MXPA02000433A - Sistema de alimentacion de gas cloro de baja capacidad. - Google Patents

Sistema de alimentacion de gas cloro de baja capacidad.

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MXPA02000433A
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Abstract

Un dispositivo de conmutacion para proveer un abastecimiento continuo de un gas tal como cloro a un sistema de agua; el dispositivo de conmutacion incluye una salida en comunicacion con un camara asi como con una fuente de vacio y dos entradas tambien en comunicacion con la camara; el dispositivo de conmutacion contiene ademas un mecanismo de vaiven que se puede posicionar para aislar la primera entrada, la segunda entrada o ninguna entrada.

Description

SISTEMA DE ALIMENTACIÓN DE GAS CLORO DE BAJA CAPACIDAD SOLICITUDES RELACIONADAS Esta solicitud es una continuación en parte de la solicitud de E.U.A. No. de serie 08/981 ,242, presentada el 3 de abril de 1998, titulada "Low Capacity Chlorine Gas Feed System", pendiente.
ANTECEDENTES DE LA INVENCIÓN CAMPO DE LA INVENCIÓN La invención se refiere a un dispositivo de conmutación para un sistema de alimentación de gas de baja capacidad del tipo para uso en la alimentación de gas cloro con un abastecimiento de agua para clorar el agua.
Más específicamente, la invención se refiere a un dispositivo de conmutación para controlar el flujo de gas de diferentes abastecimientos de gas.
TÉCNICA RELACIONADA Los sistemas de alimentación de gas cloro de baja capacidad proveen abastecimientos procedentes de gas cloro mediante grandes dispositivo regulador de la presión del gas a un inyector en el cual se •txtc. ~m*,.r ?*¡ti?í .iaa* b . ^ - ^. i^tt^é&??ÉiM^a?^?^^á^^^^? suministra el gas cloro a un conducto de abastecimiento de agua. Un sistema de alimentación de cloro aparece ilustrado en Technical Data Sheet 910.250, titulada "SONIX 100™ Chlorinator". Se dirige también la atención a Conkling, Patente de E.U.A. No. 3,779,268, que ilustra una válvula reguladora para un sistema de gas cloro. Una limitación de algunos sistemas de abastecimiento de gas cloro es la cantidad de cloro que se puede suministrar al abastecimiento de agua. El uso de un solo cilindro de gas permite la descarga del gas cloro solamente a una velocidad de flujo limitada antes de que el congelamiento de la válvula haga inoperativa la válvula reguladora de gas. En muchas áreas, los abastecedores de gas cloro requieren que vacíen completamente los tanques de cloro, antes de que se puedan devolver al abastecedor para rellenarlos. Los sistemas existentes de la regulación del gas no han provisto un mecanismo efectivo para asegurar el uso eficiente de todo el cloro en los tanques. En otras áreas los abastecedores de gas cloro requieren que los tanques de cloro devueltos para llenarlos contengan una cantidad predeterminada de cloro en los tanques. Algunos sistemas para la regulación del gas no proveen un mecanismo efectivo para controlar la cantidad de gas que se deja en los cilindros de abastecimiento de gas. Otra limitación de algunos sistemas de gas cloro es que no han provisto un sistema efectivo y eficiente para conmutar de un recipiente de abastecimiento de cloro a otro recipiente de abastecimiento de cloro, una vez que se ha agotado el abastecimiento en el primer recipiente. Además algunos ifc feÜ-faa *±^^,.---M?t> vmtit'- >»-»-- i sistemas de alimentación de gas no aseguran el uso completo y el uso controlado del gas en el primer recipiente; otros sistemas requieren ensambles mecánicamente complejos de válvulas reguladoras que son caras y poco confiables.
BREVE DESCRIPCIÓN DE LA INVENCIÓN La presente invención provee un dispositivo de conmutación para un sistema de abastecimiento de gas. El dispositivo de conmutación incluye una salida en comunicación de fluidos con una fuente de vacío y una cámara. El dispositivo incluye además dos entradas, cada una en comunicación de fluidos con una fuente de gas y la cámara. Un mecanismo de vaivén el dispositivo de conmutación puede estar posicionado de manera que esté en contacto con una de la primera entrada, la segunda entrada o ninguna entrada. En otra modalidad, la presente invención provee también un método para proveer gas a un sistema de abastecimiento de gas. Se provee un primer gas a un inyector de vacío de una primera fuente y una primera porción de gas de la primera fuente. Se provee un segundo gas al inyector de vacío desde una segunda fuente y se continúa vaciando la primera fuente de gas, mientras la segunda fuente está proveyendo gas al inyector de vacío. En otra modalidad, la presente invención provee también un dispositivo de conmutación para abastecer gas a un sistema de abastecimiento de gas. El dispositivo de conmutación incluye un cuerpo de válvula que tiene una salida, una primera entrada y una segunda entrada. La salida está en comunicación de fluidos con una fuente de vacío, la primer entrada está en comunicación de fluidos con una primera fuente de gas y la segunda entrada está en comunicación de fluidos con una segunda fuente de gas. La primera entrada, la segunda entrada o ninguna entrada pueden estar aisladas selectivamente de la salida.
BREVE DESCRIPCIÓN DE LOS DIBUJOS La figura 1 es una ilustración esquemática de un sistema de abastecimiento de gas que modaliza la invención. La figura 2 es una vista agrandada en corte transversal de una válvula de descenso uniforme incluida en el sistema de abastecimiento de gas mostrado en la figura 1. La figura 3 es una vista agrandada en corte transversal de un inyector de gas incluido en el sistema de abastecimiento gas mostrado en la figura 1. La figura 4 es una vista en corte transversal de un dispositivo de conmutación de la presente invención. La figura 5 es otra vista en corte transversal del dispositivo de conmutación representado en la figura 4. La figura 6 es una vista alternativa en corte transversal del Í?¿,¡uÍc áJt?ii ..«-----&«» U??É& **<?iÜißlSh¿. dispositivo de conmutación representado en la figura 4.
DESCRIPCIÓN DETALLADA DE LA INVENCIÓN La invención incluye un dispositivo de conmutación para abastecer selectivamente a un sistema inyector de vacío desde una primera fuente de gas, una segunda fuente de gas o tanto una primera como una segunda fuentes de gas. El dispositivo de conmutación tiene una salida en conmutación con un inyector de vacío. El dispositivo incluye además una cámara en comunicación con la salida y dos entradas que pueden estar en comunicación con la cámara. Un mecanismo de vaivén dentro del dispositivo de conmutación puede estar posicionado, de manera que esté en contacto con la primera entrada, la segunda entrada o ninguna entrada. El dispositivo de soporte puede mantener el mecanismo de vaivén en contacto con una de las entradas. La invención incluye además un método para abastecer gas con un inyector de vacío en el cual se abastece en primer lugar gas para inyectar de vacío a una primera fuente de gas, que se une luego con una segunda fuente antes de que se agote la primera fuente. Después de que la segunda fuente ha comenzado a abastecer gas para inyectar de vacío, se drena más completamente la primera fuente. La figura 1 ilustra un sistema de alimentación de gas que modaliza la invención y que incluye una pluralidad de cilindros de gas 12. En la disposición ilustrada, los cilindros de gas 12 son recipientes convencionales --j.it jn» , tri-Ml de gas cloro. El sistema de alimentación de gas 10 incluye además un regulador de vacío 14 montado sobre cada cilindro 12, comprendiendo cada uno de los reguladores de vacío 14 una válvula operada al vacío, destinada a controlar el suministro de gas cloro desde los cilindros de gas 12. Los 5 reguladores de vacío 14 están conectados a través de tubería o conductos de plástico 16 para abastecer gas cloro a un inyector de gas cloro 18. Se muestra de la mejor manera en la figura 3 el inyector de gas cloro 18. El inyector de gas 18 provee el mezclado de gas al agua que fluye a través del conducto y facilita la inyección de gas cloro al abastecimiento de agua. En el inyector 18, 10 se disuelve el gas dosificado que entra a la puerta 22, en la cámara 23 en la corriente de agua que fluye a través del conducto 24 desde el conducto 20 de abastecimiento de agua. Se descarga la solución resultante a través del conducto 26 al punto de aplicación el flujo de agua a través del vector 18 genera un vacío en la puerta 22 o en la tubería o conducto 28. Es este vacío 15 en la tubería 28 el que jala el gas a través de los conductos 16, 30 y 32 al inyector 18 y que opera los reguladores de vacío 14 conectados a los cilindros 12. En la disposición ilustrada del sistema de alimentación de gas, está provisto un rotámetro 34 entre los cilindros 12 de alimentación de gas y el 20 inyector 18. El rotámetro 34 indica el volumen o la velocidad de flujo del gas a través de la tubería 32 y 28 al inyector 18. El rotámetro 34 puede incluir también una válvula de control 36 para controlar la velocidad de flujo a través de la tubería 32 y 28 al inyector 18. La construcción del rotámetro 34 y la '¡wi, ..i .i..J,-:.irt ?rít iÍfí i-fc..-*-i-«tt>Jifc? algM tafltaafaBa»Afew'fe<S-t? válvula de control 36 es convencional y no se describirá con detalle. Mientras que la disposición ilustrada el rotámetro 34 está montada remotamente de los reguladores de vacío 14, en otras disposiciones un rotámetro 34 podría estar montado directamente sobre cada regulador de vacío para indicar el flujo de 5 gas desde los cilindros 12 de gas individuales a la tubería 16. El sistema de abastecimiento de gas 10 mostrado en la figura 1 incluye además un dispositivo de conmutación remoto 38 para proveer abastecimiento de gas cloro desde un primer tanque 40 de cilindros durante la operación inicial del sistema de gas cloro, mientras que mantiene un segundo 10 grupo 42de cilindros en condición de espera. El dispositivo de conmutación remoto 38 incluye una válvula que aisla el segundo grupo 42 de cilindros durante la operación inicial de los cilindros y luego, cuando el gas del primer grupo 40 de cilindros se aproxima a una condición vacía, el dispositivo de conmutación remoto 38 se abre para proveer abastecimiento de gas desde el 15 segundo grupo 42 de cilindros para inyector 18, mientras mantiene también el primer grupo 40 de cilindros en comunicación con el inyector 18, de manera que se puede usar todo el gas en el primer grupo 40 de cilindros. El dispositivo de conmutación remoto 38 se puede conmutar manualmente para conectarse solamente al segundo grupo 42 de cilindros al 20 inyector 18 y para aislar el primer grupo 40 de cilindros. Se pueden quitar luego los cilindros 12 en el primer grupo 40 del sistema, para rellenar y ser reemplazados con recipientes de gas completo. El dispositivo de conmutación remoto 38 puede mantener luego esos recipientes 12 en la condición de espera hasta que el segundo grupo 42 de cilindros se aproxima a una condición vacía. En el sistema de abastecimiento de gas 10 ilustrado en la figura 1 , cada grupo de cilindros 40 y 42 incluye además un dispositivo de descenso uniforme de nivel 44 que conecta dos reguladores de vacío 14 en el grupo de cilindros de la tubería 30 comunicándose con el dispositivo de comunicación remoto 38 y el inyector 18. El dispositivo de descenso uniforme de nivel 44 provee flujo simultáneamente uniforme o igual de gas desde los dos cilindros 12 en el grupo de cilindro 40 a dispositivo de conmutación remoto 38. El dispositivo de conmutación sirve para abastecer en primer lugar gas desde una fuente inicial y luego, en respuesta a un cambio de condición, el dispositivo de conmutación añade este abastecimiento, de manera que tanto la primera fuente como la segunda fuente están abasteciendo gas al sistema. Después de que se jala hacia abajo aún más la primera fuente a un nivel escogido, el dispositivo de conmutación puede aislar la primera fuente, de manera que la segunda fuente es el único abastecimiento de gas al sistema. Se puede operar el dispositivo de conmutación manualmente, se puede operar mecánicamente o se puede controlar electrónicamente mediante el uso de un microprocesador. El dispositivo de conmutación puede usar válvulas fundibles que funcionan en conjunto una con otra o puede usar una sola válvula para conmutar de uno a otro lado entre las varias fuentes de gas. El dispositivo de conmutación puede comprender un cuerpo de válvula que tenga una o más salidas y cualquier trf fá- MÍÍÍ¿-MI^-fcliÍÉiit???i?i?fcj--iilÉ>(Mfa número de entradas. Las salidas conducen a una fuente de vacío, tal como un sistema inyector de vacío usado para tratar un abastecimiento municipal de agua con cloro. Las entradas pueden estar fijadas a una fuente de gas, tal como un tanque de gas cloro comprimido o un dispositivo de tracción descendente uniforme que está fijado a la vez a un número de tanques de gas El dispositivo de conmutación puede contener un mecanismo de vaivén que se puede mover de uno a otro lado de una entrada a otra, cerrando herméticamente una entrada a la vez, mientras que permite que la otra permanezca en comunicación con la salida. En posición neutra, el mecanismo de vaivén no esta en contacto con alguna de las entradas y permite que el gas entre de todas las fuentes fijadas. Una fuerza de desviación, tal como resorte, hace que el mecanismo de vaivén busque su posición neutra. Se puede mover el mecanismo de vaivén hacia una de las entradas mediante el uso de un mecanismo de control el cual puede ser accesible remotamente desde el dispositivo de conmutación El mecanismo de control puede ser eléctrico o mecánico y se puede operar ya se manual o automáticamente. Uno de tales mecanismos de control es un sistema de cremallera y piñón en que una cremallera está fijada integralmente al mecanismo de vaivén y los dientes de la cremallera interactúan con los dientes complementarios de un piñón que se extiende a través del dispositivo de conmutación. Se puede hacer girar el piñón externamente, por ejemplo mediante una válvula, un motor o una perilla controlada manualmente. Una vez que este en contacto con una de las entradas, el mecanismo de vaivén se puede fijar en contacto con la entrada, neutralizando esta fuerza desviadoraneutra. Esta fuerza contrarrestante puede ser provista por un dispositivo retenedor que mantiene un mecanismo de vaivén en contacto con entrada, por ejemplo, un mecanismo de retén, un trinquete y gatillo, o un solenoide. Se ajusta esta fuerza contrarrestante a un nivel en el cual será vencida por una combinación de la fuerza desviadoraneutra y la fuerza resultante de un aumento de vacío, debido al vaciamiento de abastecimiento de gas activo. Conforme se vacía un abastecimiento de gas que alimenta el sistema, se disminuye la velocidad con la cual el gas puede llenar el vacío creado por la fuente de vacío, dando por resultado un descenso de la presión en la salida, o alrededor de la misma, del dispositivo de conmutación. Este descenso resultante de la presión se puede comunicar al dispositivo retenedor de cualquier número de maneras. Por ejemplo, la salida puede estar en comunicación con un transductor de presión que se comunica eléctricamente con el dispositivo retenedor o se puede usar, alternativamente, un simple diafragma conectado mecánicamente al dispositivo retenedor. Preferiblemente, se conecta mecánicamente un diagrama flexible que tiene un lado a la presión atmosférica y el otro en comunicación con la salida a un dispositivo retenedor. Por ejemplo, si el dispositivo retenedor es un mecanismo de retén, tal como una combinación de muesca y émbolo, se puede fijar un extremo de émbolo al diafragma y el extremo opuesto de émbolo se puede asentar en la muesca para formar un dispositivo retenedor. Conforme disminuye la presión una salida, la presión atmosférica en el lado opuesto del diafragma desvía el diafragma en la dirección de presión más baja y se jala el émbolo fijado fuera de la muesca, liberando así el mecanismo de 5 vaivén para conformarse a la posición neutramente desviada, fuera de contacto con ambas entradas. Se puede escoger el tamaño de diafragma de manera que, cuando la presión de la salida cambia suficientemente que es aparente que el abastecimiento de gas corriente será rápidamente inadecuado, la fuerza que actúa sobre el diafragma es suficientemente grande 10 para liberar el dispositivo retenedor. Por ejemplo, el diafragma puede estar dimensionado de manera que la fuerza actúa sobre el sea adecuada para liberar el dispositivo retenedor, cuando el vacío de la cámara aumenta de aproximadamente 508 mm H20 a aproximadamente 1016 mm H2O. Se puede ajustar el punto de disparo de mecanismo, cambiando por ejemplo la longitud 15 de la sección de émbolo que esta articulada con la muesca, ajustando un resorte de desviación aplicando una fuerza al diafragma o ajustando la tensión de otro resorte de desviación que puede estar aplicando una fuerza centradora al mecanismo de vaivén. Una vez que se ha disparado este mecanismo de liberación y el 20 mecanismo de vaivén se ha movido a su posición neutra, ambas fuentes de gas se abren a la salida y se mantiene un abastecimiento adecuado de gas al sistema. Una vez que se ha vaciado el abastecimiento de gas consumido al grado de ser, se puede aislar entonces del sistema y reemplazar con una : J- ...íifgÍBd?-. fuente nueva. Una vez que se ha reemplazado la fuente, se puede mover el mecanismo de ejemplo para hacer contacto con la entrada, de manera que se aisla la nueva fuente de gas hasta que la presión de la salida alcance nuevamente un valor bajo predeterminado. De esta manera, se puede mantener un abastecimiento ininterrumpido de gas, mientras que se facilita el vaciado completo, o casi completo, de las fuentes de gas. Se ilustra en las figuras 4, 5 y 6 una modalidad del dispositivo de conmutación. Esta modalidad incluye un cuerpo de válvula 310 en forma de T que tiene una salida 320 que conduce al inyector de vacío (no mostrado), una primer entrada 330 que se conecta fluidamente a una primera fuente de un gas (no mostrada) y una segunda entrada 340 que se conecta fluidamente a una segunda fuente de un gas (no mostrada). Cada una de las entradas y las salidas 320 están en comunicación con una cámara 350 a través de la cual los gases fluyen de cualquiera de las dos entradas a la salida. Dentro de la cámara esta un mecanismo de vaivén para cerrar herméticamente de manera selectiva una o ninguna de las entradas. El mecanismo de ejemplo puede ser movible entre varias posiciones en la cámara y de preferencia es deslizablemente movible entre cualquiera de las dos entradas opuestas y una posición neutra en que ninguna de las entradas esta en contacto con el mecanismo de vaivén. El mecanismo de vaivén puede estar hecho de un material que sea resistente al medio ambiente gaseoso al cual esta expuesto. Los materiales adecuados incluyen vidrio, aleaciones mecánicas, polímeros sintéticos y polímeros sintéticos químicamente -J»?-»fc">?, íj .¿ká . resistentes, tales como politetrafluoroetileno. El mecanismo de vaivén puede ser una pieza sólida de un material químicamente resistente o puede estar revestido ya sea parcial o completamente con un material químicamente resistente para promover la longevidad, cuando se expone a un medio ambiente riguroso de gas, tal como el que se encuentra en un sistema que abastece gas o amoníaco a una fuente de vacío. Se prefiere que la superficie del mecanismo de vaivén que hace contacto con las entradas incluya una estructura de superficie que permita que el mecanismo de vaivén haga un cierre hermético al gas con la entrada. Se ha descubierto que uno de tales materiales es el politetrafluoroetileno de marca TEFLON® que puede ser moldeado o maquinado para formar el mecanismo de vaivén 360 mostrado en la figura 4. El mecanismo de vaivén tiene dos extremos opuestos 361 y 362. Cada uno de los extremos opuestos está configurado para cerrar herméticamente una de las entradas, cuando se mueve ya sea a la izquierda o a la derecha para coincidir con el asiento elastomérico 363 ó 364. Por ejemplo, si se desliza el mecanismo de vaivén hacia la entrada 330, el extremo 361 forma un cierre hermético con el asiento elastomérico 363, evitando así el flujo de gas de la entrada 330 a la cámara 350. De igual manera, se puede mover el mecanismo de vaivén en la dirección opuesta, de manera que el extremo 362 cierre herméticamente la entrada 340, formando un cierre hermético al gas con el asiento elastomérico 364. Los asientos 363 y 364 pueden estar formados de un material químicamente resistente que í.i»rü¡ *Wt a ¡.Üi» i rfái. pueda soportar los rigores di medio ambiente del gas al cual se pueden exponer los asientos. Uno de tales materiales es el fluoroelastómero de la marca VITON® que se ha descubierto que soporta adecuadamente un medio ambiente de gas cloro. Cada uno de los asientos 363 ó 364 puede estar formado de manera que el asiento aplique una fuerza opuesta a la provista por el mecanismo de vaivén. Esta fuerza opuesta puede ayudar en la provisión de un mejor cierre hermético entre los extremos 361 y 362 y los asientos elastoméricos 363 y 364, lo cual puede ayudar a la vez a evitar que el gas se fugue entre el asiento elastomérico y el mecanismo de vaivén. En la figura 4, los asientos elastoméricos 363 y 364 están reforzados con un resorte de Belleville (no mostrado) para proveer una fuerza opuesta a la fuerza del mecanismo de vaivén. El dispositivo de conmutación puede incluir un mecanismo de control que permite que se controle la posición del mecanismo de vaivén externamente del medio ambiente gaseoso. El mecanismo de control puede ser eléctrico o mecánico y puede ser controlado manual o automáticamente. El mecanismo de control puede ser ajustable para permitir que se mueva el mecanismo de vaivén entre tres o más posiciones, por ejemplo ponerse en contacto con una primera entrada, ponerse en contacto con una segunda entrada o no ponerse en contacto con una de las entradas. Algunos ejemplos de mecanismos apropiados de control son un solenoide, una palanca, un tornillo o una cremallera y piñón. El mecanismo de control puede incluir Í» ?é>&iXiáámLí,Aí- Ju*?**<»*á*<u*,t?? tai?Í*?l??. a»«^.^*,-^_«fc_^a__*_<__^ -t-JLjjfcjj también un dispositivo retenedor para mantener el mecanismo de vaivén en contacto con una de las entradas. Se ilustra en fa figura 4 uno de tales mecanismos que se ha descubierto que es útil en una cremallera y piñón. La cremallera 370 tiene una serie de dientes que interactúan con una serie complementaria de dientes 372 sobre el piñón 371. El piñón 371 se extiende fuera del cuerpo de válvula, a través del alojamiento de piñón 311 y está coronado por la perilla de control que se ve de la mejor manera en la figura 6. La perilla de control puede ser girada manualmente por el operario, girando así el piñón que mueve a la vez la cremallera que hace que el mecanismo de vaivén se deslice entre los asientos elastoméricos 363 y 364. Circunferencialmente fijado al piñón está un collar 380 que tiene dos muescas 381 y 382, opuestas a aproximadamente 120° una de otra, como se muestra en la figura 5. También fijado al piñón está un resorte de torsión 385 que está fijo para proveer una fuerza desviadora centradora que tiende a mover el mecanismo de vaivén a una posición neutra en que ambas entradas 330 y 340 son capaces de comunicarse con la cámara 350. Haciendo referencia nuevamente a la figura 5, alineado perpendicularmente al piñón 371 está el émbolo 383 que está contenido por el manguito 384. El resorte de compresión 386 provee una fuerza que empuja el émbolo 383 hacia el collar 380. Se puede ajustar esta fuerza girando la tuerca 387 que sirve para cambiar la longitud del resorte de compresión 386. Cuando se gira la perilla de control 374 alrededor de 60° en cualquier dirección, el .-fc-a&a-afc-fcii ffM?tlI ?a_¿_??___, .--»-*--.-» - resorte de compresión 386 hace que el émbolo 383 se deslice ya sea a la muesca 381 ó 382, dependiendo de si se ha girado la perilla en el sentido de las manecillas o en sentido contrario de las manecillas. Si se ha girado el piñón 371 en el sentido de la manecillas de manera que el émbolo 383 se haya entrelazado con la muesca 381, el mecanismo de vaivén estará en contacto con el asiento elastomérico 364 y cerrado herméticamente la entrada 340. Aunque el resorte de torsión 385 esté aplicando una fuerza que tienda a deslizar el mecanismo de vaivén a su posición central neutra, se evita este movimiento con un dispositivo retenedor, el entrelazamiento de la muesca 381 con el émbolo 383. El extremo del émbolo 383 opuesto al extremo que esté en contacto con el collar 385 está fijado a un diafragma 390. El diafragma puede estar hecho de un material que sea suficientemente flexible para permitir que el diafragma responda a un diferencial de presión a través del diafragma. Preferiblemente, el diafragma es resistente a los gases a los cuales puede estar expuesto. Por ejemplo, el diafragma puede incluir un elastómero, una aleación o un polímero químicamente resistente. Se ha descubierto que es útil uno de tales materiales en un sistema usado para abastecer gas cloro es el fluoroelastómero de marca VITON®. En un sistema para abastecer gas amoniaco a un inyector de vacío, se ha hallado que el elastómero cloro sulfonatado de marca HYPALON® provee buenos resultados. El diafragma 390 está contenido en el alojamiento de diafragma 391 que está divido en dos cámaras sin comunicación 392 y 393. La primera cámara de diafragma 393 i, At. faAj-L-faa.a -.j. i.,.. «-»ÍCa,|tht_a. _fct u^tati^í^ut^.?^?? está abierta a la atmósfera y por lo tanto está a presión atmosférica. La segunda cámara de diafragma 392 está conectada fluidamente a la cámara 350 por el tubo de vacío 394 como se muestra en la figura 6. Así, la cámara de diafragma 392 está a la misma presión que la cámara 350. En la práctica, cuando la presión de la cámara 350 desciende debajo de cierto punto, por ejemplo cuando ha disminuido el abastecimiento de gas a cierto nivel que ya no puede llenar el vacío creado en la cámara 350 por el inyector de vacío, el diafragma se desvía hacia el área de presión más baja. Cuando la cantidad de desviación excede la profundidad de la muesca 381 , el émbolo es jalado libre de la muesca 381 y la fuerza suministrada por el resorte de torsión 385 gira el piñón 371 60° en una dirección contra las manecillas del reloj (con referencia a la figura 5). Se mueve por lo tanto el mecanismo de vaivén 360 a una posición central en que ningún extremo del mecanismo de vaivén esté en contacto con un asiento y se deja entrar por lo tanto el gas a la cámara 350 a través de ambas entradas 330 y 340. De esta manera, se abastece el abastecimiento adecuado de gas desde una fuente nueva mientras se está drenando todavía eficientemente una fuente anterior. Cuando ha transcurrido suficiente tiempo para que la fuente de gas original se vacíe completamente, se puede girar la perilla de control 374 en la dirección opuesta a la ejercida previamente de manera que la válvula conectada al abastecimiento de gas vaciado quede cerrado herméticamente de la cámara 350. En este momento, se puede quitar y reemplazar la fuente vacía. Repitiendo continuamente este procedimiento, un abastecimiento de artiy- é ?{tm¿iuí.&m ¡¡.A.Mb..?iámi¿ gas adecuado se mantiene siempre en el inyector de vacío y se permite que las fuentes de gas vaciadas se vacíen completamente antes de que se quiten. La figura 2 ilustra con mayor detalle el dispositivo de descenso de nivel uniforme 44 que incluye un par de porciones de alojamiento 230 y 232 que definen las cámaras 234 y 236 separadas por un diafragma 238. La periferia del diafragma 238 está sujetada con abrazadera entre las mitades 230 y 232 del alojamiento y un anillo en O 240 provee un cierre hermético a los fluidos. La posición izquierda de alojamiento 230 mostrada en la figura 2 incluye una protruberancia o manguito 242 que aloja roscablemente un soporte de asiento de válvula 244. Un asiento de válvula 246 TEFLON® está alojado en el soporte de asiento de válvula 244 y un manguito reductor 248 provee conexión de la tubería 16 con el barreno 249. La porción derecha de alojamiento 232 incluye un protruberancia o manguito 250 que aloja un asiento de válvula 252 y está provisto un manguito reductor 254 para conectar la otra tubería 16 al barreno de entrada 256. El dispositivo de descenso de nivel uniforme 44 incluye además un carrete de válvula 260 que tiene un centro de diafragma 262 que está articulado con abrazadera a la porción central del diafragma 238 de tal manera que el carrete de válvula 260 es movible con el diafragma. Un extremo del carrete de válvula 260 incluye un cuerpo de válvula 264 selectivamente articulable con el asiento de válvula 246 y el extremo opuesto del carrete de válvula 260 incluye un segundo cuerpo de válvula 266 "articulable con el segundo asiento de válvula 252. El segundo asiento de válvula 252 incluye una pluralidad de pequeños orificios 268 entre ei cuerpo de válvula 266 y el asiento de válvula 252 para permitir que el gas controlado fluya más allá del asiento de válvula 252 cuando el miembro de válvula 266 se articula con el asiento de válvula 252. Las porciones izquierda y derecha de alojamiento 230 y 232 están provistas de las puerta de descarga 270 y 272, respectivamente, que se comunican con el tubo 30 proveyendo flujo de gas al rotámetro y el inyector 18. En operación del dispositivo de descenso de nivel uniforme, el vacío en el tubo 30 que se comunica con el rotámetro 34 aplica un vacío en tas cámaras 234 y 236 en ambos lados del diafragma 238, haciendo que se jale gas inicialmente a través de los orificios 268 alrededor del cuerpo de válvula 266. El diferencial de presión causado por el flujo de gas a la cámara derecha 236 como se ve en la figura 2 creará una presión sobre el diafragma 238 causando el movimiento del cuerpo de válvula 264 alejándose del asiento de válvula 246 para causar el flujo de gas a la cámara 234 y hasta que la presión de gas en las cámaras sobre 234 y 236 en lados opuestos del diafragma 238 sea igual. El flujo de gas desde los tubos 16 que se comunican con los dos cilindros de gas 21 se igualarán así para proveer flujo uniforme y parejo desde aquellos cilindros 12 al inyector 18. Se les ocurrirán a los expertos en la técnica otras modificaciones y equivalentes de la invención expuesta en la presente, no usando más que la experimentación de rutina y se cree que todas las tales modificaciones y equivalentes están dentro del espíritu del alcance de la definición como se define en las siguientes revivindicaciones.

Claims (15)

NOVEDAD DE LA INVENCIÓN REIVINDICACIONES
1.- Un dispositivo de conmutación para un sistema de abastecimiento de gas, que comprende: una salida en comunicación de fluidos con una fuente de vacío y una cámara; una primera entrada en comunicación de fluidos con una primera fuente de gas y con la cámara; una segunda entrada en comunicación de fluidos con la segunda fuente de gas y con la cámara; y un mecanismo de vaivén moviblemente configurado para aislar una de la primera entrada, la segunda entrada o ninguna entrada de la cámara.
2.- El dispositivo de conmutación de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque comprende también un dispositivo retenedor para mantener la posición del mecanismo de vaivén.
3.- El dispositivo de conmutación de conformidad con la reivindicación 1 , caracterizado además porque comprende también un resorte para mover el mecanismo de vaivén a una posición en que el mecanismo de vaivén no está aislando ninguna entrada de ia cámara.
4.- El dispositivo de conmut ción de conformidad con la reivindicación 2, caracterizado además porque el dispositivo retenedor comprende una muesca y un émbolo.
5.- El dispositivo de conmutación de conformidad con la reivindicación 4, caracterizado además porque comprende también un resorte en contacto con el émbolo.
6.- El dispositivo de conmutación de conformidad con la reivindicación 4, caracterizado además porque comprende también un diafragma que tiene un primer lado y un segundo lado, estando el primer lado en comunicación de fluidos con la cámara.
7.- El dispositivo de conmutación de conformidad con la reivindicación 6, caracterizado además porque el diafragma está conectado al émbolo.
8.- El dispositivo de conmutación de conformidad con la reivindicación 2, caracterizado además porque el dispositivo retenedor mantiene el mecanismo de vaivén en contacto ya sea con la primer entrada o la segunda entrada.
9.- El dispositivo de conmutación de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque la fuente de vacío es un inyector de vacío.
10.- Un método para proveer gas a un sistema de abastecimiento de gas que comprende los pasos de: proveer un primer gas a un inyector de vacío desde una primera fuente de gas; vaciar una porción del gas de la primera fuente de gas; proveer un segundo gas al inyector de vacío de una segunda fuente; y continuar vaciando el gas de la primera fuente de gas mientras la segunda fuente está proveyendo gas al inyector de vacío. -M-«A --¿¡til- -ívi.Mi*...j-' &mH - t a?t ?
11.- El método de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado además porque cada gas es gas cloro.
12.- El método de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado además porque por lo menos una de las fuentes es un dispositivo de igual descenso de nivel.
13.- Un dispositivo de conmutación para abastecer gas a un sistema de abastecimiento de gas, que comprende: un cuerpo de válvula que tiene una salida, una primera entrada y una segunda entrada, la salida en comunicación de fluidos con una fuente de vacío, la primera entrada en comunicación de fluidos con la primera fuente de gas y la segunda entrada en comunicación de fluidos con la segunda fuente de gas; y medios para aislar selectivamente la primera entrada de la salida, la segunda entrada de la salida o ninguna entrada de la salida.
14.- El dispositivo de conmutación de conformidad con la reivindicación 13, caracterizado además porque el medio para aislar selectivamente se desvía para permitir la comunicación entre ambas entradas y la salida.
15.- El dispositivo de conmutación de conformidad con la reivindicación 14, caracterizado además porque comprende también medios para mantener los medios para aislar selectivamente en contacto con la primera salida y la segunda salida.
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