultrasone reinigingsinrichting 250 bevatten. De ultrasone reinigingsinrichting 250 heeft als functie het verwijderen van in het in het bad 210 opgenomen fluïdum 111 aanwezige deeltjes. De ultrasone reinigingsinrichting 250 is elektrisch verbonden met de hoofdstuureenheid M om te worden aangestuurd in afhankelijkheid van een 20 signaal van de hoofdstuureenheid M.

Hierna zal de werking van de vloeistofafdichtingseenheid volgens deze voorbeelduit-voeringsvorm worden beschreven.

Onder verwijzing naar fig. 6 tot 8 wordt eerst een voorafbepaalde hoeveelheid vloeistof 111 opgenomen in de optische tuitholte 110 van het opslagvat 100.

25 De eerste stuureenheid 315 stuurt de eerste pomp 313 aan. De eerste pomp 313 pompt de in het vloeistofopslagvat 314 opgeslagen vloeistof 111 om de vloeistof 111 via de eerste vloeistofdoorgang 312a aan de optische tuitholte 110 te leveren. De optische tuitholte 110 kan met de vloeistof 111 worden gevuld. Wanneer de optische tuitholte 110 zodanig met de vloeistof 111 is gevuld, dat de tweede vloeistofdoorgang 312b is ondergedompeld, kan de 30 vloeistof 111 bovendien via de tweede vloeistofdoorgang 312b naar het vloeistofopslagvat 314 stromen. Wanneer een voorafbepaalde hoeveelheid vloeistof 111 in de optische tuitholte 110 is opgenomen, kan de eerste stuureenheid 315 vervolgens de werking van de eerste pomp 313 stopzetten.

Daarom kan de voorafbepaalde hoeveelheid vloeistof 111 in de optische tuitholte 110 35 worden gehandhaafd.

Bovendien kan een voorafbepaalde hoeveelheid fluïdum 211 in het bad 210 worden opgenomen, welk bad met een voorafbepaalde afstand van het opslagvat 100 is gescheiden.

-16-

Zoals hierboven is beschreven, wordt de vloeistof 111 in de optische tuitholte 110 van het opslagvat 100 verschaft en wordt het fluïdum 211 in het bad 210 verschaft.

Ondertussen wordt een wafel W op een montagedeel 610 van de wafeltafel 600 door middel van een transportinrichting (niet weergegeven) geladen. De wafeltafel 600 wordt in deze 5 uitvoeringsvorm door middel van de bewegingseenheid 620 in een vlak bewogen. Daardoor kan de wafel W onder het opslagvat 100 worden geplaatst. Op dit moment is een bevestigings-oppervlak van de wafel W met een voorafbepaalde tussenruimte van een onderoppervlak van het opslagvat 100 gescheiden. Het opslagvat 100 kan verder een luchttoevoereenheid (niet weergegeven) bevatten, die is ingericht voor het onder gebruikmaking van de lucht isoleren van 10 de wafel W van de omgeving rond de optische tuitholte 110 ter plaatse van de tussenruimte.

In deze toestand gaat het door een lichtbron (niet weergegeven) uitgestraalde licht door een sjabloon (niet weergegeven) en het doorgelaten licht wordt naar het optische projec-tiesysteem 500 geleid. Op dit moment bevat het naar het optische projectiesysteem 500 geleide licht een beeld van een schakelingspatroon.

15 Bovendien gaat het licht door de vloeistof 111, dat een zekere brekingsindex heeft, en gaat het licht, dat een specifieke golflengte heeft, door de optische tuitholte 110 om naar de wafel W te worden geleid. Daardoor vormt het licht, dat door de optische tuitholte 110 is heen gegaan, een beeld van het schakelingspatroon op de wafel W.

Na voltooiing van het op de wafel W uitvoeren van het fotolithografieproces, wordt de 20 wafel van het montagedeel 610 verwijderd en dient een nieuwe wafel W, die aan het fotolithografieproces zal worden onderworpen, op het montagedeel 610 te worden geplaatst.

De wafeltafel 600 kan door de bewegingseenheid 620 worden bewogen om de wafel W, die het proces heeft doorlopen, te verwijderen. Daarom kan het montagedeel 610 van een onderste gebied van het opslagvat 100 worden gescheiden.

25 Op dit moment kan het bad 210 onder het opslagvat 100 worden geplaatst. Dit zal hieronder in detail worden beschreven.

Het bad 210 kan door het bewegingsdeel 400 tot onder het opslagvat 100 worden bewogen. Dit wil zeggen, dat de motor 420 de rechte rail 410 aandrijft en dat het op de rechte rail 410 geïnstalleerde bad 210 onder het opslagvat 100 wordt geplaatst. Bovendien kan het bad 30 210 tot een zekere hoogte worden opgeheven door een liftwerking van de cilinder 430. Dit wil zeggen, dat de liftschacht 431 van de cilinder 430 met het bad 210 kan zijn verbonden om het bad 210 omhoog te heffen of met de rechte rail 410 kan zijn verbonden om de rechte rail 410 omhoog te heffen.

Wanneer het bad 210 tot een zekere hoogte omhoog is geheven, zoals hierboven be-35 schreven, kan een onderste deel van het opslagvat 100 gedeeltelijk worden ondergedompeld in het in het bad 210 opgenomen fluïdum 211.

- 17 -

Dit wil zeggen, dat de in de optische tuitholte 110 van het opslagvat 100 opgenomen vloeistof 111 in contact kan zijn met het in het bad 210 opgenomen fluïdum 211 via het ter plaatse van een onderste deel van de optische tuitholte 110 gevormde overgangsvlak "a".

In deze toestand kan het reinigingsdeel 300 volgens aspecten van de uitvinding deel-5 tjes, die rond de optische tuitholte 110 kunnen zijn gegenereerd, verwijderen alsmede de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 reinigen.

De werking van het reinigingsdeel 300 zal hieronder in detail worden beschreven.

De tweede stuureenheid 324 stuurt de tweede pomp 323 aan. De tweede pomp 323 pompt het in het bad 210 opgeslagen fluïdum 211 om het fluïdum 211 in de eerste circulatie-10 doorgang 321a in te brengen. Het in de eerste circulatiedoorgang 321a ingebrachte fluïdum 211 gaat door het filter 322 heen. Het filter 322 kan deeltjes, die zich in het fluïdum 211 bevinden, uitfilteren. Het fluïdum 211, dat door het filter 322 is heengegaan, kan via een tweede circulatiedoorgang 321b weer aan het bad 210 worden afgegeven. Daarom kan het in het bad 210 opgeslagen fluïdum 211 door de tweede pomp 323 worden gecirculeerd. Aangezien de 15 tweede stuureenheid 324 de pompcapaciteit van de tweede pomp 323 kan aanpassen, kan bovendien een circulatiesnelheid van het fluïdum 211 evenredig zijn aan de pompcapaciteit van de tweede pomp 323.

Op dit moment kan de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111, die in contact staat met het fluïdum 211, in het in het bad 210 gecirculeerde fluïdum 211 worden ge-20 zogen. Als gevolg hiervan kan de vloeistof 111 in het fluïdum 211 worden opgenomen om daarmee te worden gecirculeerd.

Wanneer deeltjes aanwezig zijn in de vloeistof 111, kunnen deze deeltjes met het fluïdum 211 worden gemengd en daarmee worden gecirculeerd om door het filter 322 te worden uitgefilterd. Wanneer deeltjes onder het opslagvat 100 worden gegenereerd, d.w.z., rond de 25 optische tuitholte 110, kunnen de deeltjes bovendien in het fluïdum 211 worden opgenomen en daarmee worden gecirculeerd om door het filter 322 te worden gefilterd.

Ondertussen kan de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 op een bepaald niveau worden gehandhaafd door de niveauhandhavingseenheid 310.

In het bijzonder meet de sensor 311 het niveau van de in de optische tuitholte 110 op-30 genomen vloeistof 111 om het gemeten niveau naar de eerste stuureenheid 315 te zenden. De eerste stuureenheid 315 stuurt de eerste pomp 313 aan om de vloeistof 111 door de eerste en tweede fluïdumdoorgangen 312a en 312b te circuleren. Bovendien kan de eerste stuureenheid 315 de eerste pomp 313 zodanig besturen, dat het gemeten niveau gelijk is aan een vooraf ingesteld referentieniveau. Het is daardoor mogelijk om de in de optische tuitholte 110 opge-35 nomen vloeistof 111 op een zeker niveau te houden. Dit wil zeggen, dat een zekere hoeveelheid vloeistof 111 in de optische tuitholte 110 kan worden opgenomen.

-18-

Vanzelfsprekend kan verder een filter 316 zijn geïnstalleerd in de eerste en tweede fluïdumdoorgangen 312a en 312b om deeltjes, die in de vloeistof 111 kunnen zijn opgenomen, uit te filteren. Het filter 316 kan hetzelfde filter zijn als het in een eerste circulatiedoorgang 321a geïnstalleerde filter 322.

5 Aangezien het afdichtingsdeel 200 verder een ultrasone reinigingsinrichting 250 kan bevatten, is het bovendien mogelijk om de in het fluïdum 211 en de vloeistof 111, die op de hierboven beschreven wijze worden gecirculeerd, opgenomen deeltjes eenvoudiger te verwijderen. De ultrasone reinigingsinrichting 250 is elektrisch verbonden met de hoofdstuureenheid M om door een van de hoofdstuureenheid M afkomstig signaal te worden aangestuurd.

10 Daarom worden de deeltjes, die in het fluïdum 211 en de vloeistof 111 kunnen zijn op genomen, gecirculeerd, zoals hierboven beschreven, om door de filters 316 en 322 te worden uitgefilterd en door de in het bad 210 werkende ultrasone reinigingsinrichting 250 eenvoudig te worden verwijderd.

Wanneer de bovenstaande werking is voltooid, zet de tweede stuureenheid 324 de 15 werking van de tweede pomp 323 stil. Vervolgens voert het bewegingsdeel 400 het bad 210 naar zijn beginpositie terug. Op dit moment kan de in de optische tuitholte 110 opgenomen vloeistof 111 door de niveauhandhavingseenheid 310 op een zeker niveau worden gehandhaafd.

Wanneer het bad 210 is teruggekeerd naar zijn beginpositie, kan vervolgens de wa-20 feltafel 600 ook worden teruggevoerd naar zijn beginpositie. Op dit moment wordt een nieuwe wafel, die aan een fotolithografieproces zal worden onderworpen, geplaatst op het montage-deel 610 van de wafeltafel 600.

Na het uitvoeren van het lithografieproces op de wafel W, zoals hierboven beschreven, kunnen daarom de bovenstaande processen worden herhaald.

25 Zoals uit het voorgaande blijkt, zijn volgens aspecten van de uitvinding een vloeistof- afdichtingseenheid en een fotolithografie-inrichting verschaft, die dezelfde capaciteit heeft van het reinigen van een vloeistof voor het verschaffen van een bepaalde brekingsindex aan pro-jectielicht en deeltjes, die door een opslagvat voor het opnemen van de vloeistof gegenereerd kunnen zijn, en het afdichten van de vloeistof.

30 Aangezien de in het opslagvat opgenomen vloeistof in contact is met een gedwongen gecirculeerd fluïdum en in het fluïdum is opgenomen om daarmee gedwongen te worden gecirculeerd, is het mogelijk om de deeltjes, die in de vloeistof kunnen zijn opgenomen, eenvoudig aan de omgeving af te geven.

Door het in contact brengen van het fluïdum met een onderoppervlak van het opslag-35 vat is het bovendien mogelijk om deeltjes, die door het onderoppervlak van het opslagvat kunnen zijn gegenereerd, onder gebruikmaking van de gedwongen daardoorheen circulerende fluïdumstroom af te geven.

- 19-

Het is verder mogelijk om de deeltjes eenvoudiger te verwijderen door het installeren van een ultrasone reinigingsinrichting in het bad.

Het is daarom mogelijk om te voorkomen dat vervuilingen worden opgenomen in de in het opslagvat opgeslagen vloeistof, en om opwekking van defecten afkomstig van een patroon, 5 dat op de wafel wordt geprojecteerd, te voorkomen teneinde daardoor de kwaliteit van producten te verbeteren.

Bovendien vormt het fluïdum een overgang met de in het opslagvat opgeslagen vloeistof om de vloeistof te bedekken. Wanneer een wafel wordt geladen op of wordt verwijderd van een wafeltafel, is het mogelijk om de tijd voor het afsluiten van de vloeistof in het opslagvat ten 10 opzichte van de omgeving te verminderen en dus de tijd van een fotolithografieproces van de wafel te verkorten.

Hoewel voorbeelduitvoeringsvormen volgens aspecten van de uitvinding zijn beschreven, zal het voor de vakman duidelijk zijn, dat een verscheidenheid aan modificaties en variaties kan worden aangebracht zonder de gedachte of het kader van de in de bijgevoegde con-15 ciusies gedefinieerde uitvinding en hun equivalenten te verlaten.

-20-

Vertaling bijschriften figuren Fig.4 311 sensor 313 eerste pomp 315 eerste stuureenheid 323 tweede pomp 324 tweede stuureenheid 250 ultrasone reinigingsinrichting

Hg. 8 311 sensor 313 eerste pomp 315 eerste stuureenheid 323 tweede pomp 324 tweede stuureenheid 250 ultrasone reinigingsinrichting 400 bewegingsdeel 20 0 U 56

Claims (20)

1. Vloeistofafdichtingseenheld, omvattende: een opslagvat, welk vat is ingericht om een vloeistof te bevatten en een daarin gevormde optische tuitholte heeft, die is ingericht om lichtoverdracht daardoorheen mogelijk te maken; en 5 een afdichtingsdeel, dat is ingericht om een vloeistof in contact met de in de optische tuitholte opgenomen vloeistof te bevatten.

2. Vloeistofafdichtingseenheld volgens conclusie 1, waarin het afdichtingsdeel een bad omvat, dat is ingericht om een voorafbepaalde hoeveelheid fluïdum op te slaan.

3. Vloeistofafdichtingseenheld volgens conclusie 2, waarin het afdichtingsdeel verder 10 omvat: een reinigingsdeel, dat is ingericht om de vloeistof te reinigen, waarbij het reinigings-deel een niveauhandhavingseenheid, die is ingericht om de in de optische tuitholte opgenomen vloeistof op een voorafbepaaid niveau te handhaven, en een circuiatie-eenheid, die is ingericht om het in het bad opgeslagen fluïdum te circuleren, omvat.

4. Vloeistofafdichtingseenheld volgens conclusie 3, waarin: de niveauhandhavingseenheid omvat: een sensor, die is ingericht om het niveau van de in de optische tuitholte opgeslagen vloeistof te meten, een fluïdumdoorgang, die in het opslagvat is aangebracht om in verbinding te staan 20 met de optische tuitholte, om de vloeistof te doen stromen, een eerste pomp in verbinding met de fluïdumdoorgang, een vloeistofopslagvat in verbinding met de eerste pomp om de vloeistof op te slaan, en een eerste stuureenheid, die elektrisch is verbonden met de sensor, om de eerste 25 pomp te besturen teneinde het gemeten niveau van de vloeistof in hoofdzaak gelijk te houden aan een vooraf ingesteld referentieniveau, en de circuiatie-eenheid omvat: een tussen één zijde van het bad en een andere zijde van het bad gevormde circula-tiedoorgang, 30 een in de circulatiedoorgang geïnstalleerd filter, een in de circulatiedoorgang geïnstalleerde tweede pomp, en een tweede stuureenheid, die elektrisch is verbonden met de tweede pomp om de werking van de tweede pomp te besturen.

5. Vloeistofafdichtingseenheld volgens conclusie 1, waarin het afdichtingsdeel is inge-35 richt om de vloeistof in een overgangsvlak van de optische tuitholte af te dichten door het fluï- 2001256 -22- dum tegen de vloeistof aan te drukken met een tweede druk, die correspondeert met een door de vloeistof geleverde eerste druk, waarin de tweede druk wordt geleverd door het contact maken van het fluïdum met een oppervlak van de aan het overgangsvlak blootgestelde vloeistof.

6. Vloeistofafdichtingseenheid volgens conclusie 5, waarin het fluïdum in hoofdzaak 5 dezelfde specifieke dichtheid als de vloeistof heeft.

7. Vloeistofafdichtingseenheid volgens conclusie 5, waarin het fluïdum een specifieke dichtheid heeft, die groter is dan die van de vloeistof.

8. Vloeistofafdichtingseenheid volgens conclusie 5, waarin het afdichtingsdeel een bad heeft, dat is ingericht om een voorafbepaalde hoeveelheid fluïdum, waarin een gedeelte van het 10 opslagvat wordt ondergedompeld, op te slaan.

9. Vloeistofafdichtingseenheid volgens conclusie 5, waarin het afdichtingsdeel verder een niveauhandhavingseenheid omvat, die is ingericht om een niveau van de in de optische tuitholte opgeslagen vloeistof te handhaven, waarbij de niveauhandhavingseenheid omvat: een sensor, die is ingericht om het niveau van de in de optische tuitholte opgeslagen 15 vloeistof te meten, een fluïdumdoorgang, die in het opslagvat is aangebracht om in verbinding te staan met de optische tuitholte, om de vloeistof te doen stromen, een eerste pomp in verbinding met de fluïdumdoorgang, een vloeistofopslagvat in verbinding met de eerste pomp en ingericht om de vloeistof 20 op te slaan, en een eerste stuureenheid, die elektrisch is verbonden met de sensor, om de eerste pomp te besturen teneinde het gemeten niveau van de vloeistof in hoofdzaak gelijk te houden aan een vooraf ingesteld referentieniveau.

10. Vloeistofafdichtingseenheid volgens conclusie 1, waarin het afdichtingsdeel verder 25 een ultrasone reinigingsinrichting omvat.

11. Onderdompeling fotolithografie-inrichting met een vloeistofafdichtingseenheid, omvattende: een opslagvat, welk vat is ingericht om een vloeistof te bevatten en een daarin gevormde optisch tuitholte heeft, dat is ingericht om lichtoverdracht daardoorheen mogelijk te ma-30 ken, een wafeltafel, die is ingericht om een wafel te ontvangen, waarbij de wafeltafel beweegbaar is naar een onderste deel van het opslagvat; een afdichtingsdeel, dat is ingericht om een vloeistof in contact met de in de optische tuitholte opgenomen vloeistof te bevatten, onder het opslagvat; en 35 een bewegingsdeel, dat is ingericht om het afdichtingsdeel naar het onderste deel van het opslagvat te bewegen. -23-

12. Onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens conclusie 11, waarin het afdich-tingsdeei een bad omvat, dat is ingericht om een voorafbepaalde hoeveelheid fluïdum op te slaan.

13. Onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens conclusie 12, waarin het afdich-5 tingsdeel verder omvat: een reinigingsdeel, dat is ingericht om de vloeistof te reinigen, waarbij het reinigings-deel een niveauhandhavingseenheid, die is ingericht om de in de optische tuitholte opgenomen vloeistof op een voorafbepaald niveau te handhaven, en een circulatie-eenheid, die is ingericht om het in het bad opgeslagen fluïdum te circuleren, omvat.

14. Onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens conclusie 13, waarin: de niveauhandhavingseenheid omvat: een sensor, die is ingericht om het niveau van de in de optische tuitholte opgeslagen vloeistof te meten, een fluïdumdoorgang, die in het opslagvat is aangebracht om in verbinding te staan 15 met de optische tuitholte, om de vloeistof te doen stromen, een eerste pomp in verbinding met de fluïdumdoorgang, een vloeistofopslagvat in verbinding met de eerste pomp om de vloeistof op te slaan, en een eerste stuureenheid, die elektrisch is verbonden met de sensor, om de eerste 20 pomp te besturen teneinde het gemeten niveau van de vloeistof in hoofdzaak gelijk te houden aan een vooraf ingesteld referentieniveau, en de circulatie-eenheid omvat: een tussen één zijde van het bad en een andere zijde van het bad gevormde circula-tiedoorgang, 25 een in de circulatiedoorgang geïnstalleerd filter, een in de circulatiedoorgang geïnstalleerde tweede pomp, en een tweede stuureenheid, die elektrisch is verbonden met de tweede pomp om de werking van de tweede pomp te besturen.

15. Onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens conclusie 11, waarin het af-30 dichtingsdeel is ingericht om de vloeistof aan een overgangsvlak van de optische tuitholte af te dichten door het fluïdum tegen de vloeistof aan te drukken met een tweede druk, die correspondeert met een door de vloeistof geleverde eerste druk, waarin de tweede druk wordt geleverd door het contact maken van het fluïdum met een oppervlak van de aan het overgangsvlak blootgestelde vloeistof.

16. Onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens conclusie 15, waarin het fluïdum in hoofdzaak dezelfde specifieke dichtheid als de vloeistof heeft. -24-

17. Onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens conclusie 15, waarin het fluïdum een specifieke dichtheid heeft, die groter is dan die van de vloeistof.

18. Onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens conclusie 15, waarin het afdich-tingsdeel een bad heeft, dat is ingericht om een voorafbepaalde hoeveelheid fluïdum, waarin 5 een gedeelte van het opslagvat wordt ondergedompeld, op te slaan.

19. Onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens conclusie 15, waarin het afdich-tingsdeel verder een niveauhandhavingseenheid omvat, die is ingericht om een niveau van de in de optische tuitholte opgeslagen vloeistof te handhaven, waarbij de niveauhandhavingseenheid omvat: 10 een sensor, die is ingericht om het niveau van de in de optische tuitholte opgeslagen vloeistof te meten, een fluïdumdoorgang, die in het opslagvat is aangebracht om in verbinding te staan met de optische tuitholte, om de vloeistof te doen stromen, een eerste pomp in verbinding met de fluïdumdoorgang, 15 een vloeistofopslagvat in verbinding met de eerste pomp om de vloeistof op te slaan, en een eerste stuureenheid, die elektrisch is verbonden met de sensor, om de eerste pomp te besturen teneinde het gemeten niveau van de vloeistof in hoofdzaak gelijk te houden aan een vooraf ingesteld referentieniveau.

20. Onderdompeling fotolithografie-inrichting volgens conclusie 11, waarin het afdich- tingsdeel verder een ultrasone reinigingsinrichting omvat. 2001256