WO2023208863A1 - Vorrichtung und verfahren zur fokuslagen-bestimmung mit berücksichtigung von prozessgas - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zur fokuslagen-bestimmung mit berücksichtigung von prozessgas Download PDF

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WO2023208863A1
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detector
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sample
intensity distribution
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PCT/EP2023/060696
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Reinhard Kramer
Stefan Wolf
Johannes ROßNAGEL
Marc Hänsel
Roman Niedrig
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Primes Gmbh Messtechnik Für Die Produktion Mit Laserstrahlung
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    • G02B7/28Systems for automatic generation of focusing signals
    • G02B7/36Systems for automatic generation of focusing signals using image sharpness techniques, e.g. image processing techniques for generating autofocus signals

Definitions

  • the invention relates to a device and a method for determining the axial position of a focus of an energy beam made of electromagnetic radiation, which is guided in laser processing optics.
  • the energy beam can in particular be a laser beam.
  • the laser processing optics can in particular be a cutting optics with a cutting gas device.
  • the invention particularly provides devices and methods that enable the position of the beam focus of a processing optics to be determined during an ongoing laser processing process.
  • the adjustment and control of the axial focus position of the laser beam relative to the material or workpiece to be processed has a major influence on the quality of the processing process.
  • the workpiece does not simultaneously ensure a defined axial position of the laser beam focus relative to the workpiece, since the focus position of the Laser processing optics can vary independently or can change unintentionally or uncontrollably.
  • Modern laser processing systems use lasers with high brilliance and high power, often in the range of several kilowatts. Due to the material properties in the optical elements of laser processing optics, the high laser power leads to heating of the optical elements. This creates a radial temperature gradient in the optical elements, which results in a change in the refractive power of the optical elements due to the temperature dependence of material parameters such as the refractive index. This effect is called thermal focus shift. The effect is intensified by the reaction products and particles of various sizes created during laser material processing, which can be deposited on the processing optics or the protective glass of the processing optics and lead to increased absorption. The protective glasses in particular often contribute to an undesirable and uncontrolled change in the beam focus position of the processing optics.
  • laser processing optics can also have devices for targeted adjustment or variation of the axial focus position.
  • part of the lens system of the processing optics in particular the collimator or a lens of the collimator objective, can be arranged in an axially adjustable manner in order to be able to specifically adjust or track the axial focus position of the optics.
  • WO 2021/156 788 A1 discloses a cutting optics in which part of the focused laser beam is coupled out laterally and directed onto a wavefront sensor by means of an optical element arranged in front of the cutting nozzle. The determined wavefront is compared with a reference wavefront. For reduction To avoid aberrations, the focus position can be changed using an adjustable focus.
  • a laser processing head is also known from DE 10 2011 007 176 A1, in which the laser radiation reflected back on an inclined optical element, in particular a protective glass, is directed onto a detector in order to determine the focus position from the radiation detected by the detector.
  • the focus position can also be regulated.
  • a detection of the beam properties based on the measurement of the coupled-out reflex at at least two locations offset from one another along the direction of propagation is proposed.
  • the focus position can be determined from the determined beam properties.
  • a protective glass inclined to the beam axis is also used here.
  • JP H 03023091 A discloses the use of a low pressure of the process gas during the piercing process, while a process gas is then supplied under high pressure during cutting.
  • the known influences on the focus position of a processing optics are, on the one hand, the thermal focus shift and, on the other hand, the targeted influence on the focus position by adjustable optical elements.
  • the known focus position sensors and methods for determining a focus position are inaccurate because the effects of a pressurized process gas, in particular a cutting gas, on the focus position are not taken into account.
  • the task is therefore to enable a more precise determination of the focus position, particularly for cutting optics.
  • a beam analysis device for determining an axial position of a focus, which comprises a focus position sensor and an evaluation device.
  • the focus is a focus of an energy beam made of electromagnetic radiation guided in a laser processing optics.
  • the focus position sensor contains a beam shaping device and a detector.
  • the beam shaping device is set up to receive a sample beam.
  • the beam shaping device is further configured to image at least part of the sample beam onto the detector by means of the beam shaping device in order to form an intensity distribution on the detector.
  • the detector includes a sensor that is sensitive to light radiation and has a spatial two-dimensional resolution and is set up to convert the intensity distribution striking the detector into electrical signals.
  • the evaluation device is set up to process the electrical signals from the detector, which represent the intensity distribution on the detector.
  • the evaluation device is also set up to determine a geometry parameter from the intensity distribution.
  • the evaluation device is further set up to receive a cutting gas signal, which represents a pressure of a process gas or a cutting gas.
  • the evaluation device is also set up to determine a correction value taking the cutting gas signal into account.
  • the evaluation device is also set up to determine the axial position of the focus of the energy beam, taking into account the geometry parameter and the correction value.
  • the beam analysis device has the advantage that changes in the focus position, which are caused by a process gas or a cutting gas, in particular under varying and / or high pressure, are compensated for by taking a cutting gas signal into account when determining the focus position, and in this way a much more precise and reliable determination of the focus position is achieved during an ongoing machining process.
  • the sample beam can be generated by back-reflection of a fraction of the energy beam at an interface of an optical element of the laser processing optics.
  • the optical element can adjoin a cavity of a cutting gas device of the laser processing optics.
  • the sample beam can be decoupled from the laser processing optics by means of a decoupling device.
  • the sample beam can be fed to the beam shaping device of the beam analysis device.
  • the cutting gas signal can represent a current pressure of a process gas or cutting gas in the cavity of the cutting gas device.
  • the beam shaping device and the detector can be arranged together in a housing which has an opening for introducing the sample beam.
  • the housing can be connectable to the laser processing optics, so that the sample beam that can be coupled out by means of the decoupling device can be fed to the beam shaping device.
  • the evaluation device can comprise an input unit for the cutting gas signal, an input unit for the detector signal, a storage unit, and a calculation unit.
  • the evaluation device can be set up to determine the correction value taking into account calibration data stored in the storage unit.
  • the calibration data can describe a change in the geometry parameter depending on the cutting gas signal.
  • the evaluation device can be set up to receive a lens position signal which represents the axial position of an axially positionable lens or lens group of the laser processing optics. Furthermore, the evaluation device can be set up to determine the axial position of the focus of the energy beam, taking into account the geometry parameter, the correction value, and the lens position signal.
  • the evaluation device can include an input unit for the lens position signal.
  • the evaluation device can be set up to calculate a focus tracking signal from the specific axial position of the focus of the energy beam, which is an actual focus position, and from a target focus position. Furthermore, the evaluation device can be set up to output the focus tracking signal, which can be transferred to an adjusting device directly or via a higher-level control device. A position of an axially positionable lens of the laser processing optics can be adjusted by means of the adjusting device.
  • the evaluation device can include an output unit for the focus tracking signal.
  • the beam shaping device can comprise an imaging device with at least one optical lens.
  • the beam shaping device can be set up to image the sample beam onto the detector and to shape the intensity distribution on the detector with a beam spot that has a diameter of 0.
  • the determination of the geometry parameter by the evaluation device can include a determination of the diameter 0 of the beam spot on the detector.
  • the beam shaping device can comprise a lens array for imaging the sample beam onto the detector and for shaping the intensity distribution on the detector with a plurality of beam spots that have distances of 3NI, aN2, ... 3NM from one another.
  • the determination of the geometry parameter by the evaluation device can include a determination of at least one of the distances 3NI, aN2, ... 3NM of the beam spots from one another.
  • the beam shaping device can comprise a modulation device for releasing two partial beams from the sample beam.
  • the beam shaping device can also be set up to image the two Partial beams on the detector to shape the intensity distribution on the detector with two beam spots that are at a distance a from each other.
  • the determination of the geometry parameter by the evaluation device can include a determination of the distance a between the beam spots.
  • An embodiment of the beam analysis device is also provided in which the beam shaping device can be set up to separate two partial beams from the sample beam in a plane of partial beam separation.
  • the two partial beams are a first partial beam and a second partial beam.
  • Cross sections of the two partial beams in the plane of partial beam separation are each defined by a partial aperture.
  • the partial apertures are separated from each other. Center points of the partial apertures are at a distance k from one another.
  • a first lateral direction is defined by the distance k of the partial apertures.
  • the term “lateral” refers to directions in planes perpendicular to the respective local optical axis.
  • the beam shaping device can further be set up to shape the intensity distribution on the detector with beam spots and to form at least one beam spot from the first partial beam and at least one beam spot from the second partial beam to image the two partial beams onto the detector.
  • the detector can be arranged along a propagation path for the partial beams at a distance s behind the plane of partial beam release.
  • the determination of the geometry parameter by the evaluation device can include a determination of a distance a along the first lateral direction between positions of the two beam spots on the detector.
  • the beam shaping device can be set up to deflect and/or offset at least one of the at least two partial beams in a second lateral direction in order to form a distance w along the second lateral direction between the two beam spots on the detector.
  • the second lateral direction is aligned transversely to the first lateral direction.
  • the beam shaping device can be set up to form the (at least two) partial apertures for releasing one partial beam in the plane of the partial beam release.
  • the beam shaping device can be set up so that the beam spot of one of the at least two partial beams and the beam spot of the other of the at least two partial beams on the detector form the distance a from one another due to the distance k (in the first lateral direction in the plane of partial beam separation) on the detector along the first lateral direction on the detector, where the distance a depends, among other things, on the axial position of the beam focus.
  • the beam shaping device can be set up so that the beam spot of one of the at least two partial beams and the beam spot of the other of the at least two partial beams on the detector due to the deflection and / or offset of at least one of the two partial beams additionally along the second lateral Direction on the detector can be offset from one another by the distance w, the second lateral direction on the detector being transverse to the first lateral direction on the detector.
  • the distance a can under certain circumstances become small or even zero. Due to the additional distance w between the two beam spots on the detector, the two beam spots can still be distinguished even in such a case.
  • the beam shaping device can be set up in such a way that the distance w is so large that the two beam spots only partially (or preferably not) overlap even in the event that the distance a becomes zero.
  • a beam analysis device is also provided in which the first lateral direction and the local optical axis between the plane of partial beam separation and the detector can be changed by beam folding and/or beam deflection.
  • the beam shaping device can be set up to deflect and/or offset the two partial beams relative to one another.
  • a difference between the deflections and/or offsets of the two partial beams can be aligned along the second lateral direction to form the distance w along the second lateral direction between the two beam spots on the detector.
  • the beam shaping device can comprise a beam separator device with at least one partial beam deflection element for deflecting and/or offsetting a first of the at least two partial beams in the second lateral direction to form the distance w along the second lateral direction between the two beam spots on the detector.
  • the optional beam separator device can also include at least two partial beam deflection elements for deflecting and/or displacing the two partial beams relative to one another. A difference between the deflections and/or offsets of the two partial beams is aligned along the second lateral direction to form the distance w along the second lateral direction between the two beam spots on the detector.
  • the optional beam separator device can contain at least one wedge plate as a partial beam deflection element, which can be arranged aligned in the beam direction in front of or behind one of the partial apertures, and which is set up to deflect the partial beam released by the partial aperture by an angular amount in the range of 0.02° to 6° .
  • the optional beam separator device can contain at least one tilted plane plate or a prism as a partial beam deflection element, which can be arranged in front of or behind one of the partial apertures in alignment in the beam direction, and which can be used to offset the partial beam separated from the partial aperture by an amount in the range of 0 .05 mm to 3 mm is set up.
  • the evaluation device can further be set up to determine a lateral position of the entire intensity distribution on the detector and be set up to calculate a lateral position of the focus of the energy beam from the lateral position of the entire intensity distribution and/or to calculate a change in the lateral position of the focus of the energy beam from a change in the lateral position of the entire intensity distribution.
  • a system can also be provided which includes a beam analysis device and laser processing optics for guiding and focusing the energy beam.
  • the processing optics can include a decoupling device for decoupling the sample beam.
  • the beam analysis device can be connectable to the processing optics to receive the coupled-out sample beam.
  • a beam analysis method for determining an axial position of a focus is also provided.
  • the focus is a focus of an energy beam made of electromagnetic radiation guided in a laser processing optics.
  • the procedure includes at least the following steps:
  • Beam shaping device on a detector to form an intensity distribution on the detector
  • the beam analysis method according to the invention can be further developed by one or more of the optional steps listed below.
  • a possible beam analysis method may additionally include the following three steps:
  • the optical element can adjoin a cavity of a cutting gas device of the laser processing optics.
  • the correction value can be determined taking calibration data into account.
  • the calibration data can describe a change in the geometry parameter depending on the cutting gas signal.
  • Another possible procedure may include the following two steps:
  • a lens position signal which represents the axial position of an axially positionable lens or lens group of the laser processing optics.
  • Yet another possible method may involve the following two steps:
  • FIG. 1 shows an embodiment of the beam analysis device 10 according to the invention.
  • the beam analysis device 10 includes a focus position sensor 13 and an evaluation device 80.
  • the focus position sensor 13 includes a beam shaping device 12 and a detector 40.
  • the beam shaping device 12 is set up to receive a sample beam 70, which is along a local optical Axis 11 is propagated.
  • the beam shaping device 12 and the detector 40 can be arranged together in a housing which has an opening for introducing the sample beam 70.
  • the sample beam 70 has an intermediate focus 71.
  • the beam shaping device 12 can contain an optical lens, as indicated in the figure with a typical lens shape.
  • the intensity distribution 79 has at least one specific geometric property, for example a diameter of a beam spot and/or a distance between two beam spots in the intensity distribution 79.
  • the detector 40 contains a radiation-sensitive two-dimensionally resolving sensor, which converts the intensity distribution 79 into an electrical signal 64.
  • the evaluation device 80 includes an input unit 84 for the detector signal 64, a storage unit 81, a calculation unit 86, and an input unit 83 for a cutting gas signal 63.
  • the cutting gas signal 63 can have at least two different states or values, which are two different Represent pressures of a cutting gas in a cutting gas device.
  • the calculation unit 86 is set up to access the data of the input unit 84 for the detector signal 64, the data of the storage unit 81, and the data of the input unit 83 for the cutting gas signal 63. Using the calculation unit 86, the evaluation device 80 determines a geometry parameter from the intensity distribution 79, which represents the specific geometric property of the intensity distribution. The geometry parameter can therefore be, for example, the diameter of a beam spot or the distance between two beam spots in the intensity distribution 79. Using the calculation unit 86, the evaluation device 80 further determines a correction value taking the Cutting gas signal 63. Finally, the calculation unit 86 determines the axial position of a beam focus, taking into account the geometry parameter and the correction value.
  • the beam focus can be the intermediate focus 71 of the sample beam 70 or an energy beam focus of a processing optics, the focus position of which is coupled to the position of the intermediate focus 71.
  • the sample beam 70 can be generated in the processing optics by partial reflection from an energy beam or laser beam and can be coupled out of the processing optics.
  • an axially displaced sample beam 70' with a correspondingly displaced intermediate focus 7T is also sketched with dashed lines. If the axial position of the intermediate focus 71 changes, the intensity distribution on the detector 40 and thus also the size of the geometry parameter also change as a result of the imaging by the beam shaping device 12.
  • FIG. 2 shows the same beam analysis device 10, which is already shown in Figure 1 and described above.
  • the same reference numbers refer to the same elements and features as in FIG. 1, so that reference is made to the associated description.
  • the optical system of the processing optics 100 includes a collimator optics 113, a decoupling device 115, a focusing optics 116, and a protective glass 120, which are arranged along an optical axis 111.
  • An energy beam in particular a laser beam 77, is supplied to the processing optics 100 via a light guide cable.
  • the laser beam 77 is emitted from the optical fiber end 110 of the optical cable and collimated by the collimator optics 113.
  • the collimated laser beam 77 passes through the decoupling device 115 and is then focused by the focusing optics 116 into an energy beam focus 76.
  • the protective glass 120 is arranged between the focusing optics 116 and the energy beam focus 76.
  • the processing optics 100 shown is in particular a cutting optics.
  • the processing optics 100 therefore has a cutting gas device 140. By means of the cutting gas device 140, a process gas or cutting gas 146 is supplied to the cutting process, which serves, among other things, to blow the melt out of the cutting gap.
  • the cutting gas device 140 has a cavity 141, which is separated from the protective glass 120 extends to a cutting nozzle 142.
  • the cutting gas 146 is supplied to the cavity 141 via a cutting gas supply 143 and leaves the cavity 141 through the bore of the cutting nozzle 142 coaxially with the focused laser beam 77.
  • a fraction of the laser beam 77 is coaxially reflected back into the processing optics 100.
  • the back-reflected portion of the laser beam 77 forms the sample beam 70.
  • the residual reflection of an anti-reflective coating located on the interface 121 can be used to generate the sample beam 70.
  • the sample beam 70 therefore represents a mirror image of the energy beam 77 with greatly reduced power and consequently has the mirror-image geometric properties of the energy beam 77.
  • the sample beam 70 has an intermediate focus 71, which is therefore a mirror image of the energy beam focus 76. This means that changes in the axial focus position 76 result in a proportional change in the mirrored focus or intermediate focus 71 in the sample beam 70.
  • the sample beam 70 is coupled out of the processing optics 100 by means of the beam decoupler 115 and leaves the processing optics at a beam exit.
  • the housing of the beam analysis device 10 is coupled to the focus position sensor 13 at this beam output.
  • the beam decoupler 115 can, for example, comprise an inclined, partially reflecting element.
  • the partially reflecting element of the decoupling device 115 can be an anti-reflective coated transparent flat plate.
  • the focus position in the sample beam 70 is determined, i.e. the focus position of the intermediate focus 71, and from this the position of the energy beam focus 76 of the laser beam 77 coupled to it is determined.
  • the cutting gas device 140 has a gas pressure sensor 62, which can be arranged, for example, in a niche of the cavity 141 of the cutting gas device 140.
  • the gas pressure sensor 62 measures the pressure in the cavity 140 and delivers the result of the pressure measurement as a cutting gas signal 63 to the evaluation device 80.
  • the gas pressure sensor 62 can be connected directly to the input unit 83 of the evaluation device 80 via a data connection. It is also possible for the gas pressure sensor 62 to be connected to a higher-level control, for example a system control, and to provide the pressure measurement result to the higher-level control. In this case, the input unit 83 is then Evaluation device 80 is connected to the higher-level controller via a data connection and receives the cutting gas signal 63 from there.
  • FIG. 3 the beam path after the focusing optics 116 of the processing optics 100 is shown schematically.
  • the effects of a pressurized cutting gas 146 on the beam path of the energy beam 77 and on the beam path of the sample beam 70 are shown.
  • the cutting gas 146 is supplied to the cavity 141 via a cutting gas supply 143 and leaves the cavity 141 through the bore of the cutting nozzle 142 coaxially with the focused laser beam 77.
  • the cutting gas 146 is under a high pressure p 'and therefore has an increased refractive index n' .
  • the laser beam 77 is refracted, that is, the optical path within the cavity 141 changes, as a result of which its axial focus position 76 is shifted.
  • the distance between the protective glass 120 and the target focus position 76 is marked as distance L. At the same time, this corresponds approximately to the length of the beam path that the laser beam traverses in the pressurized cavity 141. Since the refractive index of the cutting gas under pressure is greater than under normal pressure, the shifted energy beam focus 76 'is further away from the focusing optics 116. The energy beam focus 76 is shifted by an axial amount AZF. If the protective glass were completely rigid, the position of the intermediate focus 71 in the sample beam would not change.
  • the protective glass 120 which is under the pressure of the cutting gas 146, suffers a slight deflection, so that the interface 121 has a very slight curvature.
  • This also shifts the intermediate focus 71 of the sample beam 70 towards a shifted sample beam 70' with a shifted intermediate focus 7T.
  • the intermediate focus 71 is thus shifted by an axial amount Azps.
  • the amount of displacement Azps of the intermediate focus 71 generally has a different size than the amount of displacement AZF of the energy beam focus 76. Both amounts of displacement AZF and Azps are approximately proportional to the level of the cutting gas pressure p.
  • FIG. 4 shows the beam path after the focusing optics 116 of the processing optics 100.
  • FIG Energy beam 77 in the protective glass 120 the temperature T of the protective glass 120 is increased compared to the ambient temperature To, which creates a thermal focus shift in the protective glass 120.
  • the thermal focus shift acts like a weak additional refractive power, so that the shifted energy beam focus 76 'has moved closer to the focusing optics 116 in this example.
  • the distance between the intermediate focus 71 and the protective glass is also shortened as a result.
  • the sample beam 70 passes through the protective glass 120 a second time after reflection at the interface 121, so that the effect of the thermal lens in the protective glass 120 on the sample beam 70 is approximately twice as great as the effect on the energy beam 77.
  • 5 shows a beam analysis device 10 as in FIG. 1 in conjunction with processing optics 100 as in FIG. 2.
  • 5 shows schematically how the beam path of laser beam 77 and sample beam 70 change when the cutting gas 146 is supplied under high pressure p. This then results in a different intensity distribution 79 in particular on the detector 40 of the focus position sensor 13.
  • the evaluation device 80 additionally has an input unit 85 for a lens position signal 65. Otherwise, the beam analysis device 10 corresponds to the device from FIGS. 1, 2 and 5. Reference is made to the corresponding descriptions.
  • the processing optics 100 includes a collimator optics or collimator lens 113 that can be axially adjusted by means of an adjusting device 105 for targeted adjustment of the position of the energy beam focus 76. Since the imaging properties of the entire optical system of the processing optics 100 can change slightly with the position of the collimator with consideration of the lens position signal 65 improves the accuracy of the determined focus position when determining the focus position by the evaluation device 80.
  • the beam analysis device 10 shown in FIG. 7 additionally has an output unit 87 for a focus tracking signal 67. Otherwise, the beam analysis device 10 corresponds to the device from FIG. 6.
  • the evaluation device 80 is set up to calculate a focus tracking signal 67 from the specific axial position of the focus 76 of the energy beam 77 as the actual focus position, and from a predetermined one Focus target position.
  • the target focus position can also be a previously determined focus position or a focus position determined under optimal conditions.
  • the focus tracking signal 67 is transferred directly or alternatively via a higher-level control device, for example a system control, to the adjusting device 105, by means of which the position of an axially positionable lens of the laser processing optics 100, in this case the collimator optics 113, can be adjusted.
  • a higher-level control device for example a system control
  • the adjusting device 105 by means of which the position of an axially positionable lens of the laser processing optics 100, in this case the collimator optics 113, can be adjusted.
  • a particularly precise control of the focus position of the energy beam focus 76 is realized by means of the improved accuracy of determining the focus position.
  • the intensity distribution 79 on the detector has a beam spot 91, the diameter 0 of which is determined by the evaluation device 80 as a geometry parameter.
  • the beam spot 9 shows schematically the intensity distribution 79 on the detector 40 with a beam spot 91 for the beam analysis device 10 according to FIG. 8 with the first embodiment of the focus position sensor 13.
  • the beam spot 91 has a diameter 0.
  • the changed beam spot 9T has a changed diameter 0', in this example an enlarged diameter.
  • the focus position sensor 13 contains a lens array 56 with a plurality of individual lens elements 57 arranged laterally next to one another in a plane.
  • the beam shaping device 12 can optionally comprise an imaging device 50 with an optical lens 51. Each individual lens element 57 illuminated by the sample beam 70 images a small aperture section of the sample beam 70 onto the detector 40.
  • an intensity distribution 79 with a large number of individual beam spots is generated on the detector 40, which have distances of 3NI ... 3NM from one another.
  • the distances aNi ... 3NM of the beam spots vary depending on the axial position of the intermediate focus 71 and thus with the axial position of the energy beam focus 76.
  • the evaluation device 80 uses one or more of the distances aNi ... 3NM of the beam spots as Geometry parameters for determining the axial focus position.
  • the beam shaping device 12 comprises an imaging device 50 with an optical lens 51 and a modulation device 20 with a blocking zone 25 and two pass zones 23, 24.
  • the modulation device 20 has the two pass zones 23, 24.
  • the imaging device 50 the partial beams 73, 74 separated from the sample beam 70 are imaged onto the detector 40 to form an intensity distribution 79 with two beam spots 93, 94.
  • the partial beam 73 separated from the transmission zone 23 forms the beam spot 93 on the detector 40. Accordingly, the beam spot 94 on the detector 40 is formed by the partial beam 74, which is separated from the transmission zone 24.
  • the distance a between the beam spots 93, 94 depends on the axial position of the intermediate focus 71 of the sample beam 70 and thus on the axial position of the energy beam focus 76 of the laser beam 77. Consequently, the size of the distance a the axial position of the beam focus 71 and thus the axial position of the energy beam focus 76 are determined.
  • the evaluation device 80 therefore determines the distance a between the beam spots 93, 94 from the intensity distribution 79 as the geometry parameter, from which the focus position 76 is then determined, taking the cutting gas signal 63 into account.
  • the beam analysis device 10 shows the beam analysis device 10 according to the invention with a fourth embodiment of the focus position sensor 13.
  • the fourth embodiment of the focus position sensor 13 contains all elements of the third embodiment of the focus position sensor 13 from FIG. 11 and additionally a beam separator device 52.
  • the beam shaping device 12 of the beam analysis device 10 includes in The fourth embodiment thus includes an imaging device 50 with an optical lens 51, a modulation device 20, and a beam separator device 52.
  • the beam separator device 52 comprises at least one partial beam deflection element 53, 54.
  • the beam separator device 52 contains two partial beam deflection elements 53, 54.
  • the modulation device 20 is used to separate two partial beams 73, 74 from the sample beam 70 in a plane of partial beam separation 19.
  • the modulation device 20 has at least two mutually delimited pass zones 23, 24 and at least one blocking zone 25, which completely encloses the pass zones 23, 24 and separates from each other.
  • the radiation propagates further to the detector 40;
  • the propagation of the radiation to the detector is hindered.
  • the edges of the transmission zones 23, 24 delimit two partial apertures 33, 34, which define the cross sections of the partial beams 73, 74 formed in this way in the plane of the partial beam release 19.
  • the center points of the partial apertures 33, 34 are at a distance k from one another.
  • the distance k that is, the imaginary shortest connection of the center points of the partial apertures 33, 34, defines a first lateral direction 31.
  • the first lateral direction 31 is aligned perpendicular to the local optical axis 11. 12, the first lateral direction 31 is aligned in the plane of the drawing, that is, for example, parallel to a y-coordinate axis, with the local optical axis 11 being associated with a z-coordinate axis.
  • the modulation device 20 modulates the intensity distribution of the sample beam 70, whereby a shaped sample beam with the two partial beams 73, 74 is trained.
  • the modulation device 20 can, for example, be a double-hole diaphragm with two openings, the two openings representing the transmission zones 23, 24.
  • the partial beams 73, 74 of the shaped sample beam are imaged onto the detector 40.
  • the detector 40 has a light radiation-sensitive and spatially two-dimensionally resolving sensor in a sensor level 39, which converts the intensity distribution 79 on the detector 40 into electrical signals.
  • the detector signal 64 formed in this way is fed to the evaluation device 80 via the input unit 84 and processed by the evaluation device 80, in particular by the calculation unit 86 of the evaluation unit 80.
  • a beam spot 93, 94 is formed in the intensity distribution 79 on the detector 40 for each of the partial beams 73, 74 of the shaped sample beam.
  • the two beam spots 93, 94 are at a distance a from one another on the detector 40 in the first lateral direction 31.
  • the distance a depends, among other things, on the distance k of the partial apertures 33, 34, on the distance s between the plane of the partial beam release 19 and the sensor plane 39, and on the axial position of the intermediate focus 71.
  • the axial position of the intermediate focus 71 can be determined from the distance a and thus the axial position of the energy beam focus 76 of the processing optics 100, which is not shown in FIG. 12.
  • the evaluation device 80 can clearly assign the beam spots 93, 94 and can thus distinguish between a positive and a negative displacement of the intermediate focus 71, ie forward or backward, at least one of the partial beams 73, 74 is deflected in a second lateral direction 37 or offset, which is aligned transversely to the first lateral direction 31.
  • the second lateral direction 37 can, for example, be aligned perpendicular to the first lateral direction 31.
  • the second lateral direction 37 like the first lateral direction 31, is aligned perpendicular to the local optical axis 11. In the representation of FIG. 12, the second lateral direction 37 is aligned, for example, perpendicular to the plane of the drawing and therefore cannot be represented in FIG. 12.
  • both partial beams 73, 74 are deflected along the second lateral direction 37.
  • the beam shaping device 12 has the beam separator device 52, which in this example comprises two wedge plates as partial beam deflection elements 53, 54.
  • One of the wedge plates 53, 54 is arranged aligned behind one of the passage zones 23, 24 in the beam direction.
  • both partial beams are deflected by approximately the same amount, but in the opposite direction, along the second lateral direction 37, i.e. out of the drawing plane.
  • the direction of deflection is defined by the orientation of the wedge angle of the wedge plates.
  • the partial beam 73 can be deflected by an angular amount in the range of 0.02° to 6° by means of the wedge plate 53, and the partial beam 74 can be deflected by the same angular amount in the opposite direction by means of the wedge plate 54.
  • the beam spots 93, 94 Due to the deflection and propagation to the detector 40, the beam spots 93, 94 are at a distance w from one another in the direction of the second lateral direction 37.
  • the distance w between the beam spots 93, 94 cannot be shown in FIG. 12 because the distance w is perpendicular to the plane of the drawing. To illustrate this deflection, which takes place from the plane of the drawing in FIG.
  • the distance a in the first lateral direction is the geometry parameter from which the axial focus position of the sample beam 70 and thus the focus position of the energy beam of the processing optics is determined in the evaluation device 80.
  • the evaluation unit 80 includes at least the input unit 84 for the detector signal 64, the storage unit 81, for example for storing calibration data, the calculation unit 86, and the input unit 83 for the cutting gas signal 63.
  • the determination of the axial position of the focus by the calculation unit 86 takes into account the geometry parameter and a correction value which is determined taking into account the cutting gas signal 63, the cutting gas signal 63 representing the level of pressure of a cutting gas.
  • Figure 13 shows a schematic, exemplary representation of an intensity distribution on the detector 40 for a beam analysis device 10 with a focus position sensor 13 according to the third embodiment of the focus position sensor, i.e. for a beam analysis device 10 as shown in Figure 11.
  • the intensity distribution on the detector 40 is composed of the beam spots 93, 94, which can be focused or approximately focused due to the imaging by the imaging device 50.
  • the beam spots 93, 94 are at a distance a from one another. The distance a changes when the axial position of the intermediate focus 71 changes.
  • beam spots 93 'and 94' are also shown, which correspond to an example of a changed axial focus position.
  • the changed beam spots 93 ', 94' have a distance a' from one another, which in this example is greater than the distance a at the original focus position. It can be seen that the positions of the beam spots 93, 94 and 93', 94' vary along a direction that lies on the same imaginary line for both beam spots 93, 94. If the distance a is zero, the beam spots 93, 94 would lie on top of each other. If the distance a is negative, the beam spots 93, 94 would swap their relative positions to one another. The evaluation device 80 can therefore not reliably identify which beam spot is generated by which partial beam or is separated from which pass zone. Due to this uncertainty, a focus position sensor 13 according to the third exemplary embodiment can only be used with a limited detection range for the axial focus position.
  • Figure 14 shows a schematic, exemplary representation of an intensity distribution on the detector 40 for a beam analysis device 10 with a focus position sensor 13 according to the fourth embodiment of the focus position sensor, that is, for a beam analysis device 10 as shown in Figure 12.
  • the intensity distribution on the detector 40 is composed of the beam spots 93, 94, which are generated by the partial beams 73, 74 separated from the sample beam 70 by means of the modulation device 20.
  • the beam spots 93, 94 are at a distance a from one another in the first lateral direction 31.
  • the distance a is zero in the exemplary distribution of the beam spots shown, but can have any values.
  • the distance a changes when the axial position of the intermediate focus 71 changes.
  • the beam spots 93, 94 Due to the deflection of the partial beams 73, 74 by means of the beam separator device 52, the beam spots 93, 94 have the distance w from one another in the second lateral direction 37. The distance w does not change when the axial position of the intermediate focus 71 changes.
  • beam spots 93 'and 94' are also shown, which correspond to an example of a changed axial focus position. With the changed focus position, the changed beam spots 93 ', 94' are at a distance a' from one another.
  • the evaluation device 80 can therefore always reliably identify which beam spot is generated by which partial beam or is separated from which transmission zone.
  • a focus position sensor 13 according to the fourth exemplary embodiment is therefore suitable for a significantly larger detection range for the axial focus position than a focus position sensor according to the third exemplary embodiment. This advantage of the fourth embodiment of the focus position sensor 13 is achieved by means of the beam separator device 52.
  • FIG. 15 shows a further embodiment of the beam analysis device 10 according to the invention, in which the focus position sensor 13 is constructed according to the fourth embodiment of the focus position sensor 13 already shown in FIG. 12.
  • the embodiment of the beam analysis device 10 shown here differs from the embodiment in Figure 12 by additional elements in the evaluation device 80.
  • the evaluation device 80 of the beam analysis device 10 shown here additionally has an input unit 85 for a lens position signal 65.
  • This input unit 85 is intended for use on processing optics that have an adjustable lens unit for adjusting the axial focus position.
  • Such an adjustable lens unit can be, for example, an adjustable collimator 113, as shown in Figures 6 - 8 and 10 and 11.
  • the evaluation device 80 of the beam analysis device 10 shown here additionally has an output unit 87 for a focus tracking Signal 67 on.
  • the evaluation device 80 is set up to calculate a focus tracking signal 67 from the specific axial position of the focus 76 of the energy beam 77 as the actual focus position, and from a predetermined target focus position.
  • the focus tracking signal 67 is intended for controlling an adjustable lens unit of a processing optics, with which the axial focus position of the optics can be adjusted.
  • the embodiment of the beam analysis device 10 shown here is therefore suitable and intended for controlling the focus position of an energy beam focus of a laser processing optics.
  • FIG 16 shows the application of a beam analysis device 10 according to the embodiment shown and described in FIG referred to Figures 2 and 7.
  • a beam analysis device 10 according to the embodiment shown and described in FIG referred to Figures 2 and 7.
  • processing optics 100 With the system shown here consisting of beam analysis device 10 and processing optics 100, rapid and precise control of the focus position during the processing process can be achieved.
  • FIG. 17 shows the same system consisting of beam analysis device 10 and processing optics 100 as in FIG. 16.
  • FIG. 17 shows a modified beam path compared to FIG. 16.
  • the position of the energy beam focus 76 ' is shifted upwards towards the optics compared to the original position 76 of the energy beam focus, which is shown here with a dashed beam path for better comparison.
  • This is a typical situation that can occur in the processing optics 100 as a result of a thermal focus shift during the processing process.
  • the sample beam 70' generated by reflection at the lower protective glass interface 121 has an intermediate focus 71', the position of which is also shifted relative to the original position 71 of the intermediate focus.
  • the intermediate focus 71' is shifted downwards.
  • the changed sample beam 70 ' is coupled out of the processing optics 100 and irradiated into the beam analysis device 10.
  • modified partial beams 73', 74' are separated from the modified sample beam 70' and imaged onto the detector 40 by means of the imaging device 50.
  • the beam spots 93 ', 94' generated thereby have a changed one in the first lateral direction 31 Distance a' to each other. This changed distance a' is determined as a geometry parameter by the evaluation device 80.
  • the evaluation device 80 further determines a correction value based on the current cutting gas signal 63 and determines the changed focus position 76' based on the distance a' and the correction value. By comparing it with the original or previously determined focus position 76, the evaluation device 80 can calculate a focus tracking signal 67 and transmit it to the adjusting device 105 for the adjustable collimator 113. Based on the focus tracking signal 67, the collimator 113 can be adjusted using the adjusting device 105, so that the changed focus position 76 'is again consistent with the original focus position 76 or with a target focus position 76.
  • Figure 18 shows the same system consisting of beam analysis device 10 and processing optics 100 as Figures 16 and 17.
  • partial reflection of the laser beam 77 at the outer boundary surface 121 of the protective glass 120 creates a first sample beam 70 or a modified one Sample beam 70 'generated with an intermediate focus 7T.
  • Figure 18 shows a situation in which a second sample beam 170 or a modified second sample beam 170 'with an intermediate focus 17T is also generated by partial reflection of the laser beam 77 on the inner, second interface 122 of the protective glass 120.
  • the second sample beam 170' like the first sample beam 70', is coupled out and fed to the beam analysis device 10 with the focus position sensor 13.
  • a focus position sensor 13 is preferably used, which is shown and explained in detail in FIGS. 12 and 15.
  • two partial beams 73', 74', 173', 174' are generated from each sample beam 70', 170' by means of the modulation device 20 of the beam shaping device 12.
  • Each partial beam 73', 74', 173', 174' generates a beam spot 93', 94', 193', 194' on the detector 40.
  • the beam spots 93' and 94' formed by the image of the sample beam 70' form first pair of beam spots
  • the further beam spots 193' and 194' formed by the imaging of the second sample beam 170' form a second pair of beam spots.
  • the beam spots 93', 94' of the first pair of beam spots are at a distance a' from one another in the first lateral direction 31, while the beam spots 193', 194' of the second pair of beam spots are at a distance b' from one another in the first lateral direction 31 have. Both pairs of beam spots can be evaluated by the evaluation device 80 and the Distances a and b or a' and b' can be determined. The evaluation device 80 is therefore set up to identify a corresponding number of beam spots in the intensity distribution 79 on the detector 40.
  • the advantage of evaluating the beam spots for both sample beams 70 and 170 is that with the first pair of beam spots 93, 94, focal position information is obtained which contains a thermal shift of the protective glass because the sample beam 70 has passed through the protective glass twice , and that with the second pair of beam spots 193, 194, focal position information is obtained which does not contain the thermal shift of the protective glass, because the second sample beam 170 is generated by the second, inner interface 122 of the protective glass 120 and therefore the protective glass 120 does not go through.
  • the evaluation device 80 can distinguish a focus shift caused by the protective glass 120 from other focus shift components of the entire processing optics 100.
  • the evaluation device 80 it is also possible for the evaluation device 80 to be able to determine the focus shift of the protective glass 120 separately and to provide a warning signal if the focus shift of the protective glass 120 has increased significantly, which usually indicates that the protective glass is heavily soiled indicates. This means that a necessary change of the protective glass can be automatically indicated.
  • Figures 19 and 20 show the generation of two sample beams 70, 170, as previously shown in Figure 18, which are due to partial reflection of the laser beam 77 on the one hand at the outer boundary surface 121 of the protective glass 120, and on the other hand at the second boundary surface 122 of the Protective glass are generated, in a somewhat more detailed partial representation of the lower area of the processing optics around the protective glass 120.
  • Figure 19 shows in particular the beam path for laser beam 77 when the protective glass 120 has a significantly increased temperature T 'due to absorption of laser radiation as a result of contamination and thus generates a thermal focus shift.
  • the focused laser beam 77 is additionally refracted and focused more strongly by the refractive power thermally induced in the protective glass 120, as a result of which the energy beam focus 76 'is shifted upwards, i.e. towards the optics.
  • the beam path without thermal focus shift and the original energy beam focus 76 are shown with dashed lines for comparison.
  • the position of the energy beam focus is shifted by the amount AZF.
  • the intermediate focus 7T of the sample beam 70 'generated by reflection at the lower interface 121 is also shifted, namely by the amount Azps.
  • This displacement Azps of the intermediate focus 71' is approximately twice as large as the displacement AZF of the energy beam focus 76' because the sample beam 70' has passed through the protective glass once before reflection and once after reflection, i.e. twice and thus the thermally induced refractive power of the protective glass 120 has a double effect on the sample beam 70'.
  • the second sample beam 170' which is generated by reflection at the second interface 122, does not pass through the protective glass at all, so that the position of the intermediate focus 171' of the second sample beam 170' approximately corresponds to the original intermediate focus 171.
  • the shift Azps2 of the intermediate focus of the second sample beam is therefore approximately zero if a shift in the energy beam focus 76 is caused exclusively by a thermal focus shift of the protective glass.
  • FIG. 20 shows a situation in which a thermal focus shift occurs essentially in the focusing 116.
  • the amounts of the displacement AZF of the energy beam focus 76', the displacement Azps of the intermediate focus 71' of the sample beam 70', and the displacement Azps2 of the intermediate focus 171' of the second sample beam 170' are approximately the same size.
  • Figure 21 shows schematically the intensity distribution 79 on the detector 40 with the two beam spot pairs 93, 94 and 193, 194, when the sample beams 70, 170 generated by both boundary surfaces 121, 122 of the protective glass 120 are applied with a focus position sensor 13 according to Figure 18 the detector 40 can be imaged. Otherwise, the representation corresponds to the situation shown in Figure 14, which is why reference is made to the description of Figure 14 for further details.
  • FIG 22 shows, similar to FIG generated sample beams 70, 170 are imaged onto the detector 40.
  • Figure 22 shows a situation in which the beam spots 93 and 193 generated by the two sample beams 70 and 170 on the one hand, and the beam spots 94 and 194 on the other hand, are not completely spatially separated from one another. This situation can occur when a very thin protective glass 120 is used.
  • the second sample beam 170 which is generated by reflection at the second (inner or upper) interface 122 of the protective glass 120, then differs in its characteristics axial position only slightly from the first sample beam 70, which is generated by reflection on the outer boundary surface 121 of the protective glass 120. Consequently, the intermediate foci 71 and 171 of the sample beams 70 and 170 only have a small axial distance from one another.
  • the evaluation device 80 can be set up to determine an average distance m in the first lateral direction 31 between a first average position from the beam spots 93 and 193 and a second average position from the beam spots 94 and 194.
  • the two beam spots 93 and 193 are therefore viewed as a common first beam spot.
  • beam spots 94 and 194 are considered a common second beam spot.
  • the average distance m determined in this way is identical to the average m from the distances a and b, where a is the distance in the first lateral direction 31 between the beam spots 93 and 94 formed by the first sample beam 70, and where b is the distance in the first lateral direction 31 between the beam spots 193 and 194 formed by the second sample beam 170.
  • this average distance m can alternatively be used by the evaluation device 80 as a geometry parameter for determining the focus position.
  • the positions of the changed beam spots 93', 94', 193', 194' are changed and thus a correspondingly changed mean distance m' in the first lateral direction 31.
  • the processing optics 200 is essentially comparable to the processing optics 100 already described in FIGS. 2 and 7.
  • the processing optics 200 has a second protective glass 125 and a cutting device 140, which additionally has a pressure compensation connection 145.
  • the pressure compensation connection 145 is a pneumatic connection, for example a simple open channel, between the cavity 141 and the space between the outer protective glass 120 and the second protective glass 125.
  • the invention solves the problem that in laser processing processes, in particular in laser cutting, the axial focus position of the laser beam can be changed, among other things, as a result of the process gas, in particular the cutting gas, which is not noticed by conventional focus position sensors and results in an inaccurate or even incorrect measured value for the Focus position can lead.
  • the beam analysis device 10 comprises a beam shaping device 12, a detector 40 and an evaluation device 80.
  • the beam shaping device 12 is set up to receive a sample beam 70.
  • the beam shaping device can be coupled, for example, to a beam output of a decoupling device of a processing optics 100.
  • the processing optics 100 images an energy beam 77, in particular a laser beam 77, into a focus 76.
  • a sample beam 70 is decoupled in the beam path of the processing optics 100 and fed to the beam shaping device 12.
  • the beam shaping device 12 and the detector 40 form a focus position sensor 13 and are preferably arranged together in a housing that can be attached to the processing optics 100.
  • the evaluation device 80 includes at least one input unit 84 for a detector signal 64, an input unit 83 for a cutting gas signal 63, a storage unit 81 for calibration data and/or other parameters, and a calculation unit 86 for determining a corrected focus position position.
  • the axial focus position 76 in a laser cutting system is primarily determined by the imaging system of the processing optics 100. Deviations from a defined focus position occur primarily due to the following effects:
  • the thermal focus shift is an effect that also depends on the contamination of the optics, especially the protective glass, and is therefore typically included increasing operating time. Since the size of this effect is therefore undetermined and also variable over time, precise tracking of the axial focus position can only be carried out using a focus position sensor, which enables the focus position to be determined continuously while the machining process is ongoing.
  • the sample beam 70 is coupled out of the processing optics 100, for example by means of a beam decoupler 115, and guided to the focus position sensor 13.
  • the beam decoupler 115 can, for example, comprise an inclined, partially reflecting element.
  • the focus position sensor 13 is able to detect all changes in the focus position that are caused by the optical system of the processing optics 100.
  • the focus position sensor 13 cannot detect any changes whose causes lie outside the optical system. These causes include, in particular, a cutting gas 146 supplied to the process under pressure.
  • the cutting process is carried out using a cutting gas device
  • a cutting gas 146 is supplied, which serves, among other things, to blow the melt out of the cutting gap.
  • the cutting gas device 140 has a cavity 141 which extends from the protective glass 120 to a cutting nozzle 142.
  • the cutting gas 146 is supplied to the cavity via a cutting gas supply 143
  • the cutting gas 146 is under a high pressure p' and therefore has an increased refractive index n'. Due to the increase, albeit only slightly, of the refractive index n within the cavity 141, the laser beam 77 is refracted, that is, the optical path within the cavity 141 changes, as a result of which its axial focus position 76 is shifted.
  • This change in the focus position cannot be detected by the focus position sensor 13 because, due to the principle, the sample beam 70 does not pass through the cavity 141 of the cutting gas device 140.
  • n - 1 (n 0 - 1) (p / po) (To / T)
  • n' 1.0056 for nitrogen.
  • the change in the focal length Az i.e. the axial focus position 76 of the laser beam 77, is obtained from the following formula:
  • the high pressure of the cutting gas 146 has another effect: it causes a very slight deflection of the protective glass 120, so that the interface 121 at which the sample beam 70 is generated by partial reflection does not there is more plan. As a result, the mirrored focus 71 in the sample beam 70 is also shifted slightly.
  • This shift can also be calculated, which is shown below with a typical numerical example.
  • the radius of curvature Rc of the plate, i.e. the protective glass 120 is obtained from the following formula:
  • the focus position sensor would detect an apparent shift in the axial focus position of 1.4 mm, while the true shift in the axial focus position is 0.56 mm.
  • the size of this factor can therefore be determined or calculated directly from the parameters of the protective glass, the cutting device and the pressure of the cutting gas. The size of this factor can also be obtained from a previous calibration.
  • the parameters of the protective glass and the cutting device are constant parameters for a given processing optics, while the pressure of the cutting gas can be variable.
  • Both the change in the position of the energy beam focus 76 due to the refractive index n of the cutting gas, as well as the change in the position of the intermediate focus 71 in the sample beam 70, are approximately proportional to the size of the cutting gas pressure p, at least for small changes.
  • the current cutting gas pressure p determines the current deviation between a change in the position of the energy beam focus 76 and a change in the position of the intermediate focus 71 in the reflected sample beam 70, which is detected by the focus position sensor.
  • the evaluation device 80 requires information about whether the cutting gas 146 is switched on and/or information that represents the level of the cutting gas pressure p.
  • the evaluation device 80 of the beam analysis device 10 therefore includes an input unit 83 for a cutting gas signal 63, a storage unit 81 for calibration data and/or other parameters, and a calculation unit 86 for determining a corrected focus position position.
  • the input unit 83 for the cutting gas signal 63 can be, for example, a physical interface for an electrical line, or a virtual interface in a computer program, or a wireless interface for radio transmission of data.
  • the cutting gas signal 63 can be a binary signal whose two states represent different pressures.
  • a first state may be a state in which no cutting gas 146 is supplied (cutting gas is off), and a second state is a cutting gas 146 is supplied at a predefined pressure (cutting gas is on).
  • the binary signal can just as well represent two different predefined pressures of a supplied cutting gas 146, for example one low pressure pi for the piercing process and a high pressure p2 for the cutting process. Which pressure the value of the signal 63 corresponds to can be stored in the storage unit 81 as a calibration.
  • the cutting gas signal 63 can also be an analog or digital signal that is proportional to the cutting gas pressure. Based on the current cutting gas signal 63, the calculation unit 86 can then determine a correction value using a proportionality factor stored or calibrated in the storage unit 81 and thus determine the corrected focus position.
  • the values of various parameters required for the calculations of the calculation unit 86 are preferably stored in the storage unit 81.
  • the parameters can be proportionality factors and/or constants that were determined from a calibration process.
  • the calibration data can, for example, describe a change in the geometry parameter depending on the gas pressure signal.
  • the parameters can also be various properties of the optical system, the cutting device and the protective glass, for example magnification of the optics, focal lengths of collimator optics and focusing optics, refractive index of the cutting gas, irradiated length of the cavity of the cutting device, radius or diameter of the protective glass, Thickness of the protective glass, modulus of elasticity of the protective glass, and/or possibly other parameters.
  • the storage unit can also have an interface for entering or updating one or more parameters.
  • a correction value can be stored in the storage unit 81 for at least one state of the cutting gas signal 63 or for at least one size value of the cutting gas signal 63, which is used by the calculation unit 86 to correct the focus position determined by the focus position sensor 13.
  • the correction value or values may have been previously determined in a calibration cycle.
  • the correction value required in each case can be linked to the value or the state of the cutting gas signal 63 via a look-up table. If intermediate values are required, the calculation unit 86 can interpolate between the values of the look-up table.
  • the cutting gas signal 63 can, for example, correspond to the state of a switching valve with which the cutting gas is switched on or off, or with which different pressures of the cutting gas 146 are set.
  • the cutting gas signal 63 can also be a pressure specification signal or pressure target signal from a higher-level system control. Using a controllable valve, the required pressure can then be set according to the specification.
  • the cutting gas signal 63 can be the measured value of a gas pressure sensor 62 and can be provided by it.
  • the measured value of the gas pressure sensor 62 can be fed directly into the input unit 83 of the evaluation device 80 via a data connection.
  • the gas pressure sensor 62 can also be connected to a higher-level system control, which then transmits the cutting gas signal 63 via the data connection to the evaluation device 80 or to the input unit 83 of the evaluation device 80.
  • the gas pressure sensor 62 can be arranged inside the cutting gas device 140.
  • the gas pressure sensor 62 can be arranged, for example, in a niche of the cavity 141.
  • the gas pressure sensor 62 can also be coupled to the cavity 141 of the cutting gas device 140 via a pneumatic connection.
  • the gas pressure sensor 62 can also be arranged at any point on the cutting gas supply 143 or be pneumatically connected to the supply of the cutting gas.
  • the focus position sensor 13 includes the beam shaping device 12 and the detector 40.
  • the beam shaping device 12 is set up to receive the sample beam 70 and images the sample beam 70 onto the detector 40, whereby an intensity distribution 79 is generated on the detector 40.
  • the detector 40 contains a two-dimensional resolution, radiation-sensitive sensor, which converts the intensity distribution 79 into electrical signals 64.
  • the evaluation device 80 processes the detector signals 64.
  • the evaluation device 80 is equipped with an input unit 84 for receiving the detector signals 64.
  • the input unit 84 for the detector signals 64 can be, for example, a physical interface for an electrical line, or a virtual interface in a computer program, or a wireless interface for radio transmission of detector data.
  • the evaluation device 80 is set up to determine a geometry parameter from the detector signal 64, which represents the intensity distribution 79.
  • the geometry parameter represents a specific geometric property of the intensity distribution 79.
  • the geometry parameter can describe a geometric size of an essential feature of the intensity distribution 79.
  • the geometry parameter can thus be a size to which a unit of length can be assigned, such as mm (millimeter) or pm (micrometer), or to which a unit of area can be assigned, such as mm 2 (square millimeter) or pm 2 (square micrometer) .
  • This geometry parameter can be, for example, a diameter 0 of a beam spot 91 of the intensity distribution 79, or a distance a between two beam spots 93, 94 of the intensity distribution 79, or another comparable geometric parameter of the intensity distribution 79.
  • the geometry parameter is described in individual exemplary embodiments below explained in more detail.
  • the size of the geometry parameter is directly dependent on the axial position of the intermediate focus 71 of the sample beam 70 and thus on the axial position of the energy beam focus 76 of the laser beam 70, because the intermediate focus 71 is a mirrored focus of the energy beam focus 76.
  • the evaluation device 80 determines the axial position of the energy beam focus 76 from the geometry parameter, taking into account the cutting gas signal 63.
  • the evaluation device 80 contains a calculation unit 86 and a storage unit 81.
  • the determination of the position or a change in the position of the energy beam focus 76 can take place in the manner shown below.
  • the parameters ci and c 2 or c' 2 can be stored in the storage unit 81.
  • the parameters ci and c 2 or c' 2 may have been determined in a previously carried out calibration process.
  • the parameter c 2 or c' 2 can also be zero.
  • AZF g acorr - Zo
  • the parameter zo can be a start position of the focus position, or a nominal position, or a zero position, or a previous focus position determined in a previous step.
  • the function for calculating the focus position ZF can additionally be dependent on higher powers of the corrected geometry parameter akorr.
  • the function can have a quadratic part:
  • AZF gi akorr + g2 akorr 2 - Zo
  • AZF ( g + gl 1 ZKoll + gi2 ZKOII 2 ) akorr + ( g20 + g21 ZKoll + g22 ZKoll 2 ) 8korr 2 - Zo
  • the parameters g, gu, g-12, g2o, g2i, g22 are constant coefficients, the values of which can sometimes be zero depending on the constellation of the entire system.
  • All modules of the evaluation device 80 can be designed as functional units of a digital information processing device, such as a microcomputer. Individual or all modules of the evaluation device 80 can be implemented as a computer program which runs on a conventional microcomputer or a personal computer.
  • An embodiment is provided in which the evaluation device 80 is integrated into the housing in which the focus position sensor 13 is also arranged. Embodiments are also provided in which the evaluation device 80 is not integrated in the housing of the focus position sensor 13.
  • a beam analysis method is also provided in which the determination of the focus position is also carried out taking into account an offset that depends on the thickness of the protective glass (120).
  • the calibration data can be adjusted depending on the thickness of the protective glass (120).
  • a beam analysis method is also provided in which calibration data is determined before the actual laser processing begins, in particular after changing a protective glass (120), by determining the geometry parameter for at least two different cutting gas pressure settings at low laser power.
  • the focus position sensor 13 includes at least the beam shaping device 12 and the detector 40.
  • FIGS. 8 and 9 A first example of the design of the focus position sensor 13 of the beam analysis device 10 is shown in FIGS. 8 and 9.
  • the beam shaping device 12 comprises an imaging device 50 with an optical lens 51. Using the imaging device 50, the sample beam 70 is imaged onto the detector 40.
  • the entire sample beam 70 received by the beam shaping device 12 is focused onto the detector 40 and forms a beam spot 91 there with a diameter of 0 of the beam spot 91. An image of the intermediate focus 71 of the sample beam 70 in the vicinity of the detector 40 is consequently generated.
  • the distance of the image of the intermediate focus 71 depends on the axial position of the intermediate focus 71 and is therefore also coupled to the axial position of the energy beam focus 76 of the laser beam 77 from which the sample beam is generated.
  • the diameter 0 of the beam spot 91 on the detector 40 varies.
  • the diameter 0 is minimal when the image of the intermediate focus 71 lies exactly in the plane of the detector 40.
  • the diameter 0 of the beam spot 91 becomes larger the greater the distance between the image of the intermediate focus 71 and the detector 40 is. Consequently, the axial position of the beam focus 71 and thus the axial position of the energy beam focus 76 can be determined from the size of the diameter 0.
  • the diameter 0 of the beam spot 91 on the detector 40 is the geometry parameter that is determined by the evaluation device 80 from the intensity distribution 79 with the beam spot 91.
  • the beam shaping device 12 comprises a lens array 56.
  • the beam shaping device 12 can also include an imaging device 50 with which the sample beam 70 is first collimated.
  • the lens array 56 contains a large number of individual lens elements 57, also referred to as lenslets 57, arranged laterally next to one another in a plane.
  • the individual lens elements 57 each image a part of the sample beam 70 onto the detector, so that an intensity distribution 79 with a large number of beam spots is generated on the detector 40.
  • the detector 40 can be arranged approximately at a distance from the lens array 56 that corresponds to the focal length of the individual lens elements 57 of the lens array 56.
  • the lens array 56 and the detector 40 form a so-called wavefront sensor, the functionality of which is known from the prior art and which therefore does not need to be explained in more detail here.
  • the wavefront of the sample beam 70 can be reconstructed and from this the axial position of the beam focus 71 and thus the axial position of the energy beam focus 76 can be determined.
  • one or more of the distances 3NI ... 3NM between the beam spots form the geometry parameter, which is determined by the evaluation device 80 from the intensity distribution 79 with the large number of beam spots.
  • the beam shaping device 12 comprises an imaging device 50 with an optical lens 51 and a modulation device 20 with a blocking zone 25 and two pass zones 23, 24.
  • the modulation device 20 has the two pass zones 23, 24, which can be, for example, circular openings of a double-hole diaphragm.
  • the imaging device 50 the partial beams 73, 74 separated from the sample beam 70 are imaged onto the detector 40 to form an intensity distribution 79 with two beam spots 93, 94.
  • the distance between the imaging device 50 and the detector 40 and the focal length of the imaging device 50 are chosen so that the image of the intermediate focus 71 is preferably not created in the plane of the detector 40, but either in the beam direction in front of the detector 40 or behind it. Consequently, the two beam spots 93, 94 then have a distance a from one another, the size of which depends on the axial position of the intermediate focus 71 of the sample beam 70 and thus on the axial position of the energy beam focus 76 of the laser beam 77. Consequently, from the size of the Distance a, the axial position of the beam focus 71 and thus the axial position of the energy beam focus 76 are determined.
  • the distance a between the beam spots 93, 94 on the detector 40 therefore forms the geometry parameter, which is determined by the evaluation device 80 from the intensity distribution 79 with the beam spots 93, 94.
  • the beam shaping device 12 includes an imaging device 50 with an optical lens 51, a modulation device 20, and a beam separator device 52 with at least one partial beam deflection element 53, 54.
  • the beam shaping device 12 is set up to separate at least two partial beams 73, 74 from the sample beam 70 in a plane of the partial beam separation 19.
  • the cross section of each partial beam 73, 74 is defined in the plane of the partial beam separation 19 by a respective partial aperture 33, 34.
  • the beam shaping device 12 is set up to form the at least two partial apertures 33, 34 for releasing one partial beam 73, 74 in the plane of the partial beam release 19.
  • the partial apertures 33, 34 are separated from one another, that is, the edges of the partial apertures 33, 34 do not touch each other.
  • the lateral positions of the partial apertures 33, 34 are defined by their respective center, the term “lateral” referring to directions in planes perpendicular to the respective local optical axis 11.
  • the center points of the partial apertures 33, 34 are at a distance k from one another.
  • a first lateral direction 31 is defined by the distance k between the partial apertures 33, 34.
  • an imaginary connecting line between the centers of the two partial apertures 33, 34 defines the first lateral direction 31.
  • the first lateral direction 31 lies in a plane that is perpendicular to the local optical axis 11. Since the local optical axis 11 in a beam path is always identified with a z-axis of a local coordinate system, the first lateral direction 31 thus lies in an xy plane.
  • the partial beam separation of the beam shaping device is implemented, for example, as a modulation device 20, which is set up to form at least two pass zones 23, 24 and at least one blocking zone 25.
  • One of the passage zones 23, 24 forms one of the two partial apertures 33, 34.
  • the pass zones 23, 24 are characterized in that a permeability for the radiation within the pass zones 23, 24 is significantly greater than in the area of the blocking zone 25.
  • the term permeability refers to the intended direction of propagation of the partial beams 73, 74 released in this way understand.
  • a radiation transmittance (or reflectance) in the pass zones 23, 24 is at least twice as high as a radiation transmittance (or reflectance) in the exclusion zone 25.
  • the radiation transmittance (or reflectance) in the exclusion zone 25 is at least 10 times smaller than the radiation transmittance (or reflectance) in the pass zones 23, 24. Particularly preferably, the radiation transmittance (or reflectance) in the exclusion zone 25 is at least 100 times smaller as the radiation transmittance (or reflectance) in the transmission zones 23, 24.
  • the partial apertures 33, 34 have a width b in the plane of the partial beam release 19 along the first lateral direction 31.
  • the width b of the partial apertures 33, 34 is at most equal to half the distance k between the centers of the partial apertures 33, 34. It follows that between the partial apertures 33, 34 there is an area, for example a blocking zone 25, which is at least as wide as the width b of the partial apertures 33, 34. In other words, the distance k between the centers of the partial apertures 33, 34 is at least twice the width b of the partial apertures 33, 34.
  • the beam shaping device 12 is further set up to form an intensity distribution 79 on the detector 40 with at least two beam spots 93, 94 and to form at least one beam spot 93, 94 from each of the two partial beams 73, 74, the at least two partial beams 73, 74 to image onto the detector 40 and to deflect and/or offset at least one of the at least two partial beams 73, 74 in a second lateral direction 37.
  • Each of the two partial beams 73, 74 forms at least one associated beam spot 93, 94 on the detector 40.
  • a distance w is formed between the positions of the two beam spots 93, 94 on the detector 40 along the second lateral direction 37.
  • the positions of the two beam spots 93, 94 are preferably defined by the center points and/or by the centers of gravity of the intensity distributions of the beam spots 93, 94 on the detector 40.
  • the second lateral direction 37 is aligned transversely to the first lateral direction 31.
  • the second lateral direction 37 lies in a plane that is perpendicular to the local optical axis 11.
  • the second lateral direction 37 lies in a plane perpendicular to the local optical axis 11, i.e. in an xy plane.
  • the second lateral direction 37 is oriented, for example, at an angle in the range of 30° to 150° to the first lateral direction 31.
  • the second lateral Direction 37 can in particular (at least essentially) be aligned perpendicular to the first lateral direction 31.
  • the beam shaping device 12 deflects and/or offsets the first of the at least two partial beams 73, 74 in the second lateral direction 37 and/or deflects both partial beams 73, 74 in different directions with a directional difference in an orientation along the second lateral direction 37 and/or or offset
  • the beam spot 93 of the first of the at least two partial beams and the beam spot 94 of the second of the at least two partial beams are offset from one another in the intensity distribution 79 along the second lateral direction 37 by the distance w, which is transverse to is the distance a of these beam spots 93, 94 (on the detector 40 and thus) in the intensity distribution 79 along the first lateral direction 31 and the distance a is caused solely by the distance k in the first lateral direction 31.
  • the beam spot 93 which is caused by the first of the at least two partial beams on the detector 40 and in the intensity distribution
  • the beam spot 94 which is caused by the second of the at least two partial beams on the detector and in the intensity distribution, are in the Intensity distribution in addition to the distance a along the first lateral direction 31 is additionally offset by the offset w along the second lateral direction 37.
  • the detector 40 includes a sensor that is sensitive to light radiation and has a spatial two-dimensional resolution and is set up to convert the intensity distribution 79 striking the detector 40 into electrical signals.
  • the detector 40 may be a CCD camera or a CMOS camera or a comparable device.
  • the light radiation-sensitive and spatially two-dimensionally resolving sensor is typically a pixel-based semiconductor sensor.
  • the detector 40 is arranged along a propagation path for the partial beams 73, 74 at a distance s behind the plane of the partial beam release 19.
  • the evaluation device 80 is set up to process the electrical signals 64 of the detector 40, which represent the intensity distribution 79 on the detector 40.
  • the evaluation device 80 is set up to determine a geometry parameter from the intensity distribution 79.
  • the geometry parameter corresponds to Parameter preferably the distance a along the first lateral direction 31 between positions of the two beam spots 93, 94 on the detector 40.
  • the evaluation device 80 is set up to determine a position difference of the two beam spots 93, 94 in the first lateral direction 31, where the position difference of the two beam spots 93, 94 in the first lateral direction 31 is the distance a.
  • the position of the respective beam spot 93, 94 is preferably defined by the center and/or by the center of gravity of the intensity distribution of the respective beam spot 93, 94 on the detector 40.
  • the size of the distance a between the beam spots 93, 94 in the first lateral direction 31 depends on the axial position of the intermediate focus 71 of the sample beam 70 and thus on the axial position of the energy beam focus 76 of the laser beam 77. Consequently, from the size of the Distance a in the first lateral direction 31, the axial position of the beam focus 71 and thus the axial position of the energy beam focus 76 are determined.
  • the distance a of the beam spots 93, 94 on the detector 40 formed in the first lateral direction 31 therefore forms the geometry parameter, which is determined by the evaluation device 80 from the intensity distribution 79 with the beam spots 93, 94 .
  • the focus position sensor 13 is used to determine the axial position of the energy beam focus 76.
  • the formulas given below for calculating the position of the intermediate focus 71 from the distance a initially form an intermediate result.
  • the imaging of the sample beam 70 by the focusing optics 116 of the processing optics 100 must also be taken into account, because the decoupling of the sample beam 70 by means of the decoupling device 115 is usually in the collimated area of the processing optics 100 between the focusing optics 116 and the collimator optics 113 takes place.
  • the intermediate focus 71 is a mirror image of the energy beam focus 76, so that a change in position of the intermediate focus 71 opposite is equal to a change in position of the energy beam focus 76.
  • the refraction of the sample beam 70 by the focusing optics 116 is negligible if the intermediate focus 71 is close to or even exactly in the same plane as the focusing optics 116.
  • the intermediate focus 71 is relatively close to the focusing optics 116 because the protective glass 120 is often arranged approximately halfway between the focusing optics 116 and the energy beam focus 76.
  • the refraction of the sample beam 70 by the focusing optics 116 is already included in the proportionality factors and constants that were generated during the calibration as a result of the calibration of the focus position sensor 13 and therefore does not have to be taken into account separately in the evaluation algorithm.
  • the distance a between the beam spots 93, 94 on the detector 40 changes in the first lateral direction 31.
  • This functional relationship is influenced and/or defined by the following geometric quantities: a is the distance along the first lateral direction 31 between the beam spots 93 and 94 on the detector 40; a' is the distance along the first lateral direction between the beam spots 93' and 94' on the detector 40 when the beam focus position is changed;
  • Azps Aa C3 / ( C4 + Aa cs )
  • the coefficients C3, C4, cs can be determined by setting at least 3 different known axial positions of the intermediate focus 71 or the energy beam focus 76 and determining the corresponding change Aa in the distance a.
  • the coefficients determined in this way can be stored as calibration data in the evaluation device 80, which then determines the change in focus position AZF can be calculated by the evaluation device 80 for any distance changes Aa.
  • the coefficients can be calculated directly from the geometric distances of the arrangement using the formulas given above and stored in the evaluation device 80.
  • all axial distances i.e. zps, d, f, s, are the distances along the optical axis 11.
  • the distances zps, d, f, s may be composed piecemeal from the respective distances along the local optical axes 11.
  • the corresponding partial distances must be corrected by a factor that depends on the refractive index of the optical material.
  • the distance d from the main plane of the imaging device 50 to the plane of partial beam separation 19 is equal to the focal length f of the imaging device 50.
  • the plane of the partial beam separation 19 is arranged at the image-side focal point of the imaging device 50.
  • Azps Aa f 2 / (ks) With this linear relationship, the calibration of the device is simplified and a high level of accuracy is achieved when determining the focus position.
  • This feature or this arrangement can be advantageously implemented in embodiments in which a distance is provided between the imaging device 50 and the modulation device 20 anyway, for example when the modulation device 20 is arranged in a folded beam path.
  • the width b of the partial apertures 33, 34 is small compared to their distance k. Then the beam spots 93, 94 on the detector 40 are relatively small over a wide range of the axial position of the beam focus 71 and a possible influence of an intensity distribution within the beam spots 93, 94 on the determination of the position of the beam spots 93, 94 is small or completely negligible .
  • the partial apertures should not be too small, otherwise the beam spots 93, 94 can be widened by diffraction and diffraction structures can arise outside the beam spots 93, 94.
  • the distance k is therefore preferably at least 2.5 times and at most 25 times the width b of the partial apertures 33, 34.
  • the distance k is particularly preferably at least 3 times and at most 12 times the width b of the partial apertures 33, 34.
  • the distance k is most preferably at least 4 times and at most 7 times the width b of the partial apertures 33, 34.
  • the partial apertures 33, 34 preferably have a simple geometric shape, for example circular or elliptical.
  • the partial apertures 33, 34 can also have a square, rectangular, diamond-shaped, hexagonal, octagonal, trapezoidal, or similar shape.
  • the width b corresponds to the diameter of the partial apertures 33, 34.
  • the beam shaping device 12 can also be set up to release more than two partial beams.
  • more than two, for example 3 or 4 separate partial apertures can be arranged in the plane of the partial beam release 19.
  • the multiple partial apertures can all be distributed along the first lateral direction 31. It is also possible for the partial apertures additional to the two partial apertures 33, 34 to be arranged in a different lateral direction than the two partial apertures 33, 34 in the plane of the partial beam release 19.
  • the beam shaping device 12 preferably comprises a beam separator device 52 for deflecting and/or displacing the first of the at least two partial beams 73, 74 in the second lateral direction 37.
  • the beam separator device 52 is further set up to deflect and/or offset both partial beams 73, 74 in different directions, the difference in the deflection directions being aligned along the second lateral direction 37.
  • the beam shaping device 12 of the beam analysis device 10 includes a modulation device 20, an imaging device 50 with at least one optical lens 51, and a beam separator device 52.
  • These three devices 20, 50, 52 can be implemented as separate devices. However, two of the three devices or all three devices 20, 50, 52 can also be implemented as a uniform device.
  • the modulation device 20 can be designed as a double pinhole diaphragm.
  • the imaging device 50 can be designed, for example, as a single converging lens 51. However, it is also possible, for example, to provide the modulation device 20 as a mask, for example by means of partial blackening, directly on or in the optical lens 51.
  • the modulation device 20 and the imaging device 50 are implemented as a unitary device.
  • the optical lens 51 could also be designed as an aspherical free-form lens, in which the lens surfaces within the partial apertures 33, 34 have an additional tilt to deflect the partial beams 73, 74 in the second lateral direction 37.
  • all devices 20, 50, 52 are then implemented in a uniform device.
  • the first lateral direction 31 can be locally defined. It is in each case (at least essentially) perpendicular to the local optical axis 11. In particular, it can be used as the direction can be defined in a plane perpendicular to the local optical axis 11, along which the at least two partial beams 73, 74 are at a distance from one another in this plane only due to the distance k of the partial apertures 33, 34.
  • the second lateral direction 37 can be locally defined. It is in each case (at least essentially) perpendicular to the optical axis 11 and transverse to the (local) first lateral direction 31. Viewed globally, the second lateral direction 37 can be changed once or several times, for example by beam folding and/or beam deflection.
  • a beam direction can be locally defined.
  • the beam direction can change globally, for example through beam folding and/or beam deflection.
  • the local beam direction can be defined, for example, by a direction of a local Poynting vector of the sample beam 70.
  • a local beam direction of a partial beam 73, 74 can be defined by a direction of a local Poynting vector of the respective partial beam 73, 74.
  • a local (overall) beam direction can be defined by averaging the local Poynting vectors of the at least two partial beams 73, 74. The amounts of the Poynting vectors of these partial beams can be normalized before averaging.
  • the local (overall) beam direction can be defined by the Poynting vector of a fictitious path of the sample beam without separating out the partial beams.
  • the local optical axis 11 can be defined, for example, by the intended local overall beam direction during operation.
  • the beam analysis device 10 can be set up to identify a plurality of beam spots 93, 94, 193, 194 in the intensity distribution 79 on the detector 40 and to determine their distances from one another in the first lateral direction.
  • the beam analysis device 10 is preferably equipped with a focus position sensor 13 according to the fourth exemplary embodiment.
  • the focus position sensor 13 in this development is preferably equipped with a modulation device 20 for releasing preferably two partial beams from a sample beam.
  • a pair of beam spots 93, 94 and 193, 194 are formed in the intensity distribution 79 on the detector 40 from each sample beam 70, 170 by the modulation device 20.
  • the beam analysis device 10 can thus be set up to identify a first beam spot pair 93, 94 in the intensity distribution 79, which is formed from a first sample beam 70 by means of the modulation device 20, and further to identify a second beam spot pair 193, 194 , which is formed from a second sample beam 170 by means of the modulation device 20.
  • the evaluation device 80 can be set up to determine a first distance a between the beam spots 93, 94 in the first lateral direction 31, which are formed by the separation of the partial beams from the first sample beam 70, as well as a second distance b between the beam spots 193 , 194 in the first lateral direction 31, which are formed by the separation of the partial beams from the second sample beam 170.
  • the distance a is then, for example, the geometry parameter and the distance b is in this case a second geometry parameter. Both geometry parameters or both distances a, b are corrected in the manner already described above with a term dependent on the cutting gas signal 63 or on the pressure p of the cutting gas.
  • the focus position is then determined according to the formula explained above:
  • AZF g(ZKoll) mcorr - Zo
  • This development of the invention is particularly suitable for use on a processing optics 100, in which a first sample beam 70 is reflected by reflection on a first interface of the protective glass, for example the outer interface 121 of the protective glass 120, and a second sample beam 170 by reflection on a second interface of the Protective glass, for example the inner interface 122 of the protective glass 120, and both sample beams 70, 170 are coupled out of the processing optics 100 by means of the beam decoupler 115 and into the Beam analysis device 10 is irradiated.
  • the geometry parameter is corrected with a term dependent on the cutting gas signal 63 or on the pressure p of the cutting gas after the mean value m is formed from the distances a and b.
  • the evaluation device 80 can be set up to determine a first mean position from the beam spots 93 and 193, a second mean position from the beam spots 94 and 194, and to calculate a distance m in the first lateral direction 31 between the first middle position and the second middle position.
  • the beam spots 93 and 193 for the first middle position are formed by the partial beams that are separated from the two sample beams 70 and 170 by the first transmission zone 23 of the modulation device 20, and the beam spots 94 and 194 for the second middle position are from the two partial beams are formed, which are separated from the sample beams 70 and 170 by the second transmission zone 24 of the modulation device 20.
  • the result of this determination of the distance m from the middle positions is identical to the mean value m, which can be determined from the two distances a and b between the beam spots 93, 94 and 193, 194. Consequently, the distance m determined in this way can also be used as a geometry parameter Determination of the focus position can be used.
  • the advantage of this alternative determination of the value m as a geometry parameter is that the beam spots 93 and 193 as well as the beam spots 94 and 194 do not have to be spatially separated from one another in order to determine the mean positions.
  • the beam spots 93 and 193 can partially or completely overlap if necessary.
  • the beam spots 94 and 194 can also overlap.
  • a partial overlap of the beam spots can occur, for example, if the axial distance from the intermediate focus 71 of the first sample beam 70 to the intermediate focus 171 of the second sample beam 170 is relatively small.
  • This type of evaluation is therefore particularly advantageous when used on processing optics with a thin protective glass.
  • a thin protective glass for example, can typically have a thickness of 1.5 mm.
  • protective glasses particularly if they are intended to be suitable for higher cutting gas pressures, typically have a thickness of more than 3 mm.
  • the evaluation device 80 can be set up to determine a distance c between the beam spots 93 and 193, which are separated from the two sample beams 70 and 170 by the first transmission zone 23 of the modulation device 20, and also one essentially same distance c between the beam spots 94 and 194, which are separated from the sample beams 70 and 170 by the second transmission zone 24 of the modulation device 20.
  • the distance c is shown together with the other geometric relationships between the positions of the beam spots 93, 94, 193, 194.
  • the value of this parameter c is directly related to the axial distance between the intermediate focus 71 of the first sample beam 70 and the intermediate focus 171 of the second sample beam 170, i.e. the axial focus distance between the two sample beams 70, 170.
  • This axial focus distance is, on the one hand, dependent on the thickness of the protective glass, and on the other hand depends on the thermal focus shift within the protective glass. This axial focus distance and thus the parameter c is almost independent of other influences.
  • the parameter c is particularly suitable for determining the amount of the thermal focus shift Protective glass alone to determine.
  • the evaluation device 80 can therefore also be set up to output a signal when a predetermined value for the parameter c is exceeded, which thus indicates that a predetermined thermal shift of the protective glass has been exceeded.
  • a signal can be used in particular to indicate the need to change a dirty protective glass.
  • the beam analysis device 10 can also be advantageously used on a processing optics 200, in which two protective glasses 120, 125 are arranged one behind the other in the beam direction, and in which a pressure compensation connection 145 is provided in the cutting device 140 between the cavity 141 and the space between the two protective glasses is so that there is no differential pressure on the outer protective glass 120.
  • a processing optics 200 is shown in FIG. 23.
  • This outer protective glass 120 which faces the machining process, therefore does not have to be pressure-resistant and a thin, correspondingly cheaper protective glass can therefore be used as a wearing part.
  • This type of arrangement with two protective glasses 120, 125 and a pressure compensation connection 145 also means that no deflection occurs in the outer protective glass 120 as a result of the cutting gas pressure p. Consequently, there is no displacement of the intermediate focus 71 in the sample beam 70 as a result of a deflection of the protective glass. Nevertheless, a correction dependent on the cutting gas pressure p is required when determining the focus position because the energy beam focus 76 is shifted as a result of the increase in the refractive index of the cutting gas under pressure.
  • the beam analysis device 10 enables a particularly precise determination of the focus position even with processing optics without bending of the outer protective glass because the cutting gas is taken into account.
  • An advantage of the invention is that changes in the focus position, which are caused by a process gas or a cutting gas, in particular under varying and/or high pressure, are compensated for by taking a cutting gas signal into account when determining the focus position, and in this way a significant More precise and reliable determination of the focus position is achieved during an ongoing machining process.
  • a further advantage of the invention, particularly in conjunction with a focus position sensor 13 according to the fourth described embodiment of the focus position sensor, is that the measuring principle of the beam analysis device 10 is based on the determination of positions of mutually delimited beam spots 93, 94 on the detector 40. The position of a beam spot can be determined, for example, by calculating the center of gravity of the associated intensity distribution, i.e. 1. Moment of an intensity distribution.
  • the determination of positions and their distance from one another is largely independent, for example, of the height of a constant signal background, which can be caused by scattered light and/or sensor noise. This makes the measuring principle less error-prone than other methods that are based, for example, on the determination of a beam diameter, i.e. the 2nd moment of an intensity distribution, and its change, because the determination of a 2nd moment is relatively sensitive to changes in the height of the background.
  • Another significant advantage of the invention is that the determination of the axial position of the beam focus is not influenced by fluctuations in the beam quality of the laser radiation or the sample beam.
  • the determination of changes in the axial position of the beam focus is possible virtually in real time, which means that the determination only requires a fraction of the typical time constant of changes in the focus position that are caused by the thermal focus shift.
  • the invention is therefore also able to provide signals for regulating the laser material processing process during a laser processing process.
  • the processing process can be regulated, for example, by continuously adjusting or correcting the axial focus position of the processing optics.
  • An energy beam in the sense of this disclosure is preferably a beam of electromagnetic radiation with a wavelength in the range from 0.1 pm to 10 pm, particularly preferably in the range from 0.3 pm to 3 pm, and in particular in the range from 0.3 pm to 1.5 p.m.
  • Laser radiation in the sense of this disclosure is preferably electromagnetic radiation in the range from 0.3 pm to 1.5 pm and with a power of at least 1 mW, particularly preferably with a power of at least 100 W.
  • Partial beam deflection elements e.g. wedge plates, prisms or flat plates
  • Input unit for detector signals

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

Die Erfindung betrifft Strahlanalysevorrichtung (10) zur Bestimmung einer axialen Position eines Fokus (76) eines in einer Laserbearbeitungsoptik (100) geführten Energiestrahls (77) aus elektromagnetischer Strahlung. Eine Stahlformungseinrichtung (12) ist zum Empfang eines Probenstrahls (70) und zum Abbilden zumindest eines Teils des Probenstrahls (70) auf einen Detektor (40) zur Formung einer Intensitätsverteilung (79) auf dem Detektor (40) eingerichtet. Eine Auswertungseinrichtung (80) ist eingerichtet zur Verarbeitung elektrischer Signale (64) des Detektors (40) und zur Bestimmung eines Geometrie-Parameters aus der Intensitätsverteilung (79). Für eine genauere Bestimmung der Fokuslage während laufender Bearbeitungsprozesse ist die Auswertungseinrichtung (80) eingerichtet zum Empfang eines Schneidgas-Signals (63), zur Bestimmung eines Korrekturwertes unter Berücksichtigung des Schneidgas-Signals (63) und zur Bestimmung der axialen Position des Fokus (76) des Energiestrahls (77) unter Berücksichtigung des Geometrie-Parameters und des Korrekturwertes. Die Erfindung betrifft ferner ein System mit einer solchen Strahlanalysevorrichtung (10) und ein Verfahren zur Bestimmung einer axialen Position eines Fokus (76) eines in einer Laserbearbeitungsoptik (100) geführten Energiestrahls (77).

Description

Titel: Vorrichtung und Verfahren zur Fokuslagen-Bestimmung mit
Berücksichtigung von Prozessgas
Anmelder: PRIMES GmbH Messtechnik für die Produktion mit Laserstrahlung
Unser Zeichen: P 55 P 20 WO
BESCHREIBUNG
GEBIET DER ERFINDUNG
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Bestimmung der axialen Position eines Fokus eines Energiestrahls aus elektromagnetischer Strahlung, der in einer Laserbearbeitungsoptik geführt wird. Der Energiestrahl kann insbesondere ein Laserstrahl sein. Die Laserbearbeitungsoptik kann insbesondere eine Schneidoptik mit einer Schneidgaseinrichtung sein. Die Erfindung stellt insbesondere Vorrichtungen und Verfahren bereit, die eine Bestimmung der Position des Strahlfokus einer Bearbeitungsoptik während eines laufenden Laserbearbeitungsprozesses ermöglichen.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Bei der Lasermatenalbearbeitung hat die Einstellung und Kontrolle der axialen Fokuslage des Laserstrahls relativ zu dem zu bearbeitenden Material oder Werkstück einen großen Einfluss auf die Qualität des Bearbeitungsprozesses.
Bei Laserschneid-Prozessen ist nicht nur die Fokus-Position relativ zum Werkstück von Bedeutung, sondern auch der Abstand zwischen Werkstück und Schneiddüse, da die Strömungsdynamik des Schneidgases einen großen Einfluß auf das Resultat des Schneidprozesses hat. Zur Einhaltung eines definierten Abstandes zwischen Werkstück und Schneiddüse ist aus dem Stand der Technik beispielsweise die kapazitive Abstandsmessung und -Regelung bekannt.
Eine Kontrolle und/oder Nachführung des Abstandes zwischen Schneiddüse und
Werkstück stellt jedoch nicht gleichzeitig eine definierte axiale Position des Laserstrahlfokus relativ zum Werkstück sicher, da die Fokuslage der Laserbearbeitungsoptik unabhängig davon variieren oder sich ungewollt bzw. unkontrolliert verändern kann.
Bei modernen Laserbearbeitungsanlagen kommen Laser mit einer hohen Brillanz und einer hohen Leistung, oftmals im Bereich von mehreren Kilowatt, zum Einsatz. Aufgrund der Matenaleigenschaften in den optischen Elementen von Laserbearbeitungsoptiken führt die hohe Laserleistung zu einer Erwärmung der optischen Elemente. Dadurch wird ein radialer Temperaturgradient in den optischen Elementen erzeugt, der aufgrund der Temperaturabhängigkeit von Materialparametern wie z.B. der Brechzahl in eine Änderung der Brechkraft der optischen Elemente resultiert. Dieser Effekt wird thermischer Fokus-Shift genannt. Der Effekt wird verstärkt durch die bei der Lasermaterialbearbeitung entstehenden Reaktionsprodukte und Partikel verschiedenster Größe, die sich auf der Bearbeitungsoptik oder dem Schutzglas der Bearbeitungsoptik niederschlagen können und zu einer erhöhten Absorption führen. Somit tragen oftmals besonders die Schutzgläser zu einer unerwünschten und unkontrollierten Änderung der Strahlfokus-Position der Bearbeitungsoptik bei.
Darüber hinaus können Laserbearbeitungsoptiken auch Einrichtungen zur gezielten Einstellung oder Variation der axialen Fokuslage aufweisen. Beispielsweise kann ein Teil des Linsensystems der Bearbeitungsoptik, insbesondere der Kollimator oder eine Linse des Kollimator-Objektivs, axial einstellbar angeordnet sein, um die axiale Fokuslage der Optik gezielt einstellen oder auch nachführen zu können.
Es ist daher auch und insbesondere bei Laserschneidoptiken wünschenswert, die axiale Fokuslage während des laufenden Bearbeitungsprozesses messen, kontrollieren, und ggf. nachführen zu können.
Aus dem Stand der Technik sind Vorrichtungen und Bearbeitungsoptiken bekannt, bei denen ein Bruchteil des Laserstrahls aus der Optik ausgekoppelt wird und der ausgekoppelte Strahl auf eine Strahlanalyseeinrichtung gerichtet wird.
Die WO 2021/ 156 788 A1 offenbart beispielsweise eine Schneidoptik, bei der mittels einem vor der Schneiddüse angeordnetem optischen Element ein Teil des fokussierten Laserstrahls seitlich ausgekoppelt wird und auf einen Wellenfrontsensor gerichtet wird. Die ermittelte Wellenfront wird mit einer Referenz-Wellenfront verglichen. Zur Reduktion von Aberrationen kann die Fokuslage mittels einer verstellbaren Fokussierung geändert werden.
Aus der DE 10 2011 007 176 A1 ist ebenfalls ein Laserbearbeitungskopf bekannt, bei dem die an einem schräggestellten optischen Element, insbesondere einem Schutzglas, rückreflektierte Laserstrahlung auf einen Detektor gerichtet wird, um aus der vom Detektor erfassten Strahlung die Fokusposition zu bestimmen. Mittels einer Einrichtung zur Veränderung der Fokusposition wird weiterhin eine Regelung der Fokusposition zu ermöglicht.
Im Dokument DE 10 2017 131 224 A1 wird eine Erfassung der Strahleigenschaften anhand der Vermessung des ausgekoppelten Reflex an mindestens zwei entlang der Ausbreitungsrichtung zueinander versetzten Orten vorgeschlagen. Aus den ermittelten Strahleigenschaften kann u.a. die Fokuslage bestimmt werden. Zur Erzeugung eines ausgekoppelten Reflexes wird auch hier ein zur Strahlachse geneigtes Schutzglas eingesetzt.
Bei den bekannten Vorrichtungen, bei denen ein Strahlanteil mittels eines schräggestellten optischen Elements im fokussierten Strahl ausgekoppelt wird, ist zu beachten, dass wegen des schräggestellten optischen Elements Aberrationen, beispielsweise Astigmatismus, im fokussierten Strahl erzeugt werden können, was sich ungünstig auf die Qualität des Strahlfokus auswirken kann.
Es ist aus diesem Grund auch vorgeschlagen worden, den vom optischen Element teilreflektierten Strahlanteil zunächst koaxial in das optische System zurück zu reflektieren und den Strahlanteil dann mittels einer zweiten, innerhalb des optischen Systems angeordneten Auskopplungseinrichtung aus dem Strahlengang der Optik auszukoppeln. Das den Rückreflex erzeugende teilreflektierende Element, beispielsweise das Schutzglas, kann dazu folglich senkrecht im fokussierten Strahl angeordnet werden, so das keine Aberrationen im fokussierten Strahl erzeugt werden. Eine derartige Anordnung zur Strahlanalyse ist beispielsweise in der DE 10 2007 053 632 B4 offenbart.
Es sind Laserschneidverfahren bekannt, bei denen im Verlauf des Bearbeitungsprozesses gezielt der Druck eines Prozessgases bzw. Schneidgases sowie zusätzlich oder alternativ die axiale Fokuslage verändert werden. Beispielsweise offenbart die JP H 03023091 A die Verwendung eines geringen Drucks des Prozessgases beim Einstechvorgang, während anschließend beim Schneiden ein Prozessgas unter hohem Druck zugeführt wird.
Als Einflüsse auf die Fokuslage einer Bearbeitungsoptik sind somit einerseits insbesondere der thermische Fokus-Shift, und andererseits auch die gezielte Beeinflussung der Fokuslage durch verstellbare optische Elemente bekannt.
Andere wesentliche Einflüsse auf die Fokuslage sind im Stand der Technik bisher nicht diskutiert oder berücksichtigt worden.
Die bekannten Fokuslagensensoren und Verfahren zur Bestimmung einer Fokuslage sind ungenau, weil die Auswirkungen eines unter Druck stehenden Prozessgases, insbesondere eines Schneidgases, auf die Fokuslage nicht berücksichtig wird. Somit besteht die Aufgabenstellung, insbesondere für Schneidoptiken eine genauere Bestimmung der Fokuslage zu ermöglichen.
KURZE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Es ist daher Aufgabe dieser Erfindung, die bekannten Fokuslagensensoren und Verfahren zur Bestimmung einer Fokuslage vorteilhaft fortzubilden und insbesondere die Auswirkungen eines Prozessgases auf die Fokuslagenbestimmung zu kompensieren, und so eine besonders genaue Bestimmung der Fokuslage zu ermöglichen. Es ist auch Aufgabe dieser Erfindung, besonders robuste, genaue, vielseitige und kompakte Vorrichtungen und Verfahren zur Bestimmung der Fokuslage zur Verfügung zu stellen, die an einer Bearbeitungsoptik eingesetzt werden können und die optional eine Regelung der Fokuslage einer Bearbeitungsoptik ermöglichen.
Die Aufgabenstellung wird mit den in den unabhängigen Ansprüchen aufgeführten Merkmalen gelöst.
Das oben genannte Problem wird gelöst durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 1 . Dazu ist erfindungsgemäß eine Strahlanalysevorrichtung zur Bestimmung einer axialen Position eines Fokus vorgesehen, die einen Fokuslagensensor und eine Auswertungseinrichtung umfasst. Dabei ist der Fokus ein Fokus eines in einer Laserbearbeitungsoptik geführten Energiestrahls aus elektromagnetischer Strahlung. Der Fokuslagensensor enthält eine Strahlformungseinrichtung und einen Detektor.
Die Strahlformungseinrichtung ist eingerichtet zum Empfang eines Probenstrahls. Die Strahlformungseinrichtung ist weiterhin dazu eingerichtet, zumindest einen Teil des Probenstrahls mittels der Strahlformungseinrichtung auf den Detektor abzubilden zur Formung einer Intensitätsverteilung auf dem Detektor.
Der Detektor umfasst einen lichtstrahlungsempfindlichen und räumlich zwei-dimensional auflösenden Sensor, der zur Umwandlung der auf den Detektor auftreffenden Intensitätsverteilung in elektrische Signale eingerichtet ist.
Die Auswertungseinrichtung ist eingerichtet zur Verarbeitung der elektrischen Signale des Detektors, welche die Intensitätsverteilung auf dem Detektor repräsentieren. Die Auswertungseinrichtung ist weiterhin eingerichtet zur Bestimmung eines Geometrie- Parameters aus der Intensitätsverteilung. Die Auswertungseinrichtung ist weiterhin eingerichtet zum Empfang eines Schneidgas-Signals, welches einen Druck eines Prozessgases oder eines Schneidgases repräsentiert. Die Auswertungseinrichtung ist weiterhin eingerichtet zur Bestimmung eines Korrekturwertes unter Berücksichtigung des Schneidgas-Signals. Die Auswertungseinrichtung ist weiterhin eingerichtet zur Bestimmung der axialen Position des Fokus des Energiestrahls unter Berücksichtigung des Geometrie-Parameters und des Korrekturwertes.
Die Strahlanalysevorrichtung gemäß Anspruch 1 besitzt den Vorteil, dass Änderungen der Fokuslage, die durch ein Prozessgas oder ein Schneidgas insbesondere unter variierendem und/oder hohem Druck verursacht werden, durch Berücksichtigung eines Schneidgas-Signals bei der Bestimmung der Fokuslage kompensiert werden, und auf diese Weise eine wesentlich genauere und zuverlässigere Bestimmung der Fokuslage während eines laufenden Bearbeitungsprozesses erreicht wird.
Vorteilhafte Ausführungsformen werden durch die in den abhängigen Ansprüchen genannten Merkmale definiert. Die erfindungsgemäße Strahlanalysevorrichtung kann optional durch eines oder durch mehrere der nachfolgend aufgeführten Merkmale weitergebildet werden.
Der Probenstrahl kann erzeugbar sein durch Rückreflexion eines Bruchteils des Energiestrahls an einer Grenzfläche eines optischen Elements der Laserbearbeitungsoptik. Das optische Element kann an einen Hohlraum einer Schneidgaseinrichtung der Laserbearbeitungsoptik angrenzen. Der Probenstrahl kann mittels einer Auskopplungseinrichtung aus der Laserbearbeitungsoptik auskoppelbar sein. Der Probenstrahl kann der Strahlformungseinrichtung der Strahlanalysevorrichtung zuführbar sein. Das Schneidgas-Signal kann einen momentanen Druck eines Prozessgases oder Schneidgases im Hohlraum der Schneidgaseinrichtung repräsentieren.
Die Strahlformungseinrichtung und der Detektor können gemeinsam in einem Gehäuse angeordnet sein, welches eine Öffnung zum Einführen des Probenstrahls aufweist. Dabei kann das Gehäuse mit der Laserbearbeitungsoptik verbindbar sein, so dass der mittels der Auskopplungseinrichtung auskoppelbare Probenstrahl der Strahlformungseinrichtung zuführbar ist.
Bei einer Ausführungsform der Strahlanalysevorrichtung kann die Auswertungseinrichtung eine Eingabeeinheit für das Schneidgas-Signal, eine Eingabeeinheit für das Detektor-Signal, eine Speichereinheit, und eine Berechnungseinheit umfassen.
Die Auswertungseinrichtung kann dazu eingerichtet sein, die Bestimmung des Korrekturwertes unter Berücksichtigung von Kalibrationsdaten durchzuführen, welche in der Speichereinheit abgelegt sind. Dabei können die Kalibrationsdaten eine Änderung des Geometrie-Parameters in Abhängigkeit des Schneidgas-Signals beschreiben.
Bei einer weiteren Ausführungsform der Strahlanalysevorrichtung kann die Auswertungseinrichtung eingerichtet sein zum Empfang eines Linsenpositions-Signals, welches die axiale Position einer axial positionierbaren Linse oder Linsengruppe der Laserbearbeitungsoptik repräsentiert. Weiterhin kann die Auswertungseinrichtung eingerichtet sein zur Bestimmung der axialen Position des Fokus des Energiestrahls unter Berücksichtigung des Geometrie-Parameters, des Korrekturwerts, und des Linsenpositions-Signals. Die Auswertungseinrichtung kann eine Eingabeeinheit für das Linsenpositions-Signal umfassen.
Bei einer weiteren Ausführungsform der Strahlanalysevorrichtung kann die Auswertungseinrichtung eingerichtet sein zur Berechnung eines Fokus-Nachführ- Signals aus der bestimmten axialen Position des Fokus des Energiestrahls, die eine Fokus-Ist-Position ist, und aus einer Fokus-Soll-Position. Weiterhin kann die Auswertungseinrichtung eingerichtet sein zur Ausgabe des Fokus-Nachführ-Signals, welches direkt oder über eine übergeordnete Steuerungseinrichtung an eine Stelleinrichtung übergeben werden kann. Dabei kann mittels der Stelleinrichtung eine Position einer axial positionierbaren Linse der Laserbearbeitungsoptik einstellbar sein.
Die Auswertungseinrichtung kann eine Ausgabeeinheit für das Fokus-Nachführ-Signal umfassen.
Die Strahlformungseinrichtung kann eine Abbildungseinrichtung mit wenigstens einer optischen Linse umfassen.
Bei einer möglichen Ausführungsform der Strahlanalysevorrichtung kann die Strahlformungseinrichtung eingerichtet sein zur Abbildung des Probenstrahls auf den Detektor und zur Formung der Intensitätsverteilung auf dem Detektor mit einem Strahlfleck, der einen Durchmesser 0 aufweist. Die Bestimmung des Geometrie- Parameters durch die Auswertungseinrichtung kann eine Bestimmung des Durchmessers 0 des Strahlflecks auf dem Detektor umfassen.
Bei einer weiteren möglichen Ausführungsform der Strahlanalysevorrichtung kann die Strahlformungseinrichtung ein Linsenarray umfassen zur Abbildung des Probenstrahls auf den Detektor und zur Formung der Intensitätsverteilung auf dem Detektor mit einer Vielzahl von Strahlflecken, die Abstände 3NI , aN2, ... 3NM zueinander aufweisen. Dabei kann die Bestimmung des Geometrie-Parameters durch die Auswertungseinrichtung eine Bestimmung wenigstens eines der Abstände 3NI , aN2, ... 3NM der Strahlflecke zueinander beinhalten.
Bei noch einer weiteren möglichen Ausführungsform der Strahlanalysevorrichtung kann die Strahlformungseinrichtung eine Modulationseinrichtung umfassen zur Herauslösung von zwei Teilstrahlen aus dem Probenstrahl. Die Strahlformungseinrichtung kann weiterhin eingerichtet sein zur Abbildung der zwei Teilstrahlen auf den Detektor zur Formung der Intensitätsverteilung auf dem Detektor mit zwei Strahlflecken, die einen Abstand a zueinander aufweisen. Dabei kann die Bestimmung des Geometrie-Parameters durch die Auswertungseinrichtung eine Bestimmung des Abstandes a der Strahlflecke zueinander beinhalten.
Es ist auch eine Ausführungsform der Strahlanalysevorrichtung vorgesehen, bei der die Strahlformungseinrichtung eingerichtet sein kann, aus dem Probenstrahl in einer Ebene der Teilstrahlherauslösung zwei Teilstrahlen herauszulösen. Die zwei Teilstrahlen sind ein erster Teilstrahl und ein zweiter Teilstrahl, Dabei sind Querschnitte der zwei Teilstrahlen in der Ebene der Teilstrahlherauslösung durch jeweils eine Teilapertur definiert. Die Teilaperturen sind voneinander abgegrenzt. Mittelpunkte der Teilaperturen weisen einen Abstand k zueinander auf. Dabei ist durch den Abstand k der Teilaperturen eine erste laterale Richtung definiert. Der Begriff „lateral“ bezieht sich dabei auf Richtungen in Ebenen senkrecht zur jeweils lokalen optischen Achse. Die Strahlformungseinrichtung kann weiterhin eingerichtet sein, zur Formung der Intensitätsverteilung auf dem Detektor mit Strahlflecken und zur Bildung von jeweils wenigstens einem Strahlfleck aus dem ersten Teilstrahl und wenigstens einem Strahlfleck aus dem zweiten Teilstrahl, die zwei Teilstrahlen auf den Detektor abzubilden. Dabei kann der Detektor entlang einer Propagationsstrecke für die Teilstrahlen in einem Abstand s hinter der Ebene der Teilstrahlherauslösung angeordnet sein. Dabei kann die Bestimmung des Geometrie-Parameters durch die Auswertungseinrichtung eine Bestimmung eines Abstandes a entlang der ersten lateralen Richtung zwischen Positionen der beiden Strahlflecke auf dem Detektor beinhalten.
Die Strahlformungseinrichtung kann eingerichtet sein, mindestens einen der wenigstens zwei Teilstrahlen in einer zweiten lateralen Richtung abzulenken und/oder zu versetzen zur Ausbildung eines Abstandes w entlang der zweiten lateralen Richtung zwischen den zwei Strahlflecken auf dem Detektor. Dabei ist die zweite laterale Richtung quer zur ersten lateralen Richtung ausgerichtet.
Mit anderen Worten kann die Strahlformungseinrichtung dazu eingerichtet sein, in der Ebene der Teilstrahlherauslösung die (mindestens zwei) Teilaperturen zum Herauslösen von jeweils einem Teilstrahl auszubilden. Die Strahlformungseinrichtung kann mit anderen Worten dazu eingerichtet sein, dass der Strahlfleck des einen der wenigstens zwei Teilstrahlen und der Strahlfleck des anderen der wenigstens zwei Teilstrahlen auf dem Detektor aufgrund des Abstands k (in der ersten lateralen Richtung in der Ebene der Teilstrahlherauslösung) auf dem Detektor entlang der ersten lateralen Richtung am Detektor den Abstand a zueinander ausbilden, wobei der Abstand a unter anderem von der axialen Position des Strahlfokus abhängt.
Ferner kann die Strahlformungseinrichtung mit anderen Worten dazu eingerichtet sein, dass der Strahlfleck des einen der wenigstens zwei Teilstrahlen und der Strahlfleck des anderen der wenigstens zwei Teilstrahlen auf dem Detektor aufgrund des Ablenken und/oder Versetzen von mindestens einem der beiden Teilstrahlen zusätzlich entlang der zweiten lateralen Richtung am Detektor um den Abstand w zueinander versetzt werden, wobei die zweite laterale Richtung am Detektor quer zu der ersten lateralen Richtung am Detektor ist. Der Abstand a kann unter Umständen klein oder sogar null werden. Durch den zusätzlichen Abstand w der beiden Strahlflecken auf Detektor sind die beiden Strahlflecken selbst in einem solchen Fall noch unterscheidbar.
Beispielsweise kann die Strahlformungseinrichtung derart eingerichtet sein, dass der Abstand w so groß ist, dass sich die beiden Strahlflecken auch in dem Fall, dass der Abstand a null wird, nur teilweise (oder bevorzugt nicht) überlappen.
Es ist weiterhin eine Strahlanalysevorrichtung vorgesehen, bei der die erste laterale Richtung und die lokale optische Achse zwischen der Ebene der Teilstrahlherauslösung und dem Detektor durch Strahlfaltung und/oder Strahlumlenkung geändert sein kann.
Die Strahlformungseinrichtung kann dazu eingerichtet sein, die zwei Teilstrahlen relativ zueinander abzulenken und/oder zu versetzen. Dabei kann eine Differenz zwischen den Ablenkungen und/oder Versetzungen der beiden Teilstrahlen entlang der zweiten lateralen Richtung ausgerichtet sein, zur Ausbildung des Abstandes w entlang der zweiten lateralen Richtung zwischen den zwei Strahlflecken auf dem Detektor.
Die Strahlformungseinrichtung kann eine Strahlseparatoreinrichtung mit wenigstens einem Teilstrahlablenkelement umfassen zur Ablenkung und/oder Versetzung eines ersten der wenigstens zwei Teilstrahlen in der zweiten lateralen Richtung zur Ausbildung des Abstandes w entlang der zweiten lateralen Richtung zwischen den zwei Strahlflecken auf dem Detektor. Die optionale Strahlseparatoreinrichtung kann auch wenigstens zwei Teilstrahlablenkelemente umfassen zur Ablenkung und/oder Versetzung der zwei Teilstrahlen relativ zueinander. Dabei ist eine Differenz zwischen den Ablenkungen und/oder Versetzungen der beiden Teilstrahlen entlang der zweiten lateralen Richtung ausgerichtet, zur Ausbildung des Abstandes w entlang der zweiten lateralen Richtung zwischen den zwei Strahlflecken auf dem Detektor.
Die optionale Strahlseparatoreinrichtung kann wenigstens eine Keilplatte als Teilstrahlablenkelement beinhalten, die in Strahlrichtung fluchtend vor oder hinter einer der Teilaperturen angeordnet sein kann, und die zur Ablenkung des von der Teilapertur herausgelösten Teilstrahls um einen Winkelbetrag im Bereich von 0,02° bis 6° eingerichtet ist.
Die optionale Strahlseparatoreinrichtung kann wenigstens eine verkippte Planplatte oder ein Prisma als Teilstrahlablenkelement beinhalten, die/das in Strahlrichtung fluchtend vor oder hinter einer der Teilaperturen angeordnet sein kann, und die/das zur Versetzung des von der Teilapertur herausgelösten Teilstrahls um einen Betrag im Bereich von 0,05 mm bis 3 mm eingerichtet ist.
Die Auswertungseinrichtung kann weiterhin eingerichtet sein zur Bestimmung einer lateralen Position der gesamten Intensitätsverteilung auf dem Detektor und eingerichtet sein zur Berechnung einer lateralen Position des Fokus des Energiestrahls aus der lateralen Position der gesamten Intensitätsverteilung und/oder zur Berechnung einer Änderung der lateralen Position des Fokus des Energiestrahls aus einer Änderung der lateralen Position der gesamten Intensitätsverteilung.
Es kann weiterhin ein System vorgesehen sein, welches eine Strahlanalysevorrichtung und eine Laserbearbeitungsoptik zur Führung und zur Fokussierung des Energiestrahls umfasst. Dabei kann die Bearbeitungsoptik eine Auskopplungseinrichtung zur Auskopplung des Probenstrahls umfassen. Weiterhin kann die Strahlanalysevorrichtung zum Empfang des ausgekoppelten Probenstrahls mit der Bearbeitungsoptik verbindbar sein.
Das oben genannte Problem wird außerdem gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 24. Dazu ist erfindungsgemäß auch ein Strahlanalyseverfahren zur Bestimmung einer axialen Position eines Fokus vorgesehen. Dabei ist der Fokus ein Fokus eines in einer Laserbearbeitungsoptik geführten Energiestrahls aus elektromagnetischer Strahlung. Das Verfahren umfasst zumindest die folgenden Schritte:
- Empfangen eines aus der Laserbearbeitungsoptik ausgekoppelten Probenstrahls,
- Abbilden zumindest eines Teils des Probenstrahls mittels einer
Strahlformungseinrichtung auf einen Detektor zur Bildung einer Intensitätsverteilung auf dem Detektor,
- Umwandeln der auf den Detektor auftreffenden Intensitätsverteilung in elektrische Signale mittels eines lichtstrahlungsempfindlichen und räumlich zwei-dimensional auflösenden Sensors des Detektors,
- Verarbeiten der elektrischen Signale des Detektors, die die Intensitätsverteilung auf dem Detektor repräsentieren,
- Bestimmen eines Geometrie-Parameters aus der Intensitätsverteilung,
- Empfangen eines Schneidgas-Signals, welches einen Druck eines Prozessgases oder Schneidgases repräsentiert,
- Bestimmen eines Korrekturwertes unter Berücksichtigung des Schneidgas-Signals, und
- Bestimmen der axialen Position des Fokus des Energiestrahls unter Berücksichtigung des Geometrie-Parameters und des Korrekturwertes.
Das erfindungsgemäße Strahlanalyseverfahren kann durch einen oder durch mehrere der nachfolgend aufgeführten optionalen Schritte weitergebildet werden.
Ein mögliches Strahlanalyseverfahren kann zusätzlich die folgenden drei Schritte umfassen:
- Erzeugen des Probenstrahls durch Rückreflexion eines Bruchteils des Energiestrahls an einer Grenzfläche eines optischen Elements der Laserbearbeitungsoptik. Dabei kann das optische Element an einen Hohlraum einer Schneidgaseinrichtung der Laserbearbeitungsoptik angrenzen.
- Auskoppeln des Probenstrahls mittels einer Auskopplungseinrichtung aus der Laserbearbeitungsoptik.
- Zuführen des ausgekoppelten Probenstrahls zur Strahlanalysevorrichtung. In einem weiteren Schritt kann die Bestimmung des Korrekturwertes unter Berücksichtigung von Kalibrationsdaten erfolgen. Dabei können die Kalibrationsdaten eine Änderung des Geometrie-Parameters in Abhängigkeit des Schneidgas-Signals beschreiben.
Ein weiteres mögliches Verfahren kann die folgenden zwei Schritte umfassen:
- Empfangen eines Linsenpositions-Signals, welches die axiale Position einer axial positionierbaren Linse oder Linsengruppe der Laserbearbeitungsoptik repräsentiert.
- Bestimmen der axialen Position des Fokus des Energiestrahls unter Berücksichtigung des Geometrie-Parameters, des Korrekturwerts, und des Linsenpositions-Signals.
Noch ein weiteres mögliches Verfahren kann die folgenden zwei Schritte umfassen:
- Berechnen eines Fokus-Nachführ-Signals aus der bestimmten axialen Position des Fokus des Energiestrahls, die eine Fokus-Ist-Position ist, und aus einer Fokus-Soll- Position.
- Bereitstellen und Übergeben des Fokus-Nachführ-Signals an eine Stelleinrichtung, mittels der eine Position einer axial positionierbaren Linse oder Linsengruppe der Laserbearbeitungsoptik einstellbar ist.
Die mit Bezug auf die Vorrichtung beschriebenen Merkmale, Ausführungsformen, Modifikationen und Vorteile gelten entsprechend für das Verfahren und umgekehrt.
BESCHREIBUNG DER FIGUREN
Figur 1 zeigt eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Strahlanalysevorrichtung 10. Die Strahlanalysevorrichtung 10 beinhaltet einen Fokuslagensensor 13 und eine Auswertungseinrichtung 80. Der Fokuslagensensor 13 beinhaltet eine Strahlformungseinrichtung 12 und einen Detektor 40. Die Strahlformungseinrichtung 12 ist eingerichtet zum Empfang eines Probenstrahls 70, der entlang einer lokalen optischen Achse 11 propagiert. Die Strahlformungseinrichtung 12 und der Detektor 40 können gemeinsam in einem Gehäuse angeordnet sein, welches eine Öffnung zum Einführen des Probenstrahls 70 aufweist. Der Probenstrahl 70 weist einen Zwischenfokus 71 auf. Mittels der Strahlformungseinrichtung 12 wird zumindest ein Teil des Probenstrahls 70 auf den Detektor 40 abgebildet zur Formung einer Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40. Die Strahlformungseinrichtung 12 kann zu diesem Zweck eine optische Linse beinhalten, wie in der Figur mit einer typischen Linsenform angedeutet ist. Die Intensitätsverteilung 79 weist wenigstens eine spezifische geometrische Eigenschaft auf, beispielsweise einen Durchmesser eines Strahlflecks und/oder einen Abstand zwischen zwei Strahlflecken in der Intensitätsverteilung 79. Der Detektor 40 beinhaltet einen strahlungsempfindlichen zweidimensional auflösenden Sensor, welcher die Intensitätsverteilung 79 in ein elektrisches Signal 64 umwandelt. Die Auswertungseinrichtung 80 beinhaltet eine Eingabeeinheit 84 für das Detektor-Signal 64, eine Speichereinheit 81 , eine Berechnungseinheit 86, und eine Eingabeeinheit 83 für ein Schneidgas-Signal 63. Das Schneidgas-Signal 63 kann wenigstens zwei unterschiedliche Zustände oder Werte aufweisen, die zwei verschiedene Drücke eines Schneidgases in einer Schneidgas- Einrichtung repräsentieren. Die Berechnungseinheit 86 ist dazu eingerichtet, auf die Daten der Eingabeeinheit 84 für das Detektor-Signal 64, auf die Daten der Speichereinheit 81 , und auf die Daten der Eingabeeinheit 83 für das Schneidgas-Signal 63 zuzugreifen. Mittels der Berechnungseinheit 86 bestimmt die Auswertungseinrichtung 80 einen Geometrie-Parameter aus der Intensitätsverteilung 79, welcher die spezifische geometrische Eigenschaft der Intensitätsverteilung repräsentiert. Der Geometrie-Parameter kann also beispielsweise der Durchmesser eines Strahlflecks oder der Abstand zwischen zwei Strahlflecken in der Intensitätsverteilung 79 sein. Mittels der Berechnungseinheit 86 ermittelt die Auswertungseinrichtung 80 weiterhin einen Korrekturwert unter Berücksichtigung des Schneidgas-Signals 63. Schließlich bestimmt die Berechnungseinheit 86 unter Berücksichtigung des Geometrie-Parameters und des Korrekturwerts die axiale Position eines Strahlfokus. Bei dem Strahlfokus kann es sich um den Zwischenfokus 71 des Probenstrahls 70 handeln oder um einen Energiestrahl-Fokus einer Bearbeitungsoptik, dessen Fokuslage mit der Position des Zwischenfokus 71 gekoppelt ist. Der Probenstrahl 70 ist zu diesem Zweck in der Bearbeitungsoptik durch Teilreflexion aus einem Energiestrahl oder Laserstrahl erzeugbar und aus der Bearbeitungsoptik auskoppelbar. In der Figur ist weiterhin mit gestrichelten Linien ein axial verschobener Probenstrahl 70’ mit einem entsprechend verschobenen Zwischenfokus 7T skizziert. Bei einer Änderung der axialen Lage des Zwischenfokus 71 ändert sich infolge der Abbildung mittels der Strahlformungseinrichtung 12 auch die Intensitätsverteilung auf dem Detektor 40 und somit auch die Größe des Geometrie-Parameters.
Figur 2 zeigt die gleiche Strahlanalysevorrichtung 10, die bereits in Figur 1 dargestellt ist und oben beschrieben wurde. Gleiche Bezugszeichen beziehen sich dabei auf die gleichen Elemente und Merkmale wie in der Figur 1 , so dass auf die dazugehörige Beschreibung verwiesen wird. In der Figur 2 ist zum besseren Verständnis der Funktionsweise der Erfindung die Anwendung der Strahlanalysevorrichtung 10 in Verbindung mit einer Bearbeitungsoptik 100 dargestellt. Das optische Systems der Bearbeitungsoptik 100 beinhaltet eine Kollimatoroptik 113, eine Auskopplungseinrichtung 115, eine Fokussieroptik 116, sowie ein Schutzglas 120, die entlang einer optischen Achse 111 angeordnet sind. Über ein Lichtleitkabel wird der Bearbeitungsoptik 100 ein Energiestrahl, insbesondere ein Laserstrahl 77 zugeführt. Der Laserstrahl 77 wird vom Lichtleitfaser-Ende 110 des Lichtleitkabels emittiert und von der Kollimatoroptik 113 kollimiert. Der kollim ierte Laserstrahl 77 durchläuft die Auskopplungseinrichtung 115 und wird dann von der Fokussieroptik 116 in einen Energiestrahl-Fokus 76 fokussiert. Mit dem Energiestrahl-Fokus 76 kann ein Werkstück 150 bearbeitet, insbesondere geschnitten werden. Zwischen der Fokussieroptik 116 und dem Energiestrahl-Fokus 76 ist das Schutzglas 120 angeordnet. Die dargestellte Bearbeitungsoptik 100 ist insbesondere eine Schneidoptik. Die Bearbeitungsoptik 100 weist daher eine Schneidgaseinrichtung 140 auf. Mittels der Schneidgaseinrichtung 140 wird dem Schneidprozess ein Prozessgas oder Schneidgas 146 zugeführt, welches unter anderem dazu dient, die Schmelze aus dem Schnittspalt herauszublasen. Dazu besitzt die Schneidgaseinrichtung 140 einen Hohlraum 141 , der sich vom Schutzglas 120 bis zu einer Schneiddüse 142 erstreckt. Das Schneidgas 146 wird über eine Schneidgaszuführung 143 dem Hohlraum 141 zugeführt, und verlässt den Hohlraum 141 durch die Bohrung der Schneiddüse 142 koaxial zum fokussierten Laserstrahl 77. An der einer Grenzfläche 121 des Schutzglases 120, insbesondere an der äußeren Grenzfläche 121 , die dem Werkstück 150 zugewandt ist und die an den Hohlraum 141 der Schneidgaseinrichtung 140 angrenzt, wird ein Bruchteil des Laserstrahls 77 koaxial in die Bearbeitungsoptik 100 zurückreflektiert. Der zurückreflektierte Anteil des Laserstrahls 77 bildet den Probenstrahl 70. Zu Erzeugung des Probenstrahls 70 kann die Rest-Reflexion einer auf der Grenzfläche 121 befindlichen Antireflex-Beschichtung ausgenutzt werden. Der Probenstrahl 70 stellt also ein Spiegelbild des Energiestrahls 77 mit stark herabgesetzter Leistung dar und weist folglich die spiegelbildlichen geometrischen Eigenschaften des Energiestrahls 77 auf. Der Probenstrahl 70 besitzt einen Zwischenfokus 71 , der somit ein Spiegelbild des Energiestrahl-Fokus 76 ist. Das bedeutet, dass Änderungen der axialen Fokuslage 76 eine proportionale Änderung des gespiegelten Fokus bzw. Zwischenfokus 71 im Probenstrahl 70 zur Folge haben. Der Probenstrahl 70 wird mittels des Strahlauskopplers 115 aus der Bearbeitungsoptik 100 ausgekoppelt und verlässt die Bearbeitungsoptik an einem Strahl-Ausgang. An diesem Strahl-Ausgang ist das Gehäuse der Strahlanalysevorrichtung 10 mit dem Fokuslagensensor 13 angekoppelt. Der Strahlauskoppler 115 kann beispielsweise ein schräggestelltes teilreflektierendes Element umfassen. Das teilreflektierende Element der Auskopplungseinrichtung 115 kann eine Antireflex-beschichtete transparente Planplatte sein. Mittels des Fokuslagensensors 13 wird die Fokuslage im Probenstrahl 70 ermittelt, also die Fokuslage des Zwischenfokus 71 , und daraus wird die damit gekoppelte Position des Energiestrahl-Fokus 76 des Laserstrahls 77 bestimmt. Die Schneidgaseinrichtung 140 weist in diesem Ausführungsbeispiel einen Gasdruck- Sensor 62 auf, der beispielsweise in einer Nische des Hohlraums 141 der Schneidgaseinrichtung 140 angeordnet sein kann. Der Gasdruck-Sensor 62 misst den Druck im Hohlraum 140 und liefert das Ergebnis der Druckmessung als Schneidgas- Signal 63 an die Auswertungseinrichtung 80. Der Gasdruck-Sensor 62 kann zu diesem Zweck über eine Datenverbindung direkt mit der Eingabeeinheit 83 der Auswertungseinrichtung 80 verbunden sein. Es ist auch möglich, dass der Gasdruck- Sensor 62 mit einer übergeordneten Steuerung, beispielsweise einer Anlagensteuerung, verbunden ist und das Druck-Messergebnis der übergeordneten Steuerung bereitstellt. In diesem Fall ist dann die Eingabeeinheit 83 der Auswertungseinrichtung 80 über eine Datenverbindung mit der übergeordneten Steuerung verbunden und bezieht von dort das Schneidgas-Signal 63.
In Figur 3 ist der Strahlenverlauf nach der Fokussieroptik 116 der Bearbeitungsoptik 100 schematisch dargestellt. Es sind insbesondere die Auswirkungen eines unter Druck stehenden Schneidgases 146 auf den Strahlenverlauf des Energiestrahls 77 und auf den Strahlenverlauf des Probenstrahls 70 dargestellt. Für eine ausführliche Beschreibung der Schneidgaseinrichtung 140 wird auf die Beschreibung in Figur 2 verwiesen. Das Schneidgas 146 wird über eine Schneidgaszuführung 143 dem Hohlraum 141 zugeführt, und verlässt den Hohlraum 141 durch die Bohrung der Schneiddüse 142 koaxial zum fokussierten Laserstrahl 77. Das Schneidgas 146 steht dabei unter einem hohen Druck p’ und weist deshalb eine erhöhte Brechzahl n’ auf. Durch die Erhöhung der Brechzahl n innerhalb des Hohlraums 141 wird der Laserstrahl 77 gebrochen, das heißt, es ändert sich der optische Weg innerhalb des Hohlraumes 141 , wodurch dessen axiale Fokuslage 76 verschoben wird. Der Abstand zwischen dem Schutzglas 120 und der Soll-Fokuslage 76 ist als Strecke L gekennzeichnet. Dies entspricht gleichzeitig ungefähr der Länge des Strahlwegs, den der Laserstrahl in dem unter Druck stehenden Hohlraum 141 durchläuft. Da die Brechzahl des unter Druck stehenden Schneidgases größer ist als bei Normaldruck, liegt der verschobene Energiestrahl-Fokus 76’ weiter weg von der Fokussieroptik 116. Der Energiestrahl- Fokus 76 ist um einen axialen Betrag AZF verschoben. Wenn das Schutzglas vollkommen starr wäre, würde sich die Position des Zwischenfokus 71 im Probenstrahl dabei nicht ändern. Tatsächlich besitzt aber jedes Material eine, wenn auch geringe, Elastizität. Deswegen erleidet das unter dem Druck des Schneidgases 146 stehende Schutzglas 120 eine geringfügige Durchbiegung, so dass die Grenzfläche 121 eine sehr schwache Krümmung aufweist. Damit verschiebt sich auch der Zwischenfokus 71 des Probenstrahls 70 hin zu einem verschobenen Probenstrahl 70’ mit einem verschobenen Zwischenfokus 7T. Der Zwischenfokus 71 ist somit um einen axialen Betrag Azps verschoben. Der Verschiebungsbetrag Azps des Zwischenfokus 71 hat im allgemeinen eine andere Größe als der Verschiebungsbetrag AZF des Energiestrahl-Fokus 76. Beide Verschiebungsbeträge AZF und Azps sind näherungsweise proportional zur Höhe des Schneidgas-Drucks p. Indem die Auswertungseinrichtung 80 der Strahlanalysevorrichtung 10 das Schneidgas-Signal 63 berücksichtigt, kann die Abweichung zwischen den beiden Verschiebungsbeträgen AZF und Azps kompensiert werden und auf diese Weise die wirkliche Position des Energiestrahl-Fokus 76 genauer bestimmt werden.
Figur 4 zeigt ebenso wie Figur 3 den Strahlenverlauf nach der Fokussieroptik 116 der Bearbeitungsoptik 100. Im Unterschied zur Darstellung von Figur 3 ist in Figur 4 eine Situation dargestellt, bei der ein Schneidgas 146 unter hohem Druck zugeführt wird, und außerdem infolge einer geringen Absorption des Energiestrahls 77 im Schutzglas 120 die Temperatur T des Schutzglases 120 gegenüber der Umgebungstemperatur To erhöht ist, wodurch im Schutzglas 120 ein thermischer Fokus-Shift entsteht. Der thermische Fokus-Shift wirkt wie eine schwache zusätzliche Brechkraft, so dass der verschobene Energiestrahl-Fokus 76’ in diesem Beispiel näher zur Fokussieroptik 116 gewandert ist. Auch der Abstand des Zwischenfokus 71 zum Schutzglas wird dadurch verkürzt. Allerdings durchläuft der Probenstrahl 70 das Schutzglas 120 nach der Reflexion an der Grenzfläche 121 ein zweites Mal, so dass die Auswirkung der thermischen Linse im Schutzglas 120 auf den Probenstrahl 70 ungefähr doppelt so groß ist wie die Auswirkung auf den Energiestrahl 77. Das bedeutet, dass der Verschiebungsbetrag Azps des Zwischenfokus 71 in diesem Fall größer ist als der Verschiebungsbetrag AZF des Energiestrahl-Fokus 76.
In der Figur 5 ist eine Strahlanalysevorrichtung 10 wie in Figur 1 in Verbindung mit einer Bearbeitungsoptik 100 wie in Figur 2 dargestellt. In der Figur 5 ist schematisch gezeigt, wie sich der Strahlenverlauf von Laserstrahl 77 und Probenstrahl 70 ändern, wenn das Schneidgas 146 unter hohem Druck p zugeführt wird. Es ergibt sich dann insbesondere eine andere Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 des Fokuslagensensors 13.
Bei der in Fig. 6 gezeigten Strahlanalysevorrichtung 10 weist die Auswertungseinrichtung 80 zusätzlich eine Eingabeeinheit 85 für ein Linsenpositions- Signal 65 auf. Ansonsten entspricht die Strahlanalysevorrichtung 10 der Vorrichtung aus Figur 1 , 2 und 5. Es wird auf die entsprechenden Beschreibungen verweisen. Die Bearbeitungsoptik 100 beinhaltet in diesem Beispiel eine mittels einer Stelleinrichtung 105 axial einstellbare Kollimatoroptik oder Kollimatorlinse 113 zur gezielten Einstellung der Position des Energiestrahl-Fokus 76. Da sich mit der Stellung des Kollimators die Abbildungseigenschaften des gesamten optischen Systems der Bearbeitungsoptik 100 geringfügig ändern können, wird mit einer Berücksichtigung des Linsenpositions-Signals 65 bei der Bestimmung der Fokuslage durch die Auswertungseinrichtung 80 die Genauigkeit der bestimmten Fokuslagen-Position verbessert.
Die in Fig. 7 gezeigte Strahlanalysevorrichtung 10 weist zusätzlich eine Ausgabeeinheit 87 für ein Fokus-Nachführ-Signal 67 auf. Ansonsten entspricht die Strahlanalysevorrichtung 10 der Vorrichtung aus Figur 6. In dieser Ausführungsform ist die Auswertungseinrichtung 80 eingerichtet zur Berechnung eines Fokus-Nachführ- Signals 67 aus der bestimmten axialen Position des Fokus 76 des Energiestrahls 77 als Fokus-Ist-Position, und aus einer vorgegebenen Fokus-Soll-Position. Die Fokus-Soll- Position kann auch eine zuvor ermittelte Fokuslagen-Position sein oder eine bei optimalen Bedingungen ermittelte Fokuslagen-Position. Das Fokus-Nachführ-Signal 67 wird direkt oder alternativ über eine übergeordnete Steuerungseinrichtung, beispielsweise einer Anlagensteuerung, an die Stelleinrichtung 105 übergeben, mittels der die Position einer axial positionierbaren Linse der Laserbearbeitungsoptik 100, in diesem Fall die Kollimatoroptik 113, einstellbar ist. Auf diese Weise wird mittels der in der Genauigkeit verbesserten Bestimmung der Fokuslage eine besonders präzise Regelung der Fokuslage des Energiestrahl-Fokus 76 realisiert.
Figur 8 zeigt eine Strahlanalysevorrichtung 10 ähnlich der in Figur 7 beschriebenen Vorrichtung mit einem ersten Ausführungsbeispiel für den Fokuslagensensor 13. Bei der ersten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 beinhaltet die Strahlformungseinrichtung 12 eine Abbildungseinrichtung 50 mit einer optischen Linse 51 . Die Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor weist infolge der Abbildung mit der Linse 51 einen Strahlfleck 91 auf, dessen Durchmesser 0 von der Auswertungseinrichtung 80 als Geometrie-Parameter bestimmt wird.
Figur 9 zeigt für die Strahlanalysevorrichtung 10 gemäß Fig. 8 mit der ersten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 schematisch die Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 mit einem Strahlfleck 91 . Der Strahlfleck 91 hat einen Durchmesser 0. Bei einer veränderten axialen Fokuslage des Energiestrahl-Fokus 76 hat der geänderte Strahlfleck 9T einen veränderten Durchmesser 0’, in diesem Beispiel einen vergrößerten Durchmesser.
In Figur 10 ist eine Strahlanalysevorrichtung 10 mit einem zweiten Ausführungsbeispiel des Fokuslagensensors 13 dargestellt. Auch hier ist die Verwendung der Strahlanalysevorrichtung 10 an einer typischen Bearbeitungsoptik 100 dargestellt, deren Aufbau der in der Figur 7 gezeigten Bearbeitungsoptik 100 entspricht. Für die Beschreibung der Bearbeitungsoptik 100 wird daher auf die Beschreibungen in den Figuren 2 und 7 verwiesen. Der Fokuslagensensor 13 beinhaltet in diesem zweiten Ausführungsbeispiel ein Linsenarray 56 mit einer Vielzahl von in einer Ebene seitlich nebeneinander angeordneten Einzellinsenelementen 57. Die Strahlformungseinrichtung 12 kann optional eine Abbildungseinrichtung 50 mit einer optischen Linse 51 umfassen. Jedes vom Probenstrahl 70 beleuchtete Einzellinsenelement 57 bildet jeweils einen kleinen Apertur-Ausschnitt des Probenstrahls 70 auf den Detektor 40 ab. Folglich wird auf dem Detektor 40 eine Intensitätsverteilung 79 mit einer Vielzahl von einzelnen Strahlflecken erzeugt, die Abstände 3NI ... 3NM zueinander aufweisen. Die Abstände aNi ... 3NM der Strahlflecken variieren in Abhängigkeit der axialen Position des Zwischenfokus 71 und damit mit der axialen Position des Energiestrahl-Fokus 76. Die Auswertungseinrichtung 80 nutzt in diesem Beispiel einen oder mehrere der Abstände aNi ... 3NM der Strahlflecken als Geometrie-Parameter zur Bestimmung der axialen Fokuslage.
Figur 11 zeigt eine weitere Ausführungsform der Strahlanalysevorrichtung 10 in Verbindung mit einer bereits aus den Figuren 7, 8 oder 10 bekannten typischen Bearbeitungsoptik 100. Die hier dargestellte Strahlanalysevorrichtung 10 ist mit einem dritten Ausführungsbeispiel des Fokuslagensensors 13 ausgestattet. Bei der dritten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 umfasst die Strahlformungseinrichtung 12 eine Abbildungseinrichtung 50 mit einer optischen Linse 51 und eine Modulationseinrichtung 20 mit einer Sperrzone 25 und zwei Durchlasszonen 23, 24. Mittels der Modulationseinrichtung 20 werden aus dem Probenstrahl 70 zwei Teilstrahlen 73, 74 herausgelöst. Die Modulationseinrichtung 20 weist zu diesem Zweck die beiden Durchlasszonen 23, 24 auf. Mittels der Abbildungseinrichtung 50 werden die aus dem Probenstrahl 70 herausgelösten Teilstrahlen 73, 74 auf den Detektor 40 abgebildet zur Formung einer Intensitätsverteilung 79 mit zwei Strahlflecken 93, 94. Der von der Durchlasszone 23 herausgelöste Teilstrahl 73 bildet den Strahlfleck 93 auf dem Detektor 40 aus. Entsprechend wird der Strahlfleck 94 auf dem Detektor 40 von dem Teilstrahl 74 geformt, der von der Durchlasszone 24 herausgelöst ist. Der Abstand a zwischen den Strahlflecken 93, 94 ist abhängig von der axialen Position des Zwischenfokus 71 des Probenstrahls 70 und somit von der axialen Position des Energiestrahl-Fokus 76 des Laserstrahls 77. Folglich kann aus der Größe des Abstands a die axiale Position des Strahlfokus 71 und damit die axiale Position des Energiestrahl- Fokus 76 bestimmt, werden. Bei der dritten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 ermittelt die Auswertungseinrichtung 80 aus der Intensitätsverteilung 79 deshalb den Abstand a zwischen den Strahlflecken 93, 94 als den Geometrie-Parameter, aus dem dann unter Berücksichtigung des Schneidgas-Signals 63 die Fokuslage 76 bestimmt wird.
In Figur 12 ist die erfindungsgemäße Strahlanalysevorrichtung 10 dargestellt mit einer vierten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13. Die vierte Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 enthält alle Elemente der dritten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 aus der Figur 11 und zusätzlich eine Strahlseparatoreinrichtung 52. Die Strahlformungseinrichtung 12 der Strahlanalysevorrichtung 10 umfasst in der vierten Ausführungsform somit eine Abbildungseinrichtung 50 mit einer optischen Linse 51 , eine Modulationseinrichtung 20, und eine Strahlseparatoreinrichtung 52. Die Strahlseparatoreinrichtung 52 umfasst wenigstens ein Teilstrahlablenkelement 53, 54. In dem hier gezeigten Ausführungsbeispiel enthält die Strahlseparatoreinrichtung 52 zwei Teilstrahlablenkelemente 53, 54. Die Modulationseinrichtung 20 dient zur Herauslösung von zwei Teilstrahlen 73, 74 aus dem Probenstrahl 70 in einer Ebene der Teilstrahlherauslösung 19. Dazu hat die Modulationseinrichtung 20 wenigstens zwei voneinander abgegrenzte Durchlasszonen 23, 24 und wenigstens eine Sperrzone 25, die die Durchlasszonen 23, 24 jeweils vollständig umschließt und voneinander trennt. Im Bereich der Durchlasszonen 23, 24 propagiert die Strahlung weiter zum Detektor 40; im Bereich der Sperrzone 25 wird die Propagation der Strahlung zum Detektor behindert. Auf diese Weise umgrenzen die Ränder der Durchlasszonen 23, 24 zwei Teilaperturen 33, 34, die in der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 die Querschnitte der auf diese Weise gebildeten Teilstrahlen 73, 74 definieren. Die Mittelpunkte der Teilaperturen 33, 34 weisen einen Abstand k zueinander auf. Der Abstand k, das heißt, die gedachte kürzeste Verbindung der Mittelpunkte der Teilaperturen 33, 34, definiert eine erste laterale Richtung 31 . Die erste laterale Richtung 31 ist senkrecht zur lokalen optischen Achse 11 ausgerichtet. In der Darstellung der Figur 12 ist die erste laterale Richtung 31 in der Zeichenebene ausgerichtet, also beispielsweise parallel zur einer y- Koordinatenachse, wobei die lokale optische Achse 11 mit einer z-Koordinatenachse assoziiert wird. Die Modulationseinrichtung 20 moduliert die Intensitätsverteilung des Probenstrahls 70, wodurch ein geformter Probenstrahl mit den beiden Teilstrahlen 73, 74 ausgebildet wird. Die Modulationseinrichtung 20 kann beispielsweise eine Doppellochblende mit zwei Öffnungen sein, wobei die beiden Öffnungen die Durchlasszonen 23, 24 darstellen. Mittels der Abbildungseinrichtung 50 werden die Teilstrahlen 73, 74 des geformten Probenstrahls auf den Detektor 40 abgebildet. Der Detektor 40 weist in einer Sensor-Ebene 39 einen lichtstrahlungsempfindlichen und räumlich zwei-dimensional auflösenden Sensor auf, welcher die Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 in elektrische Signale umwandelt. Das so gebildete Detektor- Signal 64 wird über die Eingabeeinheit 84 der Auswertungseinrichtung 80 zugeführt und von der Auswertungseinrichtung 80, insbesondere von der Berechnungseinheit 86 der Auswertungseinheit 80, verarbeitet. Durch die Abbildung des geformten Probenstrahls mittels der Abbildungseinrichtung 50 auf den Detektor 40 wird für jeden der Teilstrahlen 73, 74 des geformten Probenstrahls ein Strahlfleck 93, 94 in der Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 ausgebildet. Die beiden Strahlflecke 93, 94 weisen auf dem Detektor 40 in der ersten lateralen Richtung 31 einen Abstand a zueinander auf. Der Abstand a ist unter anderem abhängig vom Abstand k der Teilaperturen 33, 34, vom Abstand s zwischen der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 und der Sensor-Ebene 39, und von der axialen Position des Zwischenfokus 71 . Somit kann aus dem Abstand a die axiale Position des Zwischenfokus 71 bestimmt werden und damit die axiale Position des Energiestrahl-Fokus 76 der Bearbeitungsoptik 100, die in der Figur 12 nicht dargestellt ist. Damit die Auswertungseinrichtung 80 die Strahlflecke 93, 94 eindeutig zuordnen kann und somit zwischen einer positiven und einer negativen Verlagerung des Zwischenfokus 71 , d.h. nach vorne oder nach hinten, unterscheiden kann, wird wenigstens einer der Teilstrahlen 73, 74 in einer zweiten lateralen Richtung 37 abgelenkt oder versetzt, die quer zu ersten lateralen Richtung 31 ausgerichtet ist. Die zweite laterale Richtung 37 kann beispielsweise senkrecht zur ersten lateralen Richtung 31 ausgerichtet sein. Die zweite laterale Richtung 37 ist ebenso wie die erste laterale Richtung 31 senkrecht zur lokalen optischen Achse 11 ausgerichtet. In der Darstellung von Figur 12 ist die zweite laterale Richtung 37 beispielsweise senkrecht zur Zeichenebene ausgerichtet und kann daher in Figur 12 nicht dargestellt werden. In der Ausführungsform von Figur 12 werden beide Teilstrahlen 73, 74 entlang der zweiten lateralen Richtung 37 abgelenkt. Dazu weist die Strahlformungseinrichtung 12 die Strahlseparatoreinrichtung 52 auf, die in diesem Beispiel zwei Keilplatten als Teilstrahlablenkelemente 53, 54 umfasst. Jeweils eine der Keilplatten 53, 54 ist in Strahlrichtung fluchtend hinter einer der Durchlasszonen 23, 24 angeordnet. Im gezeigten Beispiel werden dadurch beide Teilstrahlen um etwa den gleichen Betrag, aber in entgegengesetzter Richtung, entlang der zweiten lateralen Richtung 37 abgelenkt, also aus der Zeichenebene heraus. Die Ablenkrichtung wird durch die Orientierung des Keilwinkels der Keilplatten definiert. Beispielsweise kann der Teilstrahl 73 mittels der Keilplatte 53 um einen Winkelbetrag im Bereich von 0,02° bis 6° abgelenkt sein, und der Teilstrahl 74 kann mittels der Keilplatte 54 um den gleichen Winkelbetrag in entgegengesetzter Richtung abgelenkt sein. Durch die Ablenkung und die Propagation zum Detektor 40 weisen die Strahlflecke 93, 94 in Richtung der zweiten lateralen Richtung 37 einen Abstand w zueinander auf. Der Abstand w zwischen den Strahlflecken 93, 94 kann in Figur 12 nicht dargestellt werden, da der Abstand w senkrecht zur Zeichenebene ausgebildet ist. Zur Darstellung dieser Ablenkung, die in der Figur 12 aus der Zeichenebene heraus erfolgt, dient die weiter unten erläuterte Figur 14, in der die Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 mit den beiden Strahlflecken 93, 94 dargestellt wird. In diesem vierten Ausführungsbeispiel für den Fokuslagensensor 13 ist der Abstand a in der ersten lateralen Richtung der Geometrie- Parameter, aus dem in der Auswertungseinrichtung 80 die axiale Fokusposition des Probenstrahls 70 und damit die Fokusposition des Energiestrahls der Bearbeitungsoptik bestimmt wird. Die Auswertungseinheit 80 umfasst dazu zumindest die Eingabeeinheit 84 für das Detektor-Signal 64, die Speichereinheit 81 z.B. für die Speicherung von Kalibrations-Daten, die Berechnungseinheit 86, und die Eingabeeinheit 83 für das Schneidgas-Signal 63. Die Bestimmung der axialen Position des Fokus durch die Berechnungseinheit 86 erfolgt dabei unter Berücksichtigung des Geometrie-Parameters und eines Korrekturwertes, der unter Berücksichtigung des Schneidgas-Signals 63 bestimmt wird, wobei das Schneidgas-Signal 63 die Höhe des Druckes eines Schneidgases repräsentiert. In der Figur 12 ist zur besseren Darstellung der Funktionsweise sowohl ein Probenstrahl 70 mit einem Zwischenfokus 71 mit gestrichelten Linien dargestellt, als auch ein axial verschobener Probenstrahl 70’ mit einem verschobenen Zwischenfokus 7T und den entsprechend geänderten Teilstrahlen 73’ und 74’ mit durchgezogenen Linien dargestellt. Aus dem verschobenen Probenstrahl 70’ entstehen entsprechend die verschobenen Strahlflecke 93’, 94’ mit dem geänderten Abstand a’ in der ersten lateralen Richtung 31.
Figur 13 zeigt eine schematische, beispielhafte Darstellung einer Intensitätsverteilung auf dem Detektor 40 für eine Strahlanalysevorrichtung 10 mit einem Fokuslagensensor 13 gemäß der dritten Ausführungsform des Fokuslagensensors, also für eine Strahlanalysevorrichtung 10 wie in Figur 11 dargestellt. Die Intensitätsverteilung auf dem Detektor 40 setzt sich zusammen aus den Strahlflecken 93, 94, die aufgrund der Abbildung mittels der Abbildungseinrichtung 50 fokussiert oder annähernd fokussiert sein können. Die Strahlflecke 93, 94 weisen den Abstand a zueinander auf. Der Abstand a ändert sich bei einer Änderung der axialen Position des Zwischenfokus 71. In Figur 13 sind weiterhin Strahlflecke 93’ und 94’ eingezeichnet, die einer beispielhaft geänderten axialen Fokusposition entsprechen. Bei der geänderten Fokusposition haben die geänderten Strahlflecke 93’, 94’ einen Abstand a’ zueinander, der in diesem Beispiel größer ist als der Abstand a bei der ursprünglichen Fokusposition. Es ist zu erkennen, dass die Positionen der Strahlflecke 93, 94 bzw. 93’, 94’ entlang einer Richtung variieren, die für beide Strahlflecke 93, 94 auf der gleichen gedachten Linie liegt. Wenn der Abstand a Null ist, würden somit die Strahlflecke 93, 94 aufeinanderliegen. Wenn der Abstand a negativ ist, würden die Strahlflecke 93, 94 ihre relative Lage zueinander vertauschen. Die Auswertungseinrichtung 80 kann deshalb nicht sicher identifizieren, welcher Strahlfleck von welchem Teilstrahl erzeugt ist bzw. von welcher Durchlasszone herausgelöst ist. Aufgrund dieser Unsicherheit kann ein Fokuslagensensor 13 gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel nur mit einem eingeschränkten Erfassungsbereich für die axiale Fokuslage eingesetzt werden.
Figur 14 zeigt eine schematische, beispielhafte Darstellung einer Intensitätsverteilung auf dem Detektor 40 für eine Strahlanalysevorrichtung 10 mit einem Fokuslagensensor 13 gemäß der vierten Ausführungsform des Fokuslagensensors, also für eine Strahlanalysevorrichtung 10 wie in Figur 12 dargestellt. Die Intensitätsverteilung auf dem Detektor 40 setzt sich zusammen aus den Strahlflecken 93, 94, die von den mittels der Modulationseinrichtung 20 aus dem Probenstrahl 70 herausgelösten Teilstrahlen 73, 74 erzeugt werden. Die Strahlflecke 93, 94 weisen in der ersten lateralen Richtung 31 den Abstand a zueinander auf. Der Abstand a ist bei der gezeigten beispielhaften Verteilung der Strahlflecke Null, kann aber beliebige Werte aufweisen. Der Abstand a ändert sich bei einer Änderung der axialen Position des Zwischenfokus 71. Aufgrund der Ablenkung der Teilstrahlen 73, 74 mittels der Strahlseparatoreinrichtung 52 weisen die Strahlflecke 93, 94 in der zweiten lateralen Richtung 37 den Abstand w zueinander auf. Der Abstand w ändert sich nicht bei einer Änderung der axialen Position des Zwischenfokus 71. In Figur 14 sind weiterhin Strahlflecke 93’ und 94’ eingezeichnet, die einer beispielhaft geänderten axialen Fokusposition entsprechen. Bei der geänderten Fokusposition haben die geänderten Strahlflecke 93’, 94’ einen Abstand a’ zueinander. Es ist zu erkennen, dass die Positionen der Strahlflecke 93, 94 bzw. 93’, 94’ entlang der gleichen Richtung variieren, nämlich entlang der ersten lateralen Richtung 31 , aber jeder Strahlfleck auf einer eigenen gedachten Linie liegt, wobei die beiden gedachten Linien in der zweiten lateralen Richtung 37 um den Betrag w zueinander parallel versetzt sind. Auch bei einem Abstand a = 0 sind daher die Strahlflecke 93, 94 räumlich voneinander separiert. Die Auswertungseinrichtung 80 kann deshalb stets sicher identifizieren, welcher Strahlfleck von welchem Teilstrahl erzeugt ist bzw. von welcher Durchlasszone herausgelöst ist. Ein Fokuslagensensor 13 gemäß dem vierten Ausführungsbeispiel ist daher für einen wesentlich größeren Erfassungsbereich für die axiale Fokuslage geeignet als ein Fokuslagensensor nach dem dritten Ausführungsbeispiel. Dieser Vorteil der vierten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 wird mittels der Strahlseparatoreinrichtung 52 erlangt.
In Figur 15 ist eine weitere Ausführungsform der erfindungsgemäßen Strahlanalysevorrichtung 10 dargestellt, bei der der Fokuslagensensor 13 gemäß der bereits in Figur 12 gezeigten vierten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 aufgebaut ist. Zur Erläuterung der Elemente und Funktionsweise des Fokuslagensensors wird daher auf die Beschreibung zu Figur 12 verwiesen. Die hier gezeigte Ausführungsform der Strahlanalysevorrichtung 10 unterscheidet sich von der Ausführungsform in Figur 12 durch zusätzliche Elemente in der Auswertungseinrichtung 80. So weist die Auswertungseinrichtung 80 der hier gezeigten Strahlanalysevorrichtung 10 zusätzlich eine Eingabeeinheit 85 für ein Linsenpositions-Signal 65 auf. Diese Eingabeeinheit 85 ist vorgesehen für die Anwendung an Bearbeitungsoptiken, welche eine einstellbare Linseneinheit zur Verstellung der axialen Fokuslage aufweisen. Eine solche einstellbare Linseneinheit kann beispielsweise ein verstellbarer Kollimator 113 sein, wie in den Figuren 6 - 8 sowie 10 und 11 gezeigt. Da sich mit der Stellung einer einstellbaren Linseneinheit die Abbildungseigenschaften des gesamten optischen Systems der Bearbeitungsoptik 100 geringfügig ändern können, wird mit einer Berücksichtigung des Linsenpositions-Signals 65 bei der Bestimmung der Fokuslage durch die Auswertungseinrichtung 80 die Genauigkeit der bestimmten Fokuslagen- Position verbessert. Ferner weist die Auswertungseinrichtung 80 der hier gezeigten die Strahlanalysevorrichtung 10 zusätzlich eine Ausgabeeinheit 87 für ein Fokus-Nachführ- Signal 67 auf. In dieser Ausführungsform ist die Auswertungseinrichtung 80 eingerichtet zur Berechnung eines Fokus-Nachführ-Signals 67 aus der bestimmten axialen Position des Fokus 76 des Energiestrahls 77 als Fokus-Ist-Position, und aus einer vorgegebenen Fokus-Soll-Position. Das Fokus-Nachführ-Signal 67 ist vorgesehen für die Ansteuerung einer einstellbaren Linseneinheit einer Bearbeitungsoptik, mit welcher die axiale Fokuslage der Optik eingestellt werden kann. Somit ist die hier gezeigte Ausführungsform der Strahlanalysevorrichtung 10 geeignet und vorgesehen zur Regelung der Fokuslage eines Energiestrahl-Fokus einer Laserbearbeitungsoptik.
Figur 16 zeigt die Anwendung einer Strahlanalysevorrichtung 10 gemäß der in Figur 15 dargestellten und beschriebenen Ausführungsform mit einem Fokuslagensensor 13 gemäß der vierten Ausführungsform des Fokuslagensensors in Verbindung mit einer Bearbeitungsoptik 100 mit einem einstellbaren Kollimator 113. Für die Beschreibung der Bearbeitungsoptik 100 wird auf die Beschreibungen insbesondere zu den Figuren 2 und 7 verwiesen. Mit dem hier gezeigten System aus Strahlanalysevorrichtung 10 und Bearbeitungsoptik 100 kann eine schnelle und genaue Regelung der Fokuslage während des Bearbeitungsprozesses realisiert werden.
In Figur 17 ist das gleiche System bestehend aus Strahlanalysevorrichtung 10 und Bearbeitungsoptik 100 dargestellt wie in Figur 16. Figur 17 zeigt gegenüber Figur 16 einen geänderten Strahlenverlauf. In Figur 17 ist die Position des Energiestrahl-Fokus 76’ gegenüber der ursprünglichen Lage 76 des Energiestrahl-Fokus, der hier zum besseren Vergleich mit einem gestrichelten Strahlenverlauf dargestellt ist, nach oben zur Optik hin verschoben. Das ist eine typische Situation, die infolge eines thermischen Fokus-Shifts während des Bearbeitungsprozesses in der Bearbeitungsoptik 100 auftreten kann. Der durch Reflexion an der unteren Schutzglas-Grenzfläche 121 erzeugte Probenstrahl 70’ hat einen Zwischenfokus 71’ , dessen Position ebenfalls gegenüber der ursprünglichen Lage 71 des Zwischenfokus verschoben ist. Infolge der spiegelbildlichen Situation zum Energiestrahl-Fokus 76’ ist der Zwischenfokus 71’ nach unten verschoben. Der geänderte Probenstrahl 70’ wird aus der Bearbeitungsoptik 100 ausgekoppelt und in die Strahlanalysevorrichtung 10 eingestrahlt. Mittels der Modulationseinrichtung 20 werden aus dem geänderten Probenstrahl 70’ geänderte Teilstrahlen 73’, 74’ herausgelöst und mittels der Abbildungseinrichtung 50 auf den Detektor 40 abgebildet. In der Intensitätsverteilung auf dem Detektor haben die dadurch erzeugten Strahlflecken 93’, 94’ in der ersten lateralen Richtung 31 einen geänderten Abstand a’ zueinander. Dieser geänderte Abstand a’ wird als Geometrie-Parameter von der Auswertungseinrichtung 80 ermittelt. Die Auswertungseinrichtung 80 ermittelt weiterhin einen Korrekturwert anhand des momentanen Schneidgas-Signals 63 und bestimmt anhand des Abstandes a’ und des Korrekturwertes die geänderte Fokuslage 76’. Durch Vergleich mit der ursprünglichen oder zuvor bestimmten Fokuslage 76 kann die Auswertungseinrichtung 80 ein Fokus-Nachführ-Signal 67 berechnen und an die Stelleinrichtung 105 für den einstellbaren Kollimator 113 übermitteln. Anhand des Fokus-Nachführ-Signals 67 kann mittels der Stelleinrichtung 105 der Kollimator 113 eingestellt werden, so dass die geänderte Fokuslage 76’ wieder mit der ursprünglichen Fokuslage 76 oder mit einer Soll-Fokuslage 76 übereinstimmt.
Figur 18 zeigt das gleiche System bestehend aus Strahlanalysevorrichtung 10 und Bearbeitungsoptik 100 wie die Figuren 16 und 17. Wie bereits in anderen Beispielen zuvor erläutert, wird durch Teilreflexion des Laserstrahls 77 an der äußeren Grenzfläche 121 des Schutzglases 120 ein erster Probenstrahl 70 bzw. ein geänderter Probenstrahl 70’ mit einem Zwischenfokus 7T erzeugt. Figur 18 zeigt eine Situation, bei der außerdem durch Teilreflexion des Laserstrahls 77 an der inneren, zweiten Grenzfläche 122 des Schutzglases 120 ein zweiter Probenstrahl 170 bzw. ein geänderter zweiter Probenstrahl 170’ mit einem Zwischenfokus 17T erzeugt wird. Der zweite Probenstrahl 170’ wird ebenso wie der erste Probenstrahl 70’ ausgekoppelt und der Strahlanalysevorrichtung 10 mit dem Fokuslagensensor 13 zugeführt. Dabei wird, wie hier dargestellt, vorzugsweise ein Fokuslagensensor 13 gemäß der vierten Ausführungsform eingesetzt, der in den Figuren 12 und 15 dargestellt und detailliert erläutert ist. Hierbei werden mittels der Modulationseinrichtung 20 der Strahlformungseinrichtung 12 von jedem Probenstrahl 70’, 170’ jeweils zwei Teilstrahlen 73’, 74’, 173’, 174’ erzeugt. Jeder Teilstrahl 73’, 74’, 173’, 174’ erzeugt einen Strahlfleck 93’, 94’, 193’, 194’ auf dem Detektor 40. Dabei bilden die durch die Abbildung des Probenstrahls 70’ geformten Strahlflecke 93’ und 94’ ein erstes Strahlfleck-Paar, und die durch die Abbildung des zweiten Probenstrahls 170’ geformten weiteren Strahlflecke 193’ und 194’ bilden ein zweites Strahlfleck-Paar. Die Strahlflecke 93’, 94’ des ersten Strahlfleck-Paars weisen in der ersten lateralen Richtung 31 einen Abstand a’ zueinander auf, während die Strahlflecke 193’, 194’ des zweiten Strahlfleck-Paars in der ersten lateralen Richtung 31 einen Abstand b’ zueinander haben. Beide Strahlfleck- Paare können von der Auswertungseinrichtung 80 ausgewertet werden und die Abstände a und b bzw. a’ und b’ bestimmt werden. Die Auswertungseinrichtung 80 ist daher dazu eingerichtet, eine entsprechende Anzahl von Strahlflecken in der Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 zu identifizieren. Der Vorteil bei der Auswertung der Strahlflecke für beide Probenstrahlen 70 und 170 besteht darin, dass mit dem ersten Strahlfleck-Paar 93, 94 eine Fokuslagen-Information gewonnen wird, welche einen thermischen Shift des Schutzglases enthält, weil der Probenstrahl 70 das Schutzglas zweifach durchlaufen hat, und dass mit dem zweiten Strahlfleck-Paar 193, 194 eine Fokuslagen-Information gewonnen wird, welche den thermischen Shift des Schutzglases nicht enthält, weil der zweite Probenstrahl 170 von der zweiten, inneren Grenzfläche 122 des Schutzglases 120 erzeugt wird und daher das Schutzglas 120 nicht durchläuft. Auf diese Weise kann die Auswertungseinrichtung 80 einen Fokus- Shift, der durch das Schutzglas 120 verursacht ist, von übrigen Fokus-Shift-Anteilen der gesamten Bearbeitungsoptik 100 unterscheiden. Insbesondere ist es dadurch auch möglich, dass die Auswertungseinrichtung 80 den Fokus-Shift des Schutzglases 120 separat bestimmen kann, und ein Warn-Signal bereitstellen kann, wenn der Fokus-Shift des Schutzglases 120 stark zugenommen hat, was üblicherweise auf eine starke Verschmutzung des Schutzglases hindeutet. Damit kann automatisiert auf einen erforderlichen Wechsel des Schutzglases hingewiesen werden.
Die Figuren 19 und 20 zeigen die Erzeugung von zwei Probenstrahlen 70, 170, wie schon zuvor in der Figur 18 gezeigt, welche durch Teilreflexion des Laserstrahls 77 zum einen an der äußeren Grenzfläche 121 des Schutzglases 120, und zum anderen an der zweiten Grenzfläche 122 des Schutzglases erzeugt werden, in einer etwas detaillierteren Teildarstellung des unteren Bereichs der Bearbeitungsoptik um das Schutzglas 120 herum. Figur 19 zeigt insbesondere den Strahlenverlauf für Laserstrahl 77, wenn das Schutzglas 120 durch Absorption von Laserstrahlung infolge einer Verschmutzung eine deutlich erhöhte Temperatur T’ hat und somit einen thermischen Fokus-Shift erzeugt. Der fokussierte Laserstrahl 77 wird durch die im Schutzglas 120 thermisch induzierte Brechkraft zusätzlich gebrochen und stärker fokussiert, wodurch der Energiestrahl-Fokus 76’ nach oben, also zur Optik hin, verschoben ist. Der Strahlenverlauf ohne thermischen Fokus-Shift und der ursprüngliche Energiestrahl- Fokus 76 sind zum Vergleich mit gestrichelten Linien dargestellt. Die Position des Energiestrahl-Fokus ist um den Betrag AZF verschoben. Der Zwischenfokus 7T des durch Reflexion an der unteren Grenzfläche 121 erzeugten Probenstrahl 70’ ist ebenfalls verschoben, und zwar um den Betrag Azps. Diese Verschiebung Azps des Zwischenfokus 71’ ist ungefähr doppelt so groß wie die Verschiebung AZF des Energiestrahl-Fokus 76’, weil der Probenstrahl 70’ das Schutzglas einmal vor der Reflexion und einmal nach der Reflexion, also zweifach durchlaufen hat und somit die thermisch induzierte Brechkraft des Schutzglases 120 auf den Probenstrahl 70’ doppelt wirkt. Im Gegensatz dazu durchläuft der zweite Probenstrahl 170’, der durch Reflexion an der zweiten Grenzfläche 122 erzeugt ist, das Schutzglas gar nicht, so dass die Position des Zwischenfokus 171’ des zweiten Probenstrahls 170’ mit dem ursprünglichen Zwischenfokus 171 ungefähr übereinstimmt. Die Verschiebung Azps2 des Zwischenfokus des zweiten Probenstrahls ist also ungefähr Null, wenn eine Verschiebung des Energiestrahl-Fokus 76 ausschließlich durch einen thermischen Fokus-Shift des Schutzglases verursacht ist. Im Unterschied zu Figur 19 zeigt Figur 20 eine Situation, in der ein thermischer Fokusshift im wesentlichen in der Fokussierung 116 auftritt. In diesem Fall sind die Beträge der Verschiebung AZF des Energiestrahl- Fokus 76’, der Verschiebung Azps des Zwischenfokus 71’ des Probenstrahls 70’, und der Verschiebung Azps2 des Zwischenfokus 171’ des zweiten Probenstrahls 170’ ungefähr gleich groß.
Figur 21 zeigt schematisch die Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 mit den beiden Strahlfleck-Paaren 93, 94 sowie 193, 194, wenn mit einem Fokuslagensensor 13 gemäß der Figur 18 die von beiden Grenzflächen 121 , 122 des Schutzglases 120 erzeugten Probenstrahlen 70, 170 auf den Detektor 40 abgebildet werden. Ansonsten entspricht die Darstellung der in Figur 14 gezeigten Situation, weshalb für die weiteren Einzelheiten auf die Beschreibung zu Figur 14 verwiesen wird.
Figur 22 zeigt, ähnlich wie Figur 21 , schematisch die Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 mit den beiden Strahlfleck-Paaren 93, 94 sowie 193, 194, wenn mit einem Fokuslagensensor 13 gemäß der Figur 18 die von beiden Grenzflächen 121 , 122 des Schutzglases 120 erzeugten Probenstrahlen 70, 170 auf den Detektor 40 abgebildet werden. Figur 22 zeigt dabei eine Situation, bei der die von den beiden Probenstrahlen 70 und 170 erzeugten Strahlflecke 93 und 193 einerseits, und die Strahlflecke 94 und 194 andererseits, nicht vollständig räumlich voneinander getrennt sind. Diese Situation kann auftreten, wenn ein sehr dünnes Schutzglas 120 verwendet wird. Der zweite Probenstrahl 170, der durch Reflexion an der zweiten (inneren, bzw. oberen) Grenzfläche 122 des Schutzglases 120 erzeugt wird, unterscheidet sich dann in seiner axialen Lage nur geringfügig vom ersten Probenstrahl 70, der durch Reflexion an der äußeren Grenzfläche 121 des Schutzglases 120 erzeugt wird. Folglich haben dann auch die Zwischenfokusse 71 und 171 der Probenstrahlen 70 und 170 nur einen geringen axialen Abstand zueinander. In einer solchen Situation kann die Auswertungseinrichtung 80 dazu eingerichtet sein, einen mittleren Abstand m in der ersten lateralen Richtung 31 zwischen einer ersten mittleren Position aus den Strahlflecken 93 und 193 und einer zweiten mittleren Position aus den Strahlflecken 94 und 194 zu bestimmen. Die beiden Strahlflecke 93 und 193 werden dabei also als ein gemeinsamer erster Strahlfleck betrachtet. In gleicher Weise werden die Strahlflecke 94 und 194 als ein gemeinsamer zweiter Strahlfleck betrachtet. Der auf diese Weise bestimmte mittlere Abstand m ist identisch mit dem Mittelwert m aus den Abständen a und b, wobei a der Abstand in der ersten lateralen Richtung 31 zwischen den Strahlflecken 93 und 94 ist, die durch den ersten Probenstrahl 70 ausgebildet sind, und wobei b der Abstand in der ersten lateralen Richtung 31 zwischen den Strahlflecken 193 und 194 ist, die durch den zweiten Probenstrahl 170 ausgebildet sind. Dieser mittlere Abstand m kann in solchen Situationen von der Auswertungseinrichtung 80 alternativ als Geometrie-Parameter für die Bestimmung der Fokuslage verwendet werden. Bei einer geänderten Fokuslage ergeben sich geänderte Positionen der geänderten Strahlflecke 93’, 94’, 193’, 194’ und damit ein entsprechend geänderter mittlerer Abstand m’ in der ersten lateralen Richtung 31.
In Figur 23 ist die Anwendung einer Strahlanalysevorrichtung 10 gemäß der in Figur 15 gezeigten und beschriebenen Ausführungsform mit einem Fokuslagensensor 13 gemäß der vierten Ausführungsform des Fokuslagensensors in Verbindung mit einer Bearbeitungsoptik 200 dargestellt. Die Bearbeitungsoptik 200 ist in wesentlichen Elementen vergleichbar mit der bereits in den Figuren 2 und 7 beschriebenen Bearbeitungsoptik 100. Die Bearbeitungsoptik 200 besitzt im Unterschied zur Bearbeitungsoptik 100 ein zweites Schutzglas 125 und eine Schneideinrichtung 140, welche zusätzlich eine Druckausgleichs-Verbindung 145 aufweist. Die Druckausgleichs- Verbindung 145 ist eine pneumatische Verbindung, also beispielsweise ein einfacher offener Kanal, zwischen dem Hohlraum 141 und dem Zwischenraum zwischen dem äußeren Schutzglas 120 und dem zweiten Schutzglas 125. Infolge der Druckausgleichs-Verbindung 145 baut sich im Zwischenraum zwischen dem äußeren Schutzglas 120 und dem zweiten Schutzglas 125 immer der gleiche Druck auf wie in dem Hohlraum 141. Somit bildet sich am äußeren Schutzglases 120 kein Differenzdruck aus. Das Schutzglas 120 wird sich deshalb auch bei einem hohen Schneidgas-Druck nicht durchbiegen. Das hat den Vorteil, dass für das äußere Schutzglas 120 ein dünnes und damit preisgünstigeres Schutzglas als Verschleißteil eingesetzt werden kann, während hierbei das zweite Schutzglas 125 druckfest ausgelegt sein muss. Da das zweite Schutzglas 125 durch das äußere Schutzglas 120 vor Verschmutzung geschützt ist, muss das zweite, dickere Schutzglas 125 jedoch nie oder nur selten ausgetauscht werden. Wegen der fehlenden Durchbiegung des äußeren Schutzglases tritt bei einer Änderung des Schneidgas-Druckes auch keine Verschiebung des Zwischenfokus 71 im Probenstrahl 70 auf. Dennoch ist eine vom Schneidgasdruck p abhängige Korrektur bei der Bestimmung der Fokuslage erforderlich, weil der Energiestrahl-Fokus 76 infolge der Brechzahl-Erhöhung des unter Druck stehenden Schneidgases verschoben wird.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Die Erfindung löst das Problem, dass bei Laserbearbeitungsprozessen, insbesondere beim Laserschneiden, die axiale Fokuslage des Laserstrahls unter anderem infolge des Prozessgases, insbesondere des Schneidgases, verändert werden kann, was von herkömmlichen Fokuslagensensoren nicht bemerkt wird und zu einem ungenauen oder sogar falschen Messwert für die Fokuslage führen kann.
Die erfindungsgemäße Strahlanalysevorrichtung 10 umfasst eine Strahlformungseinrichtung 12, einen Detektor 40 und eine Auswertungseinrichtung 80. Die Strahlformungseinrichtung 12 ist eingerichtet zum Empfang eines Probenstrahls 70. Die Strahlformungseinrichtung ist zu diesem Zweck beispielsweise ankoppelbar an einen Strahl-Ausgang einer Auskopplungseinrichtung einer Bearbeitungsoptik 100. Die Bearbeitungsoptik 100 bildet einen Energiestrahl 77, insbesondere einen Laserstrahl 77, in einen Fokus 76 ab. Mittels der Auskopplungseinrichtung wird im Strahlengang der Bearbeitungsoptik 100 ein Probenstrahl 70 ausgekoppelt und der Strahlformungseinrichtung 12 zugeführt. Die Strahlformungseinrichtung 12 und der Detektor 40 bilden einen Fokuslagensensor 13 aus und sind vorzugsweise gemeinsam in einem an die Bearbeitungsoptik 100 anbringbaren Gehäuse angeordnet. Die Auswertungseinrichtung 80 beinhaltet zumindest eine Eingabeeinheit 84 für ein Detektor-Signal 64, eine Eingabeeinheit 83 für ein Schneidgas-Signal 63, eine Speichereinheit 81 für Kalibrationsdaten und/oder weitere Parameter, und eine Berechnungseinheit 86 zur Ermittlung einer korrigierten Fokuslagen-Position.
Die axiale Fokuslage 76 bei einer Anlage zum Laserschneiden wird primär vom abbildenden System der Bearbeitungsoptik 100 festgelegt. Abweichungen von einer definierten Fokuslage treten vor allem durch die folgenden Effekte auf:
- Verstellung des Linsensystems, z.B. des Kollimators;
- thermischer Fokus-Shift in einem oder in mehreren optischen Elementen der Optik, insbesondere im Schutzglas;
- Druck des Schneidgases in einer Schneidgas-Einrichtung.
Der thermische Fokus-Shift ist ein Effekt, der auch von der Verschmutzung der Optik, insbesondere des Schutzglases abhängig ist, und wird daher typischerweise mit zunehmender Betriebsdauer größer. Da die Größe dieses Effekts demnach unbestimmt und außerdem zeitlich variabel ist, kann eine genaue Nachführung der axialen Fokuslage nur unter Verwendung eines Fokuslagensensors erfolgen, der eine kontinuierliche Bestimmung der Fokuslage bei laufendem Bearbeitungsprozess ermöglicht.
Besonders vorteilhaft ist es, zu diesem Zweck für die Bestimmung der Fokuslage ein Strahl-Sampling bzw. die Erzeugung eines Probenstrahls 70 an der letzten optischen Grenzfläche 121 des optischen Systems vorzunehmen, also beispielsweise an der dem Bearbeitungsprozess bzw. dem Werkstück 150 zugewandten Seite des Schutzglases 120. An dieser Grenzfläche 121 wird ein Bruchteil des Laserstrahls 77 reflektiert. Auf diese Weise entsteht der Probenstrahl 70, der folglich ein Spiegelbild 71 des Laserstrahl-Fokus 76 aufweist. Dieses Spiegelbild des Laserstrahl-Fokus 76 ist somit ein Zwischenfokus 71 im Probenstrahl 70. Das bedeutet, dass Änderungen der axialen Fokuslage 76 eine proportionale Änderung des gespiegelten Fokus bzw. Zwischenfokus 71 im Probenstrahl 70 zur Folge haben. Der Probenstrahl 70 wird beispielsweise mittels eines Strahlauskopplers 115 aus der Bearbeitungsoptik 100 ausgekoppelt und zum Fokuslagensensor 13 geführt. Der Strahlauskoppler 115 kann beispielsweise ein schräggestelltes teilreflektierendes Element umfassen. Mittels des Fokuslagensensors 13 wird eine Änderung der Fokuslage im Probenstrahl 70 ermittelt, also der Fokuslage des Zwischenfokus 71 , und daraus wird die dazu proportionale Änderung der Fokuslage 76 des Laserstrahls 77 bestimmt.
Demnach ist der Fokuslagensensor 13 in der Lage, alle Änderungen der Fokuslage, die ihre Ursache im optischen System der Bearbeitungsoptik 100 haben, zu erfassen. Der Fokuslagensensor 13 kann jedoch keine Änderungen erfassen, deren Ursachen außerhalb des optischen Systems liegen. Zu diesen Ursachen gehört insbesondere ein dem Prozess unter Druck zugeführtes Schneidgas 146.
Beim Laserschneiden wird dem Schneidprozess mittels einer Schneidgaseinrichtung
140 ein Schneidgas 146 zugeführt, welches unter anderem dazu dient, die Schmelze aus dem Schnittspalt herauszublasen. Dazu besitzt die Schneidgaseinrichtung 140 einen Hohlraum 141 , der sich vom Schutzglas 120 bis zu einer Schneiddüse 142 erstreckt. Das Schneidgas 146 wird über eine Schneidgaszuführung 143 dem Hohlraum
141 zugeführt, und verlässt den Hohlraum 141 durch die Bohrung der Schneiddüse 142 koaxial zum fokussierten Laserstrahl 77. Das Schneidgas 146 steht dabei unter einem hohen Druck p’ und weist deshalb eine erhöhte Brechzahl n’ auf. Durch die, wenn auch nur geringe, Erhöhung der Brechzahl n innerhalb des Hohlraums 141 wird der Laserstrahl 77 gebrochen, das heißt, es ändert sich der optische Weg innerhalb des Hohlraumes 141 , wodurch dessen axiale Fokuslage 76 verschoben wird.
Diese Änderung der Fokuslage kann von dem Fokuslagensensor 13 nicht erfasst werden, da der Probenstrahl 70 prinzip-bedingt nicht den Hohlraum 141 der Schneidgaseinrichtung 140 durchläuft.
Die Änderung der Fokuslage 76 durch das Schneidgas 146 kann aber durchaus einen spürbaren Betrag ausmachen, wie das folgende Zahlenbeispiel zeigt.
Dabei werden folgende, typische Parameter angenommen: die innerhalb der Schneidgaseinrichtung 140 vom Laserstrahl 77 zurückgelegte Strecke L betrage L = 100 mm, das Schneidgas 146 sei Stickstoff unter einem Druck von p’ = 20 bar.
Die Brechzahl von Stickstoff bei Normaldruck und Raumtemperatur beträgt no = 1 ,00028.
Die Brechzahl eines Gases in Abhängigkeit von Druck p und Temperatur T ergibt sich aus folgender Gleichung: n - 1 = ( n0 - 1 ) ( p / po ) ( To / T )
Bei einem Druck von p’ = 20 bar erhält man für Stickstoff somit n’ = 1 ,0056. Die Änderung der Schnittweite Az, also der axialen Fokuslage 76 des Laserstrahls 77, erhält man aus folgender Formel:
Az = L ( n’ - 1 ) / n’
Die Änderung der Fokuslage beträgt damit in diesem Beispiel Az = 0,56 mm.
Wird als Schneidgas normale Druckluft anstatt von Stickstoff verwendet, ergeben sich annähernd identische Zahlenwerte.
Der hohe Druck des Schneidgases 146 hat aber noch einen weiteren Effekt zur Folge: er bewirkt eine sehr geringe Durchbiegung des Schutzglases 120, so dass die Grenzfläche 121 , an der der Probenstrahl 70 durch Teilreflexion erzeugt wird, nicht mehr plan ist. Dadurch wird der gespiegelte Fokus 71 im Probenstrahl 70 ebenfalls etwas verschoben.
Auch diese Verschiebung kann berechnet werden, was im folgenden mit einem typischen Zahlenbeispiel gezeigt wird.
Hierzu wird ein Schutzglas 120 aus Quarzglas mit einer Dicke d = 5 mm und einem Durchmesser 2RSG = 30 mm angenommen. Für die Berechnung wird weiterhin das Elastizitätsmodul E des Materials des Schutzglases benötigt, welches für Quarzglas E = 72500 N/mm2 beträgt. Die Durchbiegung w in der Mitte einer am Rand gelenkig gelagerten kreisförmigen Platte ergibt sich gemäß der folgenden Formel w = 0,696 p RSG4 / ( E d3 ) zu w = 0,0078 mm. Den Krümmungsradius Rc der Platte, also des Schutzglases 120, erhält man aus folgender Formel:
Figure imgf000036_0001
Aus den beispielhaft angegebenen Zahlenwerten ergibt sich ein Krümmungsradius der beiden Schutzglas-Oberflächen 121 , 122 von Rc = 14,4 m.
Somit wirkt das unter dem Druck des Schneidgases 146 stehende Schutzglas 120 auf den Probenstrahl 70 wie ein sehr schwach konvex gekrümmter Spiegel mit einer Brennweite von - fRefi = Rc/2 = 7200 mm. Bei einem Abstand des Laserstrahl-Fokus 76 von L = 100 mm zum Schutzglas 120 folgt daraus eine axiale Verschiebung des gespiegelten Strahlfokus 71 im Probenstrahl 70 von Az = L2 / fRefi = -1 ,4 mm.
Bei dem gewählten Zahlenbeispiel würde somit der Fokuslagensensor eine scheinbare Verschiebung der axialen Fokuslage um 1 ,4 mm erfassen, während die wahre Verschiebung der axialen Fokuslage 0,56 mm beträgt. Der Fokuslagensensor würde somit bei diesem Zahlenbeispiel die Änderung der Fokuslage um einen Faktor 1 ,4 / 0,56 = 2,5 überschätzen. Die Größe dieses Faktors kann demnach direkt aus den Parametern des Schutzglases, der Schneideinrichtung und aus dem Druck des Schneidgases ermittelt oder berechnet werden. Die Größe dieses Faktors kann auch aus einer vorangegangenen Kalibrierung erhalten werden. Die Parameter des Schutzglases und der Schneideinrichtung sind für eine vorgegebene Bearbeitungsoptik konstante Parameter, während der Druck des Schneidgases veränderlich sein kann. Sowohl die Änderung der Position des Energiestrahl-Fokus 76 durch die Brechzahl n des Schneidgases, als auch die Änderung der Position des Zwischenfokus 71 im Probenstrahl 70, sind zumindest bei kleinen Änderungen ungefähr proportional zur Größe des Schneidgas-Drucks p.
Also bestimmt insbesondere der aktuelle Schneidgas-Druck p die aktuelle Abweichung zwischen einer Änderung der Position des Energiestrahl-Fokus 76 und einer Änderung der Position des Zwischenfokus 71 im reflektierten Probenstrahl 70, der vom Fokuslagensensor erfasst wird. Um diese Abweichung, die der von der Auswertungseinrichtung 80 aus den Daten vom Fokuslagensensor 13 primär ermittelte Fokuslagen-Messwert aufweisen kann, herauszukorrigieren und von Änderungen der Fokuslage zu unterscheiden, die aus anderen Ursachen wie einer Kollimator- Verstellung oder einem thermischen Fokus-Shift entstehen, benötigt die Auswertungseinrichtung 80 eine Information darüber, ob das Schneidgas 146 eingeschaltet ist und/oder eine Information, die die Höhe des Schneidgas-Drucks p repräsentiert.
Die Auswertungseinrichtung 80 der erfindungsgemäßen Strahlanalysevorrichtung 10 beinhaltet daher eine Eingabeeinheit 83 für ein Schneidgas-Signal 63, eine Speichereinheit 81 für Kalibrationsdaten und/oder weitere Parameter, und eine Berechnungseinheit 86 zur Ermittlung einer korrigierten Fokuslagen-Position.
Die Eingabeeinheit 83 für das Schneidgas-Signal 63 kann beispielsweise eine physische Schnittstelle für eine elektrische Leitung sein, oder eine virtuelle Schnittstelle in einem Computerprogramm, oder eine drahtlose Schnittstelle für eine Funk- Übertragung von Daten sein.
Das Schneidgas-Signal 63 kann in einem besonders einfachen Ausführungsbeispiel ein binäres Signal sein, dessen zwei Zustände unterschiedliche Drücke repräsentieren. Ein erster Zustand kann beispielsweise ein Zustand sein, bei dem kein Schneidgas 146 zugeführt wird (Schneidgas ist ausgeschaltet), und bei einem zweiten Zustand wird ein Schneidgas 146 unter einem vordefinierten Druck zugeführt (Schneidgas ist eingeschaltet). Genauso gut kann das binäre Signal auch zwei unterschiedliche vordefinierte Drücke eines zugeführten Schneidgases 146 repräsentieren, z.B. einen geringen Druck pi für den Einstechvorgang und einen hohen Druck p2 für den Schneidvorgang. Welchem Druck der Wert des Signals 63 jeweils entspricht, kann in der Speichereinheit 81 als Kalibrierung hinterlegt sein.
Das Schneidgas-Signal 63 kann auch ein analoges oder digitales Signal sein, welches zum Schneidgasdruck proportional ist. Anhand des momentanen Schneidgas-Signals 63 kann die Berechnungseinheit 86 dann mittels eines in der Speichereinheit 81 hinterlegten oder kalibrierten Proportionalitätsfaktors einen Korrekturwert ermitteln und damit die korrigierte Fokuslage bestimmen.
Die für die Berechnungen der Berechnungseinheit 86 benötigten Werte verschiedener Parameter sind vorzugsweise in der Speichereinheit 81 abgelegt. Bei den Parametern kann es sich um Proportionalitätsfaktoren und/oder Konstanten handeln, die aus einem Kalibrationsprozess ermittelt wurden. Die Kalibrationsdaten können beispielsweise eine Änderung des Geometrie-Parameters in Abhängigkeit des Gasdruck-Signals beschreiben. Bei den Parametern kann es sich auch um diverse Eigenschaften des optischen Systems, der Schneideinrichtung und des Schutzglases handeln, also beispielsweise Vergrößerung der Optik, Brennweiten von Kollimatoroptik und Fokussieroptik, Brechzahl des Schneidgases, durchstrahlte Länge des Hohlraums der Schneideinrichtung, Radius oder Durchmesser des Schutzglases, Dicke des Schutzglases, Elastizitätsmodul des Schutzglases, und/oder gegebenenfalls weitere Parameter. Aus diesen Daten kann dann einer oder mehrere der für die Berechnungen benötigten Proportionalitätsfaktoren und/oder Konstanten ermittelt werden oder angepasst werden, beispielsweise wenn bei einem Schutzglaswechsel ein Schutzglas mit einer anderen Dicke eingesetzt wird. Zu diesem Zweck kann die Speichereinheit auch ein Interface oder eine Schnittstelle für die Eingabe oder Aktualisierung eines oder mehrerer Parameter aufweisen.
Alternativ oder zusätzlich kann in der Speichereinheit 81 für mindestens einen Zustand des Schneidgas-Signals 63 oder für mindestens einen Größenwert des Schneidgas- Signals 63 ein Korrekturwert hinterlegt sein, welcher von der Berechnungseinheit 86 zur Korrektur der vom Fokuslagensensor 13 bestimmten Fokuslage verwendet wird. Der Korrekturwert oder die Korrekturwerte können zuvor in einem Kalibrierungszyklus bestimmt worden sein. Der jeweils benötigte Korrekturwert kann mit dem Wert oder dem Zustand des Schneidgas-Signals 63 über eine Look-Up-Tabelle verknüpft sein. Wenn Zwischenwerte benötigt werden, kann die Berechnungseinheit 86 zwischen den Werten der Look-Up-Tabelle eine Interpolation durchführen.
Das Schneidgas-Signal 63 kann beispielsweise dem Zustand eines Schaltventils entsprechen, mit welchem das Schneidgas ein- oder ausgeschaltet wird, oder mit welchem unterschiedliche Drücke des Schneidgases 146 eingestellt werden.
Das Schneidgas-Signal 63 kann auch ein Druck-Vorgabe-Signal oder Druck-Soll-Signal einer übergeordneten Anlagensteuerung sein. Mittels eines steuerbaren Ventils kann dann der entsprechend der Vorgabe angeforderte Druck eingestellt werden.
Das Schneidgas-Signal 63 kann der Messwert eines Gasdruck-Sensors 62 sein und von diesem bereitgestellt werden. Der Messwert des Gasdruck-Sensors 62 kann direkt über eine Datenverbindung in die Eingabeeinheit 83 der Auswertungseinrichtung 80 eingespeist werden. Alternativ kann der Gasdruck-Sensor 62 auch mit einer übergeordneten Anlagensteuerung verbunden sein, welche dann das Schneidgas- Signal 63 über die Datenverbindung an die Auswertungseinrichtung 80 bzw. an die Eingabeeinheit 83 der Auswertungseinrichtung 80 übermittelt.
Der Gasdruck-Sensor 62 kann im Inneren der Schneidgaseinrichtung 140 angeordnet sein. Der Gasdruck-Sensor 62 kann zu diesem Zweck beispielsweise in einer Nische des Hohlraums 141 angeordnet sein.
Der Gasdruck-Sensor 62 kann auch über eine pneumatische Verbindung mit dem Hohlraum 141 der Schneidgaseinrichtung 140 gekoppelt sein.
Der Gasdruck-Sensor 62 kann auch an einer beliebigen Stelle der Schneidgas- Zuführung 143 angeordnet sein oder mit der Zuführung des Schneidgases pneumatisch verbunden sein.
Der Fokuslagensensor 13 beinhaltet die Strahlformungseinrichtung 12 und den Detektor 40. Die Strahlformungseinrichtung 12 ist zum Empfang des Probenstrahls 70 eingerichtet und bildet den Probenstrahl 70 auf den Detektor 40 ab, wodurch eine Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 erzeugt wird. Der Detektor 40 beinhaltet einen zweidimensional auflösenden, strahlungsempfindlichen Sensor, welcher die Intensitätsverteilung 79 in elektrische Signale 64 umsetzt. Die Auswertungseinrichtung 80 verarbeitet die Detektor-Signale 64. Die Auswertungseinrichtung 80 ist dazu mit einer Eingabeeinheit 84 zum Empfang der Detektor-Signale 64 ausgerüstet. Die Eingabeeinheit 84 für die Detektor-Signale 64 kann beispielsweise eine physische Schnittstelle für eine elektrische Leitung sein, oder eine virtuelle Schnittstelle in einem Computerprogramm, oder eine drahtlose Schnittstelle für eine Funk-Übertragung von Detektor-Daten sein.
Die Auswertungseinrichtung 80 ist dazu eingerichtet, aus dem Detektor-Signal 64, das die Intensitätsverteilung 79 repräsentiert, einen Geometrie-Parameter zu bestimmen. Der Geometrie-Parameter stellt eine spezifische geometrische Eigenschaft der Intensitätsverteilung 79 dar. Der Geometrie-Parameter kann eine geometrische Größe eines wesentlichen Merkmals der Intensitätsverteilung 79 beschreiben. Der Geometrie- Parameter kann somit eine Größe sein, der eine Längeneinheit zugeordnet werden kann, wie beispielsweise mm (Millimeter) oder pm (Mikrometer), oder der eine Flächeneinheit zugeordnet werden kann, wie beispielsweise mm2 (Quadratmillimeter) oder pm2 (Quadratmikrometer). Dieser Geometrie-Parameter kann beispielsweise ein Durchmesser 0 eines Strahlflecks 91 der Intensitätsverteilung 79 sein, oder ein Abstand a zwischen zwei Strahlflecken 93, 94 der Intensitätsverteilung 79, oder ein anderer vergleichbarer geometrischer Parameter der Intensitätsverteilung 79. Der Geometrie-Parameter wird in einzelnen Ausführungsbeispielen nachfolgend noch genauer erläutert.
Die Größe des Geometrie-Parameters ist direkt abhängig von der axialen Lage des Zwischenfokus 71 des Probenstrahls 70 und damit von der axialen Lage des Energiestrahl-Fokus 76 des Laserstrahls 70, weil der Zwischenfokus 71 ein gespiegelter Fokus des Energiestrahl-Fokus 76 ist. Die Auswertungseinrichtung 80 bestimmt aus dem Geometrie-Parameter die axiale Position des Energiestrahl-Fokus 76 unter Berücksichtigung des Schneidgas-Signals 63. Die Auswertungseinrichtung 80 beinhaltet zu diesem Zweck eine Berechnungseinheit 86 und eine Speichereinheit 81 .
Die Bestimmung der Position bzw. einer Änderung der Position des Energiestrahl- Fokus 76 kann auf die nachfolgend dargestellte Weise ablaufen.
Die Auswertungseinrichtung 80 bestimmt mittels der Berechnungseinheit 86 aus den Detektor-Signalen 64 zunächst einen primären, unkorrigierten Geometrie-Parameter, beispielsweise einen Abstand a zwischen zwei Strahlflecken 93, 94. Aus diesem Abstand a wird unter Berücksichtigung des Schneidgas-Signals 63, bzw. unter Berücksichtigung des dem Wert des Schneidgas-Signals 63 zugeordneten Druck p, ein korrigierter Geometrie-Parameter ermittelt, also in diesem Fall ein korrigierter Abstand akorr, beispielsweise nach folgendem Schema: akOrr = a + p [ ci + c2(a) ]
Der Term p [ ci + c2(a) ] bildet bei diesem Rechenschema folglich einen Korrekturwert für den Geometrie-Parameter.
Dabei ist ci ein konstanter Parameter und c2 ist eine Funktion, die vom unkorrigierten Geometrie-Parameter abhängig sein kann, beispielsweise in einfacher linearer Form c2(a) = c’2 a . Die Parameter ci und c2 bzw. c’2 können in der Speichereinheit 81 abgelegt sein. Die Parameter ci und c2 bzw. c’2 können in einem vorab durchgeführten Kalibrationsprozess bestimmt worden sein. Der Parameter c2 bzw. c’2 kann auch Null sein. In Ausführungsformen, die für die Verwendung an einer Bearbeitungsoptik mit einem verstellbaren Kollimator vorgesehen sind, können die Parameter ci und c2 bzw. c’2 einzeln oder beide einen von einer Kollimator-Einstellung ZKOII abhängigen Term enthalten, so dass für die Korrektur des Geometrie-Parameters beispielsweise folgendes Schema verwendet werden kann: akorr = a + p [ ci + c2(a) + CK(ZKOII) ]
In linearer Näherung kann folgende Formel zur Korrektur des Geometrie-Parameters verwendet werden, wobei ci, c2’, CK’ dann konstante Koeffizienten sind: akorr = a + p ( Ci + c2’ a + CK’ ZKOII )
Aus dem korrigierten Geometrie-Parameter bzw. dem korrigierten Abstand akorr wird schließlich die axiale Fokusposition ZF des Energiestrahl-Fokus 76, bzw. eine Änderung der axialen Position AZF = ZF - ZO ermittelt, beispielsweise nach folgendem Schema:
AZF = g akorr - Zo
Der Parameter zo kann eine Start-Position der Fokuslage sein, oder eine Nenn-Position, oder eine Nullposition, oder eine in einem vorherigen Schritt ermittelte vorherige Fokusposition. Zu einer möglichst genauen Darstellung der Fokuslage ZF in Abhängigkeit des korrigierten Geometrie-Parameters akorr kann die Funktion zur Berechnung der Fokuslage ZF zusätzlich von höheren Potenzen des korrigierten Geometrie-Parameters akorr abhängig sein. Insbesondere kann die Funktion einen quadratischen Anteil aufweisen:
AZF = gi akorr + g2 akorr2 - Zo
Der Parameter g bzw. die Parameter gi und g2 können konstante Koeffizienten sein, die in der Speichereinheit 81 abgelegt sind. Wenn die Bearbeitungsoptik 100 über eine Einrichtung zur Einstellung des Energiestrahl-Fokus 76 verfügt, beispielsweise mit einem axial einstellbaren Kollimator 113, dann können die Parameter g bzw. die Parameter gi und g2 von der Kollimatoroptik-Position ZKOII abhängige Funktionen g = g(zKoii) sein. Das bedeutet, dass die Funktionen g bzw. gi und/oder g2 einen oder auch mehrere vom ZKOII abhängige Terme enthalten können. So kann die zur Bestimmung der Fokuslage verwendete Formel beispielsweise in folgender weise dargestellt werden:
AZF = ( g + g-l 1 ZKoll + gi2 ZKOII2 ) akorr + ( g20 + g21 ZKoll + g22 ZKoll2 ) 8korr2 - Zo
Die Parameter g , gu, g-12, g2o, g2i , g22 sind dabei konstante Koeffizienten, deren Werte je nach Konstellation des gesamten Systems teilweise auch Null sein können.
Es ist selbstverständlich, dass die verschiedenen Einheiten und Module der Auswertungseinrichtung 80 nicht als separate Einheiten ausgeführt sein müssen. Alle Module der Auswertungseinrichtung 80 können als funktionale Einheiten einer digitalen Informationsverarbeitungseinrichtung, wie einem Mikrocomputer, ausgebildet sein. Einzelne oder alle Module der Auswertungseinrichtung 80 können als Computerprogramm verwirklicht sein, welches auf einem üblichen Mikrocomputer oder einem Personal Computer abläuft. Es ist eine Ausführungsform vorgesehen, bei der die Auswertungseinrichtung 80 in das Gehäuse integriert ist, in welchem auch der Fokuslagensensor 13 angeordnet ist. Es sind ebenfalls Ausführungsformen vorgesehen, bei denen die Auswertungseinrichtung 80 nicht im Gehäuse des Fokuslagensensors 13 integriert ist.
Es ist auch ein Strahlanalyseverfahren vorgesehen, bei dem die Bestimmung der Fokuslage zusätzlich unter Berücksichtigung eines von der Dicke des Schutzglases (120) abhängigen Offsets erfolgt. In einem weiteren möglichen Strahlanalyseverfahren kann die Anpassung der Kalibrationsdaten in Abhängigkeit der Dicke des Schutzglases (120) erfolgen.
Es ist weiterhin ein Strahlanalyseverfahren vorgesehen, bei dem vor Beginn der eigentlichen Laserbearbeitung, insbesondere nach dem Wechsel eines Schutzglases (120), Kalibrationsdaten ermittelt werden, indem bei geringer Laserleistung eine Bestimmung des Geometrie-Parameters für mindestens zwei verschiedene Schneidgas-Druck-Einstellungen erfolgt.
Welche Größe als Geometrie-Parameter genutzt wird, der von der Auswertungseinrichtung 80 aus der Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 bestimmt wird, kann von der Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 abhängig sein. Der Fokuslagensensor 13 umfasst wenigstens die Strahlformungseinrichtung 12 und den Detektor 40.
Erstes Ausführungsbeispiel für einen Fokuslagensensor
Ein erstes Beispiel für die Ausführung des Fokuslagensensors 13 der Strahlanalysevorrichtung 10 ist in den Figuren 8 und 9 dargestellt. In einer ersten möglichen Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 umfasst die Strahlformungseinrichtung 12 eine Abbildungseinrichtung 50 mit einer optischen Linse 51 . Mittels der Abbildungseinrichtung 50 wird der Probenstrahl 70 auf den Detektor 40 abgebildet. In der ersten Ausführungsform des Fokuslagensensors wird beispielsweise der gesamte von der Strahlformungseinrichtung 12 empfangene Probenstrahl 70 auf den Detektor 40 fokussiert und bildet dort einen Strahlfleck 91 mit einem Durchmesser 0 des Strahlflecks 91 aus. Es wird folglich ein Bild des Zwischenfokus 71 des Probenstrahls 70 in der Nähe des Detektors 40 erzeugt. Der Abstand des Bildes des Zwischenfokus 71 hängt von der axialen Lage des Zwischenfokus 71 ab und ist somit auch gekoppelt mit der axialen Position des Energiestrahl-Fokus 76 des Laserstrahls 77, aus dem der Probenstrahl erzeugt wird. Je nach Abstand des Bildes des Zwischenfokus 71 zum Detektor 40 variiert der Durchmesser 0 des Strahlflecks 91 auf dem Detektor 40. Der Durchmesser 0 ist minimal, wenn das Bild des Zwischenfokus 71 genau in der Ebene des Detektors 40 liegt. Der Durchmesser 0 des Strahlflecks 91 wird umso größer, je größer der Abstand des Bildes des Zwischenfokus 71 zum Detektor 40 ist. Folglich kann aus der Größe des Durchmessers 0 die axiale Position des Strahlfokus 71 und damit die axiale Position des Energiestrahl-Fokus 76 bestimmt, werden. Bei dieser ersten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 ist daher der Durchmesser 0 des Strahlflecks 91 auf dem Detektor 40 der Geometrie-Parameter, der von der Auswertungseinrichtung 80 aus der Intensitätsverteilung 79 mit dem Strahlfleck 91 bestimmt wird.
Zweites Ausführungsbeispiel für einen Fokuslagensensor
Ein zweites Beispiel für die Ausführung des Fokuslagensensors 13 der Strahlanalysevorrichtung 10 ist in Figur 10 dargestellt. In einer zweiten möglichen Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 umfasst die Strahlformungseinrichtung 12 ein Linsenarray 56. Die Strahlformungseinrichtung 12 kann weiterhin auch eine Abbildungseinrichtung 50 umfassen, mit welcher der Probenstrahl 70 zunächst kollim iert wird. Das Linsenarray 56 beinhaltet eine Vielzahl von in einer Ebene seitlich nebeneinander angeordneten Einzellinsenelementen 57, auch als Lenslets 57 bezeichnet. Die Einzellinsenelemente 57 bilden jeweils einen Teil des Probenstrahls 70 auf den Detektor ab, so dass auf dem Detektor 40 eine Intensitätsverteilung 79 mit einer Vielzahl von Strahlflecken erzeugt wird. Der Detektor 40 kann ungefähr in einem Abstand zum Linsenarray 56 angeordnet sein, der der Brennweite der Einzellinsenelemente 57 des Linsenarrays 56 entspricht. Das Linsenarray 56 und der Detektor 40 bilden in diesem zweiten Ausführungsbeispiel einen sogenannten Wellenfrontsensor aus, dessen Funktionsweise aus dem Stand der Technik bekannt ist und welcher daher hier nicht genauer erläutert werden braucht. Aus den Abständen aNi ... 3NM der einzelnen Strahlflecke zueinander kann die Wellenfront des Probenstrahls 70 rekonstruiert werden und daraus wiederum die axiale Position des Strahlfokus 71 und damit die axiale Position des Energiestrahl-Fokus 76 bestimmt, werden. Bei dieser zweiten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 bilden daher einer oder mehrere der Abstände 3NI ... 3NM der Strahlflecke zueinander den Geometrie-Parameter, der von der Auswertungseinrichtung 80 aus der Intensitätsverteilung 79 mit der Vielzahl von Strahlflecken bestimmt wird. Drittes Ausführunqsbeispiel für einen Fokuslaqensensor
Ein drittes Beispiel für die Ausführung des Fokuslagensensors 13 der Strahlanalysevorrichtung 10 ist in den Figuren 11 und 13 dargestellt. In einer dritten möglichen Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 umfasst die Strahlformungseinrichtung 12 eine Abbildungseinrichtung 50 mit einer optischen Linse 51 und eine Modulationseinrichtung 20 mit einer Sperrzone 25 und zwei Durchlasszonen 23, 24. Mittels der Modulationseinrichtung 20 werden aus dem Probenstrahl 70 zwei Teilstrahlen 73, 74 herausgelöst. Die Modulationseinrichtung 20 weist zu diesem Zweck die beiden Durchlasszonen 23, 24 auf, wobei es sich beispielsweise um kreisförmige Öffnungen einer Doppellochblende handeln kann. Mittels der Abbildungseinrichtung 50 werden die aus dem Probenstrahl 70 herausgelösten Teilstrahlen 73, 74 auf den Detektor 40 abgebildet zur Formung einer Intensitätsverteilung 79 mit zwei Strahlflecken 93, 94. Damit die beiden Strahlflecke 93, 94 auf dem Detektor seitlich voneinander getrennt sind, werden der Abstand zwischen Abbildungseinrichtung 50 und dem Detektor 40 sowie die Brennweite der Abbildungseinrichtung 50 so gewählt, dass das Bild des Zwischenfokus 71 vorzugsweise nicht in der Ebene des Detektors 40 entsteht, sondern entweder in Strahlrichtung vor dem Detektor 40 oder dahinter. Folglich weisen dann die beiden Strahlflecke 93, 94 einen Abstand a zueinander auf, dessen Größe abhängig ist von der axialen Position des Zwischenfokus 71 des Probenstrahls 70 und damit von der axialen Position des Energiestrahl-Fokus 76 des Laserstrahls 77. Folglich kann aus der Größe des Abstands a die axiale Position des Strahlfokus 71 und damit die axiale Position des Energiestrahl-Fokus 76 bestimmt, werden. Bei dieser dritten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 bildet daher der Abstand a der Strahlflecke 93, 94 auf dem Detektor 40 den Geometrie-Parameter, der von der Auswertungseinrichtung 80 aus der Intensitätsverteilung 79 mit den Strahlflecken 93, 94 bestimmt wird.
Viertes Ausführunqsbeispiel für einen Fokuslaqensensor
Ein viertes Beispiel für die Ausführung des Fokuslagensensors 13 der Strahlanalysevorrichtung 10 ist in den Figuren 12 und 14 bis 17 dargestellt. In einer vierten bevorzugten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 umfasst die Strahlformungseinrichtung 12 eine Abbildungseinrichtung 50 mit einer optischen Linse 51 , eine Modulationseinrichtung 20, und eine Strahlseparatoreinrichtung 52 mit wenigstens einem Teilstrahlablenkelement 53, 54.
Die Strahlformungseinrichtung 12 ist in der vierten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 dazu eingerichtet, aus dem Probenstrahl 70 in einer Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 wenigstens zwei Teilstrahlen 73, 74 herauszulösen. Dabei ist der Querschnitt jedes Teilstrahls 73, 74 in der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 durch jeweils eine Teilapertur 33, 34 definiert. Mit anderen Worten ist die Strahlformungseinrichtung 12 dazu eingerichtet, in der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 die mindestens zwei Teilaperturen 33, 34 zum Herauslösen von jeweils einem Teilstrahl 73, 74 auszubilden. Die Teilaperturen 33, 34 sind voneinander abgegrenzt, das heißt, die Ränder der Teilaperturen 33, 34 berühren sich nicht. Die lateralen Positionen der Teilaperturen 33, 34 sind durch ihren jeweiligen Mittelpunkt definiert, wobei der Begriff „lateral“ sich auf Richtungen in Ebenen senkrecht zur jeweils lokalen optischen Achse 11 bezieht. Die Mittelpunkte der Teilaperturen 33, 34 weisen einen Abstand k zueinander auf. Weiterhin ist durch den Abstand k der Teilaperturen 33, 34 eine erste laterale Richtung 31 definiert. Mit anderen Worten, eine gedachte Verbindungslinie zwischen den Mittelpunkten der beiden Teilaperturen 33, 34 legt die erste laterale Richtung 31 fest. Die erste laterale Richtung 31 liegt in einer Ebene, die senkrecht zur lokalen optischen Achse 11 steht. Da die lokale optische Achse 11 in einem Strahlengang immer mit einer z-Achse eines lokalen Koordinatensystems identifiziert wird, liegt die erste laterale Richtung 31 somit in einer x-y-Ebene.
Die Teilstrahlherauslösung der Strahlformungseinrichtung ist beispielsweise als Modulationseinrichtung 20 verwirklicht, die dazu eingerichtet ist, wenigstens zwei Durchlasszonen 23, 24 und wenigstens eine Sperrzone 25 auszubilden. Dabei bildet jeweils eine der Durchlasszonen 23, 24 eine der beiden Teilaperturen 33, 34 aus. Die Durchlasszonen 23, 24 sind dadurch gekennzeichnet, dass eine Durchlässigkeit für die Strahlung innerhalb der Durchlasszonen 23, 24 wesentlich größer ist als im Bereich der Sperrzone 25. Der Begriff Durchlässigkeit ist dabei hinsichtlich der beabsichtigten Propagationsrichtung der auf diese Weise herausgelösten Teilstrahlen 73, 74 zu verstehen. Insbesondere ist ein Strahlungstransmissionsgrad (oder -Reflexionsgrad) in den Durchlasszonen 23, 24 wenigstens doppelt so hoch wie ein Strahlungstransmissionsgrad (oder -Reflexionsgrad) in der Sperrzone 25. Bevorzugt ist der Strahlungstransmissionsgrad (oder -Reflexionsgrad) in der Sperrzone 25 wenigstens 10-mal kleiner als der Strahlungstransmissionsgrad (oder -Reflexionsgrad) in den Durchlasszonen 23, 24. Besonders bevorzugt ist der Strahlungstransmissionsgrad (oder -Reflexionsgrad) in der Sperrzone 25 wenigstens 100-mal kleiner als der Strahlungstransmissionsgrad (oder -Reflexionsgrad) in den Durchlasszonen 23, 24.
Die Teilaperturen 33, 34 haben in der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 entlang der ersten lateralen Richtung 31 eine Breite b. Die Breite b der Teilaperturen 33, 34 ist höchstens gleich der Hälfte des Abstandes k zwischen den Mittelpunkten der Teilaperturen 33, 34. Daraus folgt, dass zwischen den Teilaperturen 33, 34 ein Bereich liegt, beispielsweise eine Sperrzone 25, der mindestens so breit ist wie die Breite b der Teilaperturen 33, 34. Mit anderen Worten, der Abstand k zwischen den Mittelpunkten der Teilaperturen 33, 34 beträgt mindestens das Doppelte der Breite b der Teilaperturen 33, 34.
Die Strahlformungseinrichtung 12 ist weiterhin eingerichtet, zur Formung einer Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 mit mindestens zwei Strahlflecken 93, 94 und zur Bildung von jeweils wenigstens einem Strahlfleck 93, 94 aus jedem der zwei Teilstrahlen 73, 74, die wenigstens zwei Teilstrahlen 73, 74 auf den Detektor 40 abzubilden und mindestens einen der wenigstens zwei Teilstrahlen 73, 74 in einer zweiten lateralen Richtung 37 abzulenken und/oder zu versetzen. Jeder der zwei Teilstrahlen 73, 74 bildet wenigstens einen zugehörigen Strahlfleck 93, 94 auf dem Detektor 40 aus. Durch das Ablenken und/oder Versetzen wenigstens eines der Teilstrahlen 73, 74 in der zweiten lateralen Richtung 37 wird zwischen den Positionen der zwei Strahlflecken 93, 94 auf dem Detektor 40 entlang der zweiten lateralen Richtung 37 ein Abstand w ausgebildet. Bevorzugt sind die Positionen der zwei Strahlflecke 93, 94 definiert durch die Mittelpunkte und/oder durch die Schwerpunkte der Intensitätsverteilungen der Strahlflecke 93, 94 auf dem Detektor 40. Dabei ist die zweite laterale Richtung 37 quer zur ersten lateralen Richtung 31 ausgerichtet. Die zweite laterale Richtung 37 liegt in einer Ebene, die senkrecht zur lokalen optischen Achse 11 steht. Somit liegt die zweite laterale Richtung 37 ebenso wie die erste laterale Richtung 31 in einer Ebene senkrecht zur lokalen optischen Achse 11 , also in einer x-y- Ebene. Die zweite laterale Richtung 37 ist beispielsweise in einem Winkel im Bereich von 30° bis 150° zur ersten lateralen Richtung 31 ausgerichtet. Die zweite laterale Richtung 37 kann insbesondere (zumindest im Wesentlichen) senkrecht zur ersten lateralen Richtung 31 ausgerichtet sein.
Indem die Strahlformungseinrichtung 12 den ersten der wenigstens zwei Teilstrahlen 73, 74 in der zweiten lateralen Richtung 37 ablenkt und/oder versetzt und/oder beide Teilstrahlen 73, 74 in unterschiedliche Richtungen mit einer Richtungsdifferenz in einer Ausrichtung entlang der zweiten lateralen Richtung 37 ablenkt und/oder versetzt, sind der Strahlfleck 93 des ersten der wenigstens zwei Teilstrahlen und der Strahlfleck 94 des zweiten der wenigstens zwei Teilstrahlen (am Detektor 40 und somit) in der Intensitätsverteilung 79 entlang der zweiten lateralen Richtung 37 um den Abstand w gegeneinander versetzt, der quer zu dem Abstand a dieser Strahlflecken 93, 94 (am Detektor 40 und somit) in der Intensitätsverteilung 79 entlang der ersten lateralen Richtung 31 ist und wobei der Abstand a allein durch den Abstand k in der ersten lateralen Richtung 31 hervorgerufen wird.
Mit anderen Worten sind der Strahlfleck 93, der durch den ersten der wenigstens zwei Teilstrahlen am Detektor 40 und in der Intensitätsverteilung hervorgerufen wird, und der Strahlfleck 94, der von dem zweiten der wenigstens zwei Teilstrahlen am Detektor und in der Intensitätsverteilung hervorgerufen wird, in der Intensitätsverteilung neben dem Abstand a entlang der ersten lateralen Richtung 31 zusätzlich um den Versatz w entlang der zweiten lateralen Richtung 37 versetzt.
Der Detektor 40 umfasst einen lichtstrahlungsempfindlichen und räumlich zweidimensional auflösenden Sensor, welcher zur Umwandlung der auf den Detektor 40 auftreffenden Intensitätsverteilung 79 in elektrische Signale eingerichtet ist. Der Detektor 40 kann eine CCD-Kamera oder eine CMOS-Kamera oder eine vergleichbare Einrichtung sein. Der lichtstrahlungsempfindliche und räumlich zwei-dimensional auflösende Sensor ist typischerweise ein pixel-basierter Halbleitersensor. Der Detektor 40 ist entlang einer Propagationsstrecke für die Teilstrahlen 73, 74 in einem Abstand s hinter der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 angeordnet.
Die Auswertungseinrichtung 80 ist eingerichtet zur Verarbeitung der elektrischen Signale 64 des Detektors 40, welche die Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 repräsentieren. Die Auswertungseinrichtung 80 ist eingerichtet zur Bestimmung eines Geometrie-Parameters aus der Intensitätsverteilung 79. Bei der hier dargestellten vierten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 entspricht der Geometrie- Parameter vorzugsweise dem Abstand a entlang der ersten lateralen Richtung 31 zwischen Positionen der beiden Strahlflecke 93, 94 auf dem Detektor 40. Genauer gesagt, ist also die Auswertungseinrichtung 80 eingerichtet zur Bestimmung einer Positions-Differenz der beiden Strahlflecke 93, 94 in der ersten lateralen Richtung 31 , wobei die Positions-Differenz der beiden Strahlflecke 93, 94 in der ersten lateralen Richtung 31 der Abstand a ist. Bevorzugt ist dabei die Position des jeweiligen Strahlflecks 93, 94 definiert durch den Mittelpunkt und/oder durch den Schwerpunkt der Intensitätsverteilung des jeweiligen Strahlflecks 93, 94 auf dem Detektor 40.
Die Größe des Abstandes a zwischen den Strahlflecken 93, 94 in der ersten lateralen Richtung 31 ist abhängig von der axialen Position des Zwischenfokus 71 des Probenstrahls 70 und damit von der axialen Position des Energiestrahl-Fokus 76 des Laserstrahls 77. Folglich kann aus der Größe des Abstands a in der ersten lateralen Richtung 31 die axiale Position des Strahlfokus 71 und damit die axiale Position des Energiestrahl-Fokus 76 bestimmt, werden. Bei dieser vierten Ausführungsform des Fokuslagensensors 13 bildet daher der in der ersten lateralen Richtung 31 ausgebildete Abstand a der Strahlflecke 93, 94 auf dem Detektor 40 den Geometrie-Parameter, der von der Auswertungseinrichtung 80 aus der Intensitätsverteilung 79 mit den Strahlflecken 93, 94 bestimmt wird.
Der Fokuslagensensor 13 dient zur Bestimmung der axialen Position des Energiestrahl- Fokus 76. Insofern bilden die weiter unten angegebenen Formeln zur Berechnung der Position des Zwischenfokus 71 aus dem Abstand a zunächst ein Zwischenergebnis. Bei der endgültigen Bestimmung der Position des Energiestrahl-Fokus 76 ist noch die Abbildung des Probenstrahls 70 durch die Fokussieroptik 116 der Bearbeitungsoptik 100 zu berücksichtigen, weil die Auskopplung des Probenstrahls 70 mittels der Auskopplungseinrichtung 115 üblicherweise im kollimierten Bereich der Bearbeitungsoptik 100 zwischen der Fokussieroptik 116 und der Kollimatoroptik 113 stattfindet.
Der prinzipielle Zusammenhang zwischen der Position des Energiestrahl-Fokus 76 und dem Zwischenfokus 71 des Probenstrahls 70 wurde bereits weiter oben erläutert. Im einfachsten Fall, wenn die Brechung des Probenstrahls 70 durch die Fokussieroptik 116 vernachlässigt werden kann, ist der Zwischenfokus 71 ein Spiegelbild des Energiestrahl-Fokus 76, so dass eine Positionsänderung des Zwischenfokus 71 entgegengesetzt gleich groß ist wie eine Positionsänderung des Energiestrahl-Fokus 76. Die Brechung des Probenstrahls 70 durch die Fokussieroptik 116 ist vernachlässigbar, wenn der Zwischenfokus 71 in der Nähe oder sogar genau in der gleichen Ebene wie die Fokussieroptik 116 liegt. In vielen typischen Ausführungsformen einer Bearbeitungsoptik, insbesondere bei einer Schneidoptik, liegt der Zwischenfokus 71 relativ nahe an der Fokussieroptik 116, weil das Schutzglas 120 oftmals ungefähr auf halbem Abstand zwischen der Fokussieroptik 116 und dem Energiestrahl-Fokus 76 angeordnet ist. Im Übrigen ist die Brechung des Probenstrahls 70 durch die Fokussieroptik 116 ohnehin infolge der Kalibrierung des Fokuslagensensors 13 in den Proportionalitätsfaktoren und Konstanten enthalten, die bei der Kalibrierung erzeugt worden sind, und muss daher im Auswertungsalgorithmus nicht extra berücksichtigt werden.
Die nachfolgend exemplarisch angegebenen Formeln für die Berechnung der Position des Zwischenfokus 71 können daher mit vergleichbarer mathematischer Struktur auch für die Berechnung der Position des Energiestrahl-Fokus 76 verwendet werden. Es ergeben sich gegebenenfalls etwas andere Proportionalitätsfaktoren und Konstanten.
Bei einer Änderung der axialen Position des Zwischenfokus 71 des Probenstrahls ändert sich der Abstand a zwischen den Strahlflecken 93, 94 auf dem Detektor 40 in der ersten lateralen Richtung 31. Das heißt, dass der Abstand a in einer funktionalen Beziehung zur z-Position des Zwischenfokus 71 und damit zur z-Position des Energiestrahl-Fokus 76 steht. Diese funktionale Beziehung wird durch folgende geometrische Größen beeinflusst und/oder definiert: a ist der Abstand entlang der ersten lateralen Richtung 31 zwischen den Strahlflecken 93 und 94 auf dem Detektor 40; a’ ist der Abstand entlang der ersten lateralen Richtung zwischen den Strahlflecken 93’ und 94’ auf dem Detektor 40 bei geänderter Strahlfokus-Position;
Aa ist die Änderung der Positions-Differenzen der Strahlflecke 33, 34 in der ersten lateralen Richtung 31 , Aa = a’ - a ; k ist der Abstand zwischen den Mittelpunkten der Teilaperturen 33, 34 in der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19, wobei die gedachte Verbindungslinie zwischen den Mittelpunkten der Teilaperturen 33, 34 die erste laterale Richtung 31 definiert; zps ist der Abstand zwischen der axialen Position des Zwischenfokus 71 des Probenstrahls 70 und der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19; zps’ ist der Abstand zwischen der axialen Position eines verschobenen Zwischenfokus 7T und der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19;
Azps ist die Änderung der axialen Zwischenfokus-Position, Azps = zps’ - zps ; s ist der Abstand zwischen der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 und der Sensor-Ebene 39 des Detektors 40; d ist der Abstand von der Position der Abbildungseinrichtung 50, genauer ausgedrückt, von der Hauptebene der Abbildungseinrichtung 50, zur Ebene der Teilstrahlherauslösung 19.
Aus der Anwendung der Strahlensätze und der bekannten Abbildungsgleichungen erhält man folgende funktionale Beziehung für den Fokuslagensensor der Strahlanalysevorrichtung 10:
Azps = Aa C3 / ( C4 + Aa cs )
Bei den Formelzeichen C3, C4, cs handelt es sich um Koeffizienten, die zur vereinfachten Darstellung der Formel eingeführt sind.
Für den Fall, dass die Modulationseinrichtung 20 hinter der Abbildungseinrichtung 50 angeordnet ist, lauten die Koeffizienten C3, C4, cs:
C3 = [ ZPS ( f - d ) + d2 ]2
C4 = f2 k s c5 = ( f - d ) [ ZPS ( f - d ) + d2 ]
Die Koeffizienten C3, C4, cs können ermittelt werden, indem mindestens 3 verschiedene bekannte axiale Positionen des Zwischenfokus 71 bzw. des Energiestrahl-Fokus 76 eingestellt werden und die entsprechende Änderung Aa des Abstandes a bestimmt wird. Die auf diese Weise ermittelten Koeffizienten können als Kalibrierdaten in der Auswertungseinrichtung 80 hinterlegt sein, womit dann die Fokuslagen-Änderung AZF für beliebige Abstands-Änderungen Aa von der Auswertungseinrichtung 80 berechnet werden kann.
Alternativ oder ergänzend können die Koeffizienten anhand der oben angegebenen Formeln aus den geometrischen Abständen der Anordnung direkt berechnet sein und in der Auswertungseinrichtung 80 hinterlegt sein.
Dabei ist zu beachten, dass es sich bei allen axialen Abständen, also bei zps, d, f, s, um die Strecken entlang der optischen Achse 11 handelt. Bei einer Strahlumlenkung setzen sich die Abstände zps, d, f, s folglich gegebenenfalls stückweise aus den jeweiligen Strecken entlang den lokalen optischen Achsen 11 zusammen. Ebenso ist zu beachten, dass bei einer teilweisen Führung der Strahlen durch optisches Material, wie beispielsweise bei der Führung durch einen Strahlteilerwürfel, die entsprechenden Teilstrecken um einen von der Brechzahl des optischen Materials abhängigen Faktor zu korrigieren sind.
Bei einer Ausführungsvariante der Strahlanalysevorrichtung 10 mit der Modulationseinrichtung 20 hinter der Abbildungseinrichtung 50, das heißt, in Strahlrichtung hinter der zumindest einen optischen Linse 51 , gibt es einen besonders interessanten Spezialfall, bei dem der Abstand d von der Hauptebene der Abbildungseinrichtung 50 zur Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 gleich der Brennweite f der Abbildungseinrichtung 50 ist. Mit anderen Worten, die Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 ist am bildseitigen Brennpunkt der Abbildungseinrichtung 50 angeordnet. Für eine solche Ausführungsform der Strahlanalysevorrichtung 10 ergeben sich die Koeffizienten der funktionalen Beziehung zu:
C3 = f4
C4 = f2 k s
Cs = 0
Damit ergibt sich eine besonders einfache funktionale Beziehung mit der Besonderheit, dass die Änderung Aa des Abstandes a zwischen den Strahlflecken 93, 94 exakt proportional zur Änderung Azps der axialen Zwischenfokus-Position ist:
Azps = Aa f2 / ( k s ) Mit diesem linearen Zusammenhang wird die Kalibration der Vorrichtung vereinfacht und es wird eine hohe Genauigkeit bei der Fokuslagen-Bestimmung erreicht.
Es ist insbesondere vorteilhaft bei einer derartigen Anordnung, dass die absolute z- Position des Zwischenfokus 71 (zps) oder des Energiestrahl-Fokus 76 (ZF) dabei nicht zur Berechnung einer Fokuslagen-Änderung AZF benötigt wird.
Dieses Merkmal bzw. diese Anordnung lässt sich vorteilhaft in Ausführungsformen realisieren, bei denen ohnehin ein Abstand zwischen der Abbildungseinrichtung 50 und der Modulationseinrichtung 20 vorgesehen ist, beispielsweise wenn die Modulationseinrichtung 20 im einem gefalteten Strahlweg angeordnet ist.
Um eine möglichst hohe Genauigkeit bei der Bestimmung der Positionen der Strahlflecke 93, 94 auf dem Detektor 40 zu erreichen, ist es günstig, wenn die Breite b der Teilaperturen 33, 34 klein ist gegenüber ihrem Abstand k. Dann sind die Strahlflecke 93, 94 auf dem Detektor 40 über einen weiten Bereich der axialen Position des Strahlfokus 71 relativ klein und ein möglicher Einfluss einer Intensitätsverteilung innerhalb der Strahlflecke 93, 94 auf die Bestimmung der Position der Strahlflecke 93, 94 ist gering oder ganz vernachlässigbar. Andererseits sollten die Teilaperturen nicht zu klein sein, da sonst die Strahlflecke 93, 94 durch Beugung verbreitert werden können und Beugungsstrukturen außerhalb der Strahlflecke 93, 94 entstehen können.
Bevorzugt beträgt der Abstand k daher mindestens das 2,5-fache und höchstens das 25-fache der Breite b der Teilaperturen 33, 34. Besonders bevorzugt beträgt der Abstand k mindestens das 3-fache und höchstens das 12-fache der Breite b der Teilaperturen 33, 34. Überaus bevorzugt beträgt der Abstand k mindestens das 4-fache und höchstens das 7-fache der Breite b der Teilaperturen 33, 34. Bevorzugt haben die Teilaperturen 33, 34 eine einfache geometrische Form, beispielsweise kreisförmig oder elliptisch. Die Teilaperturen 33, 34 können aber auch eine quadratische, rechteckige, rautenförmige, sechseckige, achteckige, trapezförmige, oder ähnliche Form aufweisen. Bei Teilaperturen 33, 34 mit einer kreisrunden Form entspricht die Breite b dem Durchmesser der Teilaperturen 33, 34.
In einer Weiterbildung der Erfindung kann die Strahlformungseinrichtung 12 auch zur Herauslösung von mehr als zwei Teilstrahlen eingerichtet sein. Dazu können in der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 mehr als zwei, beispielsweise 3 oder 4, voneinander abgegrenzte Teilaperturen angeordnet sein. Die mehreren Teilaperturen können alle entlang der ersten lateralen Richtung 31 verteilt sein. Es ist auch möglich, dass die zu den zwei Teilaperturen 33, 34 zusätzlichen Teilaperturen in einer anderen lateralen Richtung als die zwei Teilaperturen 33, 34 in der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 angeordnet sind.
Bevorzugt umfasst die Strahlformungseinrichtung 12 eine Strahlseparatoreinrichtung 52 zur Ablenkung und/oder Versetzung des ersten der wenigstens zwei Teilstrahlen 73, 74 in der zweiten lateralen Richtung 37.
In einer Weiterbildung ist die Strahlseparatoreinrichtung 52 ferner zur Ablenkung und/oder Versetzung beider Teilstrahlen 73, 74 in unterschiedliche Richtungen eingerichtet, wobei die Differenz der Ablenkrichtungen entlang der zweiten lateralen Richtung 37 ausgerichtet ist.
Die Strahlformungseinrichtung 12 der Strahlanalysevorrichtung 10 umfasst im Ausführungsbeispiel des vierten Fokuslagensensors 13 eine Modulationseinrichtung 20, eine Abbildungseinrichtung 50 mit wenigstens einer optischen Linse 51 , und eine Strahlseparatoreinrichtung 52. Diese drei Einrichtungen 20, 50, 52 können als separate Einrichtungen realisiert sein. Es können aber auch zwei der drei Einrichtungen oder auch alle drei Einrichtungen 20, 50, 52 als eine einheitliche Einrichtung verwirklicht sein. Beispielsweise kann die Modulationseinrichtung 20 als eine Doppellochblende ausgeführt sein. Die Abbildungseinrichtung 50 kann beispielsweise als einzelne Sammellinse 51 ausgeführt sein. Es ist aber beispielsweise ebenso möglich, die Modulationseinrichtung 20 als eine Maskierung, z.B. mittels einer teilweisen Schwärzung, direkt auf oder in der optischen Linse 51 vorzusehen. In diesem letztgenannten Beispiel sind die Modulationseinrichtung 20 und die Abbildungseinrichtung 50 als eine einheitliche Einrichtung verwirklicht. Um dieses Beispiel fortzuführen, könnte die optische Linse 51 auch als asphärische Freiform-Linse ausgeführt sein, bei der die Linsenflächen innerhalb der Teilaperturen 33, 34 eine zusätzliche Verkippung aufweisen zur Ablenkung der Teilstrahlen 73, 74 in der zweiten lateralen Richtung 37. In einem derartigen Ausführungsbeispiel für die Strahlformungseinrichtung 12 sind dann alle Einrichtungen 20, 50, 52 in einer einheitlichen Einrichtung verwirklicht.
Die erste laterale Richtung 31 kann lokal definiert sein. Sie ist jeweils (zumindest im Wesentlichen) senkrecht zu der lokalen optischen Achse 11 . Insbesondere kann sie als diejenige Richtung in einer Ebene senkrecht zu der lokalen optischen Achse 11 definiert sein, entlang welcher die wenigstens zwei Teilstrahlen 73, 74 in dieser Ebene nur aufgrund des Abstands k der Teilaperturen 33, 34 einen Abstand zueinander aufweisen.
Die zweite laterale Richtung 37 kann lokal definiert sein. Sie ist jeweils (zumindest im Wesentlichen) senkrecht zur optischen Achse 11 und quer zu der (lokalen) ersten lateralen Richtung 31. Die zweite laterale Richtung 37 kann global betrachtet einmal oder mehrere Male geändert werden, beispielsweise durch Strahlfaltung und/oder Strahlumlenkung.
Eine Strahlrichtung kann lokal definiert sein. Die Strahlrichtung kann sich global gesehen ändern, beispielsweise durch Strahlfaltung und/oder Strahlumlenkung. Die lokale Strahlrichtung kann beispielsweise durch eine Richtung eines lokalen Poynting- Vektors des Probenstrahls 70 definiert sein.
In Ausbreitungsrichtung der Strahlung nach der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 kann eine lokale Strahlrichtung eines Teilstrahls 73, 74 durch eine Richtung eines lokalen Poynting-Vektors des jeweiligen Teilstrahls 73, 74 definiert sein.
In Ausbreitungsrichtung der Strahlung nach der Ebene der Teilstrahlherauslösung 19 kann eine lokale (Gesamt-) Strahlrichtung durch eine Mittelung der lokalen Poynting- Vektoren der wenigstens zwei Teilstrahlen 73, 74 definiert sein. Die Beträge der Poynting-Vektoren dieser Teilstrahlen können vor der Mittelung normiert werden. Alternativ kann die lokale (Gesamt-) Strahlrichtung durch den Poynting-Vektor eines fiktiven Verlaufs des Probenstrahls ohne Herauslösung der Teilstrahlen definiert sein.
Die lokale optische Achse 11 kann beispielsweise durch die beabsichtigte lokale Gesamt-Strahlrichtung im Betrieb definiert sein.
In einer Weiterbildung der Erfindung kann die Strahlanalysevorrichtung 10 dazu eingerichtet sein, mehrere Strahlflecke 93, 94, 193, 194 in der Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 zu identifizieren und deren Abstände zueinander in der ersten lateralen Richtung zu bestimmen. Die Strahlanalysevorrichtung 10 ist dazu vorzugsweise mit einem Fokuslagensensor 13 gemäß dem vierten Ausführungsbeispiel ausgerüstet. Das bedeutet, dass der Fokuslagensensor 13 in dieser Weiterbildung bevorzugt mit einer Modulationseinrichtung 20 ausgerüstet ist zur Herauslösung von vorzugsweise jeweils zwei Teilstrahlen aus einem Probenstrahl. Werden mehrere axial überlagerte Probenstrahlen 70, 170 in die Strahlanalysevorrichtung 10 eingestrahlt, so wird durch die Modulationseinrichtung 20 aus jedem Probenstrahl 70, 170 jeweils ein Strahlfleck-Paar 93, 94 und 193, 194 in der Intensitätsverteilung 79 auf dem Detektor 40 ausgebildet. Insbesondere kann die Strahlanalysevorrichtung 10 somit dazu eingerichtet sein, in der Intensitätsverteilung 79 ein erstes Strahlfleck-Paar 93, 94 zu identifizieren, welches mittels der Modulationseinrichtung 20 aus einem ersten Probenstrahl 70 gebildet ist, und weiterhin ein zweites Strahlfleck-Paar 193, 194 zu identifizieren, welches mittels der Modulationseinrichtung 20 aus einem zweiten Probenstrahl 170 gebildet ist. Die Auswertungseinrichtung 80 kann dazu eingerichtet sein, einen ersten Abstand a zwischen den Strahlflecken 93, 94 in der ersten lateralen Richtung 31 zu bestimmen, die durch die Herauslösung der Teilstrahlen aus dem ersten Probenstrahl 70 ausgebildet sind, sowie einen zweiten Abstand b zwischen den Strahlflecken 193, 194 in der ersten lateralen Richtung 31 zu bestimmen, die durch die Herauslösung der Teilstrahlen aus dem zweiten Probenstrahl 170 ausgebildet sind. Der Abstand a ist dann beispielsweise der Geometrie-Parameter und der Abstand b ist in diesem Fall ein zweiter Geometrie-Parameter. Beide Geometrie-Parameter bzw. beide Abstände a, b werden in der bereits zuvor beschriebenen Weise mit einem vom Schneidgas-Signal 63 bzw. vom Druck p des Schneidgases abhängigen Term korrigiert. Für die Bestimmung der Fokuslage wird von der Auswertungseinrichtung 80 vorzugsweise ein Mittelwert aus den beiden korrigierten Geometrie-Parametern akorr, bkorr ermittelt: mkorr = ( akorr + bkorr ) / 2
Die Bestimmung der Fokuslage erfolgt dann entsprechend gemäß der weiter oben erläuterten Formel:
AZF = g(ZKoll) mkorr - Zo
Diese Weiterbildung der Erfindung ist besonders geeignet zur Verwendung an einer Bearbeitungsoptik 100, bei der ein erster Probenstrahl 70 durch Reflexion an einer ersten Grenzfläche des Schutzglases, z.B. der äußeren Grenzfläche 121 des Schutzglases 120, sowie ein zweiter Probenstrahl 170 durch Reflexion an einer zweiten Grenzfläche des Schutzglases, z.B. der inneren Grenzfläche 122 des Schutzglases 120 erzeugt werden, und beide Probenstrahlen 70, 170 mittels des Strahlauskopplers 115 aus der Bearbeitungsoptik 100 ausgekoppelt werden und in die Strahlanalysevorrichtung 10 eingestrahlt werden. Es hat sich nämlich überraschenderweise herausgestellt, dass in einer solchen Konstellation ein thermischer Fokusshift der gesamten Bearbeitungsoptik wie auch ein thermischer Fokusshift nur des Schutzglases mit annähernd gleicher Empfindlichkeit in den Mittelwert m bzw. mkorr eingeht, der aus den beiden Abständen a und b zwischen den Strahlflecken 93, 94 sowie 193, 194 gebildet ist. Die Verwendung des Mittelwertes m oder mkorr zur Bestimmung der Fokuslage ist also besonders vorteilhaft, weil die Genauigkeit der Fokuslagenbestimmung nicht vom Ort der Entstehung eines thermischen Fokusshifts abhängig ist und die Fokuslagenbestimmung somit insgesamt besonders genau und zuverlässig ist.
Die Auswertungseinrichtung 80 kann ferner dazu eingerichtet sein, einen Mittelwert m aus dem ersten Abstand a und dem zweiten Abstand b zu berechnen gemäß der Formel m = ( a + b ) / 2, und diesen Mittelwert m als Geometrie-Parameter zur Bestimmung der Fokuslage zu verwenden. In diesem Fall erfolgt die Korrektur des Geometrie-Parameters mit einem vom Schneidgas-Signal 63 bzw. vom Druck p des Schneidgases abhängigen Term nach Bildung des Mittelwertes m aus den Abständen a und b.
Alternativ oder zusätzlich zur Bestimmung des Mittelwertes m aus den beiden Abständen a und b zwischen den Strahlflecken 93, 94 sowie 193, 194 kann die Auswertungseinrichtung 80 dazu eingerichtet sein, eine erste mittlere Position aus den Strahlflecken 93 und 193 zu bestimmen, eine zweite mittlere Position aus den Strahlflecken 94 und 194 zu bestimmen, und einen Abstand m in der ersten lateralen Richtung 31 zwischen der ersten mittleren Position und der zweiten mittleren Position zu berechnen. Dabei sind die Strahlflecke 93 und 193 für die erste mittlere Position von den Teilstrahlen gebildet, die von der ersten Durchlasszone 23 der Modulationseinrichtung 20 aus den beiden Probenstrahlen 70 und 170 herausgelöst sind, und die Strahlflecke 94 und 194 für die zweite mittlere Position sind von den beiden Teilstrahlen gebildet, die von der zweiten Durchlasszone 24 der Modulationseinrichtung 20 aus den Probenstrahlen 70 und 170 herausgelöst sind. Selbstverständlich ist das Ergebnis dieser Bestimmung des Abstands m aus den mittleren Positionen identisch mit dem Mittelwert m, der aus den beiden Abständen a und b zwischen den Strahlflecken 93, 94 sowie 193, 194 ermittelt werden kann. Folglich kann auch der auf diese Weise bestimmte Abstand m als Geometrie-Parameter zur Bestimmung der Fokuslage verwendet werden. Der Vorteil dieser alternativen Bestimmung des Wertes m als Geometrie-Parameter besteht darin, dass für die Bestimmung der mittleren Positionen die Strahlflecken 93 und 193 wie auch die Strahlflecken 94 und 194 nicht räumlich voneinander getrennt sein müssen. Mit anderen Worten, bei dieser Art der Auswertung können die Strahlflecke 93 und 193 gegebenenfalls teilweise oder auch ganz überlappen. Auch die Strahlflecke 94 und 194 können überlappen. Eine teilweise Überlappung der Strahlflecke kann beispielsweise dann auftreten, wenn der axiale Abstand vom Zwischenfokus 71 des ersten Probenstrahls 70 zum Zwischenfokus 171 des zweiten Probenstrahls 170 relativ gering ist. Somit ist diese Art der Auswertung besonders vorteilhaft bei der Verwendung an Bearbeitungsoptiken mit einem dünnen Schutzglas. Ein dünnes Schutzglas kann z.B. eine Dicke von typischerweise 1 ,5 mm aufweisen. Hingegen haben Schutzgläser, insbesondere wenn sie für höhere Schneidgas-Drücke geeignet sein sollen, eine Dicke von typischerweise mehr als 3 mm.
In noch einer Weiterbildung der Erfindung kann die Auswertungseinrichtung 80 dazu eingerichtet sein, einen Abstand c zu bestimmen zwischen den Strahlflecken 93 und 193, die von der ersten Durchlasszone 23 der Modulationseinrichtung 20 aus den beiden Probenstrahlen 70 und 170 herausgelöst sind, und ferner einen im wesentlichen gleichen Abstand c zwischen den Strahlflecken 94 und 194, die von der zweiten Durchlasszone 24 der Modulationseinrichtung 20 aus den Probenstrahlen 70 und 170 herausgelöst sind. In Figur 21 ist der Abstand c zusammen mit den übrigen geometrischen Zusammenhängen zwischen den Positionen der Strahlflecke 93, 94, 193, 194 dargestellt. Der Abstand c kann von der Auswertungseinrichtung 80 insbesondere bestimmt werden durch die Berechnung der Differenz aus den beiden Abständen a und b zwischen den Strahlflecken 93, 94 sowie 193, 194, gemäß der Formel c = ( a - b ) / 2 . Der Wert dieses Parameters c steht in unmittelbarem Zusammenhang mit dem axialen Abstand zwischen dem Zwischenfokus 71 des ersten Probenstrahls 70 und dem Zwischenfokus 171 des zweiten Probenstrahls 170, also dem axialen Fokusabstand zwischen den beiden Probenstrahlen 70, 170. Dieser axiale Fokusabstand ist einerseits von der Dicke des Schutzglases, und andererseits vom thermischen Fokusshift innerhalb des Schutzglases abhängig. Von anderen Einflüssen ist dieser axiale Fokusabstand und damit der Parameter c nahezu unabhängig. Daher ist der Parameter c besonders geeignet, die Höhe des thermischen Fokusshifts des Schutzglases allein zu bestimmen. Die Auswertungseinrichtung 80 kann deshalb auch dazu eingerichtet sein, bei einer Überschreitung eines vorgegebenen Wertes für den Parameter c ein Signal auszugeben, welches somit auf eine Überschreitung eines vorgegebenen thermischen Shifts des Schutzglases hinweist. Ein derartiges Signal kann insbesondere genutzt werden, um einen notwendigen Wechsel eines verschmutzten Schutzglases anzuzeigen.
Die erfindungsgemäße Strahlanalysevorrichtung 10 kann ferner auch vorteilhaft an einer Bearbeitungsoptik 200 eingesetzt werden, bei der zwei Schutzgläser 120, 125 in Strahlrichtung hintereinander angeordnet sind, und bei der in der Schneideinrichtung 140 eine Druckausgleichsverbindung 145 zwischen dem Hohlraum 141 und dem Zwischenraum zwischen den beiden Schutzgläsern vorgesehen ist, so dass auf dem äußeren Schutzglas 120 kein Differenzdruck lastet. Eine solche Konfiguration einer Bearbeitungsoptik 200 ist in der Figur 23 dargestellt. Dieses äußere, dem Bearbeitungsprozess zugewandte Schutzglas 120 muss somit nicht druckfest sein und es kann daher ein dünnes, entsprechend preiswerteres Schutzglas als Verschleißteil eingesetzt werden. Diese Art der Anordnung mit zwei Schutzgläsern 120, 125 und einer Druckausgleichsverbindung 145 hat auch zur Folge, dass bei dem äußeren Schutzglas 120 keine Durchbiegung infolge des Schneidgasdrucks p auftritt. Folglich gibt es dann auch keine Verschiebung des Zwischenfokus 71 im Probenstrahl 70 infolge einer Durchbiegung des Schutzglases. Dennoch ist eine vom Schneidgasdruck p abhängige Korrektur bei der Bestimmung der Fokuslage erforderlich, weil der Energiestrahl-Fokus 76 infolge der Brechzahl-Erhöhung des unter Druck stehenden Schneidgases verschoben wird. Somit ermöglicht die erfindungsgemäße Strahlanalysevorrichtung 10 wegen der Berücksichtigung des Schneidgases auch bei einer Bearbeitungsoptik ohne Durchbiegung des äußeren Schutzglases eine besonders genaue Bestimmung der Fokuslage.
Ein Vorteil der Erfindung liegt darin, dass Änderungen der Fokuslage, die durch ein Prozessgas oder ein Schneidgas insbesondere unter variierendem und/oder hohem Druck verursacht werden, durch Berücksichtigung eines Schneidgas-Signals bei der Bestimmung der Fokuslage kompensiert werden, und auf diese Weise eine wesentlich genauere und zuverlässigere Bestimmung der Fokuslage während eines laufenden Bearbeitungsprozesses erreicht wird. Ein weiterer Vorteil der Erfindung, insbesondere in Verbindung mit einem Fokuslagensensor 13 gemäß der vierten beschriebenen Ausführungsform des Fokuslagensensors, besteht darin, dass das Messprinzip der Strahlanalysevorrichtung 10 auf der Bestimmung von Positionen von voneinander abgegrenzten Strahlflecken 93, 94 auf dem Detektor 40 basiert. Die Positions-Bestimmung eines Strahlflecks kann beispielsweise mittels Berechnung des Schwerpunktes der zugehörigen Intensitätsverteilung erfolgen, also dem 1 . Moment einer Intensitätsverteilung. Die Bestimmung von Positionen und deren Abstand zueinander ist weitgehend unabhängig beispielsweise von der Höhe eines konstanten Signal-Untergrundes, welcher durch Streulicht und/oder Sensor-Rauschen verursacht sein kann. Dadurch ist das Messprinzip weniger fehleranfällig als andere Verfahren, die beispielsweise auf der Bestimmung eines Strahldurchmessers, also des 2. Moments einer Intensitätsverteilung, und dessen Änderung beruhen, denn die Bestimmung eines 2. Moments ist relativ empfindlich gegenüber Änderungen in der Höhe des Untergrundes.
Ein weiterer wesentlicher Vorteil der Erfindung besteht darin, dass die Bestimmung der axialen Position des Strahlfokus nicht durch Schwankungen der Strahlqualität der Laserstrahlung bzw. des Probenstrahls beeinflusst wird.
Die Bestimmung von Änderungen der axialen Position des Strahlfokus ist quasi in Echtzeit möglich, das heißt, die Bestimmung benötigt nur einen Bruchteil der typischen Zeitkonstante von Fokuslagenänderungen, die durch den thermischen Fokus-Shift bedingt sind. Die Erfindung ist daher auch in der Lage, während eines Laserbearbeitungsprozesses Signale für eine Regelung des Lasermatenalbearbeitungsprozesses zur Verfügung zu stellen. Eine Regelung des Bearbeitungsprozesses kann beispielsweise erfolgen durch eine kontinuierliche Nachstellung oder Korrektur der axialen Fokuslage der Bearbeitungsoptik.
Als Energiestrahl im Sinne dieser Offenbarung gilt bevorzugt ein Strahl aus elektromagnetischer Strahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 pm bis 10 pm, besonders bevorzugt im Bereich von 0,3 pm bis 3 pm, und insbesondere im Bereich von 0,3 pm bis 1 ,5 pm.
Als Laserstrahlung im Sinne dieser Offenbarung gilt bevorzugt elektromagnetische Strahlung im Bereich von 0,3 pm bis 1 ,5 pm und mit einer Leistung von wenigstens 1 mW, besonders bevorzugt mit einer Leistung von wenigstens 100 W. LISTE DER BEZUGSZEICHEN
10 Strahlanalysevorrichtung
11 Optische Achse, lokale optische Achse
12 Strahlformungseinrichtung
13 Fokuslagensensor
19 Ebene der Herauslösung der Teilstrahlen
20 Modulationseinrichtung
23, 24 Durchlasszonen
25 Sperrzone
31 Erste laterale Richtung
33, 34 Teilaperturen
37 Zweite laterale Richtung
39 Sensor-Ebene
40 Detektor
49 Position der Abbildungseinrichtung, Hauptebene der Abbildungseinrichtung
50 Abbildungseinrichtung
51 Optische Linse
52 Strahlseparatoreinrichtung
53, 54 Teilstrahlablenkelemente, z.B. Keilplatten, Prismen oder Planplatten
56 Linsenarray
57 Einzellinsenelement, Lenslet
62 Gasdruck-Sensor
63 (Datenverbindung für) Schneidgas-Signal
64 (Datenverbindung für) Detektor-Signal
65 (Datenverbindung für) Linsenpositions-Signal
67 (Datenverbindung für) Fokus-Nachführ-Signal
70 Probenstrahl
71 Fokus des Probenstrahls (Zwischenfokus)
73, 74 Teilstrahlen
76 Energiestrahl-Fokus
77 Energiestrahl oder Laserstrahl
79 Intensitätsverteilung auf dem Detektor
80 Auswertungseinrichtung Speichereinheit
Eingabeeinheit für Schneidgas-Signale
Eingabeeinheit für Detektor-Signale
Eingabeeinheit für Linsenpositions-Signale
Berechnungseinheit
Ausgabeeinheit für Fokus-Nachführ-Signale
Strahlfleck , 94 Strahlflecke 0 Laserbearbeitungsoptik 5 Stelleinrichtung 0 Lichtleitfaser-Ende 1 Optische Achse 3 Kollimator 4 Auskopplungseinrichtung 5 Strahlauskoppler 6 Fokussierung 0 Optisches Element, z.B. Schutzglas 1 Äußere Grenzfläche des Optisches Elements 2 Zweite Grenzfläche des Optisches Elements 5 Zweites Schutzglas 0 Schneidgaseinrichtung 1 Hohlraum der Schneidgaseinrichtung 2 Austrittsöffnung der Schneidgaseinrichtung 3 Schneidgaszuführung 5 Druckausgleichs-Verbindung 6 Schneidgas 0 Werkstück 0 Zweiter Probenstrahl 1 Fokus des zweiten Probenstrahls (zweiter Zwischenfokus)3, 174 Weitere Teilstrahlen 3, 194 Weitere Strahlflecke 0 Laserbearbeitungsoptik

Claims

Titel: Vorrichtung und Verfahren zur Fokuslagen-Bestimmung mit Berücksichtigung von Prozessgas Anmelder: PRIMES GmbH Messtechnik für die Produktion mit Laserstrahlung Unser Zeichen: P 55 P 20 WO ANSPRÜCHE
1 . Strahlanalysevorrichtung (10) zur Bestimmung einer axialen Position eines Fokus (76) eines in einer Laserbearbeitungsoptik (100) geführten Energiestrahls (77) aus elektromagnetischer Strahlung, umfassend einen Fokuslagensensor (13) und eine Auswertungseinrichtung (80), wobei der Fokuslagensensor (13) eine Strahlformungseinrichtung (12) und einen Detektor (40) umfasst, wobei die Strahlformungseinrichtung (12)
- eingerichtet ist zum Empfang eines Probenstrahls (70), und
- eingerichtet ist, zur Formung einer Intensitätsverteilung (79) auf dem Detektor (40) zumindest einen Teil des Probenstrahls (70) mittels der Strahlformungseinrichtung (12) auf den Detektor (40) abzubilden, wobei der Detektor (40)
- einen lichtstrahlungsempfindlichen und räumlich zwei-dimensional auflösenden Sensor umfasst, welcher zur Umwandlung der auf den Detektor (40) auftreffenden Intensitätsverteilung (79) in elektrische Signale (64) eingerichtet ist, und wobei die Auswertungseinrichtung (80)
- eingerichtet ist zur Verarbeitung der elektrischen Signale (64) des Detektors (40), die die Intensitätsverteilung (79) auf dem Detektor (40) repräsentieren,
- eingerichtet ist zur Bestimmung eines Geometrie-Parameters aus der Intensitätsverteilung (79),
- eingerichtet ist zum Empfang eines Schneidgas-Signals (63), welches einen Druck eines Prozessgases oder eines Schneidgases repräsentiert, - eingerichtet ist zur Bestimmung eines Korrekturwertes unter Berücksichtigung des Schneidgas-Signals (63), und
- eingerichtet ist zur Bestimmung der axialen Position des Fokus (76) des Energiestrahls (77) unter Berücksichtigung des Geometrie-Parameters und des Korrekturwertes.
2. Strahlanalysevorrichtung (10) nach Anspruch 1 , wobei
- der Probenstrahl (70) erzeugbar ist durch Rückreflexion eines Bruchteils des Energiestrahls (77) an einer Grenzfläche (121) eines optischen Elements (120) der Laserbearbeitungsoptik (100),
- das optische Element (120) an einen Hohlraum (141 ) einer Schneidgaseinrichtung (140) der Laserbearbeitungsoptik (100) angrenzt,
- der Probenstrahl (70) mittels einer Auskopplungseinrichtung (115) aus der Laserbearbeitungsoptik (100) auskoppelbar ist und der Strahlformungseinrichtung (12) der Strahlanalysevorrichtung (10) zuführbar ist, und wobei
- das Schneidgas-Signal (63) einen momentanen Druck eines Prozessgases oder Schneidgases (146) im Hohlraum (141 ) der Schneidgaseinrichtung (141 ) repräsentiert.
3. Strahlanalysevorrichtung (10) nach Anspruch 2, wobei die Strahlformungseinrichtung (12) und der Detektor (40) gemeinsam in einem Gehäuse angeordnet sind, welches eine Öffnung zum Einführen des Probenstrahls (70) aufweist, und wobei das Gehäuse mit der Laserbearbeitungsoptik (100) verbindbar ist, so dass der mittels der Auskopplungseinrichtung (115) auskoppelbare Probenstrahl (70) der Strahlformungseinrichtung zuführbar ist.
4. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Auswertungseinrichtung (80) eine Eingabeeinheit (83) für das Schneidgas-Signal (63), eine Eingabeeinheit (84) für das Detektor-Signal (64), eine Speichereinheit (81), und eine Berechnungseinheit (86) umfasst.
5. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Auswertungseinrichtung (80) eingerichtet ist, die Bestimmung des Korrekturwertes unter Berücksichtigung von Kalibrationsdaten durchzuführen, die in der Speichereinheit (81 ) abgelegt sind, wobei die Kalibrationsdaten eine Änderung des Geometrie- Parameters in Abhängigkeit des Schneidgas-Signals (63) beschreiben.
6. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Auswertungseinrichtung (80)
- eingerichtet ist zum Empfang eines Linsenpositions-Signals (65), welches die axiale Position einer axial positionierbaren Linse oder Linsengruppe der Laserbearbeitungsoptik (100) repräsentiert, und
- eingerichtet ist zur Bestimmung der axialen Position des Fokus (76) des Energiestrahls (77) unter Berücksichtigung des Geometrie-Parameters, des Korrekturwerts, und des Linsenpositions-Signals (65).
7. Strahlanalysevorrichtung (10) nach Anspruch 6, wobei die Auswertungseinrichtung (80) eine Eingabeeinheit (85) für das Linsenpositions-Signal (65) umfasst.
8. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Auswertungseinrichtung (80)
- eingerichtet ist zur Berechnung eines Fokus-Nachführ-Signals (67) aus der bestimmten axialen Position des Fokus (76) des Energiestrahls (77), die eine Fokus-Ist-Position ist, und aus einer Fokus-Soll-Position, und
- eingerichtet ist zur Ausgabe des Fokus-Nachführ-Signals (67), welches direkt oder über eine übergeordnete Steuerungseinrichtung an eine Stelleinrichtung (105) übergeben wird, mittels der eine Position einer axial positionierbaren Linse der Laserbearbeitungsoptik (100) einstellbar ist.
9. Strahlanalysevorrichtung (10) nach Anspruch 8, wobei die Auswertungseinrichtung (80) eine Ausgabeeinheit (87) für das Fokus-Nachführ-Signal (67) umfasst.
10. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Strahlformungseinrichtung (12) eine Abbildungseinrichtung (50) mit wenigstens einer optischen Linse (51 ) umfasst.
11 . Strahlanalysevorrichtung (10) einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei
- die Strahlformungseinrichtung (12) eingerichtet ist zur Abbildung des Probenstrahls (70) auf den Detektor (40) und zur Formung der Intensitätsverteilung (79) auf dem Detektor (40) mit einem Strahlfleck (91 ), der einen Durchmesser 0 aufweist, und wobei
- die Bestimmung des Geometrie-Parameters durch die Auswertungseinrichtung (80) eine Bestimmung des Durchmessers 0 des Strahlflecks (91) auf dem Detektor (40) umfasst.
12. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei
- die Strahlformungseinrichtung (12) ein Linsenarray (56) umfasst zur Abbildung des Probenstrahls (70) auf den Detektor (40) und zur Formung der Intensitätsverteilung (79) auf dem Detektor (40) mit einer Vielzahl von Strahlflecken, die Abstände 3NI , aN2, ... 3NM zueinander aufweisen, und wobei
- die Bestimmung des Geometrie-Parameters durch die Auswertungseinrichtung (60) eine Bestimmung wenigstens eines der Abstände 3NI , aN2, ... 3NM der Strahlflecke zueinander umfasst.
13. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei die Strahlformungseinrichtung (12)
- eine Modulationseinrichtung (20) umfasst zur Herauslösung von zwei Teilstrahlen (73, 74) aus dem Probenstrahl (70),
- eingerichtet ist zur Abbildung der zwei Teilstrahlen (73, 74) auf den Detektor (40) zur Formung der Intensitätsverteilung (79) auf dem Detektor (40) mit Strahlflecken (93, 94), die einen Abstand a zueinander aufweisen, und wobei die Bestimmung des Geometrie-Parameters durch die Auswertungseinrichtung (80) eine Bestimmung des Abstandes a der Strahlflecke (93, 94) zueinander umfasst.
14. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei die Strahlformungseinrichtung (12)
- eingerichtet ist, aus dem Probenstrahl (70) in einer Ebene der Teilstrahlherauslösung (19) zwei Teilstrahlen (73, 74) herauszulösen, wobei die zwei Teilstrahlen (73, 74) ein erster Teilstrahl (73) und ein zweiter Teilstrahl (74) sind, wobei Querschnitte der zwei Teilstrahlen (73, 74) in der Ebene der Teilstrahlherauslösung (19) durch jeweils eine Teilapertur (33, 34) definiert sind, wobei die Teilaperturen (33, 34) voneinander abgegrenzt sind und Mittelpunkte der Teilaperturen (33, 34) einen Abstand k zueinander aufweisen, wobei durch den Abstand k der Teilaperturen (33, 34) eine erste laterale Richtung (31 ) definiert ist, wobei der Begriff „lateral“ sich auf Richtungen in Ebenen senkrecht zur jeweils lokalen optischen Achse (11 ) bezieht,
- eingerichtet ist, zur Formung der Intensitätsverteilung (79) auf dem Detektor (40) mit Strahlflecken (93, 94) und zur Bildung von jeweils wenigstens einem Strahlfleck (93) aus dem ersten Teilstrahl (73) und wenigstens einem Strahlfleck (94) aus dem zweiten Teilstrahl (74), die zwei Teilstrahlen (73, 74) auf den Detektor (40) abzubilden; wobei der Detektor (40) entlang einer Propagationsstrecke für die Teilstrahlen (73, 74) in einem Abstand s hinter der Ebene der Teilstrahlherauslösung (19) angeordnet ist; und wobei die Bestimmung des Geometrie-Parameters durch die Auswertungseinrichtung (80) eine Bestimmung eines Abstandes a entlang der ersten lateralen Richtung (31 ) zwischen Positionen der beiden Strahlflecke (93, 94) auf dem Detektor (40) umfasst.
15. Strahlanalysevorrichtung (10) nach Anspruch 14, wobei die Strahlformungseinrichtung (12) eingerichtet ist, mindestens einen der wenigstens zwei Teilstrahlen (73, 74) in einer zweiten lateralen Richtung (37) abzulenken und/oder zu versetzen zur Ausbildung eines Abstandes w entlang der zweiten lateralen Richtung (37) zwischen den zwei Strahlflecken (93, 94) auf dem Detektor (40), wobei die zweite laterale Richtung (37) quer zur ersten lateralen Richtung (31) ausgerichtet ist.
16. Strahlanalysevorrichtung (10) nach Anspruch 14 oder 15, wobei die erste laterale Richtung (31) und die lokale optische Achse (11) zwischen der Ebene der Teilstrahlherauslösung (19) und dem Detektor (40) durch Strahlfaltung und/oder Strahlumlenkung geändert werden.
17. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der Ansprüche 14 bis 16, wobei die Strahlformungseinrichtung (12) eingerichtet ist, die zwei Teilstrahlen (73, 74) relativ zueinander abzulenken und/oder zu versetzen, wobei eine Differenz zwischen den Ablenkungen und/oder Versetzungen der beiden Teilstrahlen (73, 74) entlang der zweiten lateralen Richtung (37) ausgerichtet ist, zur Ausbildung des Abstandes w entlang der zweiten lateralen Richtung (37) zwischen den zwei Strahlflecken (93, 94) auf dem Detektor (40).
18. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der Ansprüche 14 bis 17, wobei die Strahlformungseinrichtung (12) eine Strahlseparatoreinrichtung (52) mit wenigstens einem Teilstrahlablenkelement (53, 54) umfasst zur Ablenkung und/oder Versetzung eines ersten der wenigstens zwei Teilstrahlen (73, 74) in der zweiten lateralen Richtung (37) zur Ausbildung des Abstandes w entlang der zweiten lateralen Richtung (37) zwischen den zwei Strahlflecken (93, 94) auf dem Detektor (40).
19. Strahlanalysevorrichtung (10) nach Anspruch 18, wobei die Strahlseparatoreinrichtung (52) wenigstens zwei Teilstrahlablenkelemente (53, 54) umfasst zur Ablenkung und/oder Versetzung der zwei Teilstrahlen (73, 74) relativ zueinander, wobei eine Differenz zwischen den Ablenkungen und/oder Versetzungen der beiden Teilstrahlen (73, 74) entlang der zweiten lateralen Richtung (37) ausgerichtet ist, zur Ausbildung des Abstandes w entlang der zweiten lateralen Richtung (37) zwischen den zwei Strahlflecken (93, 94) auf dem Detektor (40).
20. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der Ansprüche 18 oder 19, wobei die Strahlseparatoreinrichtung (52) wenigstens eine Keilplatte (53, 54) als Teilstrahlablenkelement beinhaltet, die in Strahlrichtung fluchtend vor oder hinter einer der Teilaperturen (33, 34) angeordnet ist, und die zur Ablenkung des von der Teilapertur (33, 34) herausgelösten Teilstrahls (73, 74) um einen Winkelbetrag im Bereich von 0,02° bis 6° eingerichtet ist.
21 . Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der Ansprüche 18 bis 20, wobei die Strahlseparatoreinrichtung (52) wenigstens eine verkippte Planplatte (53, 54) oder ein Prisma als Teilstrahlablenkelement beinhaltet, die/das in Strahlrichtung fluchtend vor oder hinter einer der Teilaperturen (33, 34) angeordnet ist, und die/das zur Versetzung des von der Teilapertur (33, 34) herausgelösten Teilstrahls (73, 74) um einen Betrag im Bereich von 0,05 mm bis 3 mm eingerichtet ist.
22. Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Auswertungseinrichtung (80) weiterhin eingerichtet ist zur Bestimmung einer lateralen Position der gesamten Intensitätsverteilung (79) auf dem Detektor (40) und eingerichtet ist zur Berechnung einer lateralen Position des Fokus (76) des Energiestrahls (77) aus der lateralen Position der gesamten Intensitätsverteilung (79) und/oder zur Berechnung einer Änderung der lateralen Position des Fokus (76) des Energiestrahls (77) aus einer Änderung der lateralen Position der gesamten Intensitätsverteilung (79).
23. System umfassend eine Strahlanalysevorrichtung (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche und eine Laserbearbeitungsoptik (100) zur Führung und zur Fokussierung des Energiestrahls (77), wobei die Bearbeitungsoptik (100) eine Auskopplungseinrichtung (115) zur Auskopplung des Probenstrahls (70) umfasst, und wobei die Strahlanalysevorrichtung (10) zum Empfang des ausgekoppelten Probenstrahls (70) mit der Bearbeitungsoptik (100) verbindbar ist.
24. Verfahren zur Bestimmung einer axialen Position eines Fokus (76) eines in einer Laserbearbeitungsoptik (100) geführten Energiestrahls (77) aus elektromagnetischer Strahlung, umfassend die folgenden Schritte:
- Empfangen eines aus der Laserbearbeitungsoptik (100) ausgekoppelten Probenstrahls (70),
- Abbilden zumindest eines Teils des Probenstrahls (70) mittels einer Strahlformungseinrichtung (12) auf einen Detektor (40) zur Bildung einer Intensitätsverteilung (79) auf dem Detektor (40),
- Umwandeln der auf den Detektor (40) auftreffenden Intensitätsverteilung (79) in elektrische Signale (64) mittels eines lichtstrahlungsempfindlichen und räumlich zwei-dimensional auflösenden Sensors des Detektors (40),
- Verarbeiten der elektrischen Signale (64) des Detektors (40), die die Intensitätsverteilung (79) auf dem Detektor (40) repräsentieren,
- Bestimmen eines Geometrie-Parameters aus der Intensitätsverteilung (79),
- Empfangen eines Schneidgas-Signals (63), welches einen Druck eines Prozessgases oder Schneidgases (146) repräsentiert, - Bestimmen eines Korrekturwertes unter Berücksichtigung des Schneidgas- Signals, und
- Bestimmen der axialen Position des Fokus (76) des Energiestrahls (77) unter Berücksichtigung des Geometrie-Parameters und des Korrekturwertes.
25. Verfahren nach Anspruch 24, umfassend die weiteren Verfahrensschritte:
- Erzeugen des Probenstrahls (70) durch Rückreflexion eines Bruchteils des Energiestrahls (77) an einer Grenzfläche (121) eines optischen Elements (120) der Laserbearbeitungsoptik (100), wobei das optische Element (120) an einen Hohlraum (141 ) einer Schneidgaseinrichtung (140) der Laserbearbeitungsoptik (100) angrenzt,
- Auskoppeln des Probenstrahls (70) mittels einer Auskopplungseinrichtung (115) aus der Laserbearbeitungsoptik (100), und
- Zuführen des ausgekoppelten Probenstrahls (70) zur Strahlanalysevorrichtung (10).
26. Verfahren nach Anspruch 24 oder 25, umfassend den Schritt: Bestimmen des Korrekturwertes unter Berücksichtigung von Kalibrationsdaten, wobei die Kalibrationsdaten eine Änderung des Geometrie-Parameters in Abhängigkeit des Schneidgas-Signals (63) beschreiben.
27. Verfahren nach einem der Ansprüche 24 bis 26, umfassend die Schritte:
- Empfangen eines Linsenpositions-Signals (65), welches die axiale Position einer axial positionierbaren Linse oder Linsengruppe der Laserbearbeitungsoptik (100) repräsentiert, und
- Bestimmen der axialen Position des Fokus (76) des Energiestrahls (77) unter Berücksichtigung des Geometrie-Parameters, des Korrekturwerts, und des Linsenpositions-Signals (65).
28. Verfahren nach einem der Ansprüche 24 bis 27, umfassend die Schritte:
- Berechnen eines Fokus-Nachführ-Signals (67) aus der bestimmten axialen Position des Fokus (76) des Energiestrahls (77), die eine Fokus-Ist-Position ist, und aus einer Fokus-Soll-Position, und - Bereitstellen und Übergeben des Fokus-Nachführ-Signals (67) an eine Stelleinrichtung (105), mittels der eine Position einer axial positionierbaren Linse oder Linsengruppe der Laserbearbeitungsoptik (100) einstellbar ist.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117532177A (zh) * 2023-12-25 2024-02-09 惠州兴通成机电技术有限公司 一种斜口灯罩用的激光切割系统及方法

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0323091A (ja) 1989-06-20 1991-01-31 Mitsubishi Electric Corp ドロスが付着しやすい材料のレーザ切断法
DE102006007750A1 (de) * 2006-02-20 2007-08-23 Wavelight Ag Verfahren und optische Anordnung zur Kontrolle der Fokustiefe eines abbildenden optischen Systems
JP2011206806A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Mitsubishi Electric Corp レーザ加工装置
DE102011007176A1 (de) 2011-04-12 2012-10-18 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Vorrichtung zur Fokussierung eines Laserstrahls und Verfahren zum Überwachen einer Laserbearbeitung
KR20130086517A (ko) * 2012-01-25 2013-08-02 가부시기가이샤 디스코 레이저 광선의 스폿 형상 검출 방법 및 스폿 형상 검출 장치
DE102013210078A1 (de) * 2013-05-29 2014-12-04 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Fokusposition eines Hochenergiestrahls sowie Computerprogrammprodukt
DE102007053632B4 (de) 2007-11-08 2017-12-14 Primes Gmbh Verfahren zur koaxialen Strahlanalyse an optischen Systemen
DE102017131224A1 (de) 2017-12-22 2019-06-27 Precitec Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zur Erfassung einer Fokuslage eines Laserstrahls
JP2020028891A (ja) * 2018-08-21 2020-02-27 キヤノン株式会社 光学装置及び加工装置
US20200361026A1 (en) * 2017-11-07 2020-11-19 Murata Machinery, Ltd. Laser processing machine and focus adjustment method
WO2021156788A1 (en) 2020-02-07 2021-08-12 Salvagnini Italia S.P.A. Laser cutting head for a machine tool

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0323091A (ja) 1989-06-20 1991-01-31 Mitsubishi Electric Corp ドロスが付着しやすい材料のレーザ切断法
DE102006007750A1 (de) * 2006-02-20 2007-08-23 Wavelight Ag Verfahren und optische Anordnung zur Kontrolle der Fokustiefe eines abbildenden optischen Systems
DE102007053632B4 (de) 2007-11-08 2017-12-14 Primes Gmbh Verfahren zur koaxialen Strahlanalyse an optischen Systemen
JP2011206806A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Mitsubishi Electric Corp レーザ加工装置
DE102011007176A1 (de) 2011-04-12 2012-10-18 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Vorrichtung zur Fokussierung eines Laserstrahls und Verfahren zum Überwachen einer Laserbearbeitung
KR20130086517A (ko) * 2012-01-25 2013-08-02 가부시기가이샤 디스코 레이저 광선의 스폿 형상 검출 방법 및 스폿 형상 검출 장치
DE102013210078A1 (de) * 2013-05-29 2014-12-04 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Fokusposition eines Hochenergiestrahls sowie Computerprogrammprodukt
US20200361026A1 (en) * 2017-11-07 2020-11-19 Murata Machinery, Ltd. Laser processing machine and focus adjustment method
DE102017131224A1 (de) 2017-12-22 2019-06-27 Precitec Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zur Erfassung einer Fokuslage eines Laserstrahls
JP2020028891A (ja) * 2018-08-21 2020-02-27 キヤノン株式会社 光学装置及び加工装置
WO2021156788A1 (en) 2020-02-07 2021-08-12 Salvagnini Italia S.P.A. Laser cutting head for a machine tool

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117532177A (zh) * 2023-12-25 2024-02-09 惠州兴通成机电技术有限公司 一种斜口灯罩用的激光切割系统及方法
CN117532177B (zh) * 2023-12-25 2024-06-04 惠州兴通成机电技术有限公司 一种斜口灯罩用的激光切割系统及方法

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