NL173898C - Inrichting voor lithografie met behulp van een elektronenbundel. - Google Patents

Inrichting voor lithografie met behulp van een elektronenbundel.

Info

Publication number
NL173898C
NL173898C NLAANVRAGE7811577,A NL7811577A NL173898C NL 173898 C NL173898 C NL 173898C NL 7811577 A NL7811577 A NL 7811577A NL 173898 C NL173898 C NL 173898C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
lithography
electron beam
electron
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7811577,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7811577A (nl
NL173898B (nl
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Publication of NL7811577A publication Critical patent/NL7811577A/nl
Publication of NL173898B publication Critical patent/NL173898B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL173898C publication Critical patent/NL173898C/nl

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/21—Means for adjusting the focus
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H01J37/3045—Object or beam position registration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
NLAANVRAGE7811577,A 1977-11-24 1978-11-24 Inrichting voor lithografie met behulp van een elektronenbundel. NL173898C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13994177A JPS5472980A (en) 1977-11-24 1977-11-24 Electron-beam drawing unit

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7811577A NL7811577A (nl) 1979-05-28
NL173898B NL173898B (nl) 1983-10-17
NL173898C true NL173898C (nl) 1984-03-16

Family

ID=15257230

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7811577,A NL173898C (nl) 1977-11-24 1978-11-24 Inrichting voor lithografie met behulp van een elektronenbundel.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4199688A (nl)
JP (1) JPS5472980A (nl)
CA (1) CA1103813A (nl)
DE (1) DE2850991A1 (nl)
FR (1) FR2410362A1 (nl)
GB (1) GB2011125B (nl)
NL (1) NL173898C (nl)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5621321A (en) * 1979-07-27 1981-02-27 Fujitsu Ltd Automatically setting method of focus and exposure coefficient of electron beam exposure apparatus
US4376249A (en) * 1980-11-06 1983-03-08 International Business Machines Corporation Variable axis electron beam projection system
US4415851A (en) * 1981-05-26 1983-11-15 International Business Machines Corporation System for contactless testing of multi-layer ceramics
US4417203A (en) * 1981-05-26 1983-11-22 International Business Machines Corporation System for contactless electrical property testing of multi-layer ceramics
US4568861A (en) * 1983-06-27 1986-02-04 International Business Machines Corporation Method and apparatus for controlling alignment and brightness of an electron beam
NL8304217A (nl) * 1983-12-07 1985-07-01 Philips Nv Automatisch instelbare electronenmicroscoop.
NL8702874A (nl) * 1987-12-01 1989-07-03 Philips Nv Inspectie apparaat met gedigitaliseerde elektronen detectie.
CA1308203C (en) * 1989-06-01 1992-09-29 Nanoquest (Canada) Inc. Magnification compensation apparatus
JPH11191529A (ja) * 1997-12-25 1999-07-13 Nikon Corp 荷電ビーム露光方法
US6781680B1 (en) 1999-03-26 2004-08-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Optical system adjusting method for energy beam apparatus
JP3946899B2 (ja) * 1999-03-26 2007-07-18 株式会社東芝 エネルギービーム装置における光学系の調整方法
JP3508622B2 (ja) * 1999-05-20 2004-03-22 株式会社日立製作所 電子ビーム描画装置および電子ビームを用いた描画方法
NL1015155C2 (nl) * 2000-05-11 2001-11-13 Tno Elektronenstraallithografie.
US6998219B2 (en) * 2001-06-27 2006-02-14 University Of South Florida Maskless photolithography for etching and deposition
US7095484B1 (en) * 2001-06-27 2006-08-22 University Of South Florida Method and apparatus for maskless photolithography
US6764796B2 (en) * 2001-06-27 2004-07-20 University Of South Florida Maskless photolithography using plasma displays
US7049049B2 (en) * 2001-06-27 2006-05-23 University Of South Florida Maskless photolithography for using photoreactive agents
US8421035B2 (en) * 2006-08-11 2013-04-16 The Regents Of The University Of California High-resolution microscope using optical amplification

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3576438A (en) * 1969-04-28 1971-04-27 Bell Telephone Labor Inc Focus monitor for electron microscope including an auxiliary electron gun and focusing lens
US3644700A (en) * 1969-12-15 1972-02-22 Ibm Method and apparatus for controlling an electron beam

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5616536B2 (nl) 1981-04-16
DE2850991A1 (de) 1979-05-31
FR2410362B1 (nl) 1981-05-29
FR2410362A1 (fr) 1979-06-22
CA1103813A (en) 1981-06-23
JPS5472980A (en) 1979-06-11
US4199688A (en) 1980-04-22
GB2011125B (en) 1982-02-24
NL7811577A (nl) 1979-05-28
NL173898B (nl) 1983-10-17
GB2011125A (en) 1979-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL188076B (nl) Inrichting voor radiografie.
NL173898C (nl) Inrichting voor lithografie met behulp van een elektronenbundel.
NL7803770A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een organisch jodofoor germicide preparaat.
NL183554C (nl) Werkwijze voor het bedrijven van een ionenbron.
NL188308C (nl) Inrichting voor deeltjesanalyse.
NL7714492A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een elektrokatalysator.
NL185374C (nl) Inrichting voor het opwekken van ultraviolette straling.
NL7804569A (nl) Schakelstelsel voor een antenneinrichting.
NL180623C (nl) Belichter voor een antenne.
NL7901123A (nl) Afbuigjuk voor een elektronenstraalbuis.
NL7802571A (nl) Topografisch masker voor een substraat.
NL7605854A (nl) Afbuiginrichting voor een elektromagnetische golfbundel.
NL7800783A (nl) Generator voor een elektronenbundel voor de fabrikage van halfgeleiderinrichtingen.
NL7708154A (nl) Inrichting voor het vormen van een elektronen- bundel met een ionenval.
NL7607715A (nl) Inrichting voor het afbuigen van een elektro- nenbundel.
NL188718C (nl) Basisorgaan voor elektronenbuis.
NL7701321A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een ester.
NL7808162A (nl) Elektronenbundelinrichting.
NL7804506A (nl) Aftastinrichting met een elektronenstraalbuis.
NL177784C (nl) Inrichting van het veldemissietype voor het opwekken van een elektronenbundel.
NL156860B (nl) Inrichting voor het verdampen met behulp van een elektronenstraal.
NL174813C (nl) Remmende bufferinrichting voor een stootblok.
NL7803080A (nl) Werkwijze voor de bestrijding van plagen.
NL7803554A (nl) Tubus voor een bestralingstoestel.
JPS5435680A (en) Device for exposing electron beam

Legal Events

Date Code Title Description
A1A A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent

Free format text: 981124