LT6665B - Tirpalas vario ir jo lydinių poliravimui - Google Patents

Tirpalas vario ir jo lydinių poliravimui Download PDF

Info

Publication number
LT6665B
LT6665B LT2018510A LT2018510A LT6665B LT 6665 B LT6665 B LT 6665B LT 2018510 A LT2018510 A LT 2018510A LT 2018510 A LT2018510 A LT 2018510A LT 6665 B LT6665 B LT 6665B
Authority
LT
Lithuania
Prior art keywords
polishing
copper
solution
laprol
alloys
Prior art date
Application number
LT2018510A
Other languages
English (en)
Other versions
LT2018510A (lt
Inventor
Rima BINKIENĖ
Original Assignee
Binkienė Rima
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Binkienė Rima filed Critical Binkienė Rima
Priority to LT2018510A priority Critical patent/LT6665B/lt
Publication of LT2018510A publication Critical patent/LT2018510A/lt
Publication of LT6665B publication Critical patent/LT6665B/lt

Links

Landscapes

  • Weting (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

Išradimas skirtas cheminiam metalų paviršių apdorojimui, o būtent tirpalui vario ir jo lydinių poliravimui. Išradimo tikslas - poliravimo tolygumo ir paviršiaus atspindžio gebos padidinimas, siekiant gauti blizgius paviršius, kurie būtų tinkami jų paskesniam pasyvinimui arba galvanizavimui kitais metalais ir (arba) panaudojimui puslaidininkių pramonėje. Tuo tikslu į tirpalą, turintį 60-160 g/l vandenilio peroksido, 5-30 g/l sieros arba azoto rūgšties, 20-40 g/l etilo spirito, papildomai prideda 0,5-1,5 g/l laprolio 602 arba laprolio 805 ir 0,1-3,0 g/l trifluoretanolio arba trihidrotetrafluorpropanolio.

Description

Išradimo sritis
Išradimas skirtas cheminiam metalų paviršių apdorojimui, o būtent tirpalui vario ir jo lydinių poliravimui, siekiant gauti blizgius paviršius, kurie būtų tinkami jų paskesniam pasyvinimui arba galvanizavimui kitais metalais ir (arba) panaudojimui puslaidininkių pramonėje.
Technikos lygis
Yra žinomi cheminiai metalų paviršių poliravimo būdai (CMP), skirti vario paviršiaus poliravimui. Pavyzdžiui, Europos patento paraiškoje Nr. 1879223 aprašytas cheminis vario poliravimo būdas, panaudojant junginį, turintį vandens, peroksido oksidatoriaus, vario paviršiaus apsauginės medžiagos, mažiausiai vieną pirmąjį chelantą, parinktą iš grupės, susidedančios iš vyno rūgšties, malono rūgšties, obuolių rūgšties, citrinų rūgšties, maleino rūgšties, oksalo rūgšties ir fumaro rūgšties, ir mažiausiai vieną antrąjį chelantą, parinktą iš grupės, susidedančios iš trietilentetramino, etilendiamindiacto rūgšties, etilendiamintetraacto rūgšties, tetraetilenpentamino, glikollio-eteriodiamintetraacto rūgšties, trans-1,2cikloheksandiamintetraacto rūgšties, o-fenantrolino ir jų darinių. Būdas skirtas vario puslaidininkinėse integruotose grandinėse poliravimui.
JAV patente Nr. 3556883 aprašytas dar kitas vario ar vario lydinių poliravimo būdas, kuomet vario paviršius apdorojamas vandenilio peroksido vandens tirpalu, rūgštimi ir sočiuoju alifatiniu alkoholiu, tokiu būdu suformuojant oksido plėvelę ant gaminio paviršiaus, ir po to šią plėvelę pašalinant cheminiu tirpinimu.
Trumpas išradimo aprašymas
Šio išradimo tikslas yra pateikti naują ir efektyvų tirpalą vario ir jo lydinių paviršiaus poliravimui, kuris gali būti panaudotas įvairiose pramonės srityse vario paviršiaus paruošimui paskesniam pasyvinimui arba galvanizavimui kitais metalais. Tam naudojamas tirpalas, apimantis 60-160 g/l vandenilio peroksido, 5-30 g/l sieros arba azoto rūgšties, 20-40 g/l etilo spirito, į kurį papildomai pridedama 0,5-1,5 g/l laprolio 602 arba laprolio 805 ir 0,1-3,0 g/l trifluoretanolio arba trihidrotetrafluorpropanolio.
Vario ar jo lydinių poliravimas atliekamas 35-50°C temperatūroje nuo 1 iki 10 min. Nupoliravus, paviršius nušviesinamas 3,0% sieros rūgštyje.
Išsamus išradimo aprašymas
Tirpalas vario ar jo lydinių poliravimui ruošiamas sekančiai. Į vandenį, kurio tūris sudaro pusę ruošiamo poliravimo tirpalo tūrio, prideda 5-30 g/l sieros arba azoto rūgšties, 20-40 g/l etilo spirito, 60-160 g/l vandenilio peroksido. Tirpalą kruopščiai sumaišo. Po to prideda nejonogeninės paviršiaus aktyviosios medžiagos (PAM) ir trifluoretanolio (TFE) arba trihidrotetrafluorpropanolio (TFP), praskiedžia tirpalą vandeniu iki reikalingo tūrio ir sumaišo.
Buvo poliruojamos vario, žalvario ir naujasidabrio plokštelės. Poliravimas buvo atliekamas 35-50°C, geriausiai 40°C temperatūroje, nuo 1 iki 10 min. Plokšteles nuriebalino įprastame šarminiame tirpale. Nupoliravus, plokšteles nušviesino 3,0% sieros rūgštyje apie 0,1 min., praplovė tekančiu vandeniu ir džiovino oro srove. Pridėjus TFE ir TFP mažiau kaip 0,1 g/l, stebimas teigiamo poveikio sumažėjimas. Padidinus koncentraciją virš 3,0 g/l, teigiamas poveikis nepadidėjo.
lentelėje pateiktos cheminio poliravimo tirpalų sudėtys, apdorojimo sąlygos ir efektyvumo rodikliai.

Claims (1)

  1. Išradimo apibrėžtis
    1. Tirpalas vario ir jo lydinių cheminiam poliravimui, apimantis vandenilio peroksidą, sieros arba azoto rūgštį ir nejonogeninę paviršiaus aktyviąją medžiagą, b esiskiriantis tuo, kad, siekiant padidinti poliravimo tolygumą ir apdorojamo paviršiaus atspindžio gebą, tirpalas turi nejonogeninės paviršiaus aktyviosios medžiagos laprolio 602 arba laprolio 805 ir papildomai turi trifluoretanolio (TFE) arba trihidrotetrafluorpropanolio (TFP), esant tokiam komponentų santykiui (g/l):
    vandenilio peroksidas - 60-160;
    sieros arba azoto rūgštis - 5-30;
    etilo spiritas - 20-40;
    laprolis 602 arba laprolis 805 - 0,5-1,5;
    TFE arba TFP-0,1-3,0.
LT2018510A 2018-03-06 2018-03-06 Tirpalas vario ir jo lydinių poliravimui LT6665B (lt)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
LT2018510A LT6665B (lt) 2018-03-06 2018-03-06 Tirpalas vario ir jo lydinių poliravimui

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
LT2018510A LT6665B (lt) 2018-03-06 2018-03-06 Tirpalas vario ir jo lydinių poliravimui

Publications (2)

Publication Number Publication Date
LT2018510A LT2018510A (lt) 2019-09-10
LT6665B true LT6665B (lt) 2019-10-10

Family

ID=67844587

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
LT2018510A LT6665B (lt) 2018-03-06 2018-03-06 Tirpalas vario ir jo lydinių poliravimui

Country Status (1)

Country Link
LT (1) LT6665B (lt)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1879223A1 (en) 2005-05-06 2008-01-16 Asahi Glass Company, Limited Composition for copper wiring polishing and method of polishing surface of semiconductor integrated circuit

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1879223A1 (en) 2005-05-06 2008-01-16 Asahi Glass Company, Limited Composition for copper wiring polishing and method of polishing surface of semiconductor integrated circuit

Also Published As

Publication number Publication date
LT2018510A (lt) 2019-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4613744B2 (ja) シリコンウェーハの洗浄方法
JP2009013417A (ja) 化学機械平坦化(cmp)後の洗浄組成物
TW201014906A (en) Alkaline aqueous solution composition for treating a substrate
CN101957563B (zh) 一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液
CN113512728A (zh) 一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂
CN111020610A (zh) 一种用于Cu互连CMP后腐蚀抑制剂的清洗液及配制方法
US3368913A (en) Process for the treatment of metal surfaces prior to enameling
CN111139140A (zh) 一种水基型半导体清洗剂及其制备方法
JPH07216392A (ja) 洗浄剤及び洗浄方法
DE102006023506B4 (de) Wässrige Reinigungszusammensetzung zur Kupferverarbeitung von Halbleitern
JPH0641773A (ja) 半導体ウェーハ処理液
CN115216772A (zh) 一种适用于铜表面的环保型粗化处理液及其应用
JP2010077342A (ja) 水溶性洗浄剤組成物
LT6665B (lt) Tirpalas vario ir jo lydinių poliravimui
US3653931A (en) Anti-tarnish composition for metal surfaces and process for its use
JP2018199808A (ja) 鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物、鉛フリーはんだフラックスの洗浄方法
JPH01272785A (ja) チタンまたはチタン合金の化学研磨方法
JP2021505748A (ja) アルミニウム缶を洗浄するための方法及び組成物
JP7190060B2 (ja) 半導体ウェーハ洗浄液組成物及びそれを用いた洗浄方法
JPH04101418A (ja) Siウエーハのライフタイム向上方法
JPS63286585A (ja) チタンまたはその合金の化成処理液ならびに該化成処理液でのチタンまたはその合金の表面処理方法
CN112522722A (zh) 一种金属表面除油剂及其制备方法和使用方法
JP2022100934A (ja) スケール除去剤および金属材の製造方法
TWI638043B (zh) 矽晶圓洗劑與清洗矽晶圓的方法
JPS6148583A (ja) スケ−ル除去剤

Legal Events

Date Code Title Description
BB1A Patent application published

Effective date: 20190910

FG9A Patent granted

Effective date: 20191010