NL1026600C2 - Lithografie-inrichting. - Google Patents

Description

t

Korte aanduiding: Lithografie-inrichting

De onderhavige uitvinding heeft betrekking op lithografie-in-richtingen en meer in het bijzonder op draaiende filters voor beheersen van lichtdoorlaatbaarheid en doorlaatbaarheidsprofiel.

5 Beschrijving van de verwante stand der techniek

Lithografie-inrichtingen zijn gebruikt bij de vervaardigings-processen van halfgeleiderinrichtingen, vloeibare-kristalbeeldscher-men, magnetische dunne-filmkoppen, afbeeldingsinrichtingen en micro-inrichtingen enzovoorts, en hierbij zijn lithografie-inrichtingen 10 gebruikt om masker- of reticulepatronen te vormen op plakken die zijn bekleed met een gevoelig makend middel (bijvoorbeeld fotogevoelige lak) of een glasplaat enzovoorts. In lithografie-inrichtingen dient lichtintensiteit en intensiteitsprofiel uniform gehouden te worden. Indien niet, kunnen, in afhankelijkheid van lichtintensiteit of 15 intensiteitsprofiel, patronen die door maskers of reticules op een substraat zijn gevormd, onscherp zijn. Als een gevolg daarvan bestaat er een moeilijkheid bij verkrijgen van een gewenste CD (Critical Dimension, kritische afmeting). In het bijzonder, bij schakelingen met hoge integratie, wordt verminderde lijnbreedte op gevoelige wijze 20 beïnvloed door lichtintensiteit en intensiteitsprofiel.

Nu, wanneer evenwijdige stralen verticaal invallen op een grensoppervlak van een vlak, kan doorlaatbaarheid worden beschreven als doorlaatbaarheid = (It/I0)x 100, waarin invallende intensiteit 25 gelijk is aan I0 en doorgelaten intensiteit gelijk is aan It.

In de Japanse ter inzage gelegde publicatie nr. 09-266159 wordt lichtintensiteit bestuurd door een revolver, revolvers of een revolver en meerdere vlakke filters die evenwijdig zijn aangebracht aan de revolver alsmede meerdere doorlaatbaarheidsbesturingsfilters. 30 In de Koreaanse ter inzage gelegde publicatie nr. 2003-0024638 wordt een lichtintensiteitsprofiel bestuurd door gebruik te maken van condensorlensvervorming of door ten minste twee filters tussen te plaatsen.

Het lichtprofiel dat een voorwerp bestraalt verandert echter 35 volgens verscheidene lichtprofielvormen (bijvoorbeeld gebruikelijk, 1026600' - 2 - ringvormig, kwadrupool en dipool). De intensiteitsuniformiteit van licht verandert eveneens met veranderende NA of SIGMA-omstandigheden. Voorts varieert de intensiteitsuniformiteit van licht op basis van of een inrichting wordt gebruikt of niet. In dit geval kan intensiteits-5 uniformiteit worden voorgesteld door intensiteit op een bepaalde positie

Intensiteitsuniformiteit = _x 100 gemiddelde van volledige intensiteit 10

Figuur 1 toont een intensiteitsuniformiteit in een spleet in afhankelijkheid van verlichtingsomstandigheden. De abscisse (of x-as) stelt het intensiteitsmetingsnuramer voor voor metingen op gelijke afstanden, genomen tijdens bewegen van één zijde van een belichting 15 naar de andere door een spleet. Met andere woorden, indien de spleet-lengte ongeveer 26 mm langs de lange as is worden de metingen genomen door 2,6 mm tussen elke meting te bewegen, hetgeen resulteert in 11 metingen. De ordinaat (of y-as) stelt intensiteitsuniformiteit voor: intensiteitsuniformiteit kan worden voorgesteld door 20 intensiteit op elke plaats

Intensiteitsuniformiteit = _x 100 volledige intensiteit van het lichtprofiel 25 In Figuur 1 wordt intensiteitsuniformiteit gemeten wanneer een doorlaatbaarheidsprofielfilter wordt gebruikt en verlichtingsomstandigheden worden veranderd. Onder verwijzing naar Figuur 1 zijn inten-siteitsuniformiteitswaarden 100% en hoger, aangezien lichtintensiteit aan beide uiteinden groter is dan de gemiddelde intensiteit.

30 In dit geval stellen A,C en Q respectievelijk ringvormige, ge bruikelijke en quadrupool voor, terwijl 1, 1' en 3, 3' verschillende verlichtingsomstandigheden voorstellen, dat wil zeggen verschillende waarden van NA en SIGMA.

Zoals getoond in Figuur 1 varieert het lichtintensiteitspro- 35 fiel van het bestraalde voorwerp volgens de veranderende verlich-tingswijze (bijvoorbeeld ringvormig, gebruikelijk en quadrupool), alsmede de veranderende MA en SIGMA-omstandigheden.

Figuur 2 toont variatie van lichtintensiteit volgens de duur van ononderbroken gebruik van de inrichting. De abscisse stelt het 40 weekgetal voor. Bijvoorbeeld WK10 stelt 10 weken ononderbroken gebruik van de inrichting voor. De ordinaat stelt de verhouding voor 1026600" - 3 - (hierna "intensiteitsprofieltrend" genoemd) van de som en het verschil van zowel de maximale als minimale waarden van intensiteitspro-fiel (wiskundige vergelijking 1). Het intensiteitsprofiel kan op dezelfde wijze worden verkregen als beschreven voor Figuur 1, en kan 5 worden geschreven als [wiskundige vergelijking 1]

Max Int. - Min Int.

Max Int. + Min Int., 10 waarin Max Int. de maximale waarde van intensiteitsuniformiteit voorstelt en Min Int. het minimum van intensiteitsuniformiteit voorstelt.

Zoals getoond in Figuur 2 verandert de intensiteitsuniformiteit dramatisch na ongeveer 36 weken.

Dienovereenkomstig is het vereist dat lichtintensiteit alsmede 15 lichtintensiteitsprofiel beheersbaar zijn in een vérvaardigingsin-richting.

Dienovereenkomstig is de onderhavige uitvinding gericht op meerdere doorlaatbaarheidsbesturingsfilters en doorlaatbaarheidspro-fielfilters met een revolvervorm voor het besturen van lichtintensi-20 teit en intensiteitsprofiel.

Teneinde deze en andere doelen te verwezenlijken omvat de onderhavige uitvinding meerdere doorlaatbaarheidsbesturingsfilters en doorlaatbaarheidsprofielfilters in een lithografie-inrichting. Het doorlaatbaarheidsbesturingsfilter en het doorlaatbaarheidsprofielfil-25 ter hebben beide een revolvervorm en zijn geplaatst in dezelfde centrale as.

Op het gebied van optische systemen waarin licht wordt uitgestraald uit een lichtpad naar een bestraald voorwerp kan een lithografie-inrichting een eerste revolver en een tweede revolver omvatten 30 op een optisch pad van licht dat wordt uitgestraald uit het lichtpad. De eerste revolver heeft meerdere doorlaatbaarheidsbesturingsfilters die in staat zijn om in een richting die het optische pad snijdt te worden geplaatst. De tweede revolver heeft eveneens meerdere doorlaatbaarheidsprofielf ilters die in staat zijn om in een richting die 35 het lichtpad snijdt te worden geplaatst. Daarenboven ligt de tweede revolver nabij de eerste revolver en is op dezelfde centrale as geplaatst als de eerste revolver.

Wanneer de gelegenheid daarom vraagt kan een derde revolver met meerdere doorlaatbaarheidsprofielfilters zich nabij de eerste en 10266 00- - 4 - tweede revolvers bevinden en kan zijn geplaatst op dezelfde as. De derde revolver kan ten minste één doorlatend filter hebben (bijvoorbeeld een filter dat onafhankelijk is van intensiteitsvariatie). Hierin heeft de revolver meerdere cirkelvormige filters die conform 5 zijn gerangschikt op een vlak in een cirkel. Elk van de cirkelvormige filters is kleiner dan het vlak en is op een bepaalde afstand van het middelpunt van het vlak geplaatst.

Het doorlaatbaarheidsbesturingsfilter verandert de intensiteit van het lichtpad als geheel. Bij voorkeur hebben de meerdere door-10 laatbaarheidsbesturingsfilters met verschillende doorlaatbaarheden dezelfde doorlaatbaarheid als enig filter.

In een uitvoeringsvorm van een doorlaatbaarheidsbesturings-revolver zijn er ongeveer 4-5 verschillende filters.

Dat wil zeggen, zoals getoond in Tabel 1, kan het doorlaat-15 baarheidsbesturingsfilter vier verschillende filters hebben.

[Tabel 1] _TCP__Filter 1__Filter 2__Filter 3__Filter 4

Doorlaat- 99,5 99 98 97,5 baarheid_____ 20 waarin TCP een doorlaatbaarheidsbesturingsfilter voorstelt.

Het doorlaatbaarheidsprofielfilter verandert het intensiteits-profiel van het lichtpad en heeft een doorlaatbaarheid die varieert over het filter. Bij voorkeur heeft elk van de meerdere doorlaatbaar-heidsprofielfilters een verschillend doorlaatbaarheidsprofiel.

25 In een uitvoeringsvorm van een doorlaatbaarheidsprofielrevol- ver zijn er ongeveer 4-5 verschillende filters.

Dat wil zeggen, zoals getoond in Tabel 2, kan het doorlaatbaarheidsbesturingsf ilter vijf verschillende filters hebben.

De derde revolver kan echter ten minste één doorlatend filter 30 hebben (bijvoorbeeld een filter dat onafhankelijk is van intensiteitsvariatie) .

1026600- - 5 - [Tabel 2]_ _Middelpunt_Rand_

Filter 1__99 (%)_~__100 (%) lineaire variatie_

Filter 2__99 (%)_~_99,5(¾) lineaire variatië_

Filter 3 99(%) 99(%) 99(%) 99,7(%)_100(¾)_

Filter 4__99 (%)_~_98,5(%) lineaire variatie_

Filter 5 99 (%)_~_98 (%) lineaire variatie

Waarin de abscisse voorstelt de afstand vanaf het middelpunt 5 van het filter naar de rand.

Tabel 2 toont doorlaatbaarheid volgens positie in het door-laatbaarheidsprofielfilter. Bijvoorbeeld, filter 3 stelt doorlaatbaarheid voor op punten vanaf het middelpunt van het filter naar de rand ervan. De doorlaatbaarheid varieert lineair tussen de getoonde 10 doorlaatbaarheden.

In één uitvoeringsvorm kunnen het doorlaatbaarheidsbesturings-filter en het doorlaatbaarheidsprofielfilter worden gevormd onder gebruikmaking van optische film. Daarenboven kunnen zij tevens worden gevormd door afzetten van een microstip schaduwmateriaal of een 15 lichtgevoelig materiaal op een substraat, waarbij de dichtheid van de microstippen varieert. De werkwijze voor vormen ervan is echter niet beperkt tot dergelijke technieken.

Bij voorkeur is het doorlaatbaarheidsbesturingsfilter geplaatst in het lichtpad. De eerste, tweede en derde (al naar gelang 20 de gelegenheid daarom vraagt) revolvers kunnen zijn geplaatst voordat het licht dat een condensorlens passeert een reticule bereikt.

Voorts kan de revolver scheidbaar zijn van de lithografie-inrichting teneinde de filters en de revolver aan te passen. Daarenboven kunnen de afzonderlijke filters scheidbaar zijn van de 25 revolver.

De lithografie-inrichting kan voorts een aanstuurinrichting omvatten. De aanstuurinrichting is in staat om de eerste, tweede respectievelijk derde (al naar gelang de gelegenheid daarom vraagt) revolvers te draaien. De aanstuurinrichting kan met de hand of automa-30 tisch worden bestuurd.

De lithografie-inrichting kan voorts een sensor en een besturing omvatten teneinde de aanstuurinrichting automatisch te bedrijven. De sensor meet lichtintensiteit versus de positie van het licht 10266 00- - 6 - in de belichting. In de besturing kan de aanstuurinrichting worden bestuurd op basis van een bepaling van gemiddeld intensiteit en in-tensiteitsprofiel van het sensorsignaal.

Bij voorkeur is de sensor geplaatst teneinde intensiteit te 5 meten nadat het licht door het doorlaatbaarheidsbesturingsfilter en doorlaatbaarheidsprofielfilter is gegaan. De gemeten intensiteit en intensiteitprofiel dienen soortgelijk te zijn aan de intensiteit en het intensiteitsprofiel van het licht dat op een voorwerp is gestraald.

10 De onderhavige uitvinding zal nu hierna vollediger worden be schreven onder verwijzing naar de bijgaande tekening, waarin voor-keursuitvoeringsvormen van de uitvinding zijn getoond. Deze uitvinding kan echter in verschillende vormen worden belichaamd en dient niet te worden uitgelegd als zijnde beperkt tot de hierin beschreven 15 uitvoeringsvormen.

In de tekening toont:

Figuur 1 intensiteitsuniformiteit in een spleet in afhankelijkheid van verlichtingsomstandigheden in een lithografie-inrichting die gebruik maakt van een algemeen filter.

20 Figuur 2 toont lichtintensiteitsvariatie in de spleet in een geval waarin de inrichting wordt gebruikt in een lithografie-inrich-ting die een algemeen filter toepast.

Figuren 3A en 3B tonen een revolver met een doorlaatbaarheids-besturingsfilter en een doorlaatbaarheidsprofielfilter volgens een 25 uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding.

Figuur 4 is een schematische tekening die de opbouw van een lithografie-inrichting volgens een uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding toont.

Figuur 5 toont filterdoorlaatbaarheid en een uitvoeringsvorm 30 van het doorlaatbaarheidsbesturingsfilter volgens de onderhavige uitvinding.

Figuur 6 toont filterdoorlaatbaarheidsprofiel en een uitvoeringsvorm van het doorlaatbaarheidsprofielfilter volgens de onderhavige uitvinding.

35 Er zal nu in detail worden verwezen naar voorkeursuitvoerings vormen van de onderhavige uitvinding, waarvan voorbeelden zijn weergegeven in de bijgaande tekening. De onderhavige uitvinding is echter niet beperkt tot de uitvoeringsvormen die hierna zijn weergegeven, en de uitvoeringsvormen hierin zijn daarentegen geïntroduceerd teneinde 1026600“ - 7 - een eenvoudig en volledig begrip van de omvang en geest van de onderhavige uitvinding te verschaffen.

Figuren 3A en 3B tonen revolvers met doorlaatbaarheidsbestu-ringsfilters en doorlaatbaarheidsprofielfilters volgens een uitvoe-5 ringsvorm van de onderhavige uitvinding.

Onder verwijzing naar Figuur 3A heeft een eerste revolver 101 doorlaatbaarheidsbesturingsfilters op een aandrijfas. Een tweede revolver 103 heeft doorlaatbaarheidsprofielfilters. In een andere benadering zijn de eerste en tweede revolvers 101 en 103 geconstrueerd 10 teneinde de op de revolvers geïnstalleerde filters in een lichtpad te plaatsen. De eerste en tweede revolvers 101 en 103 kunnen onafhankelijk worden gedraaid, zodat verscheidene filters in het lichtpad worden geplaatst. In dit geval is draaiingsrichting van geen belang.

Onder verwijzing naar Figuur 3B kan tevens een derde revolver 15 105 worden opgenomen. De derde revolver 105 kan ten minste één door latend filter hebben (bijvoorbeeld een filter dan onafhankelijk is van variatie van intensiteit).

Figuur 4 is een schematische voorstelling van de opbouw van een lithografie-inrichting volgens een uitvoeringsvorm van de onder-20 havige uitvinding.

Onder verwijzing naar Figuur 4 wordt licht uit een lithografie lichtpad ingestraald op een facetlens 203 en een condensorlens 205.

In Figuur 4 zijn er verscheidene inrichtingen tussen lichtpad 201 en de facetlens 203 en tussen de facetlens 203 en de condensorlens 205 25 weggelaten en zijn de afmetingen ervan overdreven ten behoeve van duidelijkheid. Nadat licht dat de condensorlens 205 passeert invalt op het doorlaatbaarheidsbesturingsfilter 206 en het doorlaatbaar-heidsprofielfilter 208 passeert dit een reticule 211 en een projectielens 213 teneinde een wafel 215 te bestralen. Het doorlaatbaar-30 heidsbesturingsfilter 205 is gevormd in de eerste revolver 207, en het doorlaatbaarheidsprofielfilter 208 is gevormd in de tweede revolver 209. Figuur 4 stelt slechts de uitvoeringsvorm die getoond is in Figuur 3A voor. De uitvoeringsvorm volgens Figuur 3B zou echter worden getoond indien een derde revolver wordt toegevoegd onder de twee-35 de revolver 209.

Figuur 5 toont filterdoorlaatbaarheid en één uitvoeringsvorm van het doorlaatbaarheidsbesturingsfilter volgens de onderhavige uitvinding.

1026600- - 8 -

Onder verwijzing naar Figuur 5 stelt de abscisse afstandsvari-atie vanaf het middelpunt van de filter naar de rand ervan voor, en de ordinaat stelt doorlaatbaarheid (%) voor. Aangezien de doorlaatbaarheid gelijk is over het hele filter kan gemiddelde doorlaatbaar-5 heid worden veranderd.

Figuur 6 toont filterdoorlaatbaarheidsprofiel en één uitvoeringsvorm van het doorlaatbaarheidsprofielfilter volgens de onderhavige uitvinding.

Onder verwijzing naar Figuur 6 stelt de abscisse afstands-10 variatie voor vanaf het middelpunt van het filter naar de rand ervan, en de ordinaat stelt doorlaatbaarheid (%) voor. In het algemeen hebben filters (zoals filters 1, 2 en 3) een doorlaatbaarheidsprofiel dat omgekeerd aan het intensiteitsprofiel van het lichtpad varieert. Om echter te kunnen omgaan met het veranderen van verschillende 15 belichtingswijzen en intensiteit volgens NA en Sigma-omstandigheden of volgens arbeidsduur, kunnen voorts filters worden opgenomen (zoals filters 4 en 5) die geen doorlaatbaarheidsprofiel hebben dat omgekeerd aan het intensiteitsprofiel van het lichtpad varieert.

Zoals hiervoor genoemd kan volgens de onderhavige uitvinding 20 een gewenste doorlaatbaarheid en gewenst doorlaatbaarheidsprofiel worden verkregen door revolvers met meerdere doorlaatbaarheidsbestu-ringsfilters of doorlaatbaarheidsprofielfilters te draaien. Derhalve is er een voordeel van in staat zijn om variaties van lichtintensiteit te corrigeren door verlichtingswijzen en verlichtingsomstandig-25 heden te veranderen.

Het zal duidelijk zijn voor de vakman op het gebied dat verscheidene aanpassingen en wijzigingen kunnen worden aangebracht in de onderhavige uitvinding. Het wordt derhalve beoogd dat de onderhavige uitvinding de aanpassingen en wijzigingen van deze uitvinding dekt, 30 mits deze binnen het gebied van de aangehechte conclusies en hun equivalenten vallen.

1026600-

Claims (29)

1. Lithografie-inrichting voor uitstralen van licht langs een lichtpad op een voorwerp, omvattende: een eerste revolver; een tweede revolver; 5 ten minste één doorlaatbaarheidsbesturingsfilter; en ten minste één doorlaatbaarheidsprofielfilter, waarin de eerste revolver er is voor plaatsen van het ten min-: ste. ene doorlaatbaarheidsbesturingsfilter in het lichtpad, en de tweede revolver er is voor plaatsen van het ten minste ene doorlaat-10 baarheidsprofielfilter in het lichtpad, voorts omvattende een aanstuurinrichting die automatisch wordt bedreven, voor plaatsen van filters in het lichtpad, door draaien van de eerste en tweede revolvers.

2. Inrichting volgens conclusie 1, waarbij de tweede revolver op dezelfde centrale as als de eerste revolver is geplaatst.

3. Inrichting volgens conclusie 1 of 2, waarbij de eerste en tweede revolvers zijn geplaatst tussen een condensorlens en een reti- 20 cule van de lithografie-inrichting.

4. Inrichting volgens enige voorgaande conclusie, waarbij ten minste één van de doorlaatbaarheidsbesturingsfilters en doorlaatbaarheidsprof ielf il.ters is gevormd onder gebruikmaken van een optische 25 film.

5. Inrichting volgens een van de conclusies 1-3, waarbij ten minste één van de filters is gevormd door middel van een afzetting van ; microstipschaduwmateriaal of afzetting van een lichtgevoelig 30 materiaal.

6. Inrichting volgens enige voorgaande conclusie, waarbij de revolvers verwijderbaar zijn.uit de lithografie-inrichting.

7. Inrichting volgens conclusie 6, waarbij de afzonderlijke fil ters verwijderbaar zijn uit de revolvers. 10266Q0" -10-.

8. Inrichting volgens enige voorgaande conclusie, voorts omvattende een aanstuurinrichting voor plaatsen van de filters in het lichtpad, door de eerste en tweede revolvers te draaien.

9. Inrichting volgens conclusie 8, voorts omvattende: een sensor die lichtintensiteit versus lichtpositie meet; en : een besturing voor bedrijven van de aanstuurinrichting.

10. Inrichting volgens conclusie 9, waarbij de sensorintensiteit 10 meet nadat het licht het doorlaatbaarheidsbesturingsfilter en het doorlaatbaarheidsprofielfilter passeert.

11. Inrichting volgens conclusie 9 of 10, waarbij de besturing van de aanstuurinrichting is gebaseerd op een bepaling van gemiddelde 15 intensiteit en intensiteitsprofiel door de sensor.

12. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, voorts omvattende een derde revolver die in staat is om ten minste één doorlaatr baarheidsprofielfilter te positioneren. 20

13. Inrichting volgens conclusie 12, waarbij de derde revolver is geplaatst in een richting die een equivalent lichtpad snijdt alsmede in dezelfde as als de tweede revolver.

14. Inrichting volgens conclusie 12, waarin de eerste, tweede en derde revolver tussen de condensorlens en de reticule zijn geplaatst.

15. Inrichting volgens een van de conclusies 12-14, waarbij ten minste één van de doorlaatbaarheidsbesturingsfilters en doorlaatbaar- 30 heidsprofielfilters is gevormd onder gebruikmaking van een optische film.

16. Inrichting volgens een van de conclusies 12-14, waarbij ten minste één van de doorlaatbaarheidsbesturingsfilters en doorlaatbaar- 35 heidsprofielfilters is gevormd door op een substraat afzetten van een microstipschaduwmateriaal of een lichtgevoelig materiaal.

17. Inrichting volgens een van de conclusies 12-16, waarbij de revolvers verwijderbaar zijn uit de lithografieinrichting. 1026600- - . 11 -

18. Inrichting volgens conclusie 17, waarbij de afzonderlijke filters verwijderbaar zijn uit de revolver.

19. Inrichting volgens een van de conclusies 12-18, voorts omvat-5 tende een aanstuurinrichting die in staat is om de filters in het lichtpad te plaatsen door draaien van de eerste, tweede en derde revolvers .

20. Inrichting volgens een van de conclusies 12-19, voorts omvat-10 tende een aanstuurinrichting die automatisch wordt bedreven, en die in staat, is om de filters in het lichtpad te plaatsen door draaien van de eerste, tweede en derde revolvers.

21. Inrichting volgens conclusie 20, voorts omvattende: 15 een sensor die lichtintensiteit versus lichtpositie meet; en een besturing voor het bedrijven van de aanstuurinrichting.

22. Inrichting volgens conclusie 21, waarbij de sensor intensiteit meet nadat het licht het doorlaatbaarheidsbesturingsfilter en de 20 doorlaatbaarheidsprofielfilters gepasseerd is.

23. Inrichting volgens conclusie 21 of 22, waarbij de besturing van de aanstuurinrichting is gebaseerd op een bepaling van gemiddelde intensiteit en intensiteitsprofiel door de sensor. 25

24. Inrichting volgens een van de conclusies 12-23, waarbij de derde revolver ten minste één doorlatend filter heeft.

25. Optische filterwerkwijze, omvattende: 30 langs een lichtpad uitstralen van licht uit een lithografie- inrichting op een ervoor geplaatst voorwerp; filteren van het licht door ten minste één doorlaatbaarheidsbesturingsf ilter ; en filteren van het licht door ten minste één doorlaatbaarheids-35 profielfilter, waarbij het ten minste ene doörlaatbaarheidsbesturingsfilter is verschaft in een revolver, en automatisch draaien van de revolver teneinde een ander filter in het lichtpad te plaatsen. 1026600- - 12 -

26. Werkwijze volgens conclusie 25, waarbij het ten minste ene doorlaatbaarheidsprofielfilter is verschaft in een revolver.

27. Werkwijze volgens conclusie 25, waarbij het ten minste ene 5 doorlaatbaarheidsbesturingsfilter is verschaft in een eerste revol-, ver; en het ten minste ene doorlaatbaarheidsprofielfilter is verschaft in een tweede revolver.

28. Werkwijze volgens een van de conclusies 25-27, voorts omvat tende : meten van de intensiteit van het licht nadat dit het doorlaatbaarheidsbesturingsf ilter en het doorlaatbaarheidsprofielfilter gepasseerd is; 15 bepalen van de gemiddelde intensiteit en intenstiteitsprofiel uit de sensor; en in reactie daarop draaien van het filter.

29. Werkwijze volgens een van de conclusies 25-28, voorts omvat-20 tende filteren van het licht door een tussengeplaatste derde revolver die in staat is om ten minste één doorlaatbaarheidsprofielfilter in het lichtpad te plaatsen. -o-o-o- 1026600-