MD4686C1 - Способ роста структуры p+InP-p-InP-n+CdS для фотоэлектрических элементов - Google Patents
Способ роста структуры p+InP-p-InP-n+CdS для фотоэлектрических элементов Download PDFInfo
- Publication number
- MD4686C1 MD4686C1 MDA20180109A MD20180109A MD4686C1 MD 4686 C1 MD4686 C1 MD 4686C1 MD A20180109 A MDA20180109 A MD A20180109A MD 20180109 A MD20180109 A MD 20180109A MD 4686 C1 MD4686 C1 MD 4686C1
- Authority
- MD
- Moldova
- Prior art keywords
- inp
- deposited
- cds
- layer
- temperature
- Prior art date
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано, в частности, в устройствах для преобразования солнечного излучения в электрическую энергию.Способ роста структуры p+InP-p-InP-n+CdS для фотоэлектрических элементов состоит в том, что выращивают слой p-InP на подложке, выполненной в виде пластины из p+InP с кристаллографической ориентацией (100), разориентацией 3…5° в направлении (110) и с концентрацией носителей заряда 1018 см-3, осаждают, на фронтальную часть пластины, методом квазизамкнутого объема, слой n+CdS, осаждают на обратную сторону пластины омический контакт из Ag+5%Zn, термически обрабатывают при температуре 450°C, осаждают омический контакт из In на слой n+CdS, термически обрабатывают при температуре 250°C, и осаждают методом испарения электронным пучком, при температуре 300°C, антиотражающий слой SiO2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20180109A MD4686C1 (ru) | 2018-12-15 | 2018-12-15 | Способ роста структуры p+InP-p-InP-n+CdS для фотоэлектрических элементов |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20180109A MD4686C1 (ru) | 2018-12-15 | 2018-12-15 | Способ роста структуры p+InP-p-InP-n+CdS для фотоэлектрических элементов |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| MD4686B1 MD4686B1 (ru) | 2020-03-31 |
| MD4686C1 true MD4686C1 (ru) | 2020-12-31 |
Family
ID=70056179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| MDA20180109A MD4686C1 (ru) | 2018-12-15 | 2018-12-15 | Способ роста структуры p+InP-p-InP-n+CdS для фотоэлектрических элементов |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| MD (1) | MD4686C1 (ru) |
-
2018
- 2018-12-15 MD MDA20180109A patent/MD4686C1/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MD4686B1 (ru) | 2020-03-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Lindahl et al. | Inline Cu (In, Ga) Se $ _ {2} $ Co-evaporation for high-efficiency solar cells and modules | |
| JP2637922B2 (ja) | 薄膜光電池デバイスの製造方法 | |
| CN103035496B (zh) | 一种生长在Si衬底上的GaN薄膜及其制备方法和应用 | |
| CN109037374A (zh) | 基于NiO/Ga2O3的紫外光电二极管及其制备方法 | |
| US10256362B2 (en) | Flexible silicon infrared emitter | |
| Dhere | Recent developments in thin film solar cells | |
| Hashimoto et al. | High efficiency CIGS solar cell on flexible stainless steel | |
| MD4686C1 (ru) | Способ роста структуры p+InP-p-InP-n+CdS для фотоэлектрических элементов | |
| Petti et al. | 10-thin films in photovoltaics | |
| KR20110075992A (ko) | 실리콘 기판의 결함 제거 방법 | |
| MD972Z (ru) | Способ роста структуры p+InP-p-InP-n+CdS для фотоэлектрических элементов | |
| Teplin et al. | Pyramidal light trapping and hydrogen passivation for high-efficiency heteroepitaxial (100) crystal silicon solar cells | |
| US8258003B2 (en) | Manufacturing method of compound semiconductor solar cell | |
| MD4554C1 (ru) | Способ повышения эфективности фотоэлектрических элементов на основе p+InP-p-InP-n+CdS | |
| CN110534599A (zh) | 一种柔性薄膜太阳能电池及其制备方法 | |
| MD4510C1 (ru) | Способ роста структуры n+-p-p+ InP для солнечных батарей | |
| KR101379221B1 (ko) | 태양전지용 SiCx 패시베이션 박막 형성방법 및 이에 의해 제조되는 패시베이션 박막을 구비한 태양전지 | |
| Carabe et al. | Influence of interface treatments on the performance of silicon heterojunction solar cells | |
| Jahelka et al. | Non-epitxaial GaAs/organic heterojunction solar cells with 830mv Voc | |
| JP2012109563A (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
| KR101221394B1 (ko) | Cigs태양전지 제조 방법 | |
| Hebling et al. | The crystalline silicon thin-film solar cell—The high temperature approach | |
| Lee | Investigation of thin-film CdTe/Ge tandem solar cells | |
| Smith et al. | Reverse current‐voltage characteristics of indium tin oxide/silicon solar cells under illumination | |
| NASIKKAR | FILMS FOR USE IN PHOTOVOLTAIC SOLAR CELLS |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FG4A | Patent for invention issued | ||
| KA4A | Patent for invention lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration) | ||
| MM4A | Patent for invention definitely lapsed due to non-payment of fees |