LT6112B - Paviršiumi aktyvuotos ramano sklaidos (pars) jutiklis ir jo gamybos būdas - Google Patents
Paviršiumi aktyvuotos ramano sklaidos (pars) jutiklis ir jo gamybos būdas Download PDFInfo
- Publication number
- LT6112B LT6112B LT2013053A LT2013053A LT6112B LT 6112 B LT6112 B LT 6112B LT 2013053 A LT2013053 A LT 2013053A LT 2013053 A LT2013053 A LT 2013053A LT 6112 B LT6112 B LT 6112B
- Authority
- LT
- Lithuania
- Prior art keywords
- laser
- substrate
- sensor
- nanostructure
- glass
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 title description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 5
- 230000000739 chaotic effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 3
- 238000002679 ablation Methods 0.000 claims description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000005387 chalcogenide glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 claims description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 abstract description 2
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 abstract 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 10
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 10
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 6
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 5
- 239000012491 analyte Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 238000013532 laser treatment Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000695 excitation spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009509 drug development Methods 0.000 description 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000002294 plasma sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/65—Raman scattering
- G01N21/658—Raman scattering enhancement Raman, e.g. surface plasmons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
- C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/0025—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/55—Specular reflectivity
- G01N21/552—Attenuated total reflection
- G01N21/553—Attenuated total reflection and using surface plasmons
- G01N21/554—Attenuated total reflection and using surface plasmons detecting the surface plasmon resonance of nanostructured metals, e.g. localised surface plasmon resonance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/31—Pre-treatment
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N2021/258—Surface plasmon spectroscopy, e.g. micro- or nanoparticles in suspension
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/65—Raman scattering
- G01N2021/651—Cuvettes therefore
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
Plazmoninis jutiklis, turintis bent padėklą (1), lazeriu apdirbtą aktyvųjį paviršiaus plotą (2) minėtame padėkle ir metalo dangą ant aktyvuoto paviršiaus (2), kur lazeriu apdirbtas paviršiaus plotas yra suformuotas veikiant trumpais lazerio impulsais taip, kad nedideliame gylyje sumažėtų medžiagos klampumas ir, veikiant tam pačiam impulsui, kuriuo buvo sumažintas medžiagos klampumas, arba vėliau į medžiagą kritusiam vienam ar daugiau impulsų, būtų suformuota savaime susidaranti, chaotiška nanostruktūra, kurios elementų matmenys mažesni nei 1 µm. Tinkamiausiu atveju, padėklo medžiaga yra amorfinė, tokia kaip silikatinis stiklas ar panašiai. Taip pat šiame išradime numatyta galimybė aktyvųjį jutiklio plotą (2) suformuoti ant mikroskopijoje naudojamo objektinio arba dengiamojo stikliuko.
Description
TECHNIKOS SRITIS
Išradimas yra susijęs su molekulinės diagnostikos sritimi ir ypač su lazeriu struktūruotais Paviršiumi Aktyvuotos Ramano Sklaidos (PARS) jutikliais. Tokie jutikliai naudojami mažų medžiagos koncentracijų aptikimui analitėje ir bežymekliam medžiagų identifikavimui.
TECHNIKOS LYGIS
Ramano sklaida - tai efektas, susijęs su neelastine fotonų sklaida, jiems sąveikaujant su medžiagą sudarančiais jonais. Paprastai Ramano sklaidos sužadinimui naudojama siauro spektro (<1 nm) lazerio spinduliuotė, o matuojami išsklaidytos šviesos spektrai su smailėmis, pasislinkusiomis į raudonąją (Stokso poslinkis) arba mėlynąją (Anti-Stokso poslinkis) spektro pusę. Parinkus tinkamas eksperimento sąlygas, pagal sklaidos spektre esančių smailių padėtį, galima atpažinti analitėje esančias medžiagas.
Paviršiumi aktyvuotos Ramano sklaidos (PARS) jutikliai yra naudojami, siekiant daugelį kartų sustiprinti paprastai labai silpną Ramano sklaidos signalą. Tokiam stiprinimui naudojami plazmoniniai reiškiniai, ypač lokalizuoti paviršiaus plazmonai. Norint sukurti sąlygas fotono sąveikai su paviršiaus plazmonais, reikia suformuoti submikroninių struktūrų masyvą ir padengti jį tauriųjų metalų, paprastai aukso arba sidabro, danga taip, kad susidarytų atskirtos šio metalo salelės. Šių struktūrų forma, dydis ir struktūrų tarpusavio išsidėstymas labiausiai lemia, kaip paviršiaus plazmonai sąveikauja su krentančios spinduliuotės ir Ramano sklaidą patyrusiais fotonais. Kuo stipresnė plazmonų ir fotonų sąveika, tuo didesnis gaunamas Ramano sklaidos stiprinimas.
PARS jutikliai gali būti naudojami molekulinėje diagnostikoje ir yra svarbūs tokioms pramonės šakoms kaip biotechnologijos, vaistų kūrimas, maisto ar dirvožemio užterštumo matavimai, kriminalistika, pasienio kontrolė ir t.t.
Plazmonas yra kvazidalelė, aprašoma kaip kvantuota laisvų elektronų plazmos tankio osciliacija. Plazmonas gali susijungti su fotonu, sudarydamas naują kvazidalelę - plazmoninj poliaritoną. Paviršiaus plazmonai - tai paviršiuje lokalizuoti plazmonai, kurie stipriai sąveikauja su į paviršių krentančia šviesos spinduliuote, sukurdami poliaritoną.
Norint sukurti paviršiaus plazmonus, sąveikaujančius su optinio diapazono šviesos spinduliuote, reikia formuoti paviršiaus struktūras, kurių matmenys būtų dešimčių ar šimtų nanometrų dydžio. Paviršiumi Aktyvuotos Ramano Sklaidos (PARS) principui įgyvendinti yra reikalinga plazmoninio rezonanso sąlyga.
Aktyviausiai plazmoniniai reiškiniai vyksta tauriųjų metalų, pvz. aukso arba sidabro paviršiuje. Tai pirmiausia susiję su dideliu laisvųjų elektronų skaičiumi šių metalų paviršiuje. Dėl šios priežasties, taip pat dėl to, kad šie metalai nesioksiduoja, jie yra dažniausiai pasirenkami PARS jutiklių gamyboje.
Kaip minėta anksčiau, PARS taikymams labai svarbi jutiklio paviršiaus struktūra. Lokalizuotų paviršiaus plazmonų atveju, mažų metalo elementų plazmoninio rezonanso sąlygos labai priklauso nuo tų metalo dalelių formos ir jų tarpusavio išdėstymo. Pastaruoju metu ypač dažnai akcentuojama tarpo tarp dviejų metalo dalelių įtaka elektromagnetinio lauko stiprinimui. Pastebėta, kad būtent šis parametras turi didžiausią įtaką bendrajam PARS stiprinimui. Visa PARS mokslo kryptis, kurioje siekiama aptikti pavienes analitės molekules, dažniausiai remiasi šiuo reiškiniu. Esant ypač mažam tarpui, sąveikauja abiejų metalo dalelių lokalizuotų paviršiaus plazmonų modos, taip sudarydamos hibridizuotas modas.
Didelį Ramano sklaidos stiprinimą turintys jutikliai dažnai gaminami pasitelkiant nanotechnologijų principus. Taip gaunami reikiamo dydžio metalo salelės ir maži tarpai tarp jų. Dėl šios priežasties ši sritis dažnai vadinama nanoplazmonika.
Kai kuriais atvejais, PARS gamybai taip pat naudojami apdirbimo lazeriu būdai. Jie yra nekontaktiniai, gamybos metu nenaudojamos jokios papildomos cheminės medžiagos, taip pat po lazerinio apdirbimo reikia labai mažai papildomo apdirbimo operacijų. Panaudojus savitvarkio nanostruktūrų susidarymo, veikiant lazeriu, režimus, gaunami gerai atsikartojantys paviršiaus struktūros raštai, kurių elementai yra mažesni, nei vienas mikrometras. Keliuose ankstesniuose patentuose nurodoma, kad trumpų impulsų lazeriu apdirbtų paviršių struktūros raštai gali tapti geru padėklu ypač didelį stiprinimą turintiems PARS jutikliams. Tokie jutikliai dažnai vadinami plazmoniniais jutikliais arba padėklais.
JAV patentas Nr. US7586601, publikuotas 2009-09-08, aprašo femtosekundiniu lazeriu nanostruktūruotus padėklus, kurie naudojami PARS jutikliams gaminti. Šie padėklai gaminami iš puslaidininkio ar metalo. Medžiagos paviršius apdirbamas ultra-trumpais lazerio impulsais, suformuojant raibulius arba savitvarkes nanostruktūras, o vėliau ant tokio nanostruktūruoto ploto padengiama tauriųjų metalų, pvz. aukso arba sidabro, danga.
Kitame JAV patente Nr. US7864312, publikuotame 2011-01-04, aprašomas Ramano spektroskopijai skirtas padėklas, turintis metalo dangą. Padėklas yra apdirbtas trumpų impulsų lazeriu taip, kad būtų suformuota mikrono dydžio ar mažesnių paviršinių struktūrų. Ant tokio paviršiaus uždėta metalo danga yra nevientisa ir tarp metalo salelių yra metalu nepadengti tarpai.
Abu minėti patentai aprašo mažesnių nei mikrometro struktūrų formavimą trumpais arba ultra-trumpais lazerio impulsais metalo arba puslaidininkio paviršiuje. Šis procesas taip pat žinomas kaip raibulių formavimasis. Šiuose patentuose aprašyti raibuliai susidaro kai kristalinės medžiagos paviršiuje vyksta abliacija, t.y. kai medžiaga išgarinama tiesiai iš kietosios būsenos, nepereidama į lydalo fazę. Tačiau raibulius formuoti galima tik tam tikrų medžiagų paviršiuje. Dažniausiai tam naudojami metalai arba puslaidininkiai. PARS jutiklių padėklams populiaru naudoti silicį, safyrą, germanį, lydytą kvarcą ar panašias medžiagas. Formuojant raibulius, puslaidininkio arba kitos kristalinės medžiagos (safyro arba lydyto kvarco) paviršiuje, reikia vieną medžiagos paviršiaus vietą apšvitinti keliais tūkstančiais trumpų lazerio impulsų. Kuo daugiau impulsų naudojama, tuo ryškesnė gaunama raibulių struktūra, tačiau toks procesas užima daugiau laiko. Pavyzdžiui, 1 mm2 paviršiaus apdirbimas pakankamai sparčiu (pvz., impulsų pasikartojimo dažnis 600 kHz) lazeriu gali užtrukti dešimtis minučių. Be to, norint toliau gilinti skiriamuosius tarpus tarp raibulių, naudojamos agresyvios rūgštys, su kuriomis reikia labai atsargiai dirbti. Tai nėra patogu ir pabrangina gamybą.
Ankstesniuose sprendimuose naudojama padėklo medžiaga taip pat yra brangi. Tai lemia didelę viso jutiklio savikainą ir sudėtingas gamybos operacijas.
IŠRADIMO ESMĖ
Pašalinant aukščiau įvardintus trūkumus, šiuo išradimu sukuriamas pigus ir greitas PARS jutiklių (Ramano sklaidą stiprinančių padėklų) gamybos būdas. Amorfinės medžiagos, geriausia silikatinio stiklo, padėklo (1) paviršius yra apdirbamas ultra-trumpų impulsų lazerio (4) spinduliuote. Naudojamas ne abliacijos, o medžiagos klampumo sumažinimo režimas, kada nuo perduotos lazerio impulso energijos ploname padėklo medžiagos sluoksnyje sumažėja klampumas (paprastumo dėlei, toliau sakysime “medžiaga išsilydo”). Toliau išsilydžiusi medžiaga sąveikauja su krentančiais lazerio impulsais ir susidaro savitvarkės chaotiškos nanostruktūros. Daugeliu atvejų, pakanka vos kelių lazerio impulsų j vieną paviršiaus tašką, kad nanostruktūra įgautų reikiamą raštą, tinkamą PARS jutiklio aktyviajam plotui formuoti.
Šiuo būdu gaminant PARS jutiklius, patogu kaip jutiklio padėklą naudoti mikroskopijoje naudojamus objektinius arba dengiamuosius stikliukus. Tokie stikliukai būna švariai nuvalyti ir supakuoti, todėl prieš apdirbimą lazeriu jų nereikia papildomai apdoroti.
Gamybai gali būti naudojamos įvairios optikos ir mechanikos sistemos, naudojamos kartu su trumpų impulsų, geriausia nuo 100 fs iki 100 ps, lazeriu. Formuojamų nanostruktūrų raštui turi įtakos tiek fabrikavimui naudojamos trumpų impulsų lazerio spinduliuotės bangos ilgis, tiek ir aplinka, kurioje yra laikomas padėklas apdirbimo metu. Trumpesnis bangos ilgis ir didesnio lūžio rodiklio aplinka lemia mažesnių matmenų nanostruktūros formavimąsi. Nanostruktūros elementų dydį reikėtų derinti prie Ramano sklaidos žadinimui naudojamo lazerio bangos ilgio - kuo jis trumpesnis, tuo smulkesnio struktūros rašto reikėtų siekti. Kita vertus, šiuo išradimu sukurtu būdu pagaminti PARS jutikliai pasižymi didele nanostruktūros elementų dydžio įvairove, todėl su vienu jutikliu tenkinamos geros plazmoninio rezonanso sąlygos plačiam žadinančios spinduliuotės bangos ilgių ruožui.
Po apdirbimo lazeriu, padėklai gali būti nuplaunami acetone arba distiliuotame vandenyje, pageidautina ultragarsinėje vonelėje - taip pašalinamos apdirbimo metu susidariusios šiukšlės. Vėliau ant nuvalytų padėklų užgarinama metalo danga. PARS jutikliams dažniausiai naudojamos aukso, sidabro, platinos arba vario dangos. Sidabras yra tinkamas labai plačiam žadinančios spinduliuotės spektro ruožui, o auksas arba varis yra labiau tinkami, dirbant su raudonosios spektro srities žadinimo spinduliuote.
TRUMPAS BRĖŽINIŲ FIGŪRŲ APRAŠYMAS
Norint geriau suprasti išradimą ir įvertinti jo praktinius pritaikymus, pateikiami šie aiškinamieji brėžiniai. Brėžiniai pateikiami tik kaip pavyzdžiai ir jokiu būdu neriboja išradimo apimties.
Fig. 1. parodyta PARS jutiklio sandara;
Fig. 2. vaizduoja PARS jutiklio gamybos įrangos principinę schemą, kai pluoštas valdomas galvanometriniais skeneriais;
Fig. 3. vaizduoja PARS jutiklio gamybos įrangos principinę schemą, kai bandinys yra perstumiamas po stacionariai įtvirtinta fokusavimo optika;
Fig. 4. parodytas padidintas lazeriu apdirbto paviršiaus plotas, kuriame matomos po paviršiaus išlydymo ir trumpų lazerių impulsų poveikio savaime susidariusios struktūros;
Fig. 5. pateiktas ultra-trumpų impulsų lazerio spinduliuote suformuotų nanostruktūrų pagrindu sukurto PARS jutiklio sustiprintas tiofenolio Ramano sklaidos spektras. Žadinama 633 nm spinduliuote. Grafike pavaizduoti: šalia nanostruktūruoto ploto esančios sidabro dangos Ramano sklaidos spektras (12) ir nanostruktūruoto ploto su tokio pat storio sidabro danga Ramano sklaidos spektras (13).
TINKAMIAUSI ĮGYVENDINIMO VARIANTAI
Pagrindinė šio išradimo mintis yra naudoti trumpus lazerio impulsus medžiagos paviršiaus klampumo sumažinimui ir sąveikai su plonu sumažėjusio klampumo medžiagos sluoksniu, taip sukeliant savaiminį chaotiškų nanostruktūrų formavimąsi. Šiam gamybos būdui įgyvendinti, tinkamiausiu atveju, naudojama ultratrumpų impulsų, geriausia nuo 100 fs iki 100 ps, lazerio spinduliuotė ir amorfinė padėklo (1) medžiaga.
Amorfinė kietoji medžiaga, kuri turi minkštėjimo prie tam tikros temperatūros savybę (o ne konkrečią lydymosi temperatūrą), yra vadinama stiklu. Tačiau padėkle gali būti ne tik vientisa amorfinė medžiaga - gali būti ir kristalinė medžiaga su amorfiniais intarpais arba atvirkščiai.
Tinkamiausiame įgyvendinimo variante, jutiklio padėklas yra pagamintas iš stiklo kurio pagrindinė sudedamoji dalis yra silicio dioksidas. Toks stiklas gali būti ir su šarminių žemės metalų, kitų metalų priemaišomis, pavyzdžiui, silikatinis stiklas, dar kitaip vadinamas šarminių žemės metalų (angį. soda-lime) silikatiniu stiklu, švino stiklas, borosilikatinis stiklas, chalkogenidinis stiklas ir pan. Jutiklio gamybai šiame patente aprašytu būdu, svarbiausia, kad padėklo medžiaga būtų amorfinė ir pasižymėtų minkštėjimo (klampumo mažėjimo) temperatūra, o ne lydymosi temperatūra. Viršijus minkštėjimo temperatūrą, stiklas staiga nesuskystėja, o tik pamažu ima keistis jo klampumas ir padidėja jo savitoji šiluminė talpa. Amorfinių medžiagų (stiklų) minkštėjimo temperatūra yra panašiai 1000 °C arba mažiau. Kuo mažesnė ši temperatūra, tuo žemesnis ir paviršiaus (3) pažeidimo slenkstis, vadinasi, reikia mažesnės energijos lazerio impulsų. Kita vertus, žemoje temperatūroje minkštėjanti medžiaga dažniausiai yra mažiau atspari mechaniniam poveikiui, be to mažesnio klampumo medžiagos gali būti linkusios prarasti nanostruktūros formą ir tokie jutikliai gali degraduoti - per tam tikrą laiką gali pablogėti jų stiprinimo savybės.
PARS jutiklio gamybai naudojama trumpų impulsų lazerio (4) sistema, kurioje papildomai gali būti įrengti bangos ilgio keitimo (5), optinės galios (impulso energijos) valdymo (6), pluošto išplėtimo (8) mazgai, pluošto atvedimui, tinkamiausiu atveju, naudojami veidrodžiai (7) arba šviesolaidis (nepavaizduota brėžiniuose). Apdirbant padėklo paviršių, sufokusuoto lazerio pluošto padėtis turi būti keičiama padėklo (1) atžvilgiu. Paprastai tai atliekama naudojant galvanometrinius skenerius (9) ir/arba tiksliojo postūmio stalus (11). Taip pat pluošto fokusavimui naudojami glaudžiamieji lęšiai arba daugelio lęšių objektyvai (10).
Šios srities specialistui turėtų būti akivaizdu, kad galima naudoti ir kitokius pluošto formavimo būdus, kurie pagreitintų padėklo apdirbimą, įskaitant pluošto padalijimą j kelis, sufokusuoto pluošto skerspjūvio formos ir energijos skirstinio keitimą ir kitus.
PARS jutiklio gamybos būdas apima šiuos pagrindinius žingsnius:
I lazerio pluošto skenavimas padėklo (1) atžvilgiu;
II lazeriu apdirbto padėklo (1) nuplovimas;
III metalo dangos padengimas;
Trumpų impulsų lazeriu tekstūruoti padėklai gali būti dengiami metalų dangomis, iš kurių labiausiai tinkamos yra aukso, sidabro, vario, platinos dangos. Taip pat tam tikrais atvejais gali būti naudojamas aliuminis.
Tinkamiausiame įgyvendinimo variante, ant lazeriu apdirbto paviršiaus ploto (2) yra užgarinama arba kitaip užnešama storesnė nei 100 nm storio metalo danga. Pastebėta, kad kuo storesnė suformuojama danga, tuo didesnis jutiklio stiprinimas. Šios srities specialistui turėtų būti akivaizdu, kad galima naudoti bet kokio storio metalo dangą tol, kol išlaikoma salelinė paviršiaus struktūra. Mažesnio nei 100 nm storio metalo danga taip pat pasižymės Ramano sklaidos stiprinimu, tačiau jis bus mažesnis nei storesnės dangos. Kita vertus, per daug stora danga gali panaikinti salelinę aktyviojo paviršiaus (2) struktūrą ir panaikinti metalu nepadengtus tarpelius tarp salelių. Tokio jutiklio savybės taps blogesnės. Todėl parenkant metalo dangos storį, reikia atsižvelgti į lazeriu apdirbtos paviršiaus struktūros tekstūrą.
Metalo dangą galima padengti ant viso padėklo paviršiaus (3) arba, dulkinant per kaukę, padengti tik ant jutiklio aktyviojo ploto (2). Taip pat, kitame įgyvendinimo variante, padėklas (1) su daugeliu ant paviršiaus suformuotų aktyviųjų plotelių (2), yra padengiamas metalu ir supjaustomas taip, kad atskirtuose padėklo gabalėliuose liktų bent po vieną aktyvųjį plotą. Vėliau supjaustyti jutikliai gali būti naudojami tiesiogiai Ramano sklaidos matavimo sistemose, arba priklijuojami ant kitų padėklų, pavyzdžiui mikroskopijoje naudojamų objektinių stiklelių.
Tinkama jutiklio sandara yra tokia, kad naudojama stiklo plokštelė, pavyzdžiui, mikroskopijoje naudojami objektiniai arba dengiamieji stikliukai. Padėklo paviršiuje suformuojamas vienas arba daugiau aktyvusis paviršius (2). Vėliau ant aktyviojo paviršiaus padengiama metalo danga, tinkamiausiu atveju, naudojant elektroninį, joninį, plazminį arba magnetroninį dulkinimą. Tinkamiausiu atveju, aktyvusis plotas yra suformuojamas taip, kad nesusisiektų su viso padėklo kraštu. Aktyviojo ploto ir neapdirbto padėklo paviršių drėkinimo savybės skiriasi, todėl aktyvųjį plotą suformavus taip, kad jis savo perimetru nesusisiektų su padėklo kraštais, galima geriau kontroliuoti ant aktyviojo ploto užlašintos skystos būsenos analitės pasiskirstymą.
Kitame įgyvendinimo variante, metalo padengimas atliekamas, dulkinant trumpų impulsų lazeriu. Esant pakankamai impulso energijai, metalo dulkinimui galima panaudoti ir tą patį lazerį, kuriuo apdirbamas jutiklio paviršius.
Toliau pateikiamas išradimo įgyvendinimo pavyzdys. Sekant šiuo pavyzdžiu, gaunamas labai didelį Ramano sklaidos stiprinimą turintis jutiklis. Tačiau pateikiamas pavyzdys ir jame įvardinti parametrai neturėtų riboti išradimo apimties. Šie parametrai gali būti keičiami plačiose ribose, gaunant panašius arba kitokius rezultatus, tačiau pagrindinė gamybos proceso idėja yra išlaikoma ta pati.
Pavyzdys 1
Silikatinio stiklo padėklo paviršius yra apdirbamas femtosekundinio lazerio spinduliuote. Impulso trukmė yra 300 fs, bangos ilgis 515 nm, padėklo paviršiuje, apšvitos vienu impulsu metu, sukuriamas vidutiniškai 0,032 J/cm2 energijos tankis. Padėklo paviršius yra apdirbamas perstumiant padėklą taip, kad tiek fabrikavimo kryptimi, tiek statmena jai perstūmimo kryptimi lazerio impulsai persiklotų apie 70% padėklo paviršiaus plokštumoje.
Testuojant šį paviršių, 633 nm bangos ilgio lazerio spinduliuote žadinant tiofenolio medžiagą, gaunamas PARS spektras pavaizduotas Fig. 5. Čia sidabro dangos storis yra 100 nm. Apatinė linija (12) atitinka sidabro paviršiaus, esančio šalia PARS aktyviojo ploto (2), Ramano sklaidos stiprinimo spektrą, o viršutinė linija (13) atitinka lazeriu suformuotų nanostruktūrų Ramano sklaidos stiprinimo spektrą. Žadinančio lazerio galia 1 mW, integravimo laikas 100 s.
Claims (12)
- IŠRADIMO APIBRĖŽTIS1. Plazmoninis jutiklis, turintis bent padėklą, lazeriu apdirbtą paviršiaus plotą minėtame padėkle ir metalo dangą, besiskiriantis tuo, kad lazeriu apdirbtas paviršiaus plotas yra pagamintas, veikiant trumpais lazerio impulsais taip, kad nedideliame gylyje sumažėtų medžiagos klampumas ir, veikiant tam pačiam impulsui, kuriuo buvo sumažintas medžiagos klampumas, arba vėliau į medžiagą kritusiam vienam ar daugiau impulsų, būtų suformuota savaime susidaranti, chaotiška nanostruktūra, kurios elementų matmenys yra mažesni nei 1 pm.
- 2. Jutiklis pagal 1 punktą, besiskiriantis tuo, kad jutiklio padėklo medžiaga yra amorfinė.
- 3. Jutiklis pagal vieną iš 1-2 punktų, besiskiriantis tuo, kad jutiklio padėklo medžiagos pereinamoji temperatūra - kurioje prasideda medžiagos minkštėjimas yra mažesnė nei 1000 °C, geriau mažesnė nei 600 °C.
- 4. Jutiklis pagal vieną iš 1-3 punktų, besiskiriantis tuo, kad padėklo medžiaga yra stiklas, geriausia - silikatinis stiklas.
- 5. Jutiklis pagal 4 punktą, besiskiriantis tuo, kad padėklo medžiaga yra silikatinis stiklas arba švino stiklas arba borosilikatinis stiklas arba chalkogenidinis stiklas.
- 6. Jutiklis pagal vieną iš 1-5 punktų, besiskiriantis tuo, kad minėtas padėklas yra mikroskopijoje naudojamas objektinis stikliukas arba dengiamasis stikliukas.
- 7. Plazmoninio jutiklio gamybos būdas, apimantis bent padėklo apdirbimą trumpais lazerio impulsais ir metalo dangos padengimą ant lazeriu apdirbtos srities, besiskiriantis tuo, kad bent lazerio impulso trukmė ir energija yra parinkti taip, kad j medžiagos paviršių kritę vienas ar daugiau lazerio impulsų, perlydytų ploną medžiagos sluoksnį ir, lydalui sąveikaujant su bent vienu lazerio impulsu, susiformuotų chaotiškos savaime susidarančios nanostruktūros, kurių matmenys mažesni už 1 mikrometrą.
- 8. Būdas pagal 7 punktą, besiskiriantis tuo, kad lazerio impulso trukmė yra nuo 100 fs iki 100 ps.
- 9. Būdas pagal vieną iš 7-8 punktų, besiskiriantis tuo, kad impulso energija yra parinkta taip, kad padėklo paviršiui tenkantis lazerio energijos tankis šiek tiek viršytų padėklo paviršiaus abliacijos slenkstį.
- 10. Būdas pagal 9 punktą, besiskiriantis tuo, kad apdirbamam padėklo paviršiui tenka vidutiniškai nuo 0,01 iki 0,05 J/cm2 vieno lazerio impulso energijos tankis.
- 11. Būdas pagal vieną iš 7-10 punktų, besiskiriantis tuo, kad norimų matmenų nanostruktūra formuojama, parenkant skirtingą bangos ilgį ir/arba naudojant skirtingą paviršiaus apdirbimo aplinką, kur trumpesnio bangos ilgio lazerio spinduliuotė ir/arba didesnio lūžio rodiklio apdirbimo aplinka sąlygoja mažesnių matmenų nanostruktūros susidarymą, o ilgesnio bangos ilgio ir/arba didesnio lūžio rodiklio apdirbimo aplinka sąlygoja didesnių matmenų nanostruktūros susidarymą.
- 12. Būdas pagal vieną iš 7-11 punktų, besiskiriantis tuo, kad metalo danga yra padengiama lazerinio dulkinimo būdu, kur dulkinimui naudojama to paties lazerio spinduliuotė, kuria formuojama ir nanostruktūra padėklo (1) paviršiuje.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LT2013053A LT6112B (lt) | 2013-05-24 | 2013-05-24 | Paviršiumi aktyvuotos ramano sklaidos (pars) jutiklis ir jo gamybos būdas |
| CN201380075804.1A CN105228968A (zh) | 2013-05-24 | 2013-07-29 | 表面增强拉曼散射(sers)传感器及其制造方法 |
| JP2016509558A JP2016517962A (ja) | 2013-05-24 | 2013-07-29 | 表面増強ラマン散乱（ｓｅｒｓ）センサおよびその製造方法 |
| PCT/IB2013/056192 WO2014188237A1 (en) | 2013-05-24 | 2013-07-29 | Surface enhanced raman scattering (sers) sensor and a method for production thereof |
| US14/891,285 US9784683B2 (en) | 2013-05-24 | 2013-07-29 | Surface Enhanced Raman Scattering (SERS) sensor and a method for production thereof |
| EP13771621.3A EP3004017A1 (en) | 2013-05-24 | 2013-07-29 | Surface enhanced raman scattering (sers) sensor and a method for production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LT2013053A LT6112B (lt) | 2013-05-24 | 2013-05-24 | Paviršiumi aktyvuotos ramano sklaidos (pars) jutiklis ir jo gamybos būdas |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| LT2013053A LT2013053A (lt) | 2014-11-25 |
| LT6112B true LT6112B (lt) | 2015-01-26 |
Family
ID=49301566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| LT2013053A LT6112B (lt) | 2013-05-24 | 2013-05-24 | Paviršiumi aktyvuotos ramano sklaidos (pars) jutiklis ir jo gamybos būdas |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9784683B2 (lt) |
| EP (1) | EP3004017A1 (lt) |
| JP (1) | JP2016517962A (lt) |
| CN (1) | CN105228968A (lt) |
| LT (1) | LT6112B (lt) |
| WO (1) | WO2014188237A1 (lt) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3271706B1 (en) * | 2015-07-29 | 2022-01-26 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Analyte detection package housing |
| US20170241009A1 (en) * | 2016-02-24 | 2017-08-24 | Guardian Industries Corp. | Coated article including metal island layer(s) formed using stoichiometry control, and/or method of making the same |
| US20170241012A1 (en) * | 2016-02-24 | 2017-08-24 | Guardian Industries Corp. | Coated article including metal island layer(s) formed using temperature control, and/or method of making the same |
| WO2018013137A1 (en) | 2016-07-15 | 2018-01-18 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Frame layer receiving a substrate supported sel stage |
| US11237112B2 (en) | 2016-08-11 | 2022-02-01 | Queen's University At Kingston | Reconfigurable surface enhanced Raman spectroscopy device and method therefor |
| US11280739B2 (en) | 2017-07-17 | 2022-03-22 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Irradiation of plasmonic surfaces prior to analyte exposure |
| US10562812B2 (en) | 2018-06-12 | 2020-02-18 | Guardian Glass, LLC | Coated article having metamaterial-inclusive layer, coating having metamaterial-inclusive layer, and/or method of making the same |
| US10830933B2 (en) | 2018-06-12 | 2020-11-10 | Guardian Glass, LLC | Matrix-embedded metamaterial coating, coated article having matrix-embedded metamaterial coating, and/or method of making the same |
| CN110044871A (zh) * | 2019-04-28 | 2019-07-23 | 南京信息工程大学 | 表面等离激元效应的在线物质定性检测装置及制作方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7586601B2 (en) | 2005-06-14 | 2009-09-08 | Ebstein Steven M | Applications of laser-processed substrate for molecular diagnostics |
| US7864312B2 (en) | 2007-07-30 | 2011-01-04 | President And Fellows Of Harvard College | Substrates for Raman spectroscopy having discontinuous metal coatings |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4263865B2 (ja) * | 2002-01-22 | 2009-05-13 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 超短パルスレーザーを用いた微細加工方法及びその加工物 |
| JP4649927B2 (ja) * | 2004-09-24 | 2011-03-16 | アイシン精機株式会社 | レーザ誘起改質加工装置及び方法 |
| JP2007240361A (ja) * | 2006-03-09 | 2007-09-20 | Sekisui Chem Co Ltd | 局在プラズモン増強センサ |
| JP2008126283A (ja) * | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Seiko Epson Corp | 微細構造体の製造方法、露光方法 |
| US8115920B2 (en) * | 2007-11-14 | 2012-02-14 | 3M Innovative Properties Company | Method of making microarrays |
| KR20110097834A (ko) * | 2008-11-17 | 2011-08-31 | 휴렛-팩커드 디벨롭먼트 컴퍼니, 엘.피. | 표면 증강 라만 산란을 위한 기판 |
| TW201104237A (en) * | 2009-07-16 | 2011-02-01 | Univ Nat Taiwan | Localized surface plasmon resonance sensor and fabrication thereof and method for forming a metal neon-structure |
| US8836941B2 (en) * | 2010-02-10 | 2014-09-16 | Imra America, Inc. | Method and apparatus to prepare a substrate for molecular detection |
| JP2011208985A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Panasonic Corp | 生体分子検出方法 |
| JP2013228303A (ja) * | 2012-04-26 | 2013-11-07 | Seiko Epson Corp | 試料分析素子および検出装置 |
-
2013
- 2013-05-24 LT LT2013053A patent/LT6112B/lt not_active IP Right Cessation
- 2013-07-29 US US14/891,285 patent/US9784683B2/en active Active
- 2013-07-29 WO PCT/IB2013/056192 patent/WO2014188237A1/en active Application Filing
- 2013-07-29 JP JP2016509558A patent/JP2016517962A/ja active Pending
- 2013-07-29 CN CN201380075804.1A patent/CN105228968A/zh active Pending
- 2013-07-29 EP EP13771621.3A patent/EP3004017A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7586601B2 (en) | 2005-06-14 | 2009-09-08 | Ebstein Steven M | Applications of laser-processed substrate for molecular diagnostics |
| US7864312B2 (en) | 2007-07-30 | 2011-01-04 | President And Fellows Of Harvard College | Substrates for Raman spectroscopy having discontinuous metal coatings |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20160123888A1 (en) | 2016-05-05 |
| JP2016517962A (ja) | 2016-06-20 |
| WO2014188237A1 (en) | 2014-11-27 |
| CN105228968A (zh) | 2016-01-06 |
| LT2013053A (lt) | 2014-11-25 |
| EP3004017A1 (en) | 2016-04-13 |
| US9784683B2 (en) | 2017-10-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| LT6112B (lt) | Paviršiumi aktyvuotos ramano sklaidos (pars) jutiklis ir jo gamybos būdas | |
| Bushunov et al. | Review of surface modification technologies for mid‐infrared antireflection microstructures fabrication | |
| Vorobyev et al. | Direct femtosecond laser surface nano/microstructuring and its applications | |
| Lei et al. | Ultrafast laser applications in manufacturing processes: A state-of-the-art review | |
| US10786874B2 (en) | Femtosecond laser pulse surface structuring methods and materials resulting therefrom | |
| Wagner et al. | Subwavelength ripple formation induced by tightly focused femtosecond laser radiation | |
| Hou et al. | Formation of long-and short-periodic nanoripples on stainless steel irradiated by femtosecond laser pulses | |
| Dar et al. | Femtosecond laser nanostructuring of titanium metal towards fabrication of low-reflective surfaces over broad wavelength range | |
| Barmina et al. | Generation of nanostructures on metals by laser ablation in liquids: new results | |
| US20150136226A1 (en) | Super-hydrophobic surfaces and methods for producing super-hydrophobic surfaces | |
| WO2012134853A1 (en) | Surface-enhanced raman scattering apparatus and methods | |
| Henley et al. | Laser implantation of plasmonic nanostructures into glass | |
| US20220310863A1 (en) | Super-hydrophobic surfaces and methods for producing super-hydrophobic surfaces | |
| Kawabata et al. | Two-dimensional laser-induced periodic surface structures formed on crystalline silicon by GHz burst mode femtosecond laser pulses | |
| Pan et al. | Fabrication of two-dimensional periodic structures on silicon after scanning irradiation with femtosecond laser multi-beams | |
| Amoako | Femtosecond laser structuring of materials: A review | |
| Guizzardi et al. | Large scale indium tin oxide (ITO) one dimensional gratings for ultrafast signal modulation in the visible spectral region | |
| Cui et al. | Controllable fabrication and adjustment of optical anti-reflectance micro-nano structures on NiTi alloy surface made by nanosecond laser circular scanning | |
| Liu et al. | Two-photon excitation of surface plasmon and the period-increasing effect of low spatial frequency ripples on a GaP crystal in air/water | |
| Petrović et al. | Femtosecond laser processing of NiPd single and 5x (Ni/Pd) multilayer thin films | |
| Farid et al. | Onset and evolution of laser induced periodic surface structures on indium tin oxide thin films for clean ablation using a repetitively pulsed picosecond laser at low fluence | |
| Mizeikis et al. | Silicon surface processing techniques for micro-systems fabrication | |
| Farid et al. | Thin film enabling sub-250 nm nano-ripples on glass by low fluence IR picosecond laser irradiation | |
| Fengping et al. | Surface hybrid structuring by laser removal and subtractive processing | |
| Shaheen et al. | Morphological and ablation characteristics of brass and fused silica after interaction with ArF excimer laser |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BB1A | Patent application published |
Effective date: 20141013 |
|
| FG9A | Patent granted |
Effective date: 20150126 |
|
| PC9A | Transfer of patents |
Owner name: "ATO ID", UAB, LT Effective date: 20150703 |
|
| TC9A | Change of representative |
Representative=s name: PABREZA, EVALDAS, LT Effective date: 20180105 |
|
| PC9A | Transfer of patents |
Owner name: UAB "INTEGRATED OPTICS", LT Effective date: 20181207 |
|
| MM9A | Lapsed patents |
Effective date: 20230524 |