MXPA06001861A

MXPA06001861A - Dispositivo de distribucion.

Info

Publication number: MXPA06001861A
Application number: MXPA06001861A
Authority: MX
Inventors: Marjanne Clara Zonneylle
Original assignee: Shell Int Research
Priority date: 2003-08-18
Filing date: 2004-07-27
Publication date: 2006-05-04
Also published as: KR20060065707A; DE602004025714D1; WO2005016508A1; CN100434155C; KR101123590B1; US20050077635A1; CA2535987A1; EP1663467B1; JP2007502699A; CA2535987C; US7452516B2; EP1663467A1; ATE458546T1; CN1835791A

Abstract

La invencion se refiere a un dispositivo de distribucion (1) que reparte liquido sobre una capa catalizadora de superposicion que comprende una bandeja horizontal de coleccion (2) proporcionada al menos con una chimenea de gas (3) para el paso ascendente o descendente de gas y con toberas de dosificacion de liquido (4) para el paso descendente de liquido, en donde la(s) chimenea(s) de gas (3) y las toberas de dosificacion de liquido (4) se encuentran separadas entre si y no tienen el mismo eje longitudinal, y en donde cada tobera de dosificacion de liquido (4) comprende un agujero de paso de liquido situado en posicion concentrica (5) y una placa de rociado (6), en donde la placa de rociado (6) es situada por debajo del agujero de paso de liquido (5) y por debajo de la bandeja de coleccion (2), de manera que exista una distancia de caida libre para el liquido al menos de 100 mm entre el agujero (5) y la placa de rociado (6). La invencion ademas se refiere a un reactor para el hidroprocesamiento que comprende este dispositivo de distribucion (1), el uso de este reactor para el hidroprocesamiento y un proceso para el hidrocraqueo o hidrotratamiento en este reactor.

Description

DISPOSITIVO DE DISTRIBUCION Campo de la Invención La presente invención se refiere a un dispositivo de distribución que reparte liquido sobre una capa catalizadora de superposición, a un reactor para el hidroprocesamiento que comprende este dispositivo de distribución, al uso de este reactor para el hidroprocesamiento y a un proceso para el hidrocraqueo o hidrotratamiento en este reactor.

Antecedentes de la Invención En un reactor de flujo de goteo o escurrimiento, el liquido gotea a través de una capa de reacción o a través de un número de capas de reacción situadas una por debajo de la otra y el gas fluye en el mismo sentido o a contracorriente con el liquido a través de la(s) capa (s) de reacción. Estos reactores son utilizados en la industria química y en la industria de refinación de petróleo para el procesamiento de hidrocarburos, sobre todo, para el hidroprocesamiento tal como el desparafinado catalítico, el hidrotratamiento e hidrocraqueo. La referencia en este documento al hidrotratamiento es para efectuar el hidroprocesamiento de acuerdo con condiciones de proceso relativamente moderadas, por ejemplo, la hidrodesulfuración, hidrodesnitrogenación, hidrogenación o hidroterminado . „ ? 3 EEF. 169603 Este reactor comprende al menos una capa de reacción, comúnmente una capa de partículas catalizadoras que se apoyan sobre una rejilla de soporte. El efluente líquido, formado en las reacciones que suceden en la capa catalizadora, fluye a través de la rejilla de soporte hacia la subsiguiente capa catalizadora o salida del reactor. Normalmente, estos reactores contienen un dispositivo de distribución que reparte el líquido que penetra al reactor por medio de una entrada de reactor en forma homogénea a través de la capa superior de reacción o para repartir el efluente líquido de una capa de reacción en forma homogénea sobre la siguiente capa inferior de reacción. Las bandejas de distribución, en donde el gas y el líquido pasan en forma concurrente a través de la(s) misma (s) tubería (s) de salida de gases, son conocidas en la técnica. Se hace referencia a los documentos US 6, 180,068, US 4, 836,989, EP 715 544, US 4, 140,625 y US 6, 093,373. En el documento US 6, 093,373 se describe, por ejemplo, un aparato para el mezclado de reactantes de vapor y líquido dentro de una columna. El aparato comprende una bandeja de distribución final que consiste de una pluralidad de chimeneas diseñadas para crear una fuerza de arrastre o deslizamiento entre las fases de gas y del líquido. Las desventajas de las bandejas en donde pasa el gas y el líquido a través de la misma tubería de salida de gases es que estas no son adecuadas para funcionar de acuerdo con condiciones en donde no exista o exista una muy baja calda de presión de gas a través de la bandeja y que no sean adecuadas para la operación a contracorriente, es decir, para la operación en donde los reactantes de gas y de líquido fluyen en el sentido contrario de flujo entre si. En el documento US 5, 799,877, se describe una bandeja de distribución, la cual comprende una pluralidad de distribuidores de rocío de gas y de líquido. Cada distribuidor de rocío de gas y de líquido tiene conductos separados de gas y de líquido . En cada distribuidor, los conductos de gas y de líquido son coaxiales, es decir, que tienen el mismo eje longitudinal con el conducto de liquido rodeando al menos parte del conducto de gas para definir un espacio anular para el flujo del líquido descendente. El gas sale de su conducto como un núcleo de gas rodeado por el líquido de flujo descendente. El gas se expande y hace contacto con el líquido circundante para rociarlo por debajo sobre la capa catalizadora . Una placa de rociado es situada por debajo de la salida de gas y de líquido de cada distribuidor para ayudar en el reparto del rocío del líquido de flujo descendente a través de la parte baja de la capa catalizadora . La bandeja descrita en el documento US 5, 799,877 es una bandeja de distribución para el flujo en el mismo sentido de gas y de líquido, debido a que el gas de flujo descendente es necesario para crear un rocío de líquido. La bandeja no es adecuada para la operación a contracorriente . En el documento WO 99/00182 se describe una bandeja de distribución para un reactor de hidroprocesamiento operado a contracorriente. El líquido es distribuido sobre una capa de reacción de superposición por medio de una bandeja de distribución que tiene una pluralidad de tubos cortos para el paso de líquido. Las ventilaciones de gas en la bandeja permiten el paso del gas de tratamiento que se mueve hacia arriba. Una desventaja de la bandeja de distribución descrita en el documento WO 99/00182 es que el líquido no será repartido sobre el · rea superficial total de la capa catalizadora de superposición. Existe la necesidad de la técnica de un dispositivo de distribución que pueda conseguir un repartido uniforme del líquido sobre la capa de reacción de superposición, tanto en una operación de flujo en el mismo sentido como a contracorriente .

SUMARIO DE LA INVENCIÓN Ahora se ha encontrado que el líquido puede ser distribuido de manera efectiva sobre una capa catalizadora de superposición, tanto en una operación de flujo en el mismo sentido como a contracorriente, mediante una bandeja de distribución que tiene pasajes separados para gas y líquido, en donde los pasajes de líquido comprenden un agujero de paso de líquido y una placa de rociado con una distancia de caída libre al menos de 100 mm entre el agujero de paso y la placa de rociado . En consecuencia, la presente invención se refiere a un dispositivo de distribución que reparte líquido sobre una capa catalizadora de superposición que comprende una bandeja horizontal de colección proporcionada al menos con una chimenea de gas para el paso ascendente o descendente de gas y con toberas de dosificación de líquido para el paso descendente de líquido, en donde la(s) chimenea (s) de gas las toberas de dosificación de líquido se encuentran separadas entre sí y no tienen el mismo eje longitudinal, y en donde cada tobera de dosificación de líquido comprende un agujero de paso de líquido situado en posición concéntrica y una placa de rociado, en donde la placa de rociado es situada por debajo del agujero de paso del líquido y por debajo de la bandeja de colección, de manera que exista una distancia de caída libre para el líquido al menos de 100 mm entre el agujero y la placa de rociado. Una ventaja del dispositivo de distribución de acuerdo con la invención es que ningún momento de gas descendente es necesario para conseguir una distribución uniforme de líquido. Por lo tanto, el dispositivo de distribución puede ser adecuadamente utilizado de acuerdo con condiciones de proceso a contracorriente o de acuerdo con condiciones de proceso de flujo en el mismo sentido con ninguna o muy baja caída de presión de gas a través de la bandej a . En un aspecto adicional, la invención se refiere a un reactor para el hidroprocesamiento que comprende capas de reacción verticálmente separadas y un dispositivo de distribución como se definió con anterioridad al menos por encima de una capa. La invención además se refiere al uso de este reactor para el hidroprocesamiento. Finalmente, la invención se refiere a un proceso de hidrocraqueo o hidrotratamiento, en donde una carga hidrocarbonada de líquido es contactada con un catalizador en la presencia de hidrógeno a una temperatura y presión elevadas en un reactor como se definió con anterioridad.

Breve Descripción de las Figuras Dos modalidades de la invención son descritas en detalle y por medio de ejemplo con referencia a las Figuras esquemáticas 1 y 2. La Figura 1 muestra un corte longitudinal de parte de una primera modalidad del dispositivo de distribución de la invención. La Figura 2 muestra un corte longitudinal de una segunda modalidad de la tobera de dosificación de liquido del dispositivo de distribución de la invención.

Descripción Detallada de la Invención De acuerdo con la operación normal del dispositivo de distribución de conformidad con la invención, el líquido reunido sobre la bandeja de colección pasa hacia abajo a través de las toberas de dosificación de líquido. Cada tobera de dosificación de líquido comprende un agujero de paso de líquido y una placa de rociado. El agujero de paso de líquido y la placa de rociado son situadas en posición concéntrica entre sí, lo cual significa que tienen el mismo eje longitudinal. Estos son situados de tal modo que el líquido de paso pueda caer con libertad entre el agujero de paso y la placa de rociado, es decir, el chorro de líquido no hace contacto con la pared de la tobera u otra estructura antes de incidir o chocar sobre la placa de rociado. De esta manera, el líquido de paso gana un momento máximo. En base al choque o incidencia de la placa de rociado, el líquido forma una película amplia o rocío de gotas. La incidencia o choque de las películas o rocíos de superposición de las toberas circundantes de dosificación de líquido proporcionan una alta uniformidad de distribución de líquido. La placa de rociado es situada por debajo de la bandeja y por lo menos 100 mm por debajo del agujero de paso de líquido. El agujero de paso de líquido normalmente será situado en o por encima de la bandeja de colección, aunque podría ser situado por debajo de la bandeja. El dispositivo de distribución de acuerdo con la invención comprende al menos una chimenea de gas para el paso ascendente o descendente de gas. La(s) chimenea (s) de gas y las toberas de dosificación de líquido se encuentran separadas entre sí y no tienen el mismo eje longitudinal. Con el fin de minimizar la perturbación de la película de líquido o el rocío a través del flujo de gas, la distancia entre los ejes longitudinales de las chimeneas de gas y las toberas de dosificación de líquido que se encuentran adyacentes entre sí se prefiere que sea al menos de 100 mm. La distancia de caída libre para el líquido, es decir, la distancia entre el agujero de paso de líquido y la placa de rociado es al menos de 100 mm, de preferencia, se encuentra en el intervalo de 100 a 500 mm, de manera más preferible de 200 a 300 mm. En este documento, la referencia a la distancia entre el agujero de paso del líquido y la placa de rociado es a la distancia entre el extremo inferior del agujero y el extremo superior de la placa de rociado. De preferencia, la distancia de caída libre para el líquido es al menos de 5 veces el diámetro del agujero de paso de líquido, de manera más preferible, es al menos de 10 veces. Con el fin de limitar la altura de la bandeja de distribución, la distancia de caída libre para el líquido se prefiere que sea a lo más de 50 veces el diámetro del agujero de paso de líquido. Con el fin de proporcionar una película amplia o el rociado de gotas de forma de sombrilla, la relación entre el diámetro de la placa de rociado y el diámetro del agujero de paso de líquido se prefiere que se encuentre en el intervalo de 2 a 8. Una placa de rociado más pequeña podría originar el desvío de líquido en la placa de rociado. En base a una placa de rociado más grande, el líquido podría gotear desde la periferia de la placa de rociado sin formar una película o rociado de forma de sombrilla. De manera más preferible, la relación entre el diámetro de la placa de rociado y el diámetro del agujero de paso de líquido se encuentra en el intervalo de 3 a 6. De preferencia, el diámetro del agujero de paso de líquido es al menos de 3 mm con el fin de evitar el bloqueo de los agujeros mediante partículas sólidas que podrían estar presentes en el flujo de líquido. De preferencia, el agujero de paso de líquido tiene un diámetro máximo de 25 mm con el fin de conseguir una velocidad de líquido lo suficientemente alta para la formación de una película o rociado amplio. De manera más preferible, el agujero de paso de líquido tiene un diámetro que se encuentra en el intervalo de 5 a 20 mm. El agujero de paso de líquido podría ser un agujero en la bandeja de colección. En forma alterna, el agujero de paso de líquido podría ser un agujero en el extremo superior de un tubo que se extiende a través de la bandeja de colección. En caso que el agujero de paso de líquido sea un agujero en el extremo superior del tubo que se extiende a través de la bandeja de colección, el diámetro del agujero sería más pequeño que el diámetro interior del tubo, con el fin de proporcionar una distancia de caída libre para el chorro de líquido entre el agujero y la placa de rociado. El diámetro interior del tubo es al menos de dos veces el diámetro del agujero. Por lo tanto, el extremo superior del tubo se encuentra parcialmente cerrado. El extremo inferior del tubo es abierto. El tubo podría extenderse por encima y/o por debajo de la bandeja de colección. La placa de rociado es situada por debajo del extremo inferior del tubo. La distancia vertical entre el extremo inferior del tubo y la placa de rociado no es crítica . De preferencia, la distancia vertical entre el extremo inferior del tubo y el extremo superior de la placa de rociado es al menos de 0.5 veces el diámetro del agujero de paso de líquido . De preferencia, el diámetro interior del tubo es a lo más de 15 veces el diámetro del agujero. De manera más preferible, el diámetro interior del tubo se encuentra en el intervalo de 2 a 6 veces el diámetro del agujero. La placa de rociado podría ser acoplada con la bandeja de colección o con el tubo a través de cualquier medio adecuado de unión que sea conocido en la técnica. La distribución y densidad de las toberas de dosificación de líquido sobre la bandeja de colección es de preferencia, de manera que se superpongan las películas de líquido o rociados de gotas de las toberas circundantes. Por lo tanto, se prefiere que las toberas de dosificación de líquido se distribuyan de manera uniforme sobre la bandeja. De preferencia, el dispositivo de distribución tiene al menos 25 toberas de dosificación de líquido por metro cuadrado de bandeja de colección, de manera más preferible, al menos de 50 toberas por metro cuadrado de bandeja de colección. En vista de la facilidad de construcción y costos, el dispositivo de distribución tiene de preferencia a lo más 100 toberas de dosificación de líquido por metro cuadrado de bandeja de colección, de manera más preferible, a lo más 75. El dispositivo de distribución de acuerdo con la invención podría comprender una chimenea única de gas . De preferencia, el dispositivo tiene una pluralidad de chimeneas de gas. La bandeja tendrá por lo regular más toberas de dosificación de líquido que chimeneas de gas. De preferencia, la relación de toberas de dosificación de líquido con las chimeneas de gas se encuentra en el intervalo de 2 a 5. Tres toberas de dosificación de líquido para cada chimenea de gas es una relación particularmente adecuada. De preferencia, las chimeneas son uniformemente distribuidas sobre la bandeja de colección y de manera preferible, de modo que la distancia entre el eje longitudinal de una chimenea de gas y las toberas de dosificación de líquido que se encuentran adyacentes entre sí sea al menos de 100 rara. De preferencia, está distancia es a lo más de 200 mm. El área total del pasaje de gas es de manera que no sea indeseablemente aumentada la caída de alta presión a través de la bandeja de colección. En una operación a contracorriente, el área de paso de gas debe ser lo suficientemente alta para evitar una inundación. Al menos una chimenea de gas podría ser cualquier chimenea de gas conocida en la técnica. Las chimeneas adecuadas de gas son conocidas, por ejemplo, a partir de los documentos US 3, 524,731 y WO 99/00182. Normalmente, las chimeneas de gas comprenden un tubo de extremo abierto que se extiende a través de la bandeja de colección. El tubo tiene un primer orificio de paso de gas en su extremo superior, situado por encima de la bandeja de colección, y un segundo orificio de paso de gas en su extremo inferior, situado en o por debajo de la bandeja de colección. El primer orificio de paso de gas es situado por encima del nivel de líquido sobre la bandeja de colección durante condiciones normales de operación y por lo tanto, en un nivel por encima del agujero de paso de líquido de las toberas de dosificación de líquido. De preferencia, una tapa o placa de desviación es situada por encima del primer orificio de paso de gas con el fin de evitar que el líquido pase en forma directa a través de las chimeneas de gas. De preferencia, el diámetro interior de las chimeneas de gas es más largo que el diámetro interior de los agujeros de paso de líquido. De preferencia, el dispositivo de distribución de acuerdo con la invención es aplicado en un reactor de hidroprocesamiento de capas múltiples. Por consiguiente, la invención además se refiere a un reactor para el hidroprocesamiento que comprende capas de reacción verticalmente separadas, de preferencia, capas de partículas catalizadoras y un dispositivo de distribución como se definió en este documento con anterioridad al menos en una capa, de preferencia, por encima de cada capa. El dispositivo de distribución podría ser colocado por encima de la capa catalizadora superior del reactor para repartir la alimentación de líquido suministrada por la entrada del reactor a la primera capa catalizadora. El dispositivo también podría ser colocado entre las subsiguientes capas catalizadoras a fin de distribuir el efluente de líquido de una capa catalizadora sobre la capa catalizadora de superposición.

La distancia entre las placas de rociado del dispositivo de distribución y la superficie superior de la capa de reacción de superposición se encuentra comúnmente en el intervalo de 100 a 500 mm. El reactor de acuerdo con la invención es adecuado para uso en el hidroprocesamiento, es decir, para la reacción catalítica de una alimentación hidrocarbonada de líquido en la presencia de hidrógeno a una temperatura y presión elevadas . Las condiciones adecuadas del catalizador y el proceso para el hidroprocesamiento son generalmente conocidas en la técnica. Los ejemplos de procesos adecuados son el hidrocraqueo, desparafinado catalítico, la hidrodesulfuración, hidrodesnitrogenación, hidrogenación e hidroterminado . El reactor de acuerdo con la invención es particularmente adecuado para el hidroprocesamiento, de preferencia, procesos de hidrotratamiento en donde la carga hidrocarbonada de líquido y el hidrógeno son suministrados a contracorriente al reactor.

En la Figura 1 se muestra un corte longitudinal de una parte del dispositivo de distribución de la invención. El dispositivo de distribución 1 comprende una bandeja de colección 2 con una chimenea de gas 3 para el paso de gas y dos toberas de dosificación de líquido 4 para el paso descendente de líquido hacia la capa catalizadora de superposición (no se muestra) . Cada tobera 4 comprende un agujero de paso de líquido 5 y una placa de rociado 6. El agujero de paso de líquido 5 es un agujero en la bandeja de colección 2. De acuerdo con la operación normal, el líquido reunido sobre la bandeja de colección 2 puede caer con •libertad del extremo inferior 7 del agujero 5 al extremo superior 8 de la placa de rociado 6. La placa de rociado 6 es acoplada con la bandeja de colección 2 a través de medios de unión 9 de tal modo que los medios de unión 9 no interrumpan el flujo de líquido. La chimenea de gas 3 comprende un tubo 10 con un primer orificio 11 y un segundo orificio 12 de paso de gas. Una placa deflectora 13 es situada por encima del primer orificio de paso de gas. En la Figura 2 , se muestra un corte longitudinal de una segunda modalidad de la tobera de dosificación de líquido del dispositivo de distribución de la invención. Cada tobera de dosificación de líquido 4 comprende un tubo 14 que se extiende a través de la bandeja de colección 2. El tubo 14 tiene un agujero de paso de líquido 5 en su extremo superior 15 y está abierto en su extremo inferior 16. El diámetro interior del tubo 14 es más largo que el diámetro del agujero de paso de líquido 5. Por lo tanto, el líquido que pasa a través de la tobera 4 puede caer con libertad del agujero de paso de líquido 5 a la placa de rociado 6, es decir, sin hacer contacto con la pared interior de tubo 17. La placa de rociado 6 es acoplada con el tubo 14 a través de medios de unión (no se muestran) . Se hace constar que con relación a esta fecha el mejor método conocido por la solicitante para llevar a la práctica la citada invención, es el que resulta claro de la presente descripción de la invención.

Claims

REIVINDICACIONES Habiéndose descrito la invención como antecede, se reclama como propiedad lo contenido en las siguientes reivindicaciones : 1. Un dispositivo de distribución que reparte líquido sobre una capa catalizadora de superposición, caracterizado porque comprende una bandeja horizontal de colección provista con al menos con una chimenea de gas para el paso ascendente o descendente de gas y con toberas de dosificación de liquido para el paso descendente de líquido, en donde la(s) chimenea (s) de gas y las toberas de dosificación de líquido se encuentran separadas entre sí y no tienen el mismo eje longitudinal, y en donde cada tobera de dosificación de líquido comprende un agujero de paso de líquido situado en posición concéntrica y una placa de rociado, en donde la placa de rociado es situada por debajo del agujero de paso del líquido y por debajo de la bandeja de colección, de manera que exista una distancia de caída libre para el líquido al menos de 100 mm entre el agujero y la placa de rociado.
2. El dispositivo de distribución de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque existe al menos una distancia de 100 mm entre el eje longitudinal de una chimenea de gas y una tobera adyacente de dosificación de líquido.
3. El dispositivo de distribución de conformidad con la reivindicación 1 ó 2, caracterizado porque la distancia de calda libre para el líquido se encuentra en el intervalo de 100 a 500 mra, de preferencia, de 200 a 300 mm.
4. El dispositivo de distribución de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque la distancia de caída libre para el líquido es al menos de 5 veces el diámetro del agujero de paso de líquido, de preferencia, al menos de 10 veces el diámetro del agujero de paso de líquido y a lo más de 50 veces el diámetro del agujero de paso de líquido.
5. El dispositivo de distribución de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque la relación entre el diámetro de la placa de rociado y el diámetro del agujero de paso de líquido se encuentra en el intervalo de 2 a 8, de preferencia, de 3 a 6.
6. El dispositivo de distribución de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque el agujero de paso de líquido tiene un diámetro en el intervalo de 3 a 25 mm, de preferencia, de 5 a 20 mm.
7. El dispositivo de distribución de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque el agujero de paso de líquido es un agujero en la bandeja de colección.
8. El dispositivo de distribución de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones 1-6, caracterizado porque las toberas de dosificación de líquido son de la forma de un tubo vertical que se extiende a través de la bandeja de colección, este tubo se encuentra abierto en su extremo inferior, en donde la placa de rociado es situada por debajo del extremo inferior del tubo y el agujero de paso de líquido es situado en el extremo superior del tubo y el diámetro interior del tubo es al menos de dos veces el diámetro del agujero de paso de líquido, de preferencia, se encuentra en el intervalo de 2 a 6 veces el diámetro del agujero de paso de líquido .
9. El dispositivo de distribución de conformidad con la reivindicación 8, caracterizado porque la distancia vertical entre el extremo inferior del tubo y el extremo superior de la placa de rociado es al menos de 0.5 veces el diámetro del agujero de paso de líquido.
10. El dispositivo de distribución de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque comprende al menos 25 toberas de dosificación de líquido por metro cuadrado de bandeja de colección, de preferencia, al menos de 50 y se prefiere que comprenda a lo más 100 toberas de dosificación de líquido por metro cuadrado de bandeja de colección, de manera más preferible, a lo más 75.
11. El dispositivo de distribución de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porgue cada chimenea de gas comprende un tubo que se extiende a través de la bandeja de colección, el tubo tiene un primer orificio de paso de gas situado por encima de la bandeja de colección y un segundo orificio de paso de gas situado en o por debajo de la bandeja de colección, en donde el primer orificio de paso de gas es situado en un nivel por encima del agujero de paso de líquido de las toberas de dosificación de liquido.
12. El dispositivo de distribución de conformidad con la reivindicación 11, caracterizado porque el diámetro interior de las chimeneas de gas es más grande que el diámetro interior de los agujeros de paso de líquido.
13. Un reactor para el hidroproceSarniento, caracterizado porque comprende capas de reacción verticalmente separadas, de preferencia, capas de partículas catalizadoras , y un dispositivo de distribución de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes por encima al menos de una capa, de preferencia, por encima de cada capa .
14. El uso del reactor de conformidad con la reivindicación 13 para el hidroprocesamiento, de preferencia, para el hidrocraqueo o hidrotratamiento .
15. Un proceso para el hidrocraqueo o hidrotratamiento, caracterizado porque una carga hidrocarbonada de líquido es contactada con un catalizador en la presencia de hidrógeno a una temperatura y presión elevadas en un reactor de conformidad con la reivindicación 13.
16. El proceso de conformidad con la reivindicación 15, caracterizado porque la carga hidrocarbonada de líquido y el gas que contiene hidrógeno son suministrados a contracorriente al reactor.