MXPA99008321A - Visualizacion de plasma y metodo de operacion con alta eficiencia. - Google Patents

Visualizacion de plasma y metodo de operacion con alta eficiencia.

Info

Publication number
MXPA99008321A
MXPA99008321A MXPA99008321A MX9908321A MXPA99008321A MX PA99008321 A MXPA99008321 A MX PA99008321A MX PA99008321 A MXPA99008321 A MX PA99008321A MX 9908321 A MX9908321 A MX 9908321A MX PA99008321 A MXPA99008321 A MX PA99008321A
Authority
MX
Mexico
Prior art keywords
electrodes
voltage
voltages
electrode
substrate
Prior art date
Application number
MXPA99008321A
Other languages
English (en)
Inventor
E Olm David
Original Assignee
Electro Plasma Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US08/787,347 external-priority patent/US5974122A/en
Application filed by Electro Plasma Inc filed Critical Electro Plasma Inc
Priority claimed from US09/016,657 external-priority patent/US6448946B1/en
Publication of MXPA99008321A publication Critical patent/MXPA99008321A/es

Links

Landscapes

  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

Se presenta una estructura de panel de visualizacion de plasma de CA mejorada asi como un metodo para excitar con el objeto de obtener una eficiencia mejorada. Descargas gaseosas pueden encaminarse o bien iniciarse en microcanales paralelos hacia electrodos de sostenimiento en un substrato frontal con disminucion de voltaje de operacion lo que permite el uso de mezclas de gases mas eficientes. Un paso de escritura aplica un impulso con el objeto de seleccionar un primer electrodo de sostenimiento y un segundo electrodo de sostenimiento que corresponden a celulas en una fila que ser encendida, y un paso de borrado aplica un voltaje a un primer electrodo y tercer electrodo que corresponden a celulas que seran apagadas. Descargas de escritura se encaminan a traves de microcanales.

Description

VISUALIZACION DE PLASMA Y METODO DE OPERACION CON ALTA EFICIENCIA Campo de la invención Esta invención se refiere a visualizaciones de plasma y a un método de operación para una mejor eficiencia. Más particularmente, esta invención se refiere a una visualización de plasma de CA capaz de alta resolución, a color, conocida habitualmente como monitor de PDP, que tiene una placa de observación frontal o superior y microranuras en una placa de respaldo que encierra descargas gaseosas que emiten luz UV y excitan fósforos que emiten luz en las superficies de las microranuras. Tales visualizaciones tienen aplicación para pantallas de computadoras y televisores, pero operan típicamente a baja eficiencia en comparación con tubos de rayos catódicos. Antecedentes de la invención Una visualización de panel plano es una visualización electrónica en la cual un gran conjunto ortogonal de dispositivos de visualización como, por ejemplo, dispositivos electroluminiscentes, paneles de visualización i.e plasma de CA, paneles de plasma de CC y visualizaciones de emisión de campo y similares forman una pantalla plana. La estructura básica de un Panel de Visualización de Plasma de CA, o bien PDP, comprende dos placas de vidrio con un patrón de conductores de electrodos en las superficies internas de cada placa y separadas por un espacio lleno de gas. Los conductores se configuran en una matriz x-y con electrodos horizontales y electrodos transparentes de columna verticales depositados a ángulos rectos entre ellos empleando técnicas de peliculas delgadas bien conocidas. Los electrodos de visualización de panel de plasma de CA están cubiertos con una capa delgada dieléctrica de vidrio. Las placas de vidrio son ensambladas juntas para formar un emparedado y la distancia entre las dos placas se fija por medio de espaciadores. Los bordes de las placas son sellados y la cavidad entre las placas es evacuada y llenada de nuevo con neón o argón o una mezcla similar de gases. Cuando el gas se ioniza, los dieléctricos se cargan como pequeños capacitores de tal manera que la suma de los voltajes de excitación y el voltaje capacitivo es suficientemente grande para excitar el gas contenido entre las placas de vidrio y producir una descarga luminiscente. Conforme al voltaje se aplica a través de los electrodos de fila y columna, pequeños pixel que emiten luz forman una imagen visual. Costillas de barrera se colocan tipicamente entre los substratos aislantes antes mencionados con el objeto de evitar interferencia cruzadas entre color y pixel, entre los electrodos y para ofrecer una resolución mejorada con el objeto de proporcionar una imagen definida con mayor nitidez. Las costillas de barrera ofrecen un espacio de descarga uniforme entre las placas de vidrio mediante el uso de la altura, ancho y espacio de barrera para lograr una densidad de pixel deseada. Por ejemplo, costillas de barrera de paneles de visualización de plasma tienen de manera más deseable una configuración de aproximadamente lOOum de alto y son lo más estrecho posible, de preferencia tienen un ancho menor que 20um y están espaciados a una distancia de aproximadamente 120án espaciados a una distancia de aproximadamente 120um. Este requerimiento es necesario con el objeto de lograr una densidad de pixel de color de 72 lineas por pulgada, el punto de tipo estándar en la industria de la impresión, lo que es equivalente a una densidad de subpixel de 216 lineas por pulgada con un arreglo a color de bandas de fósforo de color rojo, verde y azul. Este patrón se emplea habitualmente para lograr una salida de color en panel plano y muchos despliegues de tubos de rayos catódicos con dimensiones diagonales del orden de 20 a 40 pulgadas empleados para presentar información gráfica y textual en equipo de terminal de computo y receptores de televisión. Una geometría alternativa para un AC PDP se proporciona de conformidad con la solicitud de patente norteamericana número de serie 08/629,723, incorporada aquí por referencia. En un PDP de este tipo, la placa de respaldo se fabrica mediante la construcción primero de un conjunto de microranuras, después se metalizan las superficies rebajadas de las microranuras, se aplica un material fosforescente sobre las superficies de microranuras co-incidentes con las superficies metalizadas, y se sella con una placa frontal que contiene un conjunto de conductores dieléctricamente aislados generalmente ortogonal en relación al conjunto de microranuras, es decir, una estructura de metal en ranura (MOG) . Despliegues de panel planos, como por ejemplo paneles de visualización de plasma de CA (AC-PDPx) deben de tener pantallas grandes, una gran capacidad y la posibilidad de visualizar imágenes a color. Particularmente, los AC PDPs deben ofrecer más líneas de visualización y mejores niveles de intensidad así como deben tener la capacidad de reescribir de manera confiable sus pantallas sin disminuir la luminancia de las pantallas, pero todo esto con un requerimiento de energía razonable. Es un objeto de la presente invención ofrecer una estructura de panel mejorada así como un método y aparato para excitar un panel de visualización de plasma de CA con alta eficiencia. Otro objeto de la presente invención es proporcionar un método y un aparato para excitar un panel de visualización de plasma de descarga lateral que es capaz de presentar 256 tonos de gris a voltajes más bajos que lo que es posible con la técnica anterior. Compendio de la invención En resumen, de conformidad con esta invención, se proporciona un método para operar un despliegue de panel plano de plasma de AC que tiene un recinto lleno de gas herméticamente sellado. El recinto incluye un substrato transparente superior y un substrato de fondo espaciado pero en contacto con el substrato de fondo. El substrato superior tiene un conjunto de electrodos superiores apareados y una película aislante y emisora de electrones que cubre los electrodos superiores pero con un microcanal recién inventado debajo y paralelo a dichos electrodos superiores. El substrato de fondo tiene una pluralidad de microranuras paralelas arregladas ortogonalmente en relación con los electrodos superiores y un electrodo de fondo elaborado de metal y depositado dentro de cada microranura que tiene un fondo y paredes laterales y un material de fósforo depositado sobre cada electrodo de fondo y co-incidente con cada electrodo de fondo formando así pares de subcélulas llamadas sub-pixels en las intersecciones proyectadas de los electrodos superiores que forman filas y microranuras que forman columnas. Sin embargo, el substrato de fondo puede ser de varios tipos de la técnica anterior pero de preferencia tiene la geometría de M"X5 que acaba de describirse. En términos generales, el método comprende los pasos de: Aplicar un paso de sostenimiento que consiste de la aplicación de un primer voltaje sobre primeros electrodos de pares de electrodos superiores y un segundo voltaje, de polaridad opuesta al primer voltaje, sobre los segundos electrodos apareados con los primeros electrodos lo que crea descargas entre pares de subcélulas que tiene cargas almacenadas en el dieléctrico bajo los electrodos superiores correspondientes, Mantener los voltajes hasta la extinción de las descargas depositando así cargas bajo los electrodos superiores de polaridad opuesta, Aplicar primeros voltajes de terminación a primeros electrodos superiores y segundos voltajes de terminación a segundos electrodos superiores según lo necesario para barrer cargas residuales en volumen de gas y Invertir las polaridades de primeros electrodos superiores y segundos electrodos superiores y repetir la secuencia continuamente en combinación con vasos opcionales de direccionamientos selectivos que incluyen: Aplicar un paso de escritura selectivo que comprende la aplicación de un voltaje d escritura de polaridad común a un voltaje de sostenimiento precedente o co-incidente a un primer electrodo de uno o varios pares de electrodos superiores y un voltaje de escritura común a todos los electrodos de fondo, Aplicar un segundo voltaje de escritura, de polaridad opuesta al primero, al segundo electrodo apareado con el primer electrodo provocando descargas para iniciar y extenderse a lo largo de los microcanales de substrato superior, y Mantener los voltajes hasta la extinción de las descargas depositando asi y almacenando cargas en revestimiento dieléctrico bajo los electrodos superiores a lo largo de toda la fila; y Aplicar un paso de borrado selectivo que comprende la aplicación de un voltaje de borrado de polaridad opuesta a un voltaje de sostenimiento precedente a un primer electrodo de un par de electrodos superiores y un voltaje de columna a electrodos de fondo seleccionados, el voltaje resultante de magnitud combinada es suficiente para provocar una descarga solamente en sitios de subcélulas que tienen cargas almacenadas bajo los electrodos superiores correspondientes/ y Mantener los voltajes hasta la extinción de las descargas removiendo asi las cargas almacenadas lo que evita la descarga a pasos subsecuentes de sostenimiento. Para un dispositivo de MOG, el método comprende los pasos de: Aplicar un paso de sostenimiento que comprende un primer voltaje a primeros electrodos de pares de electrodos superiores y un voltaje de referencia a todos los electrodos de fondo, la diferencia de magnitud es suficiente para provocar una descarga inicial hacia las paredes laterales de los electrodos de fondo interceptados en el mínimo de Paschen solamente para subcélulas que tienen cargas almacenadas bajo los electrodos superiores correspondientes, y Aplicar un segundo voltaje, de polaridad opuesta al primer voltaje, a los segundos electrodos apareados con los primeros electrodos lo que crea descargas laterales entre electrodos virtuales, formados por las descargas de iniciación hacia las paredes laterales entre pares de subcélulas a valores de producto de diferencia de presión mayores que el mínimo de Paschen, Mantener los voltajes hasta la extinción de las descargas por lo que se depositan cargas' bajo los electrodos superiores pero de polaridad opuesta, Aplicar primeros voltajes de terminación sobre primeros electrodos superiores y segundos voltajes de terminación a segundos electrodos superiores según lo necesario para barrer cargas residuales en volumen de gas, y Invertir las polaridades de primeros electrodos superiores y segundos electrodos superiores y repetir la secuencia continuamente en combinación con pasos opcionales de direccionamientos selectivos que comprenden: Aplicar un paso de escritura selectivo que consiste de la aplicación de un voltaje de escritura de polaridad común un voltaje de sostenimiento precedente o co-incidente a un primer electrodo de uno o varios pares de electrodos superiores y un voltaje de escritura selectivo a electrodos de fondo seleccionados, la diferencia de magnitud es suficiente para provocar una descarga hacia las paredes laterales de todos los electrodos de fondo intersectados en el mínimo de Paschen en combinación con la aplicación de un segundo voltaje de escritura de polaridad opuesta al primero, al segundo electrodo apareado con el primer electrodo provocando que descargas se inicien y se extiendan a lo largo de los microcanales superiores, y Mantener los voltajes hasta la extinción de las descargas depositando así y almacenando cargas en revestimiento dieléctrico bajo los electrodos superiores a lo largo de toda la fila; y Aplicar el paso de borrado selectivo que consiste de Aplicar un voltaje de borrado de polaridad opuesta a un voltaje de sostenimiento precedente a un primer electrodo de un par de electrodos superiores y un voltaje de columna a electrodos de fondo seleccionados, el voltaje resultante de magnitud combinada es suficiente para provocar una descarga hacia paredes laterales de los electrodos de fondo seleccionados en el mínimo de Paschen pero solamente a sitios de subcélulas que tienen cargas almacenadas bajo electrodos superiores correspondientes, y Mantener los voltajes hasta la extinción de las descargas removiendo así las cargas almacenadas lo que evita la descarga en pasos de sostenimiento subsecuente. En cualquier caso, el elemento clave es que el encaminamiento de las descargas a través de los microcanales en el substrato superior, o frontal puede, con ciertas formas de onda, disminuir el voltaje de escritura para direccionamiento y el voltaje de sostenimiento máximo. Esto, en combinación con una mezcla de gases de eficiencia más elevada y una forma de onda de direccionamiento para explotarla, permite una visualización con mayor eficiencia de operación. Breve descripción de los dibujos Características adicionales y otros objetos y ventajas de esta invención serán claros a partir de la siguiente descripción detallada elaborada con referencia a los dibujos en los cuales: La figura 1 ilustra un dispositivo de MOG con microcanales; La figura 2 ilustra una estructura alternativa con microcanales; Las figuras 3 (a) -3(c) (técnica anterior) ilustran la formación de la descarga en un panel de visualización de plasma de AC de descarga superficial; Las figuras 4 (a) -4(d) ilustran el desarrollo de una descarga de conformidad con una primera configuración de la presente invención; Las figuras 5 (a) -5(d) ilustran el desarrollo de una descarga de conformidad con una primera configuración de la presente invención; La figura 6 ilustra la forma de onda preferida emplea para direccionamiento y sustento con la presente invención; La figura 7 es un diagrama de bloque del aparato empleado para generar la forma de onda preferida; La figura 8 es un diagrama de bloque del sistema de excitación X; La figura 9 es un diagrama de bloque del sistema de excitación Y; La figura 10 es un diagrama de bloque del sistema de excitación Z; La figura 11 es un diagrama esquemático del sistema de excitación X; La figura 12 es un diagrama esquemático del sistema de excitación Y; La figura 13 es un diagrama esquemático del sistema de excitación Z; La figura 14 es un PDP de curva de Paschen de muestra que presenta el encaminamiento; y La figura 15 ilustra el efecto del encaminamiento sobre el voltaje y la eficiencia con varias composiciones de gas. Descripción de las modalidades preferidas Con referencia a los dibujos, donde caracteres de referencia similares representan elementos similares, en la figura 1 se muestra, a titulo de ejemplo, una vista en corte transversal parcial de un despliegue a color. Un substrato frontal o superior tiene en su superficie interna electrodos de visualización 7 que pueden ser combinados con extensiones transparentes o cubiertas con material dieléctrico 9 que tiene, sobre su superficie, una capa foto emisora 10. Microcanales 11 paralelos a los electrodos de despliegue están formados en esta superficie. El substrato frontal se encuentra sellado en contacto con un substrato posterior 1 que contiene áreas luminiscentes 5 en las superficies de microranuras separadas por una barrera delgada 4 y formando canales llenos de gas dentro de dichas microranuras. En las áreas 5 se depositan material de fósforo en los electrodos 2 que cubren las superficies internas de las microranuras y en coincidencia con ellos. Cada área luminiscente adyacente puede contener un color de fósforo diferente, como por ejemplo, rojo ( ), verde (G) , y azul (B) en un patrón repetitivo. Un elemento de imagen se define típicamente por al menos tres áreas luminiscentes 5 que corresponden a los tres colores antes mencionados. Esta estructura se conocerá como geometría MOG, metal en ranura. En un método de la técnica anterior ilustrado a título de ejemplo en la figura 3, se muestra un panel de visualizacion de plasma de CA de tipo de descarga superficial que tiene una estructura de 3 electrodos. Se forma una pluralidad de pares 7 de electrodos de visualizacion en paralelo en un substrato frontal 6 y una pluralidad de electrodos de dirección 2 perpendicular a los pares de electrodos de visualizacion se forman en un substrato posterior 1. Los electrodos de visualización de substrato frontal están cubiertos con material dieléctrico 9 que tiene sobre su superficie una capa foto emisora 10 y los electrodos de dirección están cubiertos con material dieléctrico 3. Se forman costillas de barrera 4 en el material dieléctrico 3 y se deposita un material de fósforo 5 entre las barreras. Los fósforos se arreglan en el substrato que hace frente a los pares de electrodos de visualización con un espacio de descarga entre el fósforo y los pares de electrodos de visualización y son excitados por rayos ultravioleta generados a partir de una descarga superficial entre los electrodos de visualización, provocando así luminiscencia. Véase, por ejemplo, las patentes norteamericanas número 4,638,218; 4,737,687; y 5,661,500, que se incorporan aquí por referencia. En la figura 2, se muestra una estructura alternativa. Esta estructura resulta en una buena producción de luz como resultado de la adición de ITO a los electrodos de visualización haciendo pasar la luz que se escondería de otra forma de tras de los electrodos. Permite también un área de descarga más amplia lo que resulta en un incremento de la luz pero con un incremento correspondiente de corriente. Este material transparente debe aplicarse sobre el material de electrodo normal y requiere de un paso de alineación no deseado en la formación del material de substrato frontal . En un método de excitación de la técnica anterior para la estructura de descarga superficial con un substrato de fondo substancialmente como se muestra en la figura 2, un paso de reinicialización de aplicación de un impulso de un primer voltaje hacia los primeros electrodos de visualización y los segundos electrodos de visualización apareados; un paso de aplicación de un impulso de un segundo voltaje a los segundos y terceros electrodos que corresponden a las células a Activar; y un paso de descarga de sostenimiento para aplicar un impulso CA de un cuarto voltaje a los primeros electrodos y segundos electrodos apareados, donde el impulso del primer voltaje se ajusta de tal manera que borre todas las células en el despliegue. Un paso de escritura se lleva a cabo en el cual células de la primera linea de visualización a ser Activadas reciben un impulso al segundo voltaje, células de la segunda linea de visualización a ser Activadas reciben un impulso del segundo voltaje, células de la tercera línea de visualización a ser Activadas reciben un impulso del segundo voltaje, etc, hasta que todas las células en el despliegue hayan sido escritas. La aplicación de esa frecuencia de voltajes resulta en una descarga superficial como se muestra en la figura 3, donde los electrodos paralelos 7 de la placa frontal han sido ampliados mediante la aplicación de un electrodo transparente 8 típicamente compuesto de óxido de indio estaño (ITO) . La figura 3( c ) muestra que el voltaje de escritura aplicado sobre el electrodo de visualización 7 y el electrodo de dirección 2 forma una descarga 14 entre el substrato frontal 6 y el substrato posterior 1. La descarga resultante acumula cargas en el substrato frontal y en el substrato posterior 1. Las cargas en el substrato frontal 6 deben ser suficientemente grandes de tal manera que al aplicarse el siguiente impulso de sostenimiento, se observará una descarga entre los dos electrodos de visualización 7. La descarga resultante 12 se forma a través del intervalo angosto entre los electrodos de visualización como se muestra en la figura 3(a). La figura 3(b) ilustra que conforme avanza la descarga 13, se alarga para cubrir todo lo ancho de los electrodos de visualización y forma cargas tanto en los electrodos de visualización frontales como en los electrodos de dirección posteriores. La salida de luz que resulta de la descarga superficial puede observarse en la figura 5 conforme es constituida por los electrodos de visualización 7. Las condiciones de sostenimiento y operación de los despliegues de la técnica anterior son establecidas por las caracterist:' ~as físicas del gas en relación primariamente a una curva de Paschen que tiene la forma indicada en la figura 14. En visualizaciones de la técnica anterior conocidas hasta la fecha, descargas deben ocurrir del lado derecho de la curva de Paschen. Es decir, arriba del mínimo y en una región en donde una disminución de P x d (producto de la presión y de la longitud de intervalo entre el vector de campo eléctrico) provoca una disminución del voltaje de operación. Esto es esencial para el mecanismo de sostenimiento puesto que, de otra manera, conforme inicia la descarga, se establece un cátodo y ánodo virtuales lo que acopla efectivamente el espacio (d) y una descarga se autoextinguiria de manera prematura. Por otra parte, obliga también a la acumulación no deseada de . cargas en los dieléctricos que cubren los electrodos de dirección, lo que debe ser compensado en los esquemas de direccionamiento. Además, esta estructura limita la mezcla de gases a porcentajes bajos de Xe en gases de amortiguación con el objeto de alcanzar voltajes de operación y dirección razonables . La figura 4 ilustra un corte transversal de PDP de conformidad con la presente invención que proporciona un E/P mejorado (campo eléctrico divido entre presión de gas) en combinación con una longitud de intervalo más pequeña d a lo largo del vector de campo eléctrico. En este caso, se forma un microcanal que tiene la forma de un T invertida entre los pares de electrodos de substrato frontal, sin embargo se entenderá que microcanales de otras formas transversales son posibles y se contemplan. En un dispositivo de este tipo, la secuencia de descarga como se muestra en la figura 4, y cuando se combina con formas de ondas de la presente invención, difiere de la técnica anterior y los voltajes de sostenimiento y direccionamiento son disminuidos de manera provechosa. Esto se ilustra en las gráficas de datos de las figuras 14 y 15 como el límite superior del rango de sostenimiento con encarrilamiento . En otra modalidad de' la presente invención, la figura 5 ilustra la formación de una descarga lateral en un despliegue de plasma de CA de conformidad con la presente invención y de conformidad con la técnica anterior para la estructura MOG. Con referencia a los electrodos de visualización 7 formados en el substrato de frente 6, se aplica un voltaje de sostenimiento Va a los electrodos de visualización, de tal manera que una célula "Encendido" con un voltaje de pared Vw permanecerá encendida cuando: Va + Vw > Vfmaxi + Vfmax2 Donde Vfmaxi es el voltaje de excitación requerido máximo para que ocurra una descarga 13 a partir del electrodo de despliegue Y hacia el electrodo de dirección 2 y Vfmax2 es el voltaje de excitación requerido máximo para que ocurra una descarga entre el electrodo de despliegue Z y el electrodo de dirección como se muestra en la figura 4 a) para la fase I de la descarga de sostenimiento Va + Vw debe también ser menor que el voltaje de excitación requerido Vfmax3 que es necesario para empezar una descarga entre los electrodos de visualización que conocemos como Y y Z. Conforme se desarrollan estas descargas, la fase II de la descarga empieza donde el gas se ioniza y la descarga se extiende formando la descarga 14 ilustrada en la figura 5( c ) que ocurre entre un ánodo y cátodo virtuales formados en los electrodos de visualización durante la fase I. Esta descarga provoca la fase II de la descarga donde cargas (+ y -) son recogidas en la superficie del substrato frontal de tal manera que el voltaje en la célula disminuye y se extingue la descarga. La descarga puede ocurrir de nuevo invirtiendo el voltaje aplicado a través de los electrodos de visualización y por consiguiente provocando la inversión de la descarga con inversión correspondiente en la carga de la pared, esta consecuencia de descargas que ocurren de nuevo se conocen como sostenimiento. Se observará que no hay carga de pared recogida en el electrodo de dirección puesto que no existe material dieléctrico que cubre estos electrodos. Se observará además que las descargas hacia las paredes de una estructura de MOG se desarrollan en la región del minimo en la curva de Paschen durante la prim ra etapa de sostenimiento y se observarán en algún lugar a lo largo de la pared lateral de micro ranura. Puesto que dicha descarga empezará a autoextinguirse debido al desarrollo de un cátodo y ánodo virtual, existe solamente una pequeña cantidad de corriente que ocurre entre el substrato de frente y posterior y la probabilidad de daño al fósforo es limitada. Es importante mantener una vida de despliegue larga. Además, puesto que la d del producto P x d arriba descrita, es pequeña, el voltaje inicial para el dispositivo MOG se minimiza automáticamente. Durante la segunda fase de la descarga lateral, el cátodo y ánodo virtuales formados por la primera fase desarrollarán una descarga lateralmente entre, ellos. El espacio entre el par de sostenimiento de electrodo en la placa frontal determinará ahora el voltaje de excitación y la vía para la fase de descarga lateral. Este espacio puede ser diseñado de manera relativamente independiente de la profundidad de la ranura y voltajes de despliegue y se puede ajustar de manera más óptima la producción de luz. Por ejemplo, si el espacio de pared de electrodo es grande, la descarga tiene una apariencia bastante larga similar a un hilo de luz formado lateralmente a lo largo de la longitud de la caída de ranura. En este caso, existe un chisporroteo primariamente en las posiciones de electrodo y por consiguiente el daño por chisporroteo es limitado a solamente una pequeña área de la svperficie de célula de descarga. Este diseño es ideal para dispositivos de baja potencia, alta resolución, pero la eficiencia tiende a ser relativamente baja porque se debe de escoger una mezcla de gases correspondiente a voltajes prácticos, y entre mayor la vía de descarga, más elevado es el voltaje sostenimiento.
Un examen de la relación y la eficiencia, mezcla de gases, y voltaje de operación, de conformidad con lo graficado para la ilustración en la figura 15 nos proporciona un diseño con una mezcla de gases de voltaje más elevado. Esto puede acomodarse dentro de la estructura MOG más fácilmente que la técnica anterior porque, aún con voltajes de sostenimiento altos, voltajes de direccionamiento para borrado pueden mantenerse bajos. Sin embargo, los voltajes de escritura pueden volverse inaceptablemente elevados, un problema que se resuelve con la invención de microcanales y formas de onda apropiadas de conformidad con la presente invención. La figura 5 ilustra la técnica de direccionamiento para la estructura de MOG donde un impulso de escritura de voltaje Vp se aplica sobre un electrodo de visualización 7 y el electrodo de dirección 2. Vpw debe ser mayor que el voltaje de excitación requerido Vfmaxi arriba descrito. Sin embargo, este voltaje puede ser substancialmente menor si una descarga en un canal vecino puede ser canalizada a través de 1 microcanal formado a lo largo de los electrodos de substrato superior. Dicha descarga se propagará a lo 1. rgo de una fila entera de pixels proporcionando una condición de forma de onda de voltaje apropiada. Una célula inicial puede simplemente ser la célula más fácilmente excitada a lo largo de la fila. En este caso, el voltaje de excitación mínimo para la fila será el voltaje de escritura para la fila. De otra forma, un voltaje deberá ser el voltaje máxime para la fila. Alternativamente, una célula de inicio puede ser proporcionada a lo largo del borde la matriz de visualizacion útil activa. Las descargas resultantes provocan la recolección de cargas en pared hacia el substrato de frente Vwa de tal manera que Va + Vpw + Vwa es mayor que Vfmaxi + Vfmax2 cié tal manera que en la transición de forma de onda de sostenimiento precedente, el sostenimiento es iniciado y se enciende la célula. Para borrar una célula, la carga de pared ilustrada en la figura 4 (c ) debe ser reducida de tal manera que la ecuación I descrita arriba no se cumpla. Esto se logra provocando una descarga entre uno de los electrodos de visualizacion frontales y el electrodo de dirección. En este caso, la descarga resultante provoca que una carga de pared se coloque en una superficie frontal que es de la misma polaridad que la polaridad del segundo electrodo de visualizacion. Por ejemplo, si el electrodo de visualizacion Y contiene una carga de pared pe : itiva y el electrodo de visualización Z tiene una carga de pared negativa, lo que provoca una descarga entre el electrodo Y y el electrodo de dirección, se puede lograr mediante la aplicación de un voltaje positivo al electrodo Y y un voltaje negativo de dirección. El resultado de esta descarga será colocar una descarga negativa en el electrodo Y. Puesto que tanto Y como Z contienen ahora una carga de pared negativa, el voltaje de pared es- reducido y las condiciones de la ecuación I no se cumplirán y la célula se extinguirá. La figura 6 ilustra las formas de onda de una modalidad preferida de la presente invención que cumple con los requerimientos necesarios para excitar la estructura MOG. En la figura 6, L representa la salida de luz de una célula seleccionada, X es la forma de onda aplicada al electrodo de dirección de la célula seleccionada, Y es el voltaje aplicado al electrodo de visualización Y de la célula seleccionada, y Z es el voltaje Z aplicado al electrodo Z de la célula seleccionada. Y y Z son de amplitud igual y son de polaridad opuesta. Conforme Y pasa al nivel inferior 3, Z pasa al nivel superior 1 por consiguiente se aplica un voltaje sobre la célula de amplitud Va y esto provoca que una célula previamente "Encendida" se descargue lo que resulta en un impulso de salida de luz 12. En el siguiente paso, Y pasa al nivel alto Y, Z pasa al nivel bajo y esto resulta en la aplicación de un voltaje negativo a la célula de amplitud Va y la célula "Encendido" descarga otra vez y crea una salida de luz. Si el estado previo de la célula fuese Apagado, las transiciones de Y y Z no serian suficientemente grandes para provocar que la célula Apagada se descargue y la célula permanecerá en la condición Apagada.
El direccionamiento de escritura se ilustra en la figura 6, la aplicación de un impulso negativo 5 al electrodo de visualización Y y un impulso positivo 7 al electrodo de visualización Z. La aplicación de estos impulsos provoca que las células en la linea formada por los electrodos Y y Z se descarguen, ayudadas por los fenómenos de panelización previamente comentados y recogen cargas de pared en el substrato frontal de amplitud suficiente de tal manera que en la siguiente transición de los electrodos Y y Z (indicados por 6 en la figura 6) , la célula se descargue otra vez y se "Encienda". De esta forma, todas las células en la linea horizontal formada por los electrodos Y y Z serán escritas. No todas las células en la linea horizontal de destino deben permanecer en el estado "Encendido". Por consiguiente, se vuelve necesario borrar selectivamente las células que deben estar Apagadas. Esto se logra mediante la aplicación de los impulsos de borrado 8 hacia el electrodo de visualización Y y los impulsos de borrado 9 al electrodo de destino X. Si la altura del impulso 8 de Y es Vwi, un proveedor común puede emplearse para generar tango las alturas de impulso de escritura como de borrado para el electrodo Y lo que resulta en una simplificación de suministro de energía para el despliegue. La altura de impulso de dirección 9 de valor Vei debe escogerse de tal manera que Vwi + Vei sea mayor que Vfmaxi con el objeto de provocar una descarga entre el electrodo Y y el electrodo de destino X con el objeto de que la célula seleccionada sea "Apagada". La aplicación del impulso de borrado resulta en una carga de pared de la misma polaridad para el electrodo Y y Z y el voltaje de pared es reducido a un nivel que no cumple con la ecuación I y se extingue la célula. Se pueden escribir lineas horizontales múltiples al mismo tiempo empleando los mismos impulsos 5 y 7 ilustrados en la figura 6. En una modalidad, se escriben típicamente 8 líneas. Ocho impulsos de borrado separados son después aplicados secuencialmente a las 8 líneas. Cada uno de los impulsos de borrado se emplea para la extinción de células no deseadas en estas 8 líneas de destino. Esto se ilustra en la figura 6 en donde las líneas horizontales Ll, L2,...L8 tiene todas las células escritas con impulsos 5 y 7 y después el primer impulso de borrado 8 se emplea para borrar selectivamente las células no deseadas en Ll, el segundo impulso se emplea para borrar selectivamente las células no deseadas en L2, el tercer impulso se emplea para borrar selectivamente las células no deseadas en L3, etc, hasta que las 8 líneas tengan las células no deseadas en el estado Apagado. La figura 7 ilustra el diagrama de bloque de un sistema que se emplea para generar las formas de onda y los datos necesarios. La entrada al sistema es mediante señales de control para identificar las señales de sincronización horizontales y verticales, los datos para información de rojo, verde y azul para cada pixel en el despliegue y un reloj para indicar nueva información de pixel. Los datos de pixel se convierten en forma binaria y se almacenan en una memoria de cuadro para recuperación posterior. La unidad de control de temporización sincroniza con las señales de sincronización y controla el generador de forma de onda. El generador de forma de onda es responsable de enviar información de dirección horizontal a los circuitos de excitación Y y Z, y para generar señales que se emplean para generar las formas de onda Y y Z. Lineas horizontales son escritas en grupos de 8 y la unidad de control de forma de onda selecciona qué lineas horizontales conforman el conjunto seleccionado. El grupo seleccionado es escrito a granel y después estas lineas son borradas selectivamente. El lote de transformación de datos selecciona información a partir de la memoria intermedia de cuadros en base a la linea horizontal seleccionada para borrar y determina, por ejemplo, qué bit en el valor de escala de grises de 8 bits debe emplearse para seleccionar el patrón de borrado. Asi, el bloque de transformación de datos es responsable de la manipulación de los datos de memoria intermedia de cuadro de tal manera que la información deseada pueda presentarse apropiadamente en la pantalla de plasma. La figura 8 ilustra el diagrama de bloque detallado para el circuito de excitación de electrodo de dirección (X) . El generador de impulso selecciona uno de tres niveles para aplicar los circuitos de excitador. El nivel Vxw se emplea para generar la altura de impulso de los impulsos de borrado para células seleccionadas, los niveles de tierra se emplean para células no seleccionadas, y el nivel Vxm se emplea cuando no se generan impulsos de borrado durante el tiempo de sostenimiento normal. Se emplean circuitos de recuperación de energía para incrementar la eficiencia cuando se excita la capacitancia de los electrodos de dirección y se emplea tanto para voltajes de impulso de dirección (Vxw) como para el nivel Vxm. Datos para los circuitos de excitación X son determinados por el bloque de transformación de datos ilustrado en la figura 7. La figura 9 ilustra el diagrama de bloque detallado para el circuito de impulsión de electrodos de visualización Y. El bloque de sostenimiento de Y genera la forma de onda de sostenimiento 2 ilustrada en la figura 6. Los controles para la temporización de la forma de onda se determinan por medio del bloque de control de forma de onda de la figura 7. El bloque de sostenimiento de Y selecciona entre el voltaje de sostenimiento Va y los dos niveles intermedios Vyml y Vyml . Vym2 es el nivel a partir del cual se aplican los impulsos de borrado. Se emplean circuitos de recuperación de energía para incrementar la eficiencia cuando se excita la capacitancia de los electrodos de dirección y se emplea tanto para los niveles de voltaje de sostenimiento (Va) como para los niveles de Vym. Impulsos de borrado y dirección de escritura son generados por el bloque de control de impulso Y. La misma altura de impulso se emplea tanto para impulsos de borrado como para impulsos de escritura. El circuito de excitador de Y escoge lineas para escribir y borrar en base a datos de Y provenientes del bloque de control de forma de onda. Los datos se emplean para aplicar o no aplicar los impulsos de borrado y escritura a cada una de las lineas horizontales en el despliegue. La figura 10 ilustra el diagrama de bloque detallado para el circuito de excitación de electrodo de presentación Z. El bloque de sostenimiento Z genera la forma de onda de sostenimiento 6 ilustrada en la figura 6. Los controles para la temporización de la forma de onda se determinan por medio del bloque de control de forma de onda de la figura 7. El bloque de sostenimiento de Z selecciona entre el voltaje de sostenimiento Va y los dos niveles intermedios Vzml y Vzm2. Vzm2 es el nivel a partir del cual ~e aplican impulsos de borrado. Se emplean circuitos de recuperación de energia para incrementar la eficiencia cuando se excita la capacitancia de los electrodos de dirección y se emplea tanto para los niveles de voltaje de sostenimiento (Va) como para los niveles Vzm. Se generan impulsos de dirección de escritura por el bloque de control de impulsos de Z. El circuito de excitador de Z escoge líneas para escribir en base a datos de Z provenientes del bloque de control de forma de onda. Los datos de emplean para aplicar o no aplicar los impulsos de escritura a cada una de las líneas horizontales en el despliegue. Se observará que puesto que los diagramas de bloque de Z y Y están tan relacionados/ se puede emplear el mismo circuito para los electrodos Z y Y. Esto resulta en ahorros tanto en cuanto a diseño como en cuanto a ensamblaje y costos de circuito. La figura 11 ilustra de manera esquemática un circuito típico para generar las forma de onda requerida para los electrodos (X) conmutadores SW1, SW2 y SW3 controlan el voltaje que debe de aplicarse al excitador. Los dos conmutadores dentro del dispositivo de excitación seleccionan ya sea el voltaje aplicado (cuando el conmutador superior se encuentra Activado/ el conmutador inferior es Apagado) , o bien la tierra de nivel común (cuando el conmutador inferior se encuentra Activado, el conmutador superior se encuentra Apagado) . Los conmutadores de excitador están controlados por los bits de datos cargados en el circuito de excitador por el bloque de transformación de datos ilustrado en la figura 7. SW1 de la figura 1 se encuentra cerrado y SW2 y SW3 están abiertos cuando el electrodo de dirección debe ser impulsado con el voltaje VAX. SW2 está cerrado y SW1 y SW3 están abiertos cuando existe solamente una actividad de sostenimiento y X se mantiene en el voltaje medio Vxm. SW3 esta cerrado y SWl y SW2 están abiertos cuando el electrodo de dirección debe de encontrarse a nivel de tierra. Esto ocurre entre los impulsos de borrado de dirección. Se lleva a cabo una recuperación de energía por medio de los conmutadores SW4 y SW5. SW4 está cerrado cuando el voltaje aplicado debe de pasar de nivel de tierra a VAX o bien de Vxa a nivel de tierra. Al pasar de Vxa a nivel de tierra, se carga el capacitor a través del inductor Ll. Al pasar de tierra a Vxa, el capacitor es descargado a través del inductor Ll . Así, el voltaje promedio de capacitor será ½ Vxa. La recuperación de energía para los niveles Vxm se logra por SW5. SW5 está cerrado cuando el voltaje aplicado se encuentra en transición de nivel de tierra a Vxm o. bien de Vxm a nivel de tierra. Al pasar de Vxm a tierra, el capacitor es cargado a través del inductor Ll . Al pasar de tierra a Vxm el capacitor es descargado a través del inductor Ll. Así, el voltaje promedio de capacitor será de ½ Vxm. Es importante tener solamente un conmutador cerrado en cualquier momento dado. Se emplean SW4 y SW5 para las transiciones y SWl, SW2 y SW3 se emplean para fijar los voltajes en sus niveles correspondientes . La figura 12 ilustra esquemáticamente un circuito típico para generar la forma de onda requerida para el electrodo de visualización Y. Los conmutadores SW1, SW2 y SW3 controlan el voltaje que será aplicado al excitador de Y. Los dos conmutadores dentro del dispositivo de excitación seleccionan ya sea el voltaje aplicado (cuando el conmutador superior está Encendido, el conmutador inferior esta Apagado) o bien la tierra de nivel común (cuando el conmutador inferior está Encendido, el conmutador superior esta Apagado) . Los conmutadores de excitador están controlados por los bits de datos cargados en el circuito de excitador por el bloque de control de forma de onda ilustrado en la figura 7. SW1 de la figura 12 esta cerrado y SW2, SW3 y SW4 están abiertos cuando el electrodo de visualización debe ser impulsado con el voltaje de sostenimiento Vya. SW2 está cerrado y SW1, SW3 y SW4 están abiertos cuando la forma de sostenimiento debe ser mantenida a un voltaje intermedio Vyml.SW3 está cerrado y SW1, SW2 y SW4 están abiertos cuando el electrodo de despliegue debe estar en el segundo nivel intermedio Vym2. Esto ocurre durante los impulsos de borrado de dirección. SW4 está cerrado y SW1, SW2 y SW3 están abiertos cuando el electrodo de despliegue debe encontrarse a nivel de tierra. Los conmutadores SW5 y SW6 llevan a cabo una recuperación de energía. SW5 está cerrado cuando el voltaje aplicado debe estar en transición entre Vyml y Vya o bien de Vya a Vyml. En la transición de Vya a Vyml, el capacitor está cargado a través del inductor Ll. En la transición de Vyml a Vya, el capacitor es descargado a través del inductor Ll. Asi, el volta e promedio de capacitor será de ½ (Vya + Vyml) . La recuperación de energía para los niveles de Vym2 se logra a través de S 6. SW6 está cerrado cuando el voltaje aplicado debe pasar de nivel de tierra a Vym2 o bien de Vym2 a nivel de tierra. Al pasar de Vxm a nivel de tierra, el capacitor es cargado a través del inductor Ll al pasar de nivel de tierra a Vxm el capacitor se descarga a través del inductor Ll . Así, el voltaje promedio de capacitor será de ½ Vxm2. Es importante tener solamente un conmutador cerrado en cualquier momento dado. SW4 y SW5 se emplean para las transiciones y SW1, SW2 y SW3 se emplean para fijar los voltajes en sus niveles correspondientes. La figura 13 se ilustra esquemáticamente un circuito típico para generar la forma de onda requerida para el electrodo de visualización Z. Conmutadores SW1, SW1 y SW3 controlan el voltaje que debe de aplicarse al excitador de Z. Los dos conmutadores dentro del dispositivo de excitador seleccionan ya sea el voltaje aplicado (cuando el conmutador superior esuá encendido, el conmutador inferior está apagado) o bien el nivel de tierra común (cuando el conmutador inferior está encendido, el conmutador superior está apagado) . Los conmutadores de' excitador están controlados por los bits de datos cargados en el circuito de excitador por el bloque de control de forma de onda ilustrado en la figura 7. SW1 de la figura 13 está cerrado y SW2, SW3 y SW4 están abiertos cuando el electrodo de despliegue debe estar impulsado con el voltaje de sostenimiento Vza. SW2 está cerrado y SW1, SW3 y SW4 están abiertos cuando la forma de onda de sostenimiento debe de mantenerse a un voltaje intermedio Vzml. SW3 está cerrado, y SW1, SW2 y SW4 están abiertos cuando el electrodo de despliegue debe de encontrarse en el segundo nivel intermedio Vzm2. Esto ocurre durante los impulsos de borrado de dirección. SW4 está cerrado y SW1, SW2 y SW3 están abiertos cuando el electrodo de visualización debe de encontrarse a nivel de tierra. Los conmutadores SW5 y SW6 llevan a cabo recuperación de energía. La recuperación de energía para el electrodo de despliegue Z es similar a lo descrito arriba para el electrodo de despliegue Y. Es importante tener solamente un conmutador cerrado en cualquier momento dado. SW4 y SW5 se emplean para las transiciones y SW1, SW2 y SW3 se emplean para fijar los voltajes a sus niveles correspondientes . Las patentes y documentos mencionados aquí se incorporan por referencia en su totalidad. Habiendo descrito la modalidades preferidas de la presente invención, se entenderá que dicha invención puede llevarse a cabo en otras modalidades dentro del alcance de las reivindicaciones anexas.

Claims (30)

  1. REIVINDICACIONES Un método para operar una visualización de panel plano de plasma de CA que comprende un recinto lleno de gas sellado herméticamente, el recinto incluye un substrato transparente superior que tiene un conjunto de electrodos superiores apareados, una película aislante que cubre los electrodos superiores con microcanales paralelos a los electrodos, y una superficie emisora de electrones; un substrato de fondo en contacto con el substrato superior, el substrato de fondo tiene una pluralidad de microranuras arregladas ortogonalmente en relación con los electrodos superiores y forman cavidades llenas de gas; un electrodo de fondo formado de metal y depositado dentro de cada microranura, incluyendo fondo y paredes laterales; y un material de fósforo depositado en cada electrodo de fondo y coincidente con cada electrodo de fondo formando así pares de subcélulas llamadas subpixels en las intersecciones proyectadas de electrodos superiores que forman filas y microranuras que forman columnas que están conectadas por dichos microcanales formados en el substrato frontal, donde el método comprende los pasos de: aplicar un paso de sostenimiento que consiste de un primer voltaje a primeros electrodos de pares de electrodos superiores y un voltaje de referencia a todos los electrodos de fondo, la diferencia de magnitud es suficiente para provocar una descarga inicial hacia las paredes laterales de electrodos de fondo intersectados en el minimo de Paschen solamente para subcélulas que tienen cargas almacenadas bajo los electrodos superiores correspondientes, y aplicar un segundo voltaje de polaridad opuesta al primer voltaje, a los segundos electrodos apareados con los primeros electrodos lo que crea descargas laterales entre electrodos virtuales/ formados por las descargas iniciales hacia las paredes laterales, entre pares de subcélulas en valores de productos de diferencia de presión mayores que el minimo de Paschen, mantener los voltajes hasta la extinción de las descargas depositando asi cargas bajo los electrodos superiores pero de polaridad opuesta, aplicar primeros voltajes de terminación a primeros electrodos superiores y segundos voltajes de terminación a segundos electrodos superiores según lo necesario para barrer cargas residuales en volumen de gas, y revertir las polaridades de primeros electrodos superiores y segundos electrodos superiores y repetir la secuencia continuamente en combinación con pasos opcionales de direccionamiento selectivos que comprenden: aplicar un paso de escritura selectivo que comprende la aplicación de un voltaje de escritura de polaridad común a un voltaje de sostenimiento precedente o co-incidente a un primer electrodo de uno o varios pares de electrodos superiores y un voltaje de escritura selectivo a electrodos de fondo seleccionados, la diferencia de magnitud es suficiente para provocar una descarga hacia paredes laterales de todos los electrodos de fondo intersectados en el mínimo de Paschen en combinación con la aplicación de un segundo voltaje de escritura, de polaridad opuesta a la polaridad del primer voltaje, al segundo electrodo apareado con el primer electrodo provocando así el inicio de descargas y su extensión a lo largo de los microcanales superiores, y mantener los voltajes hasta la extinción de las descargas depositando así y almacenando cargas en revestimiento dieléctrico bajo los electrodos superiores a lo largo de toda la fila; y aplicar un paso de borrado selectivo que consiste de aplicar un voltaje de borrado de polaridad opuesta a un voltaje de sostenimiento precedente a un primer electrodo de un par de electrodos superiores y un voltaje de columna a electrodos de fondo seleccionados, el voltaje resultante es de magnitud combinada suficiente para provocar una descarga hacia las paredes laterales de los electrodos de fondo seleccionados en el mínimo de Paschen pero solamente en sitios de subcélulas que tienen cargas almacenadas bajo electrodos superficiales correspondientes, y mantener los voltajes hasta la extinción de las descargas removiendo asi las cargas almacenadas lo que impide la descarga en pasos subsecuentes de sostenimiento.
  2. 2. El método de la reivindicación 1, donde todos los primeros y segundos voltajes y voltajes de terminación en • electrodos de substrato superior apareados son iguales y opuestos .
  3. 3. El método de la reivindicación 1, donde el voltaje de escritura es de polaridad negativa.
  4. 4. El método de la reivindicación 1, donde el voltaje de borrado es de polaridad negativa.
  5. 5. El método de la reivindicación 1, donde el voltaje de columna es de polaridad positiva.
  6. 6. El método de conformidad con la reivindicación 1, donde el voltaje de columna es con referencia a tierra.
  7. 7. El método de la reivindicación 2, donde el voltaje promedio en los electrodos de substrato superiores es polarizado para estar cerca del nivel de tierra minimizando asi los voltajes entre todos los electrodos.
  8. 8. El método de la reivindicación 1, donde una imagen de bits, o bien un bit por pixel, se escribe en la visualización sucesivamente, pero no necesariamente secuencialmente, mediante la construcción de una secuencia de pasos de sostenimiento o bien ciclos de conformidad con lo siguiente: se lleva a cabo un ciclo de sostenimiento con un paso de escritura que consiste de un grupo de filas seleccionadas y escritas en estado de "encendido" y un paso de borrado selectivo que consiste de varios impulsos de borrado que corresponden al número en el grupo de destino secuencial pero dentro del mismo ciclo de sostenimiento en donde se borran las células a "apagar" y las células a "encender" se dejan sin afectación, después de lo cual, se lleva a cabo un segundo ciclo con un segundo grupo de filas de manera similar, y se llevan a cabo ciclos secuenciales hasta que todos los grupos posibles hayan sido el destino y la visualización se actualice a la nueva imagen de bits. El AC PDP de conformidad con la reivindicación 1, donde los primeros y segundos voltajes se encuentran dentro del rango de 150 a 350 voltios y los voltajes de escritura y borrado se encuentran entre 40 y 100 voltios. E1 AC PDP de la reivindicación 1, donde el tiempo de mantenimiento para voltajes de sostenimiento es de 2 a 5 microsegundos, el tiempo para borrado es de 0.5 a 1 microsegundo, y el tiempo para escritura es del orden de 2 a 5 microsegundos. Un método para operar una visualización de panel plano de plasma de CA que consiste de un recinto lleno de gas sellado herméticamente, el recinto incluye un substrato transparente superior que tiene un conjunto de electrodos superiores apareados, ' una película aislante que cubre los electrodos superiores con microcanales paralelos a los electrodos, y una superficie emisora de electrones; un substrato de fondo en contacto con el substrato superior, el substrato de fondo tiene una pluralidad de microranuras paralelas arregladas ortogonalmente en relación con los electrodos superiores que forman cavidades llenas de gas; un electrodo de fondo formado de metal en la superficie de dichas microranuras o bien debajo de dichas microranuras; y un material de fósforo depositado dentro de las microranuras y en los electrodos de fondo formando así pares de subcélulas llamadas subpixels en las intersecciones proyectadas de los electrodos superiores formando filas y los electrodos inferiores formando columnas que están conectadas a través de dichos microcanales formados en el substrato frontal, donde el método comprende los pasos de: aplicar un paso de sostenimiento que consiste de la aplicación de un primer voltaje a primeros exectrodos de pares superiores de electrodos y un segundo voltaje, de polaridad opuesta a la polaridad del primer voltaje, a los segundos electrodos apareados con los primeros electrodos que crean descargas entre pares de subcélulas que tienen cargas almacenadas en el dieléctrico bajo electrodos superiores correspondientes, mantener los voltajes hasta la extinción de las cargas depositando asi cargas bajo los electrodos superiores de polaridad opuesta, aplicando primeros voltajes de terminación a primeros electrodos superiores y segundos voltajes de terminación a segundos electrodos superiores según lo necesario para barrer cargas residuales en volumen de gas y invertir las polaridades de primeros electrodos superiores y segundos electrodos superiores y repetir la secuencia continuamente en combinación con pasos de direccionamiento selectivos opcionales que incluyen: aplicar un paso de escritura selectivo que comprende la aplicación de un voltaje de escritura de polaridad común a un voltaje de sostenimiento precedente o co-incidente a un primer electrodo de uno o varios pares de electrodos superiores y un voltaje de escritura común a todos los electrodos de fondo, aplicar un segundo voltaje de escritura, de polaridad opuesta a la polaridad del primer voltaje, al segundo electrodo apareado con el primer electrodo provocando el inicio y la prolongación de descargas a lo largo de los microcanales de substrato superiores, y mantener los voltajes hasta la extinción de las descargas depositando asi y almacenando cargas en revestimiento dieléctrico bajo los electrodos superiores a lo largo de toda la fila y aplicar un paso de borrado selectivo que comprende la aplicación de un voltaje de borrado de polaridad opuesta a un voltaje de sostenimiento precedente a un primer electrodo de un par de electrodos superiores y un voltaje de columna a electrodos de fondo seleccionados, el voltaje resultante es de una magnitud combinada suficiente para provocar una descarga solamente en sitios de subcélulas que tienen cargas almacenadas bajo electrodos superiores correspondientes, y mantener los voltajes hasta la extinción de las descargas removiendo asi cargas almacenadas que impiden la descarga en pasos de sostenimiento subsecuentes. El método de la reivindicación 11, donde todos los primeros voltajes y segundos voltajes y voltajes de terminación en electrodos de substrato superiores apareados son iguales y opuestos. El método de la reivindicación 11, donde el voltaje de escritura es de polaridad negativa. El método de la reivindicación 11, donde el voltaje de borrado es de polaridad negativa. El método de la reivindicación 11, donde el voltaje de columna es de polaridad positiva. El método de conformidad con la reivindicación 11, donde el voltaje de columna es con referencia a tierra. 7. El método- de la reivindicación 12, donde el voltaje promedio en los electrodos de substrato superiores es polarizado a nivel casi de tierra minimizando asi los voltajes entre todos los electrodos. 8. El método de la reivindicación 11, donde una imagen de bits, o un bit por pixel, se escribe en el despliegue sucesivamente pero no necesariamente en secuencia mediante la construcción de una secuencia de pasos de sostenimiento o ciclos de conformidad con lo siguiente: se lleva a cabo un ciclo de sostenimiento con un paso de escritura que consiste de un grupo de filas seleccionadas y escritas a "encender" y un paso de borrado selectivo que consiste de un número de impulsos de borrado que corresponden al número en el grupo, que constituyen destinos secuenciales pero dentro del mismo ciclo de sostenimiento en donde las células a "apagar" son borrados y las que deben "encenderse" se dejan sin afectación, por lo que se lleva a cabo un segundo ciclo con un segundo grupo de filas de manera similar, y se llevan a cabo ciclos secuenciales hasta que todos los grupos posibles hayan sido objeto de destino y la visualización haya sido actualizada para la nueva imagen de bit. .El AC PDP de la reivindicación 11, donde los primeros y segundos voltajes se encuentran dentro del rango de 150 a 350 voltios y los voltajes de escritura y borrado se encuentran entre 40 y 100 voltios. 20. El AC PDP de la reivindicación 11, donde el tiempo de mantenimiento para voltajes de sostenimiento es de 2 a 5 microsegundos, el tiempo para borrado es de 0.5 a 1 microsegundo, y el tiempo para escribir es del orden de 2 a 5 microsegundos. 21. Un Panel de Visualización de Plasma de CA que comprende: un recinto lleno de gas sellado herméticamente, el recinto incluye un substrato transparente superior que tiene un conjunto de electrodos de substrato superior apareados, una película aislante que cubre los electrodos de substrato superior con microcanales formados en paralelo en relación a los electrodos, y un revestimiento superficial emisor de electrones; un substrato de fondo en contacto con el substrato superior, el substrato de fondo tiene una pluralidad de microranuras paralelas arregladas ortogonalmente en relación con los electrodos de substrato superior formando cavidades aisladas llenas de gas; una pluralidad de electrodos de substrato de fondo formados de metal en la superficie de cada microranura o bien debajo de cada microranura; y un material de fósforo depositado en las superficies de microranura y en electrodos de substrato de fondo formando así pares de subcélulas llamadas subpixels en las intersecciones proyectadas de electrodos superiores que forman filas y electrodos de fondo que forman columnas conectadas por dichos microcanales formados en el substrato frontal . 22. Un aparato para operar un despliegue de plasma de CA, que comprende : un Panel de Despliegue de Plasma de conformidad con la reivindicación 21; un primer circuito conectado a cada uno de los primeros electrodos de electrodos de substrato superior apareados para generar una forma de onda de sostenimiento común de niveles múltiples con un impulso de determinación de destino negativo selectivo para cada electrodo; un segundo circuito conectado a cada segundos electrodos de substrato superior apareados para generar una forma de onda de sostenimiento de niveles múltiples común de amplitud y polarización opuestas en relación con el primer circuito con un impulso de destino positivo selectivo para cada electrodo; un tercer circuito conectado a cada electrodo en substrato de fondo para generar una forma de onda de sostenimiento de niveles múltiples común con un impulso de destino positivo selectivo para cada electrodo; un convertidor de entrada, memoria intermedia de cuadro y circuito de transformación de datos con interfaz externa configurada para una fuente de datos estándar de la industria capaz de transferir datos de fila en paralelo al tercer circuito; una forma de onda y un circuito de control de temporización de forma de onda interconectado con los primeros cuatro circuitos y determinante de temporización y control de los circuitos de sostenimiento e impulsos de destino de tal manera que se provoque la canalización de impulsos de dirección a través de microcanales durante el proceso de direccionamiento disminuyendo asi el voltaje de dirección; y un circuito de energía capaz de suministrar la energía necesaria a los primeros cinco circuitos, la energía se convierte a partir de una fuente de energía industrial estándar. 23. El AC PPD de la reivindicación 21, donde los microcanales tienen una profundidad de entre 4 y 15 mieras y tienen entre 50 y 100 mieras de ancho. 24. El AC PDP de la reivindicación 21, donde los microcanales tienen un ancho de 4 a 15 mieras y una profundidad de 50 a 100 mieras y se extienden en el substrato más allá de la película aislante. 25. El AC PDP de la reivindicación 21, donde el microcanal tiene un corte transversal en forma de "L" o bien MT" invertida y puede extenderse en el substrato más allá de la película aislante. 26. El AC PDP de la reivindicación 22, donde el primer voltaje y el segundo voltaje se encuentran dentro de un rango de 150 a 350 voltios y los voltajes de escritura y borrado se encuentran entre 40 y 100 voltios. 27. El AC PDP de la reivindicación 22, donde el tiempo de mantenimiento para voltajes de sostenimiento es de 2 a 5 mierosegundos, el tiempo para borrar es de 0.5 a 1 microsegundo, y el tiempo para escribir es del orden de 2 a 5 microsegundos. 28. El AC PDP de la reivindicación 21, donde el relleno de gas es de Xenón en un gas de base dentro de un rango de 4% a 100% a una presión de hasta 600 torr. 2
  9. 9. El AC PDP de la reivindicación 21, donde el llenado de gas es de Xenón en neón ubicándose dentro de un rango de 4% a 100% a una presión de hasta 600 torr. 30. El AC PDP de la reivindicación 21, donde el relleno de gas es de Xenón en partes iguales de neón y helio ubicándose entre 4% y 100% a una presión dentro de un rango de 300 a 600 torr.
MXPA99008321A 1997-01-27 1998-01-26 Visualizacion de plasma y metodo de operacion con alta eficiencia. MXPA99008321A (es)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/787,347 US5974122A (en) 1997-01-27 1997-01-27 Method and telecommunication system for transmitting a facsimile message
PCT/US1998/001522 WO1998033313A1 (en) 1997-01-27 1998-01-26 Method and telecommunication system for transmitting a facsimile message
US09/016,657 US6448946B1 (en) 1998-01-30 1998-01-30 Plasma display and method of operation with high efficiency

Publications (1)

Publication Number Publication Date
MXPA99008321A true MXPA99008321A (es) 2004-12-03

Family

ID=35852198

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
MXPA99008321A MXPA99008321A (es) 1997-01-27 1998-01-26 Visualizacion de plasma y metodo de operacion con alta eficiencia.

Country Status (1)

Country Link
MX (1) MXPA99008321A (es)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2676487B2 (ja) 放電表示装置
JPH11202830A (ja) プラズマディスプレイパネル及びその駆動方法
US6448946B1 (en) Plasma display and method of operation with high efficiency
US5962983A (en) Method of operation of display panel
KR100330030B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 구동방법
US20080316147A1 (en) Methods for resetting and driving plasma display panels in which address electrode lines are electrically floated
US20030038757A1 (en) Plasma display apparatus and driving method thereof
US6400342B2 (en) Method of driving a plasma display panel before erase addressing
US7518576B1 (en) Positive column gas discharge display
JP3578543B2 (ja) Pdpの駆動方法
MXPA99008321A (es) Visualizacion de plasma y metodo de operacion con alta eficiencia.
KR100323973B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 구동방법
KR20040018496A (ko) 플라즈마 디스플레이 패널 표시장치와 그 구동방법
KR100564300B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법
KR100546582B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 어드레스방법
KR20030079244A (ko) 교류형 플라즈마 디스플레이 패널 구동 방법
KR100285626B1 (ko) 고주파를이용한플라즈마디스플레이패널구동방법
KR100274796B1 (ko) 고주파를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널
KR100323690B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법
KR100293515B1 (ko) 고주파를이용한플라즈마디스플레이패널의구동방법
KR100312512B1 (ko) 고주파를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 장치
KR100530640B1 (ko) 플라즈마 표시패널의 전극구조 및 구동방법
KR100421476B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 전극구조
KR20000001516A (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법
KR20000013226A (ko) 고주파를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 구동 방법

Legal Events

Date Code Title Description
FG Grant or registration
GB Transfer or rights
PD Change of proprietorship

Owner name: LG ELECTRONICS, INC.*

MM Annulment or lapse due to non-payment of fees