MD3821G2 - Procedeu de obţinere a materialului fotosensibil în bază de semiconductor calcogenic amorf As2(SxSe1-x)3 - Google Patents
Procedeu de obţinere a materialului fotosensibil în bază de semiconductor calcogenic amorf As2(SxSe1-x)3Info
- Publication number
- MD3821G2 MD3821G2 MDA20070230A MD20070230A MD3821G2 MD 3821 G2 MD3821 G2 MD 3821G2 MD A20070230 A MDA20070230 A MD A20070230A MD 20070230 A MD20070230 A MD 20070230A MD 3821 G2 MD3821 G2 MD 3821G2
- Authority
- MD
- Moldova
- Prior art keywords
- base
- photosensitive material
- sxsl1
- chalcogenide semiconductor
- amorphous chalcogenide
- Prior art date
Links
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
Invenţia se referă la optoelectronică, şi anume la un procedeu de obţinere a materialului fotosensibil în bază de semiconductor calcogenic amorf As2(SxSe1-x)3, care poate fi utilizat în calitate de mediu de înscriere a imaginilor optice şi holografice, senzori optici, în microlitografie etc.Procedeul constă în aceea că se dizolvă separat As2S3 şi As2Se3 în monoetanolamină sau etilendiamină la temperatura de 20…40°C, apoi amestecurile se răcesc până la temperatura camerei şi se amestecă într-un raport determinat de valoarea x, după care amestecul se depune pe un suport şi se usucă cu aer având temperatura de până la 40°C, timp de 2 ore.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
MDA20070230A MD3821G2 (ro) | 2007-08-23 | 2007-08-23 | Procedeu de obţinere a materialului fotosensibil în bază de semiconductor calcogenic amorf As2(SxSe1-x)3 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
MDA20070230A MD3821G2 (ro) | 2007-08-23 | 2007-08-23 | Procedeu de obţinere a materialului fotosensibil în bază de semiconductor calcogenic amorf As2(SxSe1-x)3 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
MD3821F1 MD3821F1 (ro) | 2009-01-31 |
MD3821G2 true MD3821G2 (ro) | 2009-08-31 |
Family
ID=40347775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
MDA20070230A MD3821G2 (ro) | 2007-08-23 | 2007-08-23 | Procedeu de obţinere a materialului fotosensibil în bază de semiconductor calcogenic amorf As2(SxSe1-x)3 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
MD (1) | MD3821G2 (ro) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
MD594Z (ro) * | 2012-07-31 | 2013-09-30 | Институт По Защите Растений И Экологического Сельского Хозяйства Анм | Dispozitiv pentru reproducerea insectelor benefice |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050009225A1 (en) * | 2003-07-10 | 2005-01-13 | International Business Machines Corporation | Hydrazine-free solution deposition of chalcogenide films |
-
2007
- 2007-08-23 MD MDA20070230A patent/MD3821G2/ro not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050009225A1 (en) * | 2003-07-10 | 2005-01-13 | International Business Machines Corporation | Hydrazine-free solution deposition of chalcogenide films |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Chern G., Lauks I. Spin-coating amorphous chalcogenide films. J. Appl. Phys. 53(10), October, 1982, p. 6979-6982 * |
Chern G.and Lauks I. Spin-coating amorphous chalcogenide films. J. Appl. Phys. 53(10), October, 1982, 6979-6982 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
MD594Z (ro) * | 2012-07-31 | 2013-09-30 | Институт По Защите Растений И Экологического Сельского Хозяйства Анм | Dispozitiv pentru reproducerea insectelor benefice |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
MD3821F1 (ro) | 2009-01-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Tugulu et al. | Polymer brushes as ionotropic matrices for the directed fabrication of microstructured calcite thin films | |
WO2011138340A3 (en) | Substrates for mirrors for euv lithography and their production | |
ES2602972T3 (es) | Derivados de indazol para su uso en el tratamiento de infección por virus de la gripe | |
TW200728491A (en) | Organometallic composition | |
ATE450488T1 (de) | Lichtreaktives polymer und verfahren zu seiner herstellung | |
JP2012502504A5 (ro) | ||
NI201100211A (es) | Método mejorado para sintetizar pirfenidona | |
MY144770A (en) | Polishing composition | |
SG135953A1 (en) | Germanium compounds | |
NO20084302L (no) | 2-(syklisk amino)-pyrimidonderivater som TPK1-inhibitorer | |
ATE396428T1 (de) | Belichtungsverfahren sowie projektions- belichtungssystem zur ausführung des verfahrens | |
TW200630759A (en) | Substrate table, method of measuring a position of a substrate and a lithographic apparatus | |
WO2012101080A3 (en) | Optical arrangement for an euv projection exposure apparatus and method for cooling an optical component | |
EP1813987A4 (en) | COMPOSITION CONTAINING A SULFONIC ESTER FOR THE FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM FOR LITHOGRAPHY | |
DE60335252D1 (de) | Impfkristall aus siliciumcarbid-einkristall und verfahren zur herstellung eines stabs damit | |
WO2010012762A3 (de) | Farbstabiler superabsorber | |
EA200970266A1 (ru) | Азабициклические соединения в качестве ингибиторов повторного поглощения моноаминов | |
WO2007020442A3 (en) | Organic dyestuffs, organic photovoltaic device, semiconductor crystal film and method of prodicing thereof | |
MD3327G2 (ro) | Procedeu de obţinere a compozitului fotosensibil din semiconductor calcogenic amorf şi polimer organic | |
WO2009020430A3 (en) | Method of forming a cadmium containing nanocrystal | |
DE60335616D1 (de) | Verfahren zur herstellung von siliciumeinkristallen, und dadurch hergestellte siliciumeinkristallwafer und siliciumeinkristallstab | |
MD3821G2 (ro) | Procedeu de obţinere a materialului fotosensibil în bază de semiconductor calcogenic amorf As2(SxSe1-x)3 | |
TW200728356A (en) | Novel polyimide and method for preparing the same | |
ZA201002540B (en) | Crystallised solid izm-3 and method for preparing same | |
WO2009078431A1 (ja) | 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子および光学異方体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FG4A | Patent for invention issued | ||
KA4A | Patent for invention lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration) | ||
MM4A | Patent for invention definitely lapsed due to non-payment of fees |