MX2008010678A - Aparato y metodo para detectar la posicion focal de un sistema optico y aparato para tratamiento oftalmologico. - Google Patents

Abstract

Se describe un aparato y un método para detectar la posición enfocada de un sistema óptico (10) que comprende una fuente de radiación (12), un sistema de formación de imágenes de enfoque (16), una superficie al menos parcialmente reflectiva (18) en el foco (18a), una cámara digital (24) para registrar una imagen que es reflejada por dicha superficie (18), una computadora (C) para evaluar la imagen registrada por la camara (24) y un elemento óptico (34: 36) en la trayectoria del haz del sistema óptico (10) corriente arriba del sistema de formación de imágenes de enfoque (16), dicho elemento óptico (34; 36) influye en la imagen de acuerdo con la posición enfocada.

Description

APARATO Y METODO PARA DETECTAR LA POSICION FOCAL DE UN SISTEMA OPTICO Y APARATO PARA TRATAMIENTO OFTALMOLOGICO MEMORIA DESCRIPTIVA La invención se refiere a un aparato y un método para detectar la posición focal de un sistema óptico. En particular, la invención se refiere a un aparato y un método para detectar la profundidad del foco de un sistema óptico para formación de imágenes y también a un aparato y método para controlar la posición focal y en particular la profundidad del foco. Además, la invención también se refiere a un tratamiento oftalmológico y/o aparato de diagnóstico que utiliza dicho aparato y/o dicho método. En el caso de sistemas ópticos bajo discusión en la presente, el sistema en cuestión es en particular un sistema óptico de formación de imágenes en una instalación de procesamiento de material que utiliza fuentes de luz, tal como láser y LED en particular. El procesamiento de material debe entenderse en la presente también como material que se estructura en una microescala, por ejemplo, para materiales dieléctricos, tal como tejido biológico, o también materiales metálicos. En particular, la invención puede ser utilizada en sistemas ópticos oftalmológicos, especialmente en cirugía corneal refractiva, tal como LASIK, por ejemplo. Un área de aplicación particularmente adecuada para la presente invención en este caso es fs- LASIK, de este modo la cirugía corneal refractiva utilizando un láser femtosegundo. En los sistemas de formación de imágenes ópticas antes mencionados, lograr operaciones de procesamiento de material altamente precisas depende entre otras cosas del control exacto de la posición focal. "Posición focal" se entiende en la presente sobre todo no sólo como la ubicación del foco en la dirección del eje óptico (profundidad así denominada del foco), sin embargo, pero más generalmente también la posición y orientación de la radiación enfocada, de este modo, por ejemplo, una desviación en relación con el eje óptico ideal del sistema o angularidad del eje actual de la radiación óptica en relación con el eje óptico ideal (deseado). En fs-LASIK es particularmente importante adherirse a la profundidad calculada del foco y esto es una aplicación particular de la presente invención. En DE 10 2004 009 212 A1 , se presenta un elemento de contacto óptico para procesamiento de material por láser. Este elemento de contacto se utiliza en la modalidad preferida para fs-LASIK. En este caso este elemento de contacto consiste en una estructura óptica difractiva. Estas estructuras pretenden reducir al mínimo los ángulos de incidencia que ocurren debido a las altas aberturas numéricas de las lentes. El elemento óptico difractivo (DOE) consiste en la presente de una estructura de retícula con un periodo de retícula radialmente ajustado. Los periodos de retícula en este caso se encuentran entre 2001/mm y 5001/mm. Los valores en la escala de pm se indican como tamaños de punto. Debido a los límites ópticos, únicamente una abertura numérica de aproximadamente 0.3 es posible. La ampliación de la abertura se logra al utilizar un segundo elemento difractivo en la trayectoria del haz de la lente. Este DOE se ejecuta de igual manera como una estructura de retícula circular con un periodo de retícula que se vuelve mayor hacia el eje óptico. El logro de las aberturas numéricas más elevadas se indica aquí como una ventaja de esta ejecución. Además, el elemento de contacto se ejecuta en forma curva. El radio de curvatura corresponde al radio de curvatura del ojo, aproximadamente 8 mm. El procesamiento del material se lleva a cabo con este radio uniformemente prefijado de curvatura. La fijación por succión se lleva a cabo de igual manera para WO 03/002008 A1 y EP 1 159 986 A2. El control del foco no se lleva a cabo con este método presentado. En EP 0 627 675 A1 , un dispositivo óptico difractivo se presenta para el mapeo de uno o más puntos en el espacio desde un haz. Aquí, la estructura difractiva de igual manera consiste en una disposición similar a un segmento de elementos difractivos binarios arbitrarios o multietapas. La disposición puede ser una disposición hexagonal o hexangular en particular. De este modo, se logra el mapeo de un haz de luz. Sin embargo, únicamente se lleva cabo una transformación de intensidad y/o fase. En US 2002/0 71028, se describe un aparato para control de foco Aquí, la luz de retorno se lleva por una trayectoria del haz de formación de imágenes a la interferencia con un segundo grupo de rayos y de este modo se lleva a cabo el control de onda interferométrica.

El control de foco por medio del control de frente de onda interferométrica se lleva a cabo de igual manera en US 6, 666,857 B2. Este control de frente de onda activa durante el procedimiento de fotoablación en el ojo humano entonces se logra mediante una combinación de espejos adaptativos. No se lleva a cabo ningún control de frente de onda activa. En US 2004/0051976 A1 , se describen una disposición óptica de un microscopio confocal, que consiste en una fuente láser que se emite predominantemente en la escala espectral de UV, un expansor del haz, un conjunto de agujeros estenopeicos y una lente objetivo. Un conjunto de agujeros estenopeicos difractivos no se describe en su modalidad exacta. El incremento en eficiencia puede observarse como una ventaja de esta modalidad técnica, ya que el conjunto de agujeros estenopeicos de amplitud tiene una transmisión típica de entre 4% y 10% dependiendo de la relación de abertura. Con un conjunto de agujeros estenopeicos difractivos, por otro lado, los valores de transmisión de dicho elemento óptico de hasta 80% son posibles, la dependencia de la relación de abertura o el número de agujeros estenopeicos únicamente siendo condicionales en la fabricación en la presente. En US 2004/002 851 , una disposición óptica que consiste en un láser y ópticas de formación del haz subsecuente se utilizan para medir la longitud focal de una lente desconocida. La medición de la longitud focal se lleva a cabo en este caso al enfocarse en una superficie de referencia en varias distancias. La porción de la radiación que se refleja de vuelta es detectada. Los diámetros de punto entonces se evalúan a las distancias respectivas. La longitud focal se determina por medio de la relación de "Newton" Z Z -f2. Una retícula óptica, que no se describe con mayor detalle, se utiliza para desacoplar la porción de la radiación reflejada de vuelta. El formalismo de la matriz de Jones de igual manera se traza para calcular la longitud focal. La exactitud del método está cerca del 1 %. En US 6,909,546 B2, se describe una disposición óptica que consiste en una fuente de luz (Nd: YAG2w) y ópticas de formación de haces subsecuentes. En este caso dos elementos ópticos difractivos se utilizan para homogeneizar la radiación láser. El primero de los dos DOE se utiliza en la presente para homogeneiciación y filtrado de frecuencia espacial. Un agujero estenopeico subsecuente lleva a cabo el filtrado de frecuencia espacial. Ubicado dentro del sistema 2f del filtrado de frecuencia espacial se encuentra el segundo DOE, que produce la distribución de intensidad deseada en el campo lejano. El campo lejano se produce por las lentes de campo o por medio del segundo DOE. La distribución de intensidad deseada se produce en el foco. El control de foco no se lleva a cabo en este método. El objetivo de la invención por lo tanto es proporcionar un aparato y método con el cual pueda determinarse precisamente la posición focal de un sistema óptico. Hasta este punto la invención proporciona un aparato para detectar la posición focal de un sistema óptico con una fuente de radiación, un sistema de formación de imágenes de enfoque, una superficie al menos parcialmente reflectiva en el foco, un sistema de sensor digital adecuado (por ejemplo, una cámara CCD, una cámara CMOS o similar) para registrar una imagen que se refleja por dicha superficie, una computadora para evaluar la imagen registrada por la cámara, y un elemento óptico para en la trayectoria del haz del sistema óptico corriente arriba del sistema de formación de imagen de enfoque, cuyo elemento óptico influye en dicha imagen dependiendo de la posición focal. En este caso dicho sistema de formación de imágenes ópticas de enfoque es preferiblemente óptica de enfoque con posición focal ajustable (variable) de este modo en particular un sistema con el cual la ubicación del foco se ajusta en una dirección paralela al eje óptico de la imagen (de este modo la profundidad del foco). Además, en dicho sistema la posición focal generalmente es ajustable también en una dirección perpendicular al eje óptico de la radicación, por ejemplo, en fs-LASIK. El aparato de conformidad con la invención y el método correspondiente, de esta manera sirven en particular para la configuración inicial y alineación de un sistema óptico de manera que inmediatamente antes del procesamiento de material en relación con un plano predeterminado, la superficie así denominada, el foco se ajuste precisamente, en particular de manera que se encuentre exactamente sobre esta superficie. Cuando se utiliza en LASIK, dicho plano nulo preferiblemente es una superficie que surge debido al hecho de que la cornea se fija mediante succión en el área de interés a una superficie de referencia (esto es conocido como tal por el experto de LASIK). Este disco de aplanado, que es transparente para la radiación utilizada, se reviste en su lado que se orienta hacia la comea y se encuentra cerca de ésta de manera que un pequeño porcentaje de la radiación incidente se refleja. Esta reflexión entonces produce dicha imagen de la radiación enfocada en este plano nulo, cuya imagen se mide utilizando dicha cámara y se evalúa. En el enfocado ideal, el foco por lo tanto debe situarse exactamente en el plano nulo (de este modo esencialmente en la superficie de cornea aplanada en el ejemplo mostrado) y de conformidad con la evaluación de la imagen reflejada el sistema óptico es entonces ajustado de manera que el enfoque es óptimo, de este modo la posición del foco está exactamente en este plano nulo. El sistema óptico de este modo se fija y se alinea y puede ser utilizado para el procesamiento de material subsecuente. En el procesamiento de material subsecuente, la posición del foco generalmente cambia en relación con dicho plano nulo. De este modo en fs-LASIK, por ejemplo, cuando se corta la lengüeta así denominada el foco se coloca en el estroma y las posiciones del foco varían sucesivamente en ángulos rectos al eje óptico para producir la lengüeta. Esto es conocido como tal. La configuración inicial del sistema como se describió anteriormente garantiza una colocación exacta de los focos en los puntos objetivo deseados. En otras operaciones del procesamiento de material, el plano nulo, que también puede describirse como el plano de referencia, puede definirse de manera diferente y no necesariamente tener que coincidir con la superficie del material a ser procesado. La radiación enfocada en el plano nulo y la medición de la imagen reflejada en este plano proporciona calibración del sistema óptico de manera que la configuración de las propiedades de formación de imagen óptica del sistema óptico para el estado ideal del enfoque exactamente en el plano nulo se conoce debido a la medición de formación de imágenes, de manera que posteriormente, partiendo desde estas configuraciones del sistema óptico, la posición focal puede cambiarse de conformidad con el procesamiento de material deseado, por ejemplo, en el interior de la cornea. De acuerdo con una configuración, dicho elemento óptico, que influye en la imagen del foco a ser medida dependiendo de la posición focal, es una matriz de diafragma (conjunto de agujeros estenopeicos así denominado). El elemento óptico también puede ser un elemento óptico difractivo así denominado (DOE), que produce un modelo de punto en la distribución de campo lejano (conocido como tal por un experto en la técnica y no explicado con mayor detalle en la presente). Dicho elemento óptico puede disponerse en la trayectoria del haz de la imagen reflejada entre la superficie reflectiva y la cámara, y también fuera de esta trayectoria del haz. Las ventajas resultan en cada caso de conformidad con el tipo de aplicación. La amplitud (intensidad) o la fase (frente de onda) de la imagen reflejada puede verse influenciada preferiblemente de manera local con el elemento óptico y las porciones de desenfoque del frente de onda pueden hacerse visibles. También es posible hacer a dicho elemento óptico en la trayectoria de haz tanto sensible a la fase como sensible a la amplitud, en particular una combinación de las mismas. De acuerdo con una configuración preferida, el elemento óptico produce un modelo de punto, en particular un modelo de punto regular en forma de una matriz. La invención también proporciona un método para detectar la posición focal de un sistema óptico, en donde la radiación de una fuente de radiación se mapea por medio de un sistema de formación de imágenes de enfoque en un plano focal y en donde para determinar la posición focal del sistema óptico que incluye el sistema de formación de imágenes se produce una imagen en el foco, cuya imagen se refleja ahí y se registra por una cámara, en donde el elemento óptico influye en la imagen registrada dependiendo del enfoque de la radiación, y dependiendo de dicha influencia de la imagen, se deriva la información sobre la posición focal de la radicación enfocada en el punto focal visualizado. Ejemplos prácticos de la invención se describen con mayor detalle a continuación con referencia a los dibujos. La figura 1 muestra esquemáticamente un primer ejemplo práctico de un sistema óptico con un aparato para detectar una posición focal; La figura 2 muestra un segundo ejemplo práctico de un sistema óptico con un aparato para detectar la posición focal; La figura 3 muestra esquemáticamente un ejemplo práctico de una disposición de conformidad con la figura 2 con representación esquemática de las distribuciones de fase de la radiación en el sistema y con una matriz de perforación; La figura 4 muestra un ejemplo práctico de una disposición de conformidad con la figura 2 con un elemento óptico difractivo; y La figuras 5, 6 muestran ejemplos prácticos de imágenes registradas por una cámara con mapeo de enfoque en una manera de una matriz de perforación con enfoque exacto y/o errores de enfoque. De acuerdo con la figura 1 , un sistema óptico 10 tiene una fuente de luz 12, que puede ser, por ejemplo, un láser (tal como un láser fs, por ejemplo) o un LED etc. La radiación emitida por la fuente de luz 12 pasa a través de un espejo de salida 14 y se enfoca por medio de un sistema de formación de imágenes de enfoque 16 en un plano 18. El sistema de formación de imágenes de enfoque 16 únicamente se indica esquemáticamente en las figuras por una lente individual. Normalmente, el sistema de formación de imágenes de enfoque 16 tiene una pluralidad de lentes, de los cuales uno o más puede ser activado para configurar y cambiar el foco. Dicho sistema de formación de imágenes ópticas son conocidos como tal.

En la figura 1 , las áreas (puntos) se marcan por los signos de referencia 20a y 20b en donde un elemento óptico descrito con mayor detalle a continuación se coloca opcionalmente. Ejemplos de dichos elementos ópticos son los elementos ópticos 34 y 36 mostrados en las figuras 3 y 4. La radiación reflejada por la superficie reflectiva 18 pasa por medio del sistema de formación de imágenes ópticas 16 y si es aplicable el elemento óptico dispuesto en el área 20a y descrito con mayor detalle a continuación al espejo de salida 14 y se desvía hacia arriba desde ahí en la figura 1 por medio de ópticas de formación de imágenes 22 a una cámara digital 24, por ejemplo, una cámara CCD así denominada con alta resolución local. La imagen digital registrada por la cámara 24 se introduce en una computadora C y se evalúa ahí, como se describe con mayor detalle más abajo. La figura 2 muestra un ejemplo práctico modificado, con componentes y características que tienen las mismas funciones o funciones similares que se proporcionan con los mimos signos de referencia. En el ejemplo de conformidad con la figura 2, un expansor del haz (telescopio) que consiste en elementos ópticos 26, 28 se proporciona para expandir el haz antes de su enfoque con el sistema de formación de imágenes 16. En lugar del telescopio de Keppler mostrado en la figura, otro sistema de formación de haces también puede utilizarse en su lugar. Generalmente, el sistema óptico designado como "expansor del haz" en la figura 2 también puede ser un sistema de formación de haces.

Como ya se mencionó anteriormente, un elemento óptico puede disponerse en las áreas 20a y/o 20b de conformidad con las figuras 1 y 2 que, dependiendo del enfoque más o menos óptimo por medio del sistema de formación de imágenes 16 en la superficie reflectiva 18, influye en la imagen descrita anteriormente, que se produjo mediante reflexión y registro por la cámara 24, y así facilita una conclusión en cuanto a si el enfoque en el plano correspondiente a la superficie 18 es precisamente el que se desea o si la posición focal se desplaza en relación con este plano, por ejemplo, se encuentra demasiado lejos hacia delante o demasiado lejos hacia atrás en la dirección del eje óptico (profundidad del foco, así denominada). De acuerdo con la figura 3, una máscara de sombra 34 se dispone como un elemento óptico en el sentido de la presente en la trayectoria de haz corriente arriba del sistema de formación de imágenes de enfoque 16. En el caso ideal, el sistema de formación de imágenes ópticas 16 de este modo se fija de manera que la radiación que viene de la fuente de luz 12 se enfoque precisamente en el plano 18 en un punto predeterminado. El foco se manca en la figura 3 por el signo de referencia 18a. El ejemplo práctico de conformidad con la figura 3 corresponde con el ejemplo de conformidad con la figura 2 con un expansor del haz en el área indicada por el signo de referencia 32. Las distribuciones de fase también se marcan simbólicamente por los signos de referencia 30a, 30b, 30c. El elemento óptico 34 es una matriz de perforación con agujeros individuales N x M en la disposición individual mostrada. El elemento óptico puede ejecutarse en este ejemplo práctico como un elemento relacionado con la amplitud pura, influyendo asi en las intensidades de la radiación. Los diámetros del agujero típicos en la máscara de sombra se encuentran entre 1 µ?? y 100 µ??. Los agujeros pueden ser en particular hexangulares, cuadrados, hexagonales o también circulares. La disposición de los agujeros individuales se orienta al perfil del haz utilizado y los requerimientos con respecto a la exactitud con referencia a la posición focal. Con el sistema descrito, las posiciones focales pueden determinarse exactas a pocos µ??. Ya que la radiación en la trayectoria al plano 18 y la imagen reflejada en el plano 18 cada una pasa a través del elemento óptico 34, la imagen medida por la cámara 24 se influye dependiendo de la exactitud del enfoque en el plano 18. Un cambio en la posición focal en relación con el plano 18 (que es el plano nulo definido anteriormente) de pocos micrómetros puede detectarse por la evaluación de la imagen registrada por la cámara 24 y la computadora C. También es posible determinar la salida de la radiación que ocurre en el foco mediante integración de las intensidades medidas por la cámara 24 en los puntos de imagen individuales. La figura 5 muestra, por medio de ejemplo y esquemáticamente, imágenes de reflexión obtenidas y evaluadas de esta forma. En este caso la figura 5 muestra en la parte media la imagen de agujero similar a una matriz obtenida en el caso en donde el sistema óptico que incluye el sistema de formación de imágenes de enfoque 16 se fija de manera que el enfoque se encuentre exactamente en el punto deseado en el plano nulo 18. Como se estableció, la superficie reflectiva para producir la imagen medida también se encuentra en este plano 18. Como la imagen de agujero en la figura 5, parte media, muestra, en la imagen reflejada los agujeros individuales se iluminan por completo de manera homogénea sin una porción esférica, de conformidad con el perfil del haz de entrada. En la imagen de agujero del lado izquierdo, la figura 5 muestra un desplazamiento de la posición focal hacia atrás mediante aproximadamente 100 µ?? en relación con el plano nulo 18. En comparación con el enfoque exacto (figura 5, parte media), la evaluación de imagen produce una modificación de los puntos de imagen individuales en la matriz y la computadora C se calibra para la evaluación de manera que "reconozca" esta desviación. La calibración de la computadora puede llevarse a cabo, por ejemplo, experimentalmente de tal manera que utilizando un sistema de formación de imágenes ópticas se registren los cambios en la imagen reflejada producida y se almacenen específicamente dependiendo de la posición focal, de manera que la posición focal pueda ser determinada al compararse con las imágenes actualmente medidas. Del lado derecho, la figura 5 muestra el desenfoque por -100 µ?t? con una longitud focal de la lente de 50 mm con modificación correspondiente de la imagen de agujero comparada con el enfoque ideal. Generalmente hablando, la asimetría de la imagen, como se muestra del lado izquierdo y derecho en la figura 5, permite el análisis del enfoque. Si, con base en la evaluación de imagen utilizando la computadora C, este análisis da como resultado una distribución de brillo asimétrica en la imagen, entonces los elementos del sistema de formación de imágenes de enfoque 16 pueden cambiarse hasta que la evaluación de la imagen muestre que el foco se encuentra exactamente en el plano 18. La figura 4 muestra un ejemplo práctico del aparato para detectar la posición focal de un sistema óptico 10, en donde el elemento óptico se dispone en el área 20b en el ejemplo práctico de conformidad con la figura 2, de este modo de tal forma que la imagen reflejada en el plano 18 no pase a través del elemento óptico 36 en su camino a la cámara 24. El elemento óptico 36 en este caso es un elemento óptico difractivo (DOE), que forma, por ejemplo, un separador de haz "1 a N", de este modo divide un haz individual incidente en haces individuales N, en donde N puede variar, por ejemplo, entre 2 y 50. La divergencia provocada por el elemento difractivo 36 puede corregirse de manera refractiva o difractiva por una segunda estructura (no mostrada). Varios elementos ópticos difractivos también pueden disponerse uno detrás de otro, dependiendo del perfil del haz y el análisis deseado. Una ventaja de una disposición con elementos ópticos difractivos es la posibilidad de corrección de la distribución de fase incidente. La distribución de fase puede verse influenciada por la fuente de luz y los siguientes elementos ópticos, de este modo en particular el expansor del haz. En este ejemplo práctico también, análogo a la descripción con referencia a la figura 3, la imagen reflejada en el plano 18 se registra por la cámara 24 y se evalúa en la computadora C. La figura 6 muestra tres imágenes registradas por la cámara 24 en caso de que el elemento óptico di-refractivo produzca una distribución de radiación similar a la matriz, en donde la imagen en el lado derecho en la figura 6 muestra el caso del enfoque ideal con iluminación relativamente uniforme de los puntos de imágenes individuales. En la figura 6, del lado izquierdo, el caso se muestra en donde la posición focal se desvía lateralmente desde el punto de formación de imágenes ideal 18a, para ser precisos por cientos de micrómetros. Los puntos de imágenes individuales se iluminan asimétricamente. La figura 6, parte media, muestra una posición focal desplazada lateralmente en otra dirección, en donde los puntos de luz similares a la matriz individuales se iluminan de igual manera menos simétricamente que en el caso del enfoque ideal de conformidad con la imagen en la figura 6, lado derecho. Un elemento óptico 36 en forma de un DOE tiene la ventaja en comparación con una matriz de perforación de alta transmisión. Con un elemento difractivo, la eficiencia de entre 80 y 90% puede lograrse típicamente. Dicha disposición también facilita dinámicas muy elevadas en la evaluación de la posición focal, es decir, pueden establecerse las desviaciones del foco desde la posición objetivo ideal sobre una amplia gama. También es posible colocar el elemento óptico difractivo 36 en las áreas 20a de conformidad con las figuras 1 y 2. El elemento óptico difractivo también puede ejecutarse como un binario o también como una estructura de retícula de niveles múltiples así denominada. Las estructuras de retícula pueden ser unidimensionales o también bidimensionales. Si una disposición de conformidad con las figuras 1 , 2, 3 o 4 se utiliza en fs-LASIK, entonces la superficie reflectiva 18, que define el plano nulo explicado anteriormente, por ejemplo, puede estar cerca de un disco transparente en un aparato de succión conocido como tal, que se construye (reviste o no reviste) de manera que un pequeño porcentaje de la radiación incidente se refleje para obtener la imagen a ser registrada por la cámara 24. Lo siguiente se utiliza en particular como elementos ópticos difractivos; retículas, lentes de zona Fresnel, elementos de formación de haces así denominados etc. Los componentes ópticos refractivos así denominados también pueden utilizarse como el elemento (36): por ejemplo, conjuntos de microlentes, elementos de formación de haces. Si se utiliza el elemento óptico 34 para análisis de amplitud, entonces las máscaras de sombra o también disposiciones de agujeros en cualquier geometría tal como cuadrada, hexangular, hexagonal, etc., son particularmente adecuadas, dependiendo del tipo de haz y objetivo de análisis. El elemento óptico también puede formarse como una ranura o como una disposición de varias ranuras. Utilizando las disposiciones descritas, no sólo puede determinarse y controlarse la posición focal, sino las divergencias del haz, salidas de láser, desviaciones de la radiación desde el eje óptico, desviaciones en el producto del haz M2 así denominadas o los cambios en el perfil del haz de salida de la fuente de luz 2 también pueden ser detectados, ya que todos estos parámetros de haces pueden tener una influencia en la imagen reflejada registrada por la cámara 24. Con respecto a todos los parámetros de haces, la computadora C puede proporcionarse experimentalmente de antemano con una base de datos a través de los ensayos objetivo, cuya base de datos asigna desviaciones desde los valores objetivo ideales, cada uno de los cuales corresponde con las alteraciones de imagen, a los parámetros de haces individuales, de manera que el sistema sea ajustable a los valores ideales por intervención con las variables de corrección correspondientes. El uso de elementos ópticos difractivos en la presente facilita la compensación de cualquier alteración de fase que ocurra posiblemente en la trayectoria del haz que también pueda influir en la posición focal. El sensor de Hartmann Schack, conocido como tal, no facilita dicho análisis.

Claims (10)

NOVEDAD DE LA INVENCION REIVINDICACIONES

1 .- Un aparato para detectar la posición focal de un sistema óptico (10) con una fuente de radiación (12), un sistema de formación imágenes de enfoque (16), un superficie al menos parcialmente reflectiva (18) en el foco (18a), un sistema de sensor digital (24) para registrar una imagen reflejada por dicha superficie (18), una computadora (C) para evaluar la imagen registrada por el sistema de sensor digital (24), y con un elemento óptico (34; 36) en la trayectoria del haz de sistema óptico (10) corriente arriba del sistema de formación de imágenes de enfoque (16), caracterizado porque el sistema óptico (10) es una disposición LASIK y porque el elemento óptico (34; 36) en la trayectoria del haz influye en la fase o amplitud de dicha imagen dependiendo de la posición focal, en donde la superficie parcialmente reflectiva (18) refleja un corto porcentaje de la radiación incidente para obtener la imagen a ser registrada utilizando el sistema de sensor digital.

2. - El aparato de conformidad con la reivindicación 1 , caracterizado además porque el elemento óptico (34; 36) es una matriz de perforación.

3. - El aparato de conformidad con la reivindicación 1 , caracterizado además porque el elemento óptico (34; 36) es un elemento óptico difractivo.

4. - El aparato de conformidad con una de las reivindicaciones antenores, caracterizado además porque el elemento óptico (34) se dispone en la trayectoria del haz de dicha imagen reflejada.

5. - El aparato de conformidad con una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado además porque el elemento óptico (36) se dispone fuera de la trayectoria del haz de la imagen reflejada.

6. - El aparato de conformidad con una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado además porque el elemento óptico (34; 36) tiene una estructura de retícula.

7.- El aparato de conformidad con la reivindicación 3, caracterizado además porque el elemento óptico difractivo (34; 36) produce un patrón de puntos, en particular un patrón de puntos en forma de una matriz.

8. - El aparato de conformidad con una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado además porque la fuente de radiación (12) es un láser-fs.

9. - El aparato de conformidad con una de las reivindicaciones anteriores, con medios para configurar la formación de imágenes del sistema óptico (10) dependiendo de la evaluación de la computadora.

10. - Un método para detectar la posición focal de un sistema óptico (10) inmediatamente antes del procesamiento de material, en donde la radiación de una fuente de radiación (12) se mapea por medio de un sistema de formación de imágenes de enfoque ( 16) en un plano focal (18) y en donde para determinar la posición focal de un sistema óptico que incluye el sistema de formación de imágenes (16) por medio de un elemento óptico (34; 36) en la trayectoria del haz se produce una imagen en el foco (18a), que se refleja ahí y se registra por una cámara (24), en donde dicho elemento óptico (34; 36) influye en la imagen registrada dependiendo del enfoque de la radiación y en donde dependiendo de dicha influencia de la imagen se deriva una conclusión sobre la posición focal de la radiación enfocada en relación con un punto focal visualizado (18a), caracterizado porque por medio del elemento óptico (34;36), la fase o amplitud de la imagen se ve influenciada dependiendo de la posición focal y porque el sistema óptico es una disposición LASIK, en donde la superficie parcialmente reflectiva (18) refleja un pequeño porcentaje de la radiación incidente para obtener la imagen a ser registrada utilizando el sistema de sensor digital. 1 1 . - El método de conformidad con la reivindicación 10, caracterizado además porque por medio de dicha conclusión derivada sobre la posición focal un elemento óptico del sistema óptico (10) se fija para cambiar la posición focal. 2. - Un aparato para llevar a cabo un tratamiento oftalmológico o diagnóstico con radiación láser de femtosegundos utilizando un aparato de conformidad con una de las reivindicaciones 1 a 9.