NL180617C - Werkwijze voor het vormen van een patroon in het micrometergebied in het oppervlak van een voorwerpslaag. - Google Patents
Werkwijze voor het vormen van een patroon in het micrometergebied in het oppervlak van een voorwerpslaag.Info
- Publication number
- NL180617C NL180617C NLAANVRAGE8000109,A NL8000109A NL180617C NL 180617 C NL180617 C NL 180617C NL 8000109 A NL8000109 A NL 8000109A NL 180617 C NL180617 C NL 180617C
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- pattern
- forming
- micrometer area
- coat
- object coat
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Weting (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP71479 | 1979-01-10 | ||
JP71479A JPS5593225A (en) | 1979-01-10 | 1979-01-10 | Forming method of minute pattern |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL8000109A NL8000109A (nl) | 1980-07-14 |
NL180617B NL180617B (nl) | 1986-10-16 |
NL180617C true NL180617C (nl) | 1987-03-16 |
Family
ID=11481421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NLAANVRAGE8000109,A NL180617C (nl) | 1979-01-10 | 1980-01-08 | Werkwijze voor het vormen van een patroon in het micrometergebied in het oppervlak van een voorwerpslaag. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4288283A (nl) |
JP (1) | JPS5593225A (nl) |
DE (1) | DE3000746C2 (nl) |
GB (1) | GB2040498B (nl) |
NL (1) | NL180617C (nl) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3045519C2 (de) * | 1980-12-03 | 1983-07-28 | Franz Dr. 7317 Wendlingen Hasselbach | Verfahren zur Erzeugung von mikroskopischen Reliefmustern |
DE3102647A1 (de) * | 1981-01-27 | 1982-08-19 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Strukturierung von metalloxidmasken, insbesondere durch reaktives ionenstrahlaetzen |
US4524126A (en) * | 1981-06-30 | 1985-06-18 | International Business Machines Corporation | Adhesion of a photoresist to a substrate |
JPS5846635A (ja) * | 1981-09-14 | 1983-03-18 | Toshiba Corp | 半導体素子パタ−ン形成法 |
US4574177A (en) * | 1982-02-01 | 1986-03-04 | Texas Instruments Incorporated | Plasma etch method for TiO2 |
JPS596540A (ja) * | 1982-07-05 | 1984-01-13 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
DE3314602A1 (de) * | 1983-04-22 | 1984-10-25 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur fotolithografischen herstellung von strukturen |
JPS59202636A (ja) * | 1983-05-04 | 1984-11-16 | Hitachi Ltd | 微細パタ−ン形成方法 |
JPH061769B2 (ja) * | 1983-08-10 | 1994-01-05 | 株式会社日立製作所 | アルミナ膜のパターニング方法 |
DE3475856D1 (en) * | 1983-08-12 | 1989-02-02 | Commissariat Energie Atomique | Method for aligning a connecting line above an electrical contact hole of an integrated circuit |
GB2145539B (en) * | 1983-08-22 | 1986-08-28 | Gen Electric | Optical preparation of molybdenum surfaces |
EP0166893B1 (de) * | 1984-05-04 | 1989-01-18 | BBC Brown Boveri AG | Trockenätzverfahren |
US4557797A (en) * | 1984-06-01 | 1985-12-10 | Texas Instruments Incorporated | Resist process using anti-reflective coating |
US4981771A (en) * | 1984-11-02 | 1991-01-01 | Hitachi, Ltd. | Pattern fabricating method |
US4614021A (en) * | 1985-03-29 | 1986-09-30 | Motorola, Inc. | Pillar via process |
GB2189903A (en) * | 1986-04-01 | 1987-11-04 | Plessey Co Plc | An etch technique for metal mask definition |
US4780175A (en) * | 1986-10-27 | 1988-10-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method for the production of an optical phase-shifting board |
US4810619A (en) * | 1987-08-12 | 1989-03-07 | General Electric Co. | Photolithography over reflective substrates comprising a titanium nitride layer |
DE3937308C1 (nl) * | 1989-11-09 | 1991-03-21 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe, De | |
US5219788A (en) * | 1991-02-25 | 1993-06-15 | Ibm Corporation | Bilayer metallization cap for photolithography |
US5681486A (en) * | 1996-02-23 | 1997-10-28 | The Boeing Company | Plasma descaling of titanium and titanium alloys |
US5867266A (en) | 1996-04-17 | 1999-02-02 | Cornell Research Foundation, Inc. | Multiple optical channels for chemical analysis |
US6893980B1 (en) * | 1996-12-03 | 2005-05-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device and manufacturing method therefor |
DE19728473A1 (de) * | 1997-07-03 | 1999-01-07 | Siemens Ag | Strukturierungsverfahren |
DE19728472A1 (de) * | 1997-07-03 | 1999-01-07 | Siemens Ag | Strukturierungsverfahren |
EP0907203A3 (de) | 1997-09-03 | 2000-07-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Strukturierungsverfahren |
US6376379B1 (en) * | 2000-02-01 | 2002-04-23 | Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. | Method of hard mask patterning |
JP4605554B2 (ja) * | 2000-07-25 | 2011-01-05 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | ドライエッチング用マスク材 |
KR100978250B1 (ko) * | 2002-11-22 | 2010-08-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 패턴형성방법 및 이를 이용한 전기소자 제조방법 |
JP4717658B2 (ja) * | 2006-02-17 | 2011-07-06 | ソニー株式会社 | パターン形成方法および半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1109226B (de) * | 1958-12-17 | 1961-06-22 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen und/oder gedruckter Schaltungselemente |
US3672987A (en) * | 1969-12-23 | 1972-06-27 | Westinghouse Electric Corp | Masked photocathode and method of making same |
JPS4939863B1 (nl) * | 1970-02-02 | 1974-10-29 | ||
US3884698A (en) * | 1972-08-23 | 1975-05-20 | Hewlett Packard Co | Method for achieving uniform exposure in a photosensitive material on a semiconductor wafer |
JPS4994267A (nl) * | 1973-01-10 | 1974-09-06 | ||
US3949463A (en) * | 1973-02-13 | 1976-04-13 | Communications Satellite Corporation (Comsat) | Method of applying an anti-reflective coating to a solar cell |
JPS5050868A (nl) * | 1973-09-05 | 1975-05-07 | ||
US4098917A (en) * | 1976-09-08 | 1978-07-04 | Texas Instruments Incorporated | Method of providing a patterned metal layer on a substrate employing metal mask and ion milling |
-
1979
- 1979-01-10 JP JP71479A patent/JPS5593225A/ja active Pending
-
1980
- 1980-01-08 GB GB8000513A patent/GB2040498B/en not_active Expired
- 1980-01-08 NL NLAANVRAGE8000109,A patent/NL180617C/nl not_active IP Right Cessation
- 1980-01-08 US US06/110,445 patent/US4288283A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-01-10 DE DE3000746A patent/DE3000746C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL180617B (nl) | 1986-10-16 |
GB2040498B (en) | 1983-05-05 |
JPS5593225A (en) | 1980-07-15 |
NL8000109A (nl) | 1980-07-14 |
DE3000746C2 (de) | 1985-08-08 |
GB2040498A (en) | 1980-08-28 |
DE3000746A1 (de) | 1980-08-14 |
US4288283A (en) | 1981-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL180617C (nl) | Werkwijze voor het vormen van een patroon in het micrometergebied in het oppervlak van een voorwerpslaag. | |
NL189738B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een voorwerp, omvattende het door plasma-etsen vormen van geselecteerde gebieden in een oppervlak van een aluminiumrijk materiaal. | |
NL188838C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een voorwerp met optisch sierpatroon. | |
NL188274C (nl) | Gelaagd bekledingspaneel met decoratieve deklaag en werkwijze voor het vervaardigen daarvan. | |
NL185332C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een bekleed voorwerp. | |
NL190619C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van tapijttegels. | |
NL183091B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een slijplichaam. | |
NL170242C (nl) | Werkwijze voor het decoreren van cilindrische lichamen. | |
NL175144C (nl) | Inrichting voor het aanbrengen van bekledingsmateriaal op de omtrek van ronde voorwerpen. | |
NL7714511A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een gevulde poly- meerbekleding op een inwendig cilindrisch opper- vlak en het aldus vervaardigde voorwerp. | |
NL185429C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een plaatvormig lichaam. | |
NL7902338A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een klep en daarmede gevormde klep. | |
NL7708217A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een materi- aalbaan en zo verkregen materiaalbaan. | |
NL186119B (nl) | Werkwijze voor het vormen van een patroon voor een positieve resist. | |
NL7904832A (nl) | Absorberende bekleding en werkwijze voor het vervaar- digen ervan. | |
NL7614198A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een eenheids- patroonstelsel. | |
NL187816C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van gestrekte folies van polyethyleentereftalaat. | |
NL7801249A (nl) | Werkwijze voor het bekleden van een oppervlak met een materiaallaag onder toevoeging van warmte. | |
NL7801003A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van reservoirslui- tingen en op deze wijze vervaardigde reservoir- sluitingen. | |
NL7808176A (nl) | Machine voor het aanbrengen van een wegdek. | |
NL185578C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een synthetisch crepegaren. | |
NL7614197A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een enkel- voudig patroonstelsel. | |
NL177574C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een bekleed vormlichaam. | |
NL7900764A (nl) | Werkwijze voor het verkrijgen van metalen decoratie- patronen op metaaloppervlakken. | |
NL191370C (nl) | Werkwijze voor het door diffusie met metaal bekleden van het inwendige oppervlak van een holte in een metalen werkstuk. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1A | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BC | A request for examination has been filed | ||
A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
V1 | Lapsed because of non-payment of the annual fee |