NL140659B - Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor met een geisoleerde poort en een veldeffecttransistor vervaardigd volgens de werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor met een geisoleerde poort en een veldeffecttransistor vervaardigd volgens de werkwijze.

Info

Publication number
NL140659B
NL140659B NL707007988A NL7007988A NL140659B NL 140659 B NL140659 B NL 140659B NL 707007988 A NL707007988 A NL 707007988A NL 7007988 A NL7007988 A NL 7007988A NL 140659 B NL140659 B NL 140659B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
field effect
effect transistor
manufacturing
manufactured
insulated port
Prior art date
Application number
NL707007988A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL7007988A (Direct
Original Assignee
Kogyo Gijutsuin
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP44073848A external-priority patent/JPS4831514B1/ja
Priority claimed from JP44073847A external-priority patent/JPS5125712B1/ja
Application filed by Kogyo Gijutsuin filed Critical Kogyo Gijutsuin
Publication of NL7007988A publication Critical patent/NL7007988A/xx
Publication of NL140659B publication Critical patent/NL140659B/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
    • H10D30/60—Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
    • H10D30/64—Double-diffused metal-oxide semiconductor [DMOS] FETs
    • H10D30/66—Vertical DMOS [VDMOS] FETs
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D10/00—Bipolar junction transistors [BJT]
    • H10D10/60—Lateral BJTs
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • H10P95/00—
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/05—Etch and refill
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/053—Field effect transistors fets
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/151—Simultaneous diffusion
NL707007988A 1969-09-18 1970-06-02 Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor met een geisoleerde poort en een veldeffecttransistor vervaardigd volgens de werkwijze. NL140659B (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP44073848A JPS4831514B1 (Direct) 1969-09-18 1969-09-18
JP44073847A JPS5125712B1 (Direct) 1969-09-18 1969-09-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL7007988A NL7007988A (Direct) 1971-03-22
NL140659B true NL140659B (nl) 1973-12-17

Family

ID=26414996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL707007988A NL140659B (nl) 1969-09-18 1970-06-02 Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor met een geisoleerde poort en een veldeffecttransistor vervaardigd volgens de werkwijze.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3764396A (Direct)
DE (1) DE2028146A1 (Direct)
GB (2) GB1316559A (Direct)
NL (1) NL140659B (Direct)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3975221A (en) * 1973-08-29 1976-08-17 American Micro-Systems, Inc. Low capacitance V groove MOS NOR gate and method of manufacture
US3924265A (en) * 1973-08-29 1975-12-02 American Micro Syst Low capacitance V groove MOS NOR gate and method of manufacture
US3909304A (en) * 1974-05-03 1975-09-30 Western Electric Co Method of doping a semiconductor body
US3945857A (en) * 1974-07-01 1976-03-23 Fairchild Camera And Instrument Corporation Method for fabricating double-diffused, lateral transistors
JPS5431872B2 (Direct) * 1974-09-06 1979-10-09
US4033787A (en) * 1975-10-06 1977-07-05 Honeywell Inc. Fabrication of semiconductor devices utilizing ion implantation
US4038107B1 (en) * 1975-12-03 1995-04-18 Samsung Semiconductor Tele Method for making transistor structures
US4078947A (en) * 1976-08-05 1978-03-14 International Business Machines Corporation Method for forming a narrow channel length MOS field effect transistor
JPS5553462A (en) * 1978-10-13 1980-04-18 Int Rectifier Corp Mosfet element
US5191396B1 (en) * 1978-10-13 1995-12-26 Int Rectifier Corp High power mosfet with low on-resistance and high breakdown voltage
EP0139663A1 (en) * 1983-04-04 1985-05-08 Motorola, Inc. Self-aligned ldmos and method
IT1250233B (it) * 1991-11-29 1995-04-03 St Microelectronics Srl Procedimento per la fabbricazione di circuiti integrati in tecnologia mos.
DE69429913T2 (de) * 1994-06-23 2002-10-31 Consorzio Per La Ricerca Sulla Microelettronica Nel Mezzogiorno, Catania Verfahren zur Herstellung eines Leistungsbauteils in MOS-Technik
US5817546A (en) * 1994-06-23 1998-10-06 Stmicroelectronics S.R.L. Process of making a MOS-technology power device
US5869371A (en) * 1995-06-07 1999-02-09 Stmicroelectronics, Inc. Structure and process for reducing the on-resistance of mos-gated power devices
US5896315A (en) * 1997-04-11 1999-04-20 Programmable Silicon Solutions Nonvolatile memory
US5867425A (en) * 1997-04-11 1999-02-02 Wong; Ting-Wah Nonvolatile memory capable of using substrate hot electron injection
US6426673B2 (en) 1997-07-30 2002-07-30 Programmable Silicon Solutions High performance integrated radio frequency circuit devices
US6535034B1 (en) 1997-07-30 2003-03-18 Programmable Silicon Solutions High performance integrated circuit devices adaptable to use lower supply voltages with smaller device geometries
US5841694A (en) * 1997-07-30 1998-11-24 Programmable Silicon Solutions High performance programmable interconnect
US6077746A (en) * 1999-08-26 2000-06-20 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Using p-type halo implant as ROM cell isolation in flat-cell mask ROM process
JP2010114179A (ja) * 2008-11-05 2010-05-20 Hitachi Displays Ltd 表示装置および表示装置の製造方法
CN111785784B (zh) * 2020-07-20 2025-10-28 杭州奥罗拉半导体有限公司 功率半导体器件及其形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
US3764396A (en) 1973-10-09
DE2028146A1 (de) 1971-04-08
NL7007988A (Direct) 1971-03-22
GB1313829A (en) 1973-04-18
GB1316559A (en) 1973-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL140659B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor met een geisoleerde poort en een veldeffecttransistor vervaardigd volgens de werkwijze.
NL160512C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een van uitsteeksels voorziene plaat.
NL171912C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van ijzerfoelie.
NL159121B (nl) Werkwijze voor het bekleden van voorwerpen met latex.
NL144641B (nl) Werkwijze voor het verbeteren van de bestandheid van gesegmenteerde polyurethanen tegen verkleuring.
NL185483C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidereenheid met veldeffecttransistors met geisoleerde poort van de verarmingssoort en de verrijkingssoort.
NL152116B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een ingekapselde halfgeleiderinrichting en ingekapselde halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL157103B (nl) Werkwijze voor het vergelijken van een object met een standaard.
NL162511C (nl) Geintegreerde halfgeleiderschakeling met een laterale transistor en werkwijze voor het vervaardigen van de geintegreerde halfgeleiderschakeling.
NL159532B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een, van een geisoleerde stuurelektrode voorziene veldeffecttransistor van het verrijkingstype, alsmede veldeffecttransistor, vervaardigd met deze werkwijze.
NL157749C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffect- transistor en veldeffecttransistor vervaardigd volgens de werkwijze.
NL166869C (nl) Werkwijze en inrichting voor het automatisch vervaar- digen van kanaalvormige elementen en volgens de werk- wijze vervaardigde kanaalvormige elementen.
NL164326C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van voorwerpen met ferromagnetische eigenschappen.
NL154866B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting alsmede halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens de werkwijze.
NL139874B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een liksteen en liksteen, vervaardigd met de werkwijze.
NL171257C (nl) Werkwijze voor het isoleren van dichloorbutenen en butadieen.
NL167895C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van kunststofvoorwerpen.
NL174125C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van gelaagde produkten.
NL145911B (nl) Werkwijze voor het met lucht behandelen van niet-gestrekte draad.
NL172675C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een voorwerp met vormgeheugen.
NL165005C (nl) Halfgeleiderinrichting bevattende veldeffecttransistors met geisoleerde stuurelektrode en werkwijze voor het vervaardigen van de halfgeleiderinrichting.
NL176479C (nl) Werkwijze voor het bekleden van kunststofvoorwerpen met koper.
NL149642B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elektroluminescerende inrichting en aldus vervaardigde inrichting.
NL154867B (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderinrichting, alsmede volgens deze werkwijze vervaardigde veldeffect-transistor en planaire transistor.
NL140906B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van gelaagde panelen.