KR980012188A - 반도체 소자 제조장비 및 제조공정의 제어방법 - Google Patents

반도체 소자 제조장비 및 제조공정의 제어방법 Download PDF

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KR980012188A
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손국태
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김해동이
이재철
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김광호
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Abstract

본 발명은 반도체 소자 제조 장비 및 제조 공정의 제어 방법에 관하여 기재하고 있다. 이는, 모니터링을 위한 파라미터를 통합 데이타 베이스에서 추출하여 모니터링 데이터 베이스를 구축하는 단계와, 구축된 모니터링 데이터 베이스를 서버에서 통계적인 테스트를 실시하는 단계와, 상기 테스트의 이상 유무 결과를 경보용 보고서로 자동 출력하는 단계와, 상기 테스트의 이상이 있는 경보용 보고서는 제조 공정 및 제조 장비에서 피드백시키는 단계로 이루어진다. 따라서, 본 발명에 따르면, 데이터 분석의 통합적인 시스템을 구축하여 데이터 처리시간을 단출시켰으며, 공정 파라미터 이상이나 수율 하락에 대한 통계적인 테스트로 자동 감지할 수 있는 모니터링 및 이상 현상에 대한 원인 분석을 다양하고 정형화된 통계적 분석 기능을 제공하여 공정 파라미터 이상이나 수율하락에 대한 신속히 감지하고 원인 파라미터를 분석하여 피드백시킴으로서 반도체 소자의 제조 장비 및 제조 공정의 최적 조건에 유지시켜 반도체 소자의 양산 과정에서 품질, 수율 향상을 극대화시킬 수 있다.

Description

반도체 소자 제조장비 및 제조공정의 제어방법
반도체 소자의 제조 장비 및 제조 공정을 제어하기 위한 방법에 관한 것으로, 특히 반도체 데이터 모니터링 및 통계 분석에 의하여 반도체 소자의 제조 장비 및 제조 공정을 제어하기 위한 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 소자는 복잡한 여러 단계의 제조 공정 및 이러한 공정을 수행하기 위한 제조 장비에 의해서 제조되고 있으며 이러한 제조 공정 및 제조 장비는 단계별 다량의 데이터 즉 공정 파라미터 및 수율등을 발생시키게 된다. 최근에는 반도체 소자의 고집적도가 가속화됨에 따라서 이러한 반도체 소자를 제조하기 위한 제조 공정 및 제조 장비가 더욱 복잡해지고 있는 상태이며 그 결과 이러한 제조 공정 및 제조 장비는 더욱 많은 데이타를 산출시킨다.
한편, 상기된 바와 같이 집적도가 증대된 반도체 소자를 제조하기 위한 제조 공정 및 제조 장비의 작동에 의하여 발생되는 다량의 데이타가 불량하게 되거나 또는 이상 변동이 발생되는 경우에 반도체 소자의 품질, 특성 및 수율에 직접적인 영향을 미치게 된다. 그러므로 반도체 소자의 양산 과정에서 품질 및 수율을 향상시키기 위하여 공정 또는 장비의 변동 사항이나 이상 현상을 제어할 수 있도록 신속한 원인 분석이 이루어져야 한다.
즉, 종래 실시예에 따른 데이타의 모니터링 및 분석을 통해 제조 공정 및 제조 공정 및 제조 장비를 제어하는 방법을 설명하기 위한 흐름도가 예시되어 있는 제1도를 참조하면, 반도체 소자의 제조 공정 및 제조 장비를 제어하기 위한 방법은 제조 공정 피라미터, 수율등을 모니터링 및 분석하고자 하는 데이타를 각단위 공정별로 추출하는 단계와, 추출된 데이타를 각단위 공정별로 가공하는 단계와, 가공된 데이타의 분석을 위해 분석 응용 소프트웨어 데이터 구조에 맞게 전환작업을 실시하는 단계와, 응용 소프트웨어를 사용하는 데이타 분석을 통해 피드백을 실시하는 단계로 이루어진다.
그러나, 상기된 바와 같이 종래의 공정 변동 사항이나 장비 이상 현상을 모니터링하고 원인 분석하여 반도체 소자의 제조 공정 및 제조 장비를 제어하는 방법은 데이타 추출을 개별적으로 실시할 뿐만 아니라 추출된 데이타를 가공하는 작업에서 많은 시간을 필요로 하며 또한 응용 소프트웨어를 사용하는 수작업에 의한 모니터링과 데이타 분석이 실시되므로 제조 공정 변동 사항 이나 제조 장비의 이상 현상을 조기에 감지하기가 어렵고 원인 분석하는 데 많은 시간이 소요되므로 공정 변동 사항이나 장비 이상 현상의 제어 능력이 저하됨에 따라서 반도체 소자 제조시 수율 및 품질이 저하된다는 문제점이 야기된다.
따라서, 상기된 바와 같은 종래의 문제점을 해소시키기 위한 본 발명의 기술적 과제는 반도체 소자의 제조 공정 및 제조 장비의 이상 여부를 검출시키기 위한 데이타 처리 시간을 단축시킬 수 있을 뿐만 아니라 공정 파라미터의 이상 또는 수율 하락에 대한 통계적인 테스트로 자동 감지할 수 있는 모니터링 과 이상 현상에 대한 원인 분석을 다양하고 정형화된 통계적 기능을 제공하여 공정 파라미터 이상이나 수율 하락에 대하여 신속히 감지하고 원인 분석하여 피이드 백시키는 반도체 소자 제조 공정 및 제조 장비의 제어 방법을 제공한다.
제1도는 종래 실시예에 따른 반도체 소자 제조 장비 및 제조 공정의 제어 방법을 나타낸 흐름도.
제2도는 본 발명에 따른 반도체 소자 제조 장비 및 제조 공정의 제어 방법을 나타낸 흐름도.
상기된 바와 같은 기술적 과제를 해결시키기 위하여 본 발명은, 모니터링을 위한 파라미터를 통합 데이타 베이스에서 추출하여 모니터링 데이타 베이스를 구축하는 단계;구축된 모니터링 데이타베이스를 서버에서 통계적인 테스트를 실시하는 단계; 상기 테스트의 이상 유무 결과를 경보용 보고서로 자동 출력하는 단계; 상기 테스트의 이상이 있는 경보용 보고서는 제조 공정 및 제조 장비에서 피드백시키는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 공정 및 장비 제어 방법을 제공한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
제2도는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 소자 제조 장비 및 제조 공정의 제어 방법을 나타낸 흐름도이다. 즉, 본 발명에 따른 반도체 소자 제조 공정 및 제조 장비 제어 방법은 모니터링을 위한 파라미터를 통합 데이타 베이스에서 추출하여 모니터링 데이타 베이스를 구축하는 단계와, 구축된 모니터링 데이타베이스를 서버에서 통계적인 테스트를 실시하는 단계와, 상기 테스트의 이상 유무 결과를 경보용 보고서로 자동 출력하는 단계와, 상기 테스트의 이상이 있는 경보용 보고서는 제조 공정 및 제조 장비에서 피드백시키는 단계로 이루어진다.
여기에서, 본 발명은 서버/PC 방식의 SAS 소프트웨어를 사용하여 데이터 추출에서 가공, 모니터링, 데이타 통계적 분석 등 다양한 분석 기능을 제공하는 통합적인 데이타 분석 시스템(SEDAS:semiconductor engineering data analysis slstem)을 이용한다. 즉, 통합적으로 구성된 데이타 베이스에서 중요 파라미터 예를 들면 FAB 파라미터, FAB 장비, DC 파라미터, 웨이퍼 수율, 패키지 수율, 및 테스트 장비 등만을 추출하여 모니터링 데이터 베이스를 구축한다. 모니터링 데이타 베이스에서 구축된 상기된 바와 같은 중요 파라미터를 서버 호스트(sever host)에서 자동 배치 잡(batch job)으로 개별 롯트별, 장비별, 날짜별 평균을 기준으로 테스트를 실시한다. 상기 테스트의 결과 이상여부가 발생된 롯트, 장비 또는 날짜를 경보용 보고서(warning report)로 출력한다.
이때, 상기 경보용 보고서에 출력된 공정 파라미터의 이상여부 또는 수율 하락의 현상을 모니터링 추가 분석을 통해서 SESEDASS가 구축된 PC에서 경보용으로 제시된 각종 SPC 관리도로서 재확인한 후 이상 롯트, 장비 또는 날짜를 피드백시키거나 공정 파라미터 및 장비 이상이나 수율 하락의 원인 분석을 데이타 분석을 통해 실시한다. 데이타 분석에서의 데이타 추출은 모니터링 데이타베이스에 구축된 중요 파라미터의 일부를 선택만 하면 자동으로 조인(join)하여 본 시스템에서 통계적 분석이 가능한 파일 구조 예를 들면 SAS Dataset으로 서버에서 상기 PC로 신속하게 전송(download)한다.
한편, 데이타 분석은 데이타 기초 통계량을 나타내는 기술 통계량부문, 각 파라미터간의 상관 관계를 통계적인 수치와 그래프로 제공하는 상관 분석 부문, 특정 파라미터와 여러 파라미터의 유의차 수준을 통계적 수치 및 그래프로 제공하는 희귀 분석 부문, 장비 관련하여 파라미터의 특성치 산포를 장비별로 분석하는 분산 분석 부붐, 각종 그래프를 지원하는 그래프 분석 부문, 패키지 테스트 수율의 상세한 Fail BIN 분포를 그래프로 지원해주는 패키지 분석 부문등 다양한 통계적 분석 기법을 제공하여 공정 파라미터 및 장비 이상이나 수율 하락에 원인 분석을 신속히 피드백시킨다.
여기에서, 상기된 바와 같이 SEDAS의 동작에 의한 피드백에 의하여 공정 조건 및 장비를 최적 상태에 유지시키며 이러한 최적 상태의 공정 및 장비를 가동시킴으로서 양산된 반도체 소자의 품질 및 수율을 향상시킨다.
이상, 상기 내용의 본 발명의 바람직한 일실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명이 속하는 분야의 당업자는 본 발명의 요지 및 사상을 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 변경을 가할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따르면, 데이타 분석의 통합적인 시스템을 구축하여 데이타 처리시간을 단출시켰으며, 공정 파라미터 이상이나 수율 하락에 대한 통계적인 테스트로 자동 감지할 수 있는 모니터링 및 이상 현상에 대한 원인 분석을 다양하고 정형화된 통계적 분석 기능을 제공하여 공정 파라미터 이상이나 수율 하락에 대한 신속히 감지하고 원인 파라미터를 분석하여 피드백시킴으로서 반도체 소자의 제조 장비 및 제조 공정의 최적조건에 유지시켜 반도체 소자의 양산 과정에서 품질, 수율 향상을 극대화시킬 수 있다.

Claims (1)

  1. 모니터링을 위한 파라미터를 통합 데이타 베이스에서 추출하여 모니터링 데이타 베이스를 구축하는 단계; 구축된 모니터링 데이타베이스를 서버에서 통계적인 테스트를 실시하는 단계; 상기 테스트의 결과 발견된 데이타의 이상 여부를 경보용 보고서로 출력하는 단계; 상기 경보용 보고서에 의하여 발견된 데이타의 이상은 피드백에 의하여 조절되는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 공정 및 제조 장비 제어 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
KR1019960031080A 1996-07-29 1996-07-29 반도체 소자 제조장비 및 제조공정의 제어방법 KR980012188A (ko)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100510068B1 (ko) * 1999-06-22 2005-08-26 주식회사 하이닉스반도체 반도체 라인관리용 통합 자동화시스템의 감시 시스템 및 방법
KR100533968B1 (ko) * 1999-10-30 2005-12-07 주식회사 하이닉스반도체 반도체 라인 관리용 통합 자동화 시스템에서 서버사이의 통신 테스트 시스템
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CN117261088A (zh) * 2023-11-10 2023-12-22 东莞市永运塑胶制品有限公司 一种多功能环保塑胶收纳盒生产工艺

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