NL141709B - Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.

Info

Publication number
NL141709B
NL141709B NL63287925A NL287925A NL141709B NL 141709 B NL141709 B NL 141709B NL 63287925 A NL63287925 A NL 63287925A NL 287925 A NL287925 A NL 287925A NL 141709 B NL141709 B NL 141709B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
semiconductor device
manufacture
accordance
device manufactured
manufactured
Prior art date
Application number
NL63287925A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Rca Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US167341A external-priority patent/US3200019A/en
Application filed by Rca Corp filed Critical Rca Corp
Publication of NL141709B publication Critical patent/NL141709B/xx

Links

Classifications

    • H10P95/00—
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40—Oxides
    • C23C16/401—Oxides containing silicon
    • C23C16/402—Silicon dioxide
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • H10P14/6334—
    • H10P14/6686—
    • H10P14/69215—
    • H10P14/6923—
    • H10P32/14—
    • H10P32/141—
    • H10P32/171—
    • H10P32/174—

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Weting (AREA)
NL63287925A 1962-01-19 1963-01-18 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. NL141709B (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US167341A US3200019A (en) 1962-01-19 1962-01-19 Method for making a semiconductor device
US420523A US3340445A (en) 1962-01-19 1964-12-23 Semiconductor devices having modifier-containing surface oxide layer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL141709B true NL141709B (nl) 1974-03-15

Family

ID=26863069

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL287925D NL287925A (OSRAM) 1962-01-19
NL63287925A NL141709B (nl) 1962-01-19 1963-01-18 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL287925D NL287925A (OSRAM) 1962-01-19

Country Status (5)

Country Link
US (1) US3340445A (OSRAM)
BE (1) BE627302A (OSRAM)
DE (1) DE1444520B2 (OSRAM)
GB (1) GB1013985A (OSRAM)
NL (2) NL141709B (OSRAM)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1014830A (en) * 1972-11-15 1977-08-02 Klaus C. Wiemer Method of forming doped dielectric layers utilizing reactive plasma deposition
EP0030798B1 (en) * 1979-12-17 1983-12-28 Hughes Aircraft Company Low temperature process for depositing oxide layers by photochemical vapor deposition
DE102008019402A1 (de) 2008-04-14 2009-10-15 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Verfahren zur selektiven Dotierung von Silizium sowie damit behandeltes Silizium-Substrat
DE102009041546A1 (de) * 2009-03-27 2010-10-14 Bosch Solar Energy Ag Verfahren zur Herstellung von Solarzellen mit selektivem Emitter

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE534505A (OSRAM) * 1953-12-30
US3145328A (en) * 1957-04-29 1964-08-18 Raytheon Co Methods of preventing channel formation on semiconductive bodies
US2989424A (en) * 1958-03-31 1961-06-20 Westinghouse Electric Corp Method of providing an oxide protective coating for semiconductors
US2899344A (en) * 1958-04-30 1959-08-11 Rinse in
US3001896A (en) * 1958-12-24 1961-09-26 Ibm Diffusion control in germanium
US3040218A (en) * 1959-03-10 1962-06-19 Hoffman Electronics Corp Constant current devices
US3070466A (en) * 1959-04-30 1962-12-25 Ibm Diffusion in semiconductor material
US2981877A (en) * 1959-07-30 1961-04-25 Fairchild Semiconductor Semiconductor device-and-lead structure
US3085033A (en) * 1960-03-08 1963-04-09 Bell Telephone Labor Inc Fabrication of semiconductor devices

Also Published As

Publication number Publication date
DE1444520B2 (de) 1971-06-16
US3340445A (en) 1967-09-05
GB1013985A (en) 1965-12-22
DE1444520A1 (de) 1968-11-07
NL287925A (OSRAM)
BE627302A (OSRAM)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL152114B (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een meerlaagshalfgeleiderinrichting en met deze werkwijze vervaardigde halfgeleiderinrichting.
NL141029B (nl) Werkwijze voor het vormen van een halfgeleiderinrichting en inrichting of stel inrichtingen gevormd volgens deze werkwijze.
NL161616C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL158025B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL142281B (nl) Samengestelde halfgeleiderinrichting en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL148654B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een schottky-overgang alsmede de aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting.
NL143072B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL152116B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een ingekapselde halfgeleiderinrichting en ingekapselde halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL146546B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van elastische polyurethandraden alsmede aldus vervaardigde draden.
NL139912B (nl) Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van doorzichtige foelies.
NL144186B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een poreuze vezelmateriaalbaan.
NL154062B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling, alsmede geintegreerde halfgeleiderschakeling, vervaardigd met deze werkwijze.
NL140101B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL154061B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.
NL143786B (nl) Elektro-akoestische omvormer en inrichting voor het vervaardigen van deze omvormer.
NL139465B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een uitwisselaarlichaam en met deze werkwijze vervaardigd uitwisselaarlichaam.
NL142110B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van luchtbanden.
NL155663B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede voorwerp vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL143734B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderveldeffectinrichting en halfgeleiderveldeffectinrichting verkregen volgens deze werkwijze.
NL144777B (nl) Werkwijze voor het gelijktijdig vervaardigen van een aantal in een halfgeleiderlichaam opgenomen halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderlichaam vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL153719B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een schottky-overgang en halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL140182B (nl) Inrichting voor het vervaardigen en welven van een luchtband.
NL143627B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichting en aldus vervaardigde inrichtingen.
NL141709B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL142278B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een bodem van een voor een halfgeleidende inrichting bestemde omhulling en bodem, vervaardigd volgens deze werkwijze.

Legal Events

Date Code Title Description
VJC Lapsed due to non-payment of the due maintenance fee for the patent or patent application
NL80 Information provided on patent owner name for an already discontinued patent

Owner name: R C A